JPH0621088B2 - イソジグリセリルエ−テルの製造法 - Google Patents
イソジグリセリルエ−テルの製造法Info
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- JPH0621088B2 JPH0621088B2 JP60226534A JP22653485A JPH0621088B2 JP H0621088 B2 JPH0621088 B2 JP H0621088B2 JP 60226534 A JP60226534 A JP 60226534A JP 22653485 A JP22653485 A JP 22653485A JP H0621088 B2 JPH0621088 B2 JP H0621088B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はイソジグリセリルエーテルの製造法に関する。
グリセリンのモノアルキルエーテル(以下グリセリルエ
ーテルと称する)はW/O型乳化特性の他の骨髄におけ
る血球生成促進効果、抗炎症作用、抗腫瘍作用等の薬理
作用をも有する有用な化合物であり(特公昭49−10
724号、特公昭52−18171号)、特にW/O型
乳化特性を利用して化粧品基材等への幅広い応用がなさ
れている(特開昭49−87612号、特開昭49−9
2239号、特開昭52−12109号、特公昭57−
36260号など)。
ーテルと称する)はW/O型乳化特性の他の骨髄におけ
る血球生成促進効果、抗炎症作用、抗腫瘍作用等の薬理
作用をも有する有用な化合物であり(特公昭49−10
724号、特公昭52−18171号)、特にW/O型
乳化特性を利用して化粧品基材等への幅広い応用がなさ
れている(特開昭49−87612号、特開昭49−9
2239号、特開昭52−12109号、特公昭57−
36260号など)。
そしてグリセリルエーテルがこのような数多くの特性を
有するユニークな界面活性剤であることに着目して、グ
リセリルエーテルと類似の分子構造を有する種々の化合
物、すなわちエーテル結合と親水性のOH基を分子内に
包含してなるポリオールエーテル化合物を多価アルコー
ルにより誘導する試みがなされている(米国特許第2,25
8,892号、特公昭52−18170号、特開昭53−1
37905号、特開昭54−145224号など)。か
くして得られたポリオールエーテル化合物は、グリセリ
ルエーテル同様W/O型乳化特性その他の有用な性質を
有し、化粧品基材(西ドイツ公開特許第2,455,2
87号)、防菌防カビ剤等として利用されている。
有するユニークな界面活性剤であることに着目して、グ
リセリルエーテルと類似の分子構造を有する種々の化合
物、すなわちエーテル結合と親水性のOH基を分子内に
包含してなるポリオールエーテル化合物を多価アルコー
ルにより誘導する試みがなされている(米国特許第2,25
8,892号、特公昭52−18170号、特開昭53−1
37905号、特開昭54−145224号など)。か
くして得られたポリオールエーテル化合物は、グリセリ
ルエーテル同様W/O型乳化特性その他の有用な性質を
有し、化粧品基材(西ドイツ公開特許第2,455,2
87号)、防菌防カビ剤等として利用されている。
本発明者らは、ポリオールエーテル化合物の斯かる有用
性に着目し、先に次の一般式(IV)、 (式中、R4は炭素数8〜24の脂肪族炭化水素基を、
R5は水素原子又は炭素数1〜24の炭化水素基を示
す) で表わされるイソジグリセリルエーテルを開発し、これ
をアルコールより容易に製造できるアルキルグリシジル
エーテル(V)を原料として用い、次の反応式に従つて製
造する方法を提供した(特開昭59−93022号、同
59−175445号)。尚、反応式中、R6は炭素数
1〜5の炭化水素基を、R7は水素原子又は炭化水素基
を、R8は炭化水素基を、Xはハロゲン原子を示し、R4
及びR5は前記と同じ意味を有する。
性に着目し、先に次の一般式(IV)、 (式中、R4は炭素数8〜24の脂肪族炭化水素基を、
R5は水素原子又は炭素数1〜24の炭化水素基を示
す) で表わされるイソジグリセリルエーテルを開発し、これ
をアルコールより容易に製造できるアルキルグリシジル
エーテル(V)を原料として用い、次の反応式に従つて製
造する方法を提供した(特開昭59−93022号、同
59−175445号)。尚、反応式中、R6は炭素数
1〜5の炭化水素基を、R7は水素原子又は炭化水素基
を、R8は炭化水素基を、Xはハロゲン原子を示し、R4
及びR5は前記と同じ意味を有する。
〔発明が解決しようとする問題〕 しかしながら、これらの製造法は工業的に実施する上で
以下に示すような種々の問題点を有している。
以下に示すような種々の問題点を有している。
化合物(VII)から化合物(VIII)又は化合物(XI)から
化合物(XII)を得る反応においては、反応生成物が着色
しやすいため、厳密な中和操作、高真空度での蒸留等の
繁雑な精製操作を必要とする。
化合物(XII)を得る反応においては、反応生成物が着色
しやすいため、厳密な中和操作、高真空度での蒸留等の
繁雑な精製操作を必要とする。
化合物(VIII)から化合物(IV)又は化合物(XII)から
化合物(XIII)を得る反応においては、含水溶媒中での反
応であるため多量のエーテルでの抽出操作、反応生成物
が着色するためカラムクロマトグラフイーによる精製操
作を必要とする。
化合物(XIII)を得る反応においては、含水溶媒中での反
応であるため多量のエーテルでの抽出操作、反応生成物
が着色するためカラムクロマトグラフイーによる精製操
作を必要とする。
化合物(VII)から化合物(IX)を得る反応において
は、厳密な温度コントロールを必要とするうえ収率が低
く、多量のエーテルでの抽出操作を必要とし、更に反応
生成物が着色しやすい。
は、厳密な温度コントロールを必要とするうえ収率が低
く、多量のエーテルでの抽出操作を必要とし、更に反応
生成物が着色しやすい。
化合物(IX)から化合物(IV)を得る反応においては、
含水溶媒中での反応であるため多量のエーテルでの抽出
操作を必要とする。
含水溶媒中での反応であるため多量のエーテルでの抽出
操作を必要とする。
化合物(XIII)から化合物(IV)を得る反応において
は、高価なパラジウム−炭素を大量に必要とする上、反
応の進行が遅いために反応生成物が着色する。
は、高価なパラジウム−炭素を大量に必要とする上、反
応の進行が遅いために反応生成物が着色する。
本発明者らは、従来法のもつ種々の欠点を克服し、高収
率、高純度かつ簡便にイソジグリセリルエーテルを製造
する方法について鋭意研究を進めたところ、グリシジル
エーテル誘導体を原料として用い、塩基存在下にペンジ
ルアルコールを反応させることによつてエポキサイドの
開環反応において副反応が生起せず、かつ脱ペンジル化
も水素化分解反応を用いることによつて高収率で進行す
ることを見い出し、本発明を完成した。
率、高純度かつ簡便にイソジグリセリルエーテルを製造
する方法について鋭意研究を進めたところ、グリシジル
エーテル誘導体を原料として用い、塩基存在下にペンジ
ルアルコールを反応させることによつてエポキサイドの
開環反応において副反応が生起せず、かつ脱ペンジル化
も水素化分解反応を用いることによつて高収率で進行す
ることを見い出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、一般式(II) (式中、R1は炭素数1〜26の直鎖若しくは分岐アル
キル基又はアリール基を、R3は炭素数1〜8の直鎖若
しくは分岐アルキル基、アリール基又はベンジル基を示
す。) で表されるグリシジルエーテル誘導体に、塩基の存在下
ベンジルアルコールを反応させ、次いで得られる成績体
を金属触媒存在下に水素化分解反応に付すことを特徴と
する、一般式(I) (式中、R2は水素原子、炭素数1〜8の直鎖若しくは
分岐のアルキル基又はアリール基、R1は前記と同
じ。) で表わされるイソジグリセリルエーテルの製造法を提供
するものである。
キル基又はアリール基を、R3は炭素数1〜8の直鎖若
しくは分岐アルキル基、アリール基又はベンジル基を示
す。) で表されるグリシジルエーテル誘導体に、塩基の存在下
ベンジルアルコールを反応させ、次いで得られる成績体
を金属触媒存在下に水素化分解反応に付すことを特徴と
する、一般式(I) (式中、R2は水素原子、炭素数1〜8の直鎖若しくは
分岐のアルキル基又はアリール基、R1は前記と同
じ。) で表わされるイソジグリセリルエーテルの製造法を提供
するものである。
本発明方法を反応式で示せば次の通りである。
(式中、R1、R2及びR3は前記と同じ) 本発明の化合物(I)、(II)及び(III)において、R1の炭
素数1〜26の直鎖若しくは分岐アルキル基として、メ
チル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチ
ル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−
ノニル、n−デシル、n−ウンデシル、n−ドデシル、
n−トリデシル、n−テトラデシル、n−ペンタデシ
ル、n−ヘキサデシル、n−ヘプタデシル、n−オクタ
デシル、n−ノナデシル、n−エイコシル、n−ヘンエ
イコシル、n−ドコシル、n−トリコシル、n−テトラ
コシル、n−ペンタコシル、n−ヘキサコシルなどの直
鎖1級飽和アルキル基;2−エチルヘキシル、2−ブチ
ルデシル、2−エチルドデシル、2−ブチルドデシル、
2−エチルトラデシル、2−ヘキシルデシル、2−ブチ
ルテトラデシル、2−エチルヘキサデシル、2−ヘキシ
ルドデシル、2−ブチルヘキサデシル、2−エチルオク
タデシル、2−ヘキシルテトラデシル、2−オクチルド
デシル、2−ブチルオクタデシル、2−エチルエイコシ
ル、2−ヘキシルヘキサデシル、2−オクチルテトラデ
シル、2−ブチルエイコシル、2−エチルドコシル、2
−ヘキシルオクタデシル、2−オクチルヘキサデシル、
2−ブチルドコシル、2−エチルテトラコシル、2−ヘ
キシルエイコシル、2−オクチルオクタデシル、2−ヘ
プチルウンデシル、2−(1,3,3−トリメチルブチ
ル)オクチル、2−デシルテトラデシル、2−ドデシル
ヘキサデシル、2−テトラデシルオクタデシル、5,
7,7−トリメチル−2−(1,3,3−トリメチルブ
チル)オクチル、及び次の式 (式中、mは4〜10の整数を、nは5〜11の整数を
示し、m+nは11〜17を示し、かつm=7、n=8
を頂点とする分布を有する)で示されるメチル分岐イソ
ステアリル等の分岐鎖1級飽和アルキル基;2−プロピ
ル、sec−ブチル、sec−ペンチル、sec−ヘキシル、sec
−ヘプチル、sec−オクチル、sec−ノニル、sec−デシ
ル、sec−ウンデシル、sec−ドデシル等の2級飽和アル
キル基が挙げられる。アリール基としては、フエニル、
2−メチルフエニル、3−メチルフエニル、4−メチル
フエニル、2,3−ジメチルフエニル、2,4−ジメチ
ルフエニル、2,5−ジメチルフエニル、2,6−ジメ
チルフエニル、3,4−ジメチルフエニル、3,5−ジ
メチルフエニル等が挙げられる。
素数1〜26の直鎖若しくは分岐アルキル基として、メ
チル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチ
ル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−
ノニル、n−デシル、n−ウンデシル、n−ドデシル、
n−トリデシル、n−テトラデシル、n−ペンタデシ
ル、n−ヘキサデシル、n−ヘプタデシル、n−オクタ
デシル、n−ノナデシル、n−エイコシル、n−ヘンエ
イコシル、n−ドコシル、n−トリコシル、n−テトラ
コシル、n−ペンタコシル、n−ヘキサコシルなどの直
鎖1級飽和アルキル基;2−エチルヘキシル、2−ブチ
ルデシル、2−エチルドデシル、2−ブチルドデシル、
2−エチルトラデシル、2−ヘキシルデシル、2−ブチ
ルテトラデシル、2−エチルヘキサデシル、2−ヘキシ
ルドデシル、2−ブチルヘキサデシル、2−エチルオク
タデシル、2−ヘキシルテトラデシル、2−オクチルド
デシル、2−ブチルオクタデシル、2−エチルエイコシ
ル、2−ヘキシルヘキサデシル、2−オクチルテトラデ
シル、2−ブチルエイコシル、2−エチルドコシル、2
−ヘキシルオクタデシル、2−オクチルヘキサデシル、
2−ブチルドコシル、2−エチルテトラコシル、2−ヘ
キシルエイコシル、2−オクチルオクタデシル、2−ヘ
プチルウンデシル、2−(1,3,3−トリメチルブチ
ル)オクチル、2−デシルテトラデシル、2−ドデシル
ヘキサデシル、2−テトラデシルオクタデシル、5,
7,7−トリメチル−2−(1,3,3−トリメチルブ
チル)オクチル、及び次の式 (式中、mは4〜10の整数を、nは5〜11の整数を
示し、m+nは11〜17を示し、かつm=7、n=8
を頂点とする分布を有する)で示されるメチル分岐イソ
ステアリル等の分岐鎖1級飽和アルキル基;2−プロピ
ル、sec−ブチル、sec−ペンチル、sec−ヘキシル、sec
−ヘプチル、sec−オクチル、sec−ノニル、sec−デシ
ル、sec−ウンデシル、sec−ドデシル等の2級飽和アル
キル基が挙げられる。アリール基としては、フエニル、
2−メチルフエニル、3−メチルフエニル、4−メチル
フエニル、2,3−ジメチルフエニル、2,4−ジメチ
ルフエニル、2,5−ジメチルフエニル、2,6−ジメ
チルフエニル、3,4−ジメチルフエニル、3,5−ジ
メチルフエニル等が挙げられる。
R3の炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐アルキル基とし
ては、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n
−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチ
ル等の直鎖1級飽和アルキル基;2−エチルヘキシルな
どの分岐鎖1級アルキル基;2−プロピル、sec−ブチ
ル、sec−ペンチル、sec−ヘキシル、sec−ヘプチル、s
ec−オクチル等の2級飽和アルキル基が挙げられる。ア
リール基としては、前記R1の場合と同様のものが挙げ
られる。
ては、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n
−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチ
ル等の直鎖1級飽和アルキル基;2−エチルヘキシルな
どの分岐鎖1級アルキル基;2−プロピル、sec−ブチ
ル、sec−ペンチル、sec−ヘキシル、sec−ヘプチル、s
ec−オクチル等の2級飽和アルキル基が挙げられる。ア
リール基としては、前記R1の場合と同様のものが挙げ
られる。
グリシジルエーテル誘導体(II)にベンジルアルコールを
反応させてベンジルエーテル誘導体(III)を得る反応
は、末端オレフイン由来のエポキサイドへのアルコール
付加反応である。酸触媒を使用した場合、エポキサイド
がプロトン化され、それによつて生じたカルボニウムイ
オンにアルコールが攻撃するため副反応を起し易し。し
かし本発明の如く塩基存在下で行つた場合、反応がSN
2で進行するため、生成した2級アルコールの立体障害
が大きく副反応を起さないので、その収率は極めて高
い。
反応させてベンジルエーテル誘導体(III)を得る反応
は、末端オレフイン由来のエポキサイドへのアルコール
付加反応である。酸触媒を使用した場合、エポキサイド
がプロトン化され、それによつて生じたカルボニウムイ
オンにアルコールが攻撃するため副反応を起し易し。し
かし本発明の如く塩基存在下で行つた場合、反応がSN
2で進行するため、生成した2級アルコールの立体障害
が大きく副反応を起さないので、その収率は極めて高
い。
この反応で用いられる塩基としては、アルカリ金属(L
i、Na、Kなど)、アルカリ金属水素化物(LiH、NaH、K
Hなど)、アルカリ金属水酸化物(LiOH、NaOH、KONな
ど)、アルカリ金属アルコラート(NaOMe、NaOEt、KOtB
uなど)あるいは3級アミン類(トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、テト
ラメチル−1,3−ジアミノプロパン、テトラメチル−
1,6−ジアミノヘキサン、トリエチレンジアミン、ピ
リジン、ジメチルアニリン、キノリンなど)等が挙げら
れる。
i、Na、Kなど)、アルカリ金属水素化物(LiH、NaH、K
Hなど)、アルカリ金属水酸化物(LiOH、NaOH、KONな
ど)、アルカリ金属アルコラート(NaOMe、NaOEt、KOtB
uなど)あるいは3級アミン類(トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、テト
ラメチル−1,3−ジアミノプロパン、テトラメチル−
1,6−ジアミノヘキサン、トリエチレンジアミン、ピ
リジン、ジメチルアニリン、キノリンなど)等が挙げら
れる。
上記反応は、一般にグリシジルエーテル誘導体(II)1モ
ルに対し、ベンジルアルコールを1〜20モル、好まし
くは2〜10モル使用し、塩基を0.001〜0.5モ
ル、好ましくは0.01〜0.25モル添加し、20〜
150℃、好ましくは40〜100℃の温度条件下に反
応させることによつて進行する。このようにして得られ
たべンジルエーテル誘導体(III)は、余剰のべンジルア
ルコール留去後は、蒸留などの手段で簡単に精製でき、
その収率は常に85%以上、ほとんどの場合定量的であ
る。
ルに対し、ベンジルアルコールを1〜20モル、好まし
くは2〜10モル使用し、塩基を0.001〜0.5モ
ル、好ましくは0.01〜0.25モル添加し、20〜
150℃、好ましくは40〜100℃の温度条件下に反
応させることによつて進行する。このようにして得られ
たべンジルエーテル誘導体(III)は、余剰のべンジルア
ルコール留去後は、蒸留などの手段で簡単に精製でき、
その収率は常に85%以上、ほとんどの場合定量的であ
る。
ベンジルエーテル誘導体(III)を水素化分解してジグリ
セリルエーテル誘導体(I)を得る反応は、ベンジルエー
テル誘導体(III)を無溶媒若しくは溶液中で(III)に対し
0.0001〜10重量%、好ましくは0.001〜5
重量%の金属触媒を加え、水素圧1〜150気圧、好ま
しくは50〜120気圧、反応温度20〜200℃、好
ましくは80〜120℃で2〜24時間、好ましくは5
〜15時間反応させることによつて行なわれる。この反
応で目的物(I)は定量的に得られるが、ベンジルエーテ
ル誘導体(III)に対し0.01〜1重量%、好ましくは
0.1〜0.75重量%の鉱酸を添加することで一層反
応が容易になる。
セリルエーテル誘導体(I)を得る反応は、ベンジルエー
テル誘導体(III)を無溶媒若しくは溶液中で(III)に対し
0.0001〜10重量%、好ましくは0.001〜5
重量%の金属触媒を加え、水素圧1〜150気圧、好ま
しくは50〜120気圧、反応温度20〜200℃、好
ましくは80〜120℃で2〜24時間、好ましくは5
〜15時間反応させることによつて行なわれる。この反
応で目的物(I)は定量的に得られるが、ベンジルエーテ
ル誘導体(III)に対し0.01〜1重量%、好ましくは
0.1〜0.75重量%の鉱酸を添加することで一層反
応が容易になる。
この反応で用いられる溶媒としては、ベンジルエーテル
誘導体(III)を溶解するすべての溶剤が挙げられるが、
好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノール
などのアルコール系溶剤である。金属触媒としては、パ
ラジウム−炭素、パラジウム黒、ラネイニツケル、ロジ
ウム−炭素、ルテニウム−炭素、レニウム−炭素などが
使用できるが、5%パラジウム炭素、10%パラジウム
炭素、パラジウム黒が好ましい。添加する鉱酸としては
塩酸、硫酸、過塩素酸などが挙げられるが、就中塩酸が
好ましい。
誘導体(III)を溶解するすべての溶剤が挙げられるが、
好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノール
などのアルコール系溶剤である。金属触媒としては、パ
ラジウム−炭素、パラジウム黒、ラネイニツケル、ロジ
ウム−炭素、ルテニウム−炭素、レニウム−炭素などが
使用できるが、5%パラジウム炭素、10%パラジウム
炭素、パラジウム黒が好ましい。添加する鉱酸としては
塩酸、硫酸、過塩素酸などが挙げられるが、就中塩酸が
好ましい。
以上の反応の結果得られた生成物は、ほとんどの場合、
金属触媒を濾別後溶媒留去するだけで目的とするイソジ
グリセリルエーテル(I)を純品の状態で得ることができ
る。また酸を添加した場合はスチーミング、活性炭処理
等の簡単な精製で純品の(I)を得ることができる。濾別
した金属触媒は再使用可能である。
金属触媒を濾別後溶媒留去するだけで目的とするイソジ
グリセリルエーテル(I)を純品の状態で得ることができ
る。また酸を添加した場合はスチーミング、活性炭処理
等の簡単な精製で純品の(I)を得ることができる。濾別
した金属触媒は再使用可能である。
本反応は、従来の脱ベンジル化反応が1)高価な金属触媒
を多量に使用しなければならないため製品価格の上昇が
避けられないこと、2)一般に水素圧1気圧で反応を行な
つているため反応の進行が遅い場合があること、3)副生
成物の少ない反応であるにもかかわらず脱ベンジル体の
単離精製が必要となる等の欠点を有しいるのに対し、1)
金属触媒を極めて少量しか用いないこと2)反応時間2〜
24時間で確実に反応が完結すること3)文字通り定量的
反応で脱ベンジル体の単離精製は多くの場合不要であ
り、もし必要な場合でもスチーミング、活性炭処理など
の簡単な手段で充分なこと、などの諸点において優れ、
工業的製造が可能である等の利点をもつものである。
を多量に使用しなければならないため製品価格の上昇が
避けられないこと、2)一般に水素圧1気圧で反応を行な
つているため反応の進行が遅い場合があること、3)副生
成物の少ない反応であるにもかかわらず脱ベンジル体の
単離精製が必要となる等の欠点を有しいるのに対し、1)
金属触媒を極めて少量しか用いないこと2)反応時間2〜
24時間で確実に反応が完結すること3)文字通り定量的
反応で脱ベンジル体の単離精製は多くの場合不要であ
り、もし必要な場合でもスチーミング、活性炭処理など
の簡単な手段で充分なこと、などの諸点において優れ、
工業的製造が可能である等の利点をもつものである。
叙上の如く、本発明は、イソジグリセリルエーテル(I)
を高収率、高純度かつ簡便に得ることができる極めて優
れた方法である。
を高収率、高純度かつ簡便に得ることができる極めて優
れた方法である。
次に実施例を挙げて本発明を説明する。
実施例1 (i) 1−O−テトラデシル−3−O−メチル−2−O
−2′,3′−エポキシプロピルグリセリン(II)(R1
=C14H29,R3=CH3)の合成: 還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び撹拌装置を備えた2
4ツ口フラスコに1−O−テトラデシル−3−O−メ
チルグリセリン302.5g(0.956モル)、n−
ヘキサン203g、50%硫酸水素テトラブチルアンモ
ニウム水溶液32.5g(0.0478モル)、エピク
ロロヒドリン176.9g(1.9126モル)をこの
順に加える。フラスコ内を40℃に加熱せしめ、撹拌速
度400rpmでかきまぜる。ここに48%水酸化ナトリ
ウム水溶液243.8g(2.869モル)を反応温度
を55℃以下に保ちつつ0.5時間かけて滴下し、滴下
終了後50〜55℃で5時間撹拌する。放冷後、水層を
除去し、n−ヘキサン層は水洗したのち50%硫酸水素
テトラブチルアンモニウム水溶液6.5g(9.56ミ
リモル)、エピクロロヒドリン35.4g(0.383
モル)を加え前と同様に40℃で加熱撹拌し、ここに4
8%水酸化ナトリウム水溶液243.8g(2.869
モル)を反応温度を55℃以下に保ちつつ20分かけて
滴下する。滴下終了後50〜55℃で4.5時間撹拌
し、常法通り後処理後減圧蒸留して、1−O−テトラデ
シル−3−O−メチル−2−O−2′,3′−エポキシ
プロピルグリセリン290.8g(収率84.8%)を
得た。
−2′,3′−エポキシプロピルグリセリン(II)(R1
=C14H29,R3=CH3)の合成: 還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び撹拌装置を備えた2
4ツ口フラスコに1−O−テトラデシル−3−O−メ
チルグリセリン302.5g(0.956モル)、n−
ヘキサン203g、50%硫酸水素テトラブチルアンモ
ニウム水溶液32.5g(0.0478モル)、エピク
ロロヒドリン176.9g(1.9126モル)をこの
順に加える。フラスコ内を40℃に加熱せしめ、撹拌速
度400rpmでかきまぜる。ここに48%水酸化ナトリ
ウム水溶液243.8g(2.869モル)を反応温度
を55℃以下に保ちつつ0.5時間かけて滴下し、滴下
終了後50〜55℃で5時間撹拌する。放冷後、水層を
除去し、n−ヘキサン層は水洗したのち50%硫酸水素
テトラブチルアンモニウム水溶液6.5g(9.56ミ
リモル)、エピクロロヒドリン35.4g(0.383
モル)を加え前と同様に40℃で加熱撹拌し、ここに4
8%水酸化ナトリウム水溶液243.8g(2.869
モル)を反応温度を55℃以下に保ちつつ20分かけて
滴下する。滴下終了後50〜55℃で4.5時間撹拌
し、常法通り後処理後減圧蒸留して、1−O−テトラデ
シル−3−O−メチル−2−O−2′,3′−エポキシ
プロピルグリセリン290.8g(収率84.8%)を
得た。
沸点:175〜180℃/0.15Torr IR(液膜,cm-1):3050sh,2925,2855,1460,1110 NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t,J=
5.6Hz),1.28(24H,brs),2.4〜2.8(2H,
m),3.33(3H,s),3.0〜4.0(10H,m) (ii) 1−O−テトラデシル−3−O−メチル−2−O
−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリ
セリン(III)(R1=C14H29,R3=CH3)の合成: 蒸留ヘツド、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置に
備えた24ツ口ブラスコにベンジルアルコール87
5.9g(8.10モル)、28%NaOMeメタノール溶
液15.63g(0.081モル)を加えN2吹き込み
下150〜180℃で5時間加熱し、留出するメタノー
ルを除去する。蒸留ヘツドを還流冷却器と交換し、60
℃まで冷却する。ここに参考例1(i)で得た1−O−テ
トラデシル−3−O−メチル−2−O−2′,3′−エ
ポキシプロピルグリセリン290.5g(0.81モ
ル)を1時間かけて滴下する。滴下終了後60℃で7時
間撹拌し、ガスクロマトグラフイーで原料消失を確認す
る。放冷後6規定塩酸で中和し、水洗ポンプを用いて、
減圧下にベンジルアルコールを留出する。残渣を減圧蒸
留すると無色液体の1−O−テトラデシル−3−O−メ
チル−2−O−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシ
プロピルグリセリン343.7g(収率90.9%)を
得た。
5.6Hz),1.28(24H,brs),2.4〜2.8(2H,
m),3.33(3H,s),3.0〜4.0(10H,m) (ii) 1−O−テトラデシル−3−O−メチル−2−O
−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリ
セリン(III)(R1=C14H29,R3=CH3)の合成: 蒸留ヘツド、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置に
備えた24ツ口ブラスコにベンジルアルコール87
5.9g(8.10モル)、28%NaOMeメタノール溶
液15.63g(0.081モル)を加えN2吹き込み
下150〜180℃で5時間加熱し、留出するメタノー
ルを除去する。蒸留ヘツドを還流冷却器と交換し、60
℃まで冷却する。ここに参考例1(i)で得た1−O−テ
トラデシル−3−O−メチル−2−O−2′,3′−エ
ポキシプロピルグリセリン290.5g(0.81モ
ル)を1時間かけて滴下する。滴下終了後60℃で7時
間撹拌し、ガスクロマトグラフイーで原料消失を確認す
る。放冷後6規定塩酸で中和し、水洗ポンプを用いて、
減圧下にベンジルアルコールを留出する。残渣を減圧蒸
留すると無色液体の1−O−テトラデシル−3−O−メ
チル−2−O−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシ
プロピルグリセリン343.7g(収率90.9%)を
得た。
沸点:230〜240℃/0.18Torr IR(液膜,cm-1):3430br,2920,2850,1450,110
0,730,695,685 NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t,J=
5.8Hz),1.28(24H,brs),3.33(3H,
s),3.4〜4.2(13H,m),4.52(2H,s),7.29
(5H,s) (iii) 1−O−テトラデシル−3−O−メチル−2−
O−2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン(I)
(R1=C14H29,R2=CH3)の合成: 1のオートクレーブに実施例1(ii)で得られた1−O
−テトラデシル−3−O−メチル−2−O−3′−ベン
ジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリセリン10
0.0g(0.214モル)、メタノール200g、5
%パラジウム−炭素5.0g、濃塩酸0.5gを仕込
み、水素圧100気圧をかけて封じたのち100℃で1
0時間加熱撹拌する。放冷後5%パラジウム−炭素を濾
別し、溶媒を留出する。残渣を25%スチーミング後メ
タノール80ml、活性炭8gを加え室温下1時間撹拌す
る。活性炭を濾別し、メタノールを留出すると無色透明
油状物の1−O−テトラデシル−3−O−メチル−2−
O−2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン7
6.7g(収率95.0%)を得た。
0,730,695,685 NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t,J=
5.8Hz),1.28(24H,brs),3.33(3H,
s),3.4〜4.2(13H,m),4.52(2H,s),7.29
(5H,s) (iii) 1−O−テトラデシル−3−O−メチル−2−
O−2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン(I)
(R1=C14H29,R2=CH3)の合成: 1のオートクレーブに実施例1(ii)で得られた1−O
−テトラデシル−3−O−メチル−2−O−3′−ベン
ジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリセリン10
0.0g(0.214モル)、メタノール200g、5
%パラジウム−炭素5.0g、濃塩酸0.5gを仕込
み、水素圧100気圧をかけて封じたのち100℃で1
0時間加熱撹拌する。放冷後5%パラジウム−炭素を濾
別し、溶媒を留出する。残渣を25%スチーミング後メ
タノール80ml、活性炭8gを加え室温下1時間撹拌す
る。活性炭を濾別し、メタノールを留出すると無色透明
油状物の1−O−テトラデシル−3−O−メチル−2−
O−2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン7
6.7g(収率95.0%)を得た。
元素分析C21H44O5として(計算値) C:67.05(66.98),H:11.62(1
1.78) IR(液膜,cm-1):3410br,2925,2855,1460,1108 NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t,J=6.0H
z),1.25(24H,brs),2.7〜3.0(2H,
m),3.33(3H,s),3.4〜3.9(12H,m) 実施例2 (i) 1−O−テトラデシル−3−O−ベンジル−2−
O−2′,3′−エポキシプロピルグリセリン(II)(R
1=C14H29,R3=CH3)の合成: 還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び撹拌装置を備えた2
4ツ口フラスコに1−O−テトラデシル−3−O−メ
チルグリセリン359.0g(0.948モル)、n−
ヘキサン250g、50%硫酸水素テトラブチルアンモ
ニウム水溶液32.08g(0.0474モル)、エピ
クロロヒドリン175.43g(1.896モル)を仕
込み50℃にて加熱撹拌する。ここに50%水酸化ナト
リウム水溶液227.6g(2.845モル)をフラス
コ内が50〜55℃を保つようにして0.5時間かけて
滴下する。滴下終了後50℃で4・5時間撹拌する。放
冷後、水層を除去し、反応液に50%硫酸水素テトラブ
チルアンモニウム水溶液6.44g(9.5ミリモ
ル)、エピクロロヒドリン35.1g(0.379モ
ル)を加え45〜50℃に加熱撹拌する。ここに50%
水酸化ナトリウム水溶液227.6g(2.845モ
ル)を20分かけて滴下する。滴下終了後50℃で4時
間反応させる。放冷後常法に従つて後処理したのち減圧
蒸留すると1−O−テトラデシル−3−O−ベンジル−
2−O−2′,3′−エポキシプロピルグリセリン33
6.2g(収率81.6%)を得た。
1.78) IR(液膜,cm-1):3410br,2925,2855,1460,1108 NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t,J=6.0H
z),1.25(24H,brs),2.7〜3.0(2H,
m),3.33(3H,s),3.4〜3.9(12H,m) 実施例2 (i) 1−O−テトラデシル−3−O−ベンジル−2−
O−2′,3′−エポキシプロピルグリセリン(II)(R
1=C14H29,R3=CH3)の合成: 還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び撹拌装置を備えた2
4ツ口フラスコに1−O−テトラデシル−3−O−メ
チルグリセリン359.0g(0.948モル)、n−
ヘキサン250g、50%硫酸水素テトラブチルアンモ
ニウム水溶液32.08g(0.0474モル)、エピ
クロロヒドリン175.43g(1.896モル)を仕
込み50℃にて加熱撹拌する。ここに50%水酸化ナト
リウム水溶液227.6g(2.845モル)をフラス
コ内が50〜55℃を保つようにして0.5時間かけて
滴下する。滴下終了後50℃で4・5時間撹拌する。放
冷後、水層を除去し、反応液に50%硫酸水素テトラブ
チルアンモニウム水溶液6.44g(9.5ミリモ
ル)、エピクロロヒドリン35.1g(0.379モ
ル)を加え45〜50℃に加熱撹拌する。ここに50%
水酸化ナトリウム水溶液227.6g(2.845モ
ル)を20分かけて滴下する。滴下終了後50℃で4時
間反応させる。放冷後常法に従つて後処理したのち減圧
蒸留すると1−O−テトラデシル−3−O−ベンジル−
2−O−2′,3′−エポキシプロピルグリセリン33
6.2g(収率81.6%)を得た。
沸点:211℃/0.06Torr〜215℃/0.05To
rr IR(液膜,cm-1):3025,2920,2850,1460sh,145
0,1100,730,695,685 NMR(CDCl3,δ):0.90(3H,t),1.30
(24H,brs),2.60〜2.90(2H,m),3.00〜
3.30(1H,m),3.40〜4.10(9H,m),4.53(2
H,s),7.30(5H,s) (ii)1−O−テトラデシル−3−O−ベンジル−2−O
−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリ
セリン(III)(R1=C14H29,R3=PhCH2)の合
成: 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置を
備えた24ツ口フラスコにベンジルアルコール83
5.9g(7.73モル)を仕込み、窒素を吹き込みな
がらナトリウム1.78g(0.0773モル)を加
え、室温下にナトリウムが完全に溶解するまで撹拌す
る。ここに実施例2(i)で得られた1−O−テトラデシ
ル−3−O−ベンジル−2−O−2′,3′−エポキシ
プロピルグリセリン336.0g(0.773モル)を
0.5時間かけて滴下する。滴下終了後75〜85℃で
5時間加熱する。放冷後中和し、ベンジルアルコールを
留去し、残渣をシリカゲルシヨートカラムにかける。n
−ヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶出し、溶媒を留去
すると1′−O−テトラデシル−3−O−ベンジル−2
−O−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピル
グリセリン402.0g(収率95.8%)を得た。
rr IR(液膜,cm-1):3025,2920,2850,1460sh,145
0,1100,730,695,685 NMR(CDCl3,δ):0.90(3H,t),1.30
(24H,brs),2.60〜2.90(2H,m),3.00〜
3.30(1H,m),3.40〜4.10(9H,m),4.53(2
H,s),7.30(5H,s) (ii)1−O−テトラデシル−3−O−ベンジル−2−O
−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリ
セリン(III)(R1=C14H29,R3=PhCH2)の合
成: 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置を
備えた24ツ口フラスコにベンジルアルコール83
5.9g(7.73モル)を仕込み、窒素を吹き込みな
がらナトリウム1.78g(0.0773モル)を加
え、室温下にナトリウムが完全に溶解するまで撹拌す
る。ここに実施例2(i)で得られた1−O−テトラデシ
ル−3−O−ベンジル−2−O−2′,3′−エポキシ
プロピルグリセリン336.0g(0.773モル)を
0.5時間かけて滴下する。滴下終了後75〜85℃で
5時間加熱する。放冷後中和し、ベンジルアルコールを
留去し、残渣をシリカゲルシヨートカラムにかける。n
−ヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶出し、溶媒を留去
すると1′−O−テトラデシル−3−O−ベンジル−2
−O−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピル
グリセリン402.0g(収率95.8%)を得た。
IR(液膜,cm-1):3430,2925,2850,1460sh,145
0,1100,730,695,685 NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t),1.23(24
H,brs),3.3〜3.9(13H,m),4.47(4H,
s) (iii) 1−O−テトラデシル−2−O−2′,3′−
ジヒドロキシプロピルグリセリン(I)(R1=C14H29,
R2=H)の合成: 1のオートクレーブに実施例2(ii)で得られた1−O
−テトラデシル−3−O−ベンジル−2−O−3′−ベ
ンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリセリン10
0.0g(0.184モル)、メタノール100g、パ
ラジウム黒0.5gを仕込み、水素圧100気圧をかけ
て封じたのち100℃で10時間加熱撹拌する。放冷後
パラジウム黒を濾別し、溶媒を留去すると、無色ロウ状
固体の1−O−テトラデシル−2−O−2′,3′−ジ
ヒドロキシプロピルグリセリン66.8g(収率100
%)を得た。
0,1100,730,695,685 NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t),1.23(24
H,brs),3.3〜3.9(13H,m),4.47(4H,
s) (iii) 1−O−テトラデシル−2−O−2′,3′−
ジヒドロキシプロピルグリセリン(I)(R1=C14H29,
R2=H)の合成: 1のオートクレーブに実施例2(ii)で得られた1−O
−テトラデシル−3−O−ベンジル−2−O−3′−ベ
ンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリセリン10
0.0g(0.184モル)、メタノール100g、パ
ラジウム黒0.5gを仕込み、水素圧100気圧をかけ
て封じたのち100℃で10時間加熱撹拌する。放冷後
パラジウム黒を濾別し、溶媒を留去すると、無色ロウ状
固体の1−O−テトラデシル−2−O−2′,3′−ジ
ヒドロキシプロピルグリセリン66.8g(収率100
%)を得た。
元素分析C20H42O5として(計算値) C:66.25(66.26),H:11.64(1
1.68);O:22.32(22.06) IR(液膜,cm-1):3480br,2925,2855,1460,110
0,1040br NMR(CDCl3,δ):0.89(3H,t,J=5.6H
z),1.25(24H,brs),3.3〜3.9(14H,b
rm),4.30(1H,br) 実施例3 (i) 1−O−ドデシル−3−O−ベンジル−2−O−
2′,3′−エポキシプロピルグリセリン(II)(R1=
C12H25,R3=PhCH2)の合成: 還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び撹拌装置を備えた2
4ツ口フラスコに1−O−ドデシル−3−O−ベンジ
ルグリセリン317.8g(0.907モル)、n−ヘ
キサン222g、50%硫酸水素テトラブチルアンモニウ
ム水溶液30.8g(0.0453モル)、エピクロロ
ヒドリン167.7g(1.813モル)を仕込み45
℃にて加熱撹拌する。ここに48%水酸化ナトリウム水
溶液226.6%(2.72モル)をフラスコ内が45
〜55℃を保つようにして0.5時間かけて滴下する。
滴下終了後50℃で5時間撹拌する。放冷後、水層を除
去し、反応液に50%硫酸水素テトラブチルアンモニウ
ム水溶液6.2%(9.1ミリモル)、エピクロロヒド
リン33.5g(0.363モル)を加え、40℃にて
加熱撹拌する。ここに50%水酸化ナトリウム水溶液2
26.6g(2.72モル)を15分かけて滴下する。
滴下終了後45℃で5時間反応させる。放冷後常法に従
つて後処理したのち減圧蒸留すると、1−O−ドデシル
−3−O−ベンジル−2−O−2′,3′−エポキシプ
ロピルグリセリン317.1g(収率86.0%)を得
た。
1.68);O:22.32(22.06) IR(液膜,cm-1):3480br,2925,2855,1460,110
0,1040br NMR(CDCl3,δ):0.89(3H,t,J=5.6H
z),1.25(24H,brs),3.3〜3.9(14H,b
rm),4.30(1H,br) 実施例3 (i) 1−O−ドデシル−3−O−ベンジル−2−O−
2′,3′−エポキシプロピルグリセリン(II)(R1=
C12H25,R3=PhCH2)の合成: 還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び撹拌装置を備えた2
4ツ口フラスコに1−O−ドデシル−3−O−ベンジ
ルグリセリン317.8g(0.907モル)、n−ヘ
キサン222g、50%硫酸水素テトラブチルアンモニウ
ム水溶液30.8g(0.0453モル)、エピクロロ
ヒドリン167.7g(1.813モル)を仕込み45
℃にて加熱撹拌する。ここに48%水酸化ナトリウム水
溶液226.6%(2.72モル)をフラスコ内が45
〜55℃を保つようにして0.5時間かけて滴下する。
滴下終了後50℃で5時間撹拌する。放冷後、水層を除
去し、反応液に50%硫酸水素テトラブチルアンモニウ
ム水溶液6.2%(9.1ミリモル)、エピクロロヒド
リン33.5g(0.363モル)を加え、40℃にて
加熱撹拌する。ここに50%水酸化ナトリウム水溶液2
26.6g(2.72モル)を15分かけて滴下する。
滴下終了後45℃で5時間反応させる。放冷後常法に従
つて後処理したのち減圧蒸留すると、1−O−ドデシル
−3−O−ベンジル−2−O−2′,3′−エポキシプ
ロピルグリセリン317.1g(収率86.0%)を得
た。
沸点:207〜217℃/0.13Torr IR(液膜,cm-1):3025,2920,2850,1460sh,145
0,1100,730,695,685 NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t),1.25
(20H,brs),2.5〜2.8(2H,m),3.0〜3.3
(1H,m),3.3〜4.0(9H,m),4.50(2H,
s),7.25(5H,s) (ii) 1−O−ドデシル−3−O−ベンジル−2−O−
3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリセ
リン(III)(R1=C12H25,R3=PhCH2)の合成: 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置を
備えた24ツ口フラスコにベンジルアルコール84
2.5g(7.79モル)を仕込み、窒素を吹き込みな
がらナトリウム1.79g(0.0779モル)を加
え、室温下にナトリウムが完全に溶解するまで撹拌す
る。ここに実施例3(i)で得られた1−O−ドデシル−
3−O−ベンジル−2−O−2′,3′−エポキシプロ
ピルグリセリン316.8g(0.779モル)を55
℃で1時間かけて滴下する。滴下終了後60℃で8時間
加熱する。放冷後中和し、ベンジルアルコールを留去
し、残渣をシリカゼルシヨートカラムにかける。n−ヘ
キサン/酢酸エチル=5/1で溶出し、溶媒を留去する
と1−O−ドデシル−3−O−ベンジル−2−O−3′
−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリセリン
324.5g(収率85.4%)を得た。
0,1100,730,695,685 NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t),1.25
(20H,brs),2.5〜2.8(2H,m),3.0〜3.3
(1H,m),3.3〜4.0(9H,m),4.50(2H,
s),7.25(5H,s) (ii) 1−O−ドデシル−3−O−ベンジル−2−O−
3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリセ
リン(III)(R1=C12H25,R3=PhCH2)の合成: 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置を
備えた24ツ口フラスコにベンジルアルコール84
2.5g(7.79モル)を仕込み、窒素を吹き込みな
がらナトリウム1.79g(0.0779モル)を加
え、室温下にナトリウムが完全に溶解するまで撹拌す
る。ここに実施例3(i)で得られた1−O−ドデシル−
3−O−ベンジル−2−O−2′,3′−エポキシプロ
ピルグリセリン316.8g(0.779モル)を55
℃で1時間かけて滴下する。滴下終了後60℃で8時間
加熱する。放冷後中和し、ベンジルアルコールを留去
し、残渣をシリカゼルシヨートカラムにかける。n−ヘ
キサン/酢酸エチル=5/1で溶出し、溶媒を留去する
と1−O−ドデシル−3−O−ベンジル−2−O−3′
−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリセリン
324.5g(収率85.4%)を得た。
IR(液膜,cm-1):3460br,3080,3045,2930,286
0,1460sh,1452,1100,730,700,690 NMR(CDCl3,δ):0.86(3H,t,J=5.2H
z),1.25(20H,brs),3.3〜4.4(13H,
m),4.48(4H,s),7.25(10H,s) (iii) 1−O−ドデシル−2−O−2′,3′−ジヒ
ドロキシプロピルグリセリン(I)(R1=C12H25,R2
=H) 1のオートクレーブに実施例3(ii)で得られた1−O
−ドデシル−3−O−ベンジル−2−O−3′−ベンジ
ル−2′−ヒドロキシプロピルグリセリン100.0g
(0.194モル)、メタノール200g、パラジウム
黒5.0gを仕込み水素圧100気圧をかけて封じたの
ち100℃で12時間加熱撹拌する。放冷後パラジウム
黒を濾別し、溶媒を留去すると無色ロウ状固体の1−O
−ドデシル−2−O−2′,3′−ジヒドロキシプロピ
ルグリセリン64.0g(収率98.5%)を得た。
0,1460sh,1452,1100,730,700,690 NMR(CDCl3,δ):0.86(3H,t,J=5.2H
z),1.25(20H,brs),3.3〜4.4(13H,
m),4.48(4H,s),7.25(10H,s) (iii) 1−O−ドデシル−2−O−2′,3′−ジヒ
ドロキシプロピルグリセリン(I)(R1=C12H25,R2
=H) 1のオートクレーブに実施例3(ii)で得られた1−O
−ドデシル−3−O−ベンジル−2−O−3′−ベンジ
ル−2′−ヒドロキシプロピルグリセリン100.0g
(0.194モル)、メタノール200g、パラジウム
黒5.0gを仕込み水素圧100気圧をかけて封じたの
ち100℃で12時間加熱撹拌する。放冷後パラジウム
黒を濾別し、溶媒を留去すると無色ロウ状固体の1−O
−ドデシル−2−O−2′,3′−ジヒドロキシプロピ
ルグリセリン64.0g(収率98.5%)を得た。
元素分析C18H38O5として(計算値) C:64.30(64.63);H:11.71(1
1.45) IR(液膜,cm-1):3360br,2920,2855,1460,111
0,1040br NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t,J=5.0H
z),1.25(20H,brs),3.3〜4.2(14H,
m),4.62(1H,br) 実施例4 (i) 1−O−テトラデシル−3−O−ブチル−2−O
−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリ
セリン(III)(R1=C14H29,R3=C4H9)の合成: 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置を
備えた24ツ口フラスコにベンジルアルコール81.
1g(0.75モル)を仕込み、窒素を吹き込みながら
ナトリウム172mg(7.5モル)を加え、室温下にナ
トリウムを溶解させる。ここに実施例1〜3にならつて
合成した1−O−テトラデシル−3−O−ブチル−2−
O−2′,3′−エポキシプロピルグリセリン(II)(R
1=C14H29,R3=C4H9)30.0g(0.075モ
ル)を55℃で0.5時間かけて滴下する。滴下終了後
60℃で8時間加熱する。放冷後中和し、ベンジルアル
コールを留去し、残渣をシリカゲルシヨートカラムにか
ける。n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶出し、溶
媒を留去すると1−O−テトラデシル−3−O−ブチル
−2−O−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシグリ
セリン35.2g(収率92.4%)を得た。
1.45) IR(液膜,cm-1):3360br,2920,2855,1460,111
0,1040br NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t,J=5.0H
z),1.25(20H,brs),3.3〜4.2(14H,
m),4.62(1H,br) 実施例4 (i) 1−O−テトラデシル−3−O−ブチル−2−O
−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリ
セリン(III)(R1=C14H29,R3=C4H9)の合成: 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置を
備えた24ツ口フラスコにベンジルアルコール81.
1g(0.75モル)を仕込み、窒素を吹き込みながら
ナトリウム172mg(7.5モル)を加え、室温下にナ
トリウムを溶解させる。ここに実施例1〜3にならつて
合成した1−O−テトラデシル−3−O−ブチル−2−
O−2′,3′−エポキシプロピルグリセリン(II)(R
1=C14H29,R3=C4H9)30.0g(0.075モ
ル)を55℃で0.5時間かけて滴下する。滴下終了後
60℃で8時間加熱する。放冷後中和し、ベンジルアル
コールを留去し、残渣をシリカゲルシヨートカラムにか
ける。n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶出し、溶
媒を留去すると1−O−テトラデシル−3−O−ブチル
−2−O−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシグリ
セリン35.2g(収率92.4%)を得た。
IR(液膜,cm-1):3430br,2920,2850,1450,110
0,730,695,685 NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t),0.90
(3H,t),1.25(28H,brs),3.4〜4.2(1
5H,m),4.52(2H,s),7.27(5H,s) (ii) 1−O−テトラデシル−3−O−ブチル−2−O
−2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン(I)
(R1=C14H29,R2=C4H9)の合成: 100mlのオートクレーブに実施例4(i)で得られた1
−O−テトラデシル−3−O−ブチル−2−O−3′−
ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリセリン3
0.0g(0.059モル)、メタノール30g、5%
パラジウム炭素1.5g、濃塩酸0.15gを仕込み、
水素圧100気圧をかけて封じたのち、100℃で10
時間加熱撹拌する。放冷後5%パラジム炭素を濾別し、
溶媒を留去する。残渣を25%スチーミング後メタノー
ル25ml活性炭2.5gを加え室温下1時間撹拌する。
活性炭を濾別し、メタノールを留去すると無色透明油状
内の1−O−テトラデシル−3−O−ブチル−2−O−
2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン(I)(R1
=C14H29,R2=C4H9)24.0g(収率97.2
%)を得た。
0,730,695,685 NMR(CDCl3,δ):0.87(3H,t),0.90
(3H,t),1.25(28H,brs),3.4〜4.2(1
5H,m),4.52(2H,s),7.27(5H,s) (ii) 1−O−テトラデシル−3−O−ブチル−2−O
−2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン(I)
(R1=C14H29,R2=C4H9)の合成: 100mlのオートクレーブに実施例4(i)で得られた1
−O−テトラデシル−3−O−ブチル−2−O−3′−
ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピルグリセリン3
0.0g(0.059モル)、メタノール30g、5%
パラジウム炭素1.5g、濃塩酸0.15gを仕込み、
水素圧100気圧をかけて封じたのち、100℃で10
時間加熱撹拌する。放冷後5%パラジム炭素を濾別し、
溶媒を留去する。残渣を25%スチーミング後メタノー
ル25ml活性炭2.5gを加え室温下1時間撹拌する。
活性炭を濾別し、メタノールを留去すると無色透明油状
内の1−O−テトラデシル−3−O−ブチル−2−O−
2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン(I)(R1
=C14H29,R2=C4H9)24.0g(収率97.2
%)を得た。
元素分析C24H50O5として(計算値) C:68.92(68.85),H:11.89(1
2.04) IR(液膜,cm-1):3430br,2930,2870,1470,138
5,1110 NMR(CDCl3,δ):0.85(3H,t),0.88
(3H,t),1.25(28H,brs),2.7〜3.0(2
H,m),3.3〜3.9(14H,m) IR,NMRは標品と完全に一致した。
2.04) IR(液膜,cm-1):3430br,2930,2870,1470,138
5,1110 NMR(CDCl3,δ):0.85(3H,t),0.88
(3H,t),1.25(28H,brs),2.7〜3.0(2
H,m),3.3〜3.9(14H,m) IR,NMRは標品と完全に一致した。
実施例5 (i) 1−O−メチル分岐イソステアリル−3−O−メ
チル−2−O−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロシプ
ロピルグリセリン(III)(R1=iso−C18H37,R3=C
H3)の合成: 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置を
備えた24ツ口フラスコにベンジルアルコール54.
07g(0.50モル)を仕込み、窒素を吹き込みなが
らナトリウム115mg(5.0ミリモル)を加え、室温下
にナトリウムを溶解させる。ここに実施例1〜3になら
つて合成した1−O−メチル分岐イソステアリル−3−
O−メチル−2−O−2′,3′−エポキシプロピルグ
リセリン(II)(R1=iso−C18H37,R3=CH3)2
0.73g(0.05モル)を50℃で0.5時間かけ
て滴下する。滴下終了後60℃で7時間加熱する。放冷
後中和し、ベンジルアルコールを留去し、残渣をシリカ
ゲルシヨートカラムにかける。n−ヘキサン/酢酸エチ
ル=5/1で溶出し、溶媒を留去すると1−O−メチル
分岐イソステアリル−3−O−メチル−2−O−3′−
ベンジロキシ−2′−ヒドロキシグリセリン24.86
g(収率95.1%)を得た。
チル−2−O−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロシプ
ロピルグリセリン(III)(R1=iso−C18H37,R3=C
H3)の合成: 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置を
備えた24ツ口フラスコにベンジルアルコール54.
07g(0.50モル)を仕込み、窒素を吹き込みなが
らナトリウム115mg(5.0ミリモル)を加え、室温下
にナトリウムを溶解させる。ここに実施例1〜3になら
つて合成した1−O−メチル分岐イソステアリル−3−
O−メチル−2−O−2′,3′−エポキシプロピルグ
リセリン(II)(R1=iso−C18H37,R3=CH3)2
0.73g(0.05モル)を50℃で0.5時間かけ
て滴下する。滴下終了後60℃で7時間加熱する。放冷
後中和し、ベンジルアルコールを留去し、残渣をシリカ
ゲルシヨートカラムにかける。n−ヘキサン/酢酸エチ
ル=5/1で溶出し、溶媒を留去すると1−O−メチル
分岐イソステアリル−3−O−メチル−2−O−3′−
ベンジロキシ−2′−ヒドロキシグリセリン24.86
g(収率95.1%)を得た。
IR(液膜,cm-1):3440br,2920,2855,1450,136
0,1100,725,695,683 NMR(CDCl3,δ):0.8〜2.0(35H),3.32
(3H,s),3.4〜4.2(13H,m),4.52(2H,
s),7.26(5H,s) (ii) 1−O−メチル分岐イソステアリル−3−O−メ
チル−2−O−2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリ
セリン(I)(R1=iso−C18H37,R2=CH3)の合
成: 100mlのオートクレーブに実施例5(i)で得られた1
−O−メチル分岐イソステアリル−3−O−メチル−2
−O−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピル
グリセリン20.0g(0.038モル)、メタノール
20g、パラジウム黒50mgを仕込み、水素圧100気
圧をかけて封じたのち、100℃で10時間加熱撹拌す
る。放冷後パラジウム黒を濾別し溶媒を留去すると無色
透明油状物の1−O−メチル分岐イソステアリル−3−
O−メチル−2−O−2′,3′−ジヒドロキシプロピ
ルグリセリン16.45g(収率100g)を得た。
0,1100,725,695,683 NMR(CDCl3,δ):0.8〜2.0(35H),3.32
(3H,s),3.4〜4.2(13H,m),4.52(2H,
s),7.26(5H,s) (ii) 1−O−メチル分岐イソステアリル−3−O−メ
チル−2−O−2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリ
セリン(I)(R1=iso−C18H37,R2=CH3)の合
成: 100mlのオートクレーブに実施例5(i)で得られた1
−O−メチル分岐イソステアリル−3−O−メチル−2
−O−3′−ベンジロキシ−2′−ヒドロキシプロピル
グリセリン20.0g(0.038モル)、メタノール
20g、パラジウム黒50mgを仕込み、水素圧100気
圧をかけて封じたのち、100℃で10時間加熱撹拌す
る。放冷後パラジウム黒を濾別し溶媒を留去すると無色
透明油状物の1−O−メチル分岐イソステアリル−3−
O−メチル−2−O−2′,3′−ジヒドロキシプロピ
ルグリセリン16.45g(収率100g)を得た。
元素分析C25H52O5として(計算値) C:69.53(69.40);H:11.97(1
2.11) IR(液膜,cm-1):3420br,2925,2865,1470,138
0,1100 NMR(CDCl3,δ):0.8〜2.0(35H),2.7〜
3.0(2H,m),3.35(3H,s),3.4〜3.9(12
H,m) IR,NMRは標品と完全に一致した。
2.11) IR(液膜,cm-1):3420br,2925,2865,1470,138
0,1100 NMR(CDCl3,δ):0.8〜2.0(35H),2.7〜
3.0(2H,m),3.35(3H,s),3.4〜3.9(12
H,m) IR,NMRは標品と完全に一致した。
実施例6 実施例1〜5と同様にして以下に示す化合物を得た。
・ 1−O−n−オクチル−3−O−メチル−2−O−
2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン(R1=
n−C8H17,R2=CH3) ・ 1−O−メチル分岐イソステアリル−3−O−n−
オクチル−2−O−2′,3′−ジヒドロキシプロピル
グリセリン(R1=iso−C18H37,R2=n−C8H17) ・ 1−O−ヘキサデシル−2−O−2′,3′−ジヒ
ドロキシプロピルグリセリン(R1=n−C18H37,R2
=H) ・ 1−O−メチル分岐イソステアリル−2−O−
2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン(R1=i
so−C18H37,R2=H)
2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン(R1=
n−C8H17,R2=CH3) ・ 1−O−メチル分岐イソステアリル−3−O−n−
オクチル−2−O−2′,3′−ジヒドロキシプロピル
グリセリン(R1=iso−C18H37,R2=n−C8H17) ・ 1−O−ヘキサデシル−2−O−2′,3′−ジヒ
ドロキシプロピルグリセリン(R1=n−C18H37,R2
=H) ・ 1−O−メチル分岐イソステアリル−2−O−
2′,3′−ジヒドロキシプロピルグリセリン(R1=i
so−C18H37,R2=H)
Claims (1)
- 【請求項1】一般式(II) (式中、R1は炭素数1〜26の直鎖若しくは分岐アル
キル基又はアリール基を、R3は炭素数1〜8の直鎖若
しくは分岐アルキル基、アリール基又はベンジル基を示
す。) で表されるグリシジルエーテル誘導体に、塩基の存在下
ベンジルアルコールを反応させ、次いで得られる成績体
を金属触媒存在下に水素化分解反応に付すことを特徴と
する、一般式(I) (式中、R2は水素原子、炭素数1〜8の直鎖若しくは
分岐のアルキル基又はアリール基を、R1は前記と同
じ。) で表わされるイソジグリセリルエーテルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60226534A JPH0621088B2 (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | イソジグリセリルエ−テルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60226534A JPH0621088B2 (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | イソジグリセリルエ−テルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6287542A JPS6287542A (ja) | 1987-04-22 |
| JPH0621088B2 true JPH0621088B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=16846645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60226534A Expired - Lifetime JPH0621088B2 (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | イソジグリセリルエ−テルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0621088B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3798949B2 (ja) | 2001-03-06 | 2006-07-19 | エヌ・イーケムキャット株式会社 | 水素化分解用触媒 |
-
1985
- 1985-10-11 JP JP60226534A patent/JPH0621088B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6287542A (ja) | 1987-04-22 |
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