Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH0621775B2 - Surface inspection device - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH0621775B2 - Surface inspection device - Google Patents

Surface inspection device

Info

Publication number
JPH0621775B2
JPH0621775B2 JP7676286A JP7676286A JPH0621775B2 JP H0621775 B2 JPH0621775 B2 JP H0621775B2 JP 7676286 A JP7676286 A JP 7676286A JP 7676286 A JP7676286 A JP 7676286A JP H0621775 B2 JPH0621775 B2 JP H0621775B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
defect
inspected
laser slit
slit light
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP7676286A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS62233710A (en
Inventor
正博 足立
基之 鈴木
浩幸 大野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Motor Co Ltd
Original Assignee
Nissan Motor Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Motor Co Ltd filed Critical Nissan Motor Co Ltd
Priority to JP7676286A priority Critical patent/JPH0621775B2/en
Publication of JPS62233710A publication Critical patent/JPS62233710A/en
Publication of JPH0621775B2 publication Critical patent/JPH0621775B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/9515Objects of complex shape, e.g. examined with use of a surface follower device

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、例えば自動車の車体パネル塗装面や圧延さ
れた帯鋼板などの被検査物の表面欠陥及び写像鮮映性を
検査するための表面検査装置に関する。
The present invention relates to a surface for inspecting surface defects and image clarity of an object to be inspected such as an automobile body panel coating surface or a rolled strip steel sheet. Regarding inspection equipment.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

上記のような被検査物の表面における傷,突起,ブツ,
汚れ等の欠陥の検査は、非能率で個人差のある作業員に
よる目視検査から、例えば指向性の強いレーザ光を利用
した自動検査に移行する傾向にある。
Scratches, protrusions, spots, etc. on the surface of the inspection object
The inspection of defects such as dirt tends to shift from visual inspection by an inefficient worker having individual differences to automatic inspection using, for example, a highly directional laser beam.

このようなレーザ光を利用した表面欠陥検査装置とし
て、第2図に示すように、レーザスリツト光発生器1か
ら被検査物の表面である被検査面2にレーザスリツト光
LSTを投射して、その反射光LST′を一担拡散板に
よるスクリーン3に投影し、そのスクリーン上のスリッ
ト像をカメラ部の集光レンズ4によつて集光してCCD
等のラインセンサ5により検出することによつて、表面
欠陥を検出するようにした表面欠陥検査装置を本出願人
が先に提案している(特願昭59−83890号)。
As a surface defect inspection apparatus utilizing such laser light, as shown in FIG. 2, a laser slit light LST is projected from a laser slit light generator 1 onto a surface 2 to be inspected, which is the surface of an object to be inspected, and its reflection is reflected. The light LST 'is projected on the screen 3 which is a diffuser, and the slit image on the screen is condensed by the condenser lens 4 of the camera section to form a CCD.
The applicant of the present invention has previously proposed a surface defect inspection apparatus which detects surface defects by detecting the surface defects by the line sensor 5 (Japanese Patent Application No. 59-83890).

この表面欠陥検査装置によれば、例えば第3図に示すよ
うに、被検査面2上のレーザスリツト光投射位置に傷や
ブツ等の欠陥aがあると、レーザスリツト光LSTがそ
こで散乱するため、被検査面2からの正反射光LST′
を受けるスクリーン3上には図示のように欠陥aに対応
するところで切れたスリツト像SLが投影されることに
なる。
According to this surface defect inspection apparatus, for example, as shown in FIG. 3, when there is a defect a such as a scratch or a spot at the laser slit light projection position on the surface to be inspected 2, the laser slit light LST is scattered there, so that Specular reflection light LST ′ from inspection surface 2
As shown in the figure, the slit image SL cut at the position corresponding to the defect a is projected on the screen 3 which receives the image.

したがつて、このスクリーン3上のスリツト像SLが投
影される位置を常時撮影している第2図のラインセンサ
5のビデオ出力信号は、第4図(a)に示すようになり、
同図(b)に示すその包絡線信号Vsとそれを平均化した
比較信号Vr(スレツシヨルドレベル)とを比較して、
同図(c)に示すようにVs<Vrでのみハイレベル
“H”になり、それ以外ではローレベル“L”になる2
値化信号を形成すれば、被検査面2上の欠陥(第3図の
a)をこの2値化信号のレベルが“H”になることによ
つて検出することができる。
Therefore, the video output signal of the line sensor 5 of FIG. 2 which constantly photographs the position where the slit image SL is projected on the screen 3 becomes as shown in FIG. 4 (a),
The envelope signal Vs shown in FIG. 7B is compared with a comparison signal Vr (threshold voltage level) obtained by averaging the envelope signal Vs,
As shown in FIG. 2C, the high level becomes “H” only when Vs <Vr, and the low level becomes “L” otherwise. 2
If the binarized signal is formed, the defect (a in FIG. 3) on the surface 2 to be inspected can be detected by the level of the binarized signal being "H".

この場合、第2図のラインセンサ5は集光レンズ4の合
焦位置に配置したスクリーン3で拡散された散乱光SC
を受光することによつて、スクリーン3上の投影スリツ
ト像SLを撮影しているため、集光レンズ4の焦点を常
時固定にすることができ、しかも拡散によつて投影スリ
ツト像SLが拡大されるため、表面欠陥の検出分解能が
向上する。
In this case, the line sensor 5 shown in FIG. 2 uses the scattered light SC diffused by the screen 3 arranged at the focus position of the condenser lens 4.
Since the projection slit image SL on the screen 3 is captured by receiving the light, the focus of the condenser lens 4 can be fixed at all times, and the projection slit image SL is enlarged by diffusion. Therefore, the resolution of detecting surface defects is improved.

一方、車体パルス等の表面には僅かな凹凸によるうねり
があり、その度合を示す写像鮮映性(以下単に「鮮映
性」という)を測定するのに、従来は検査員が目視に頼
つていたが、上述した表面欠陥の検査と同時に、はやり
レーザスリツト光を利用して被検査面の鮮映性の測定を
もできるようにした表面検査装置も本出願人が既に特許
出願している(特願昭60−251137号)。
On the other hand, there is undulation due to slight irregularities on the surface of vehicle body pulses, etc., and conventionally, inspectors rely on visual inspection to measure the image clarity (hereinafter simply referred to as “image clarity”) that indicates the degree of undulation. However, at the same time as the above-mentioned inspection of surface defects, the present applicant has already applied for a patent for a surface inspection device that can measure the image clarity of the surface to be inspected by using laser slit light. Japanese Patent Application No. 60-251137).

なお、この鮮映性測定手段については、この発明の実施
例の説明中で述べるので、ここでは説明を省略する。
Since this image clarity measuring means will be described in the description of the embodiment of the present invention, the description thereof will be omitted here.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、このような先に出願した表面欠陥検査手
段と鮮映性測定手段とを備えた表面検査装置にあつて
は、上記各手段がそれぞれ表面欠陥の検出と鮮映性の測
定を個別に行なうだけであつたので、表面欠陥検出手段
の検出感度を上げて小さな欠陥まで検出しようとする
と、被検査面の鮮映性が悪い場合には、表面のうねりに
よつて欠陥と区別しにくいノイズ波形が発生するため、
誤検出し易くなるという問題点があつた。
However, in the surface inspection apparatus having the surface defect inspection means and the sharpness measuring means, which have been previously applied, the respective means individually detect the surface defects and measure the sharpness. Therefore, if you try to increase the detection sensitivity of the surface defect detection means to detect even small defects, if the surface to be inspected is poor in image clarity, it is difficult to distinguish it from defects due to surface waviness. Occurs,
There is a problem that it is easy to make an erroneous detection.

この問題点について第5図及び第6図によつて説明す
る。
This problem will be described with reference to FIGS. 5 and 6.

第5図に示すように、レーザスリツト光発生器1から被
検査面(以下「パネル面」ともいう)2にレーザスリツ
ト光LSTを投射すると、その反射光LST′によつて
図示しないスクリーン及び集光レンズを介してラインセ
ンサ5の受光面5a上に太線で示すようなスリツト像が
結像され、パネル面2に欠陥a,b(bはaより小さ
い)があると、スリツト像のそれに対応する部分a′,
b′がその欠陥の大きさに応じて欠けるが、そのほか
に、パネル面のうねりによつてラインセンサ5上のスリ
ツト像にも図示のようにうねりが生じ、受光面5aに当
る光量に変動が生じる。このうねりはパネル面2の鮮映
性が悪い程大きくなる。
As shown in FIG. 5, when the laser slit light LST is projected from the laser slit light generator 1 onto the surface to be inspected (hereinafter also referred to as "panel surface") 2, the reflected light LST 'causes a screen and a condenser lens not shown. If a slit image as shown by a thick line is formed on the light-receiving surface 5a of the line sensor 5 through the line sensor 2 and there are defects a and b (b is smaller than a) on the panel surface 2, the slit image corresponding to that portion. a ',
b ′ is chipped according to the size of the defect, but in addition, the undulation of the panel surface causes undulations in the slit image on the line sensor 5 as shown in the figure, and the amount of light hitting the light receiving surface 5a varies. Occurs. This waviness becomes larger as the image clarity of the panel surface 2 becomes worse.

そのため、ラインセンサ5によるビデオ出力信号は、第
6図に示すように欠陥a,bに対応する部分以外でも落
込みのあるノイズ成分を含む波形となり、パネル面の鮮
映性が良い場合は破線で示すようにその落込みが比較的
小さいが、鮮映性が悪い場合には実線で示すように大き
くなつて、小さい欠陥による落込みと判別しにくくな
る。
Therefore, as shown in FIG. 6, the video output signal from the line sensor 5 has a waveform including a noise component having a dip other than the portions corresponding to the defects a and b, and is broken if the panel surface has a good image clarity. Although the drop is relatively small as shown by, the drop is increased as shown by the solid line when the image clarity is poor, and it is difficult to determine the drop due to a small defect.

したがつて、鮮映性の悪いパネル面の検査時に、欠陥b
のような小さい欠陥まで検出しようとすると、うねりに
よるノイズを誤検出してしまう。
Therefore, when inspecting the panel surface with poor image clarity, the defect b
When trying to detect such a small defect, noise due to undulation is erroneously detected.

逆に、誤検出を防ぐために検出感度を下げて小さな欠陥
は検出しないようにすると、鮮映性の良いパネル面では
小さな欠陥でも目立つにも係わらず、それを検出できな
くなるという不都合が生ずる。
On the contrary, if the detection sensitivity is lowered to prevent small defects from being detected in order to prevent erroneous detection, there arises an inconvenience that even if small defects are conspicuous on the panel surface with good image clarity, they cannot be detected.

この発明は、このような問題を解決することを目的とす
る。
The present invention aims to solve such problems.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

そのため、この発明による表面欠陥検査装置は、第1図
にその基本構成を示すように、被検査面2に第1のレー
ザスリット光を投射して、その反射光をスクリーン上に
投影させ、そのスリット像から被検査面2の表面欠陥を
検出する表面欠陥検査手段Aと、前記第1のレーザスリ
ット光の投射位置の一端に隣接して、その延長線に直行
する方向に互いに平行な2本のレーザスリット光を第2
のレーザスリット光として前記被検査面2に投射して、
前記被検査面2のわずかな凹凸によるうねりによって変
化する反射光を該平行な2本のレーザスリット光の間隔
の変化として検出することにより、前記表面欠陥検査手
段Aによる前記被検査面2上の検査位置付近の鮮映性を
測定する鮮映性測定手段Bとを備えた表面検査装置にお
いて、前記鮮映性測定手段Bによる鮮映性の測定値に応
じて、前記欠陥検査手段Aによって検出する最小欠陥サ
イズを変更する最小検出サイズ変更手段Cを設けたこと
を特徴とするものである。
Therefore, the surface defect inspection apparatus according to the present invention projects the first laser slit light on the surface to be inspected 2 and projects the reflected light on the screen as shown in the basic configuration of FIG. Surface defect inspection means A for detecting a surface defect of the surface 2 to be inspected from the slit image, and two parallel to each other adjacent to one end of the projection position of the first laser slit light and orthogonal to the extension line thereof. Second laser slit light
Is projected onto the surface to be inspected 2 as laser slit light of
On the surface 2 to be inspected by the surface defect inspection means A, the reflected light that changes due to the undulation due to slight irregularities on the surface 2 to be inspected is detected as a change in the interval between the two parallel laser slit lights. In a surface inspection device equipped with the image clarity measuring means B for measuring the image clarity near the inspection position, the defect inspection means A detects the image clarity measured by the image clarity measurement means B. A minimum detection size changing means C for changing the minimum defect size is provided.

〔作 用〕[Work]

表面検査時に、鮮映性測定手段Bによる鮮映性の測定値
が鮮映性が悪いことを示す値の時には、最小検出サイズ
変更手段Cが表面欠陥検出手段Aによつて検出する最小
欠陥サイズを大きくするように変更し、鮮映性の測定値
が鮮映性が良いことを示す値の時には、表面欠陥検出手
段Aが検出する最小欠陥サイズを小さくするように変更
することにより、鮮映性の悪いパネル面等を検査した時
には、比較的大きな欠陥のみを誤検出なく検出でき、鮮
映性の良いパネル面等を検査した時には、比較的小さな
欠陥まで精度よく検出できる。
At the time of surface inspection, when the value of the image clarity measured by the image clarity measurement unit B is a value indicating that the image clarity is poor, the minimum detection size changing unit C detects the minimum defect size by the surface defect detection unit A. , And when the measured value of the sharpness is a value indicating that the sharpness is good, the minimum defect size detected by the surface defect detection means A is changed to be small, thereby When inspecting a panel surface or the like having poor performance, only relatively large defects can be detected without erroneous detection, and when inspecting a panel surface or the like having good image clarity, relatively small defects can be accurately detected.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の実施例を図面の第7図以降に基づいて
説明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. 7 and subsequent drawings.

第7図はこの発明による表面検査装置の検出ヘツドの正
面図、第8図は第7図の矢示A方向から見た側面図であ
る。
FIG. 7 is a front view of the detection head of the surface inspection apparatus according to the present invention, and FIG. 8 is a side view seen from the direction of arrow A in FIG.

10は検出器、11は表面欠陥検査用のレーザスリツト
光発生器であり、このレーザスリツト光発生器11は、
レーザ発振管11aと、それが発生するレーザ光束をス
リツト光に変換するためのシリンドリカルレンズを含む
レンズ系11bと、そのスリツト光を長手方向に広がら
ない平行なスリツト光にするためのフレネルレンズを先
端に装着したフード部11cとから構成されており、被
検査面2に第1のレーザスリツト光を投射する。
10 is a detector, 11 is a laser slit light generator for surface defect inspection, and this laser slit light generator 11 is
A laser oscillation tube 11a, a lens system 11b including a cylindrical lens for converting a laser light beam generated by the laser oscillation tube into slit light, and a Fresnel lens for converting the slit light into parallel slit light that does not spread in the longitudinal direction are provided at the tip. And a hood portion 11c mounted on the inspection surface 2 for projecting the first laser slit light.

このレーザスリツト光発生器11のフード部11cの1
側面先端部に、ブラケツト16によつて鮮映性測定用の
レーザスリツト光発生器12を、光軸をレーザスリツト
光発生器11の光軸Oと平行にして取付けてある。
1 of the hood portion 11c of the laser slit light generator 11
A laser slit light generator 12 for measuring image clarity is attached to the side end portion by a bracket 16 with its optical axis parallel to the optical axis O 1 of the laser slit light generator 11.

このレーザスリツト光発生器12は、2個の半導体レー
ザ発生器12a,12bと、それによつて発生される2
本のレーザビームをスリツト光に変換するための共通の
シリンドリカルレンズ12cからなり、被検査面2に第
1のレーザスリツト光の投射位置の一端に隣接して、そ
の延長線に直交する方向に互いに平行する2本のレーザ
スリツト光を第2のレーザスリツト光として投射する。
This laser slit light generator 12 includes two semiconductor laser generators 12a and 12b and two semiconductor laser generators 12a and 12b generated by the semiconductor laser generators 12a and 12b.
It is composed of a common cylindrical lens 12c for converting a laser beam of a book into slit light, is adjacent to one end of the projection position of the first laser slit light on the surface 2 to be inspected, and is parallel to each other in the direction orthogonal to its extension line. The two laser slit light beams are projected as a second laser slit light beam.

一方、検出器10は、先端にスリガラス等の拡散板によ
るスクリーン13を装着し、内面に2枚のミラー(平面
鏡)17,18を取付けた検出筒10aと、集光レンズ
14を装着してその後方にラインセンサ15を内蔵した
カメラ部10bとからなる。
On the other hand, the detector 10 is equipped with a screen 13 made of a diffusion plate such as frosted glass at the tip, a detection cylinder 10a having two mirrors (flat mirrors) 17 and 18 attached to the inner surface thereof, and a condenser lens 14 and thereafter. And a camera section 10b having a line sensor 15 built therein.

なお、第8図に示すように、検出筒10aの先端面にお
けるレーザスリツト光発生器12からの第2のレーザス
リツト光の被検査面2による反射光が通過する部分は、
スクリーン13を切り欠して開口19を形成してある。
As shown in FIG. 8, the portion of the tip surface of the detection cylinder 10a through which the second laser slit light from the laser slit light generator 12 is reflected by the surface 2 to be inspected is:
The screen 13 is cut out to form an opening 19.

この検出器10とレーザスリツト光発生器11は、両者
の光軸O,Oが所定の角度δ(この例では60゜)
で交差するように、フレーム21によつて保持されてい
る。
The optical axes O 1 and O 2 of the detector 10 and the laser slit light generator 11 have a predetermined angle δ (60 ° in this example).
It is held by the frame 21 so as to intersect with each other.

なお、この実施例では、検出器10を小型にして且つ縮
小倍率をかせぐために、検出筒10aを折り曲げた形状
にして、第1のレーザスリツト光の反射光がスクリーン
13に投影されて形成されるスリツト像及び第2のレー
ザスリツト光の被検査面2による反射光を2枚のミラー
17,18に反射させて、集光レンズ14によつて1個
のラインセンサ15の検出ライン上に結像させるように
している。
In this embodiment, in order to reduce the size of the detector 10 and increase the reduction ratio, the detection cylinder 10a is bent, and the reflected light of the first laser slit light is projected on the screen 13 to form a slit. The reflected light of the image and the second laser slit light on the surface 2 to be inspected is reflected by the two mirrors 17 and 18, and is focused by the condenser lens 14 on the detection line of one line sensor 15. I have to.

そして、検出器10はホーク状のフレーム21の基端部
に固着されているが、レーザスリツト光発生器11はフ
レーム21の先端部に枢軸22によつて第2図の矢示θ
y方向に回動可能に軸支されており、検出器10の光軸
とレーザスリツト光発生器11の光軸Oとの交差
角度δを図示しない機構により自動的に調整できるよう
になつている。
The detector 10 is fixed to the base end of the frame 21 in the shape of a hawk, but the laser slit light generator 11 is attached to the tip of the frame 21 by means of the pivot 22 as shown by the arrow θ in FIG.
It is rotatably supported in the y direction, and the intersection angle δ between the optical axis O 2 of the detector 10 and the optical axis O 1 of the laser slit light generator 11 can be automatically adjusted by a mechanism (not shown). ing.

また、フレーム21は、この検出ヘツド20を図示しな
いロボツト等の走査装置あるいは固定部に取付けるため
のブラケツト25に、図示しない調整機構を介して矢示
θx方向へ揺動可能に取付けられており、光軸O,O
によつて作られる面が被検査面2に対して常に垂直
(90゜)になるように調整される。
Further, the frame 21 is attached to a bracket 25 for attaching the detection head 20 to a scanning device such as a robot not shown or a fixed portion so as to be swingable in the direction of the arrow θx via an adjusting mechanism not shown. Optical axis O 1 , O
The surface formed by 2 is always adjusted to be perpendicular (90 °) to the surface 2 to be inspected.

第7図における23は欠陥マーカ(ノズル)であり、被
検査面2の第1のレーザスリツト光の照射された位置に
ブツや傷等の欠陥があつてその存在が検出された時に、
そのレーザスリツト光と干渉しない欠陥近傍に拭き取り
可能なコンパウンド等のマーキング材を吹きつけて、欠
陥の存在を示す目印を付けるための装置であり、検出器
10と一体のブラケツト24に所定角度首振り可能に取
付けてある。
Denoted at 23 in FIG. 7 is a defect marker (nozzle), and when a defect such as a spot or a scratch is present at the position of the surface 2 to be inspected irradiated with the first laser slit light, and its presence is detected,
It is a device for spraying a marking material such as a compound that can be wiped off in the vicinity of the defect that does not interfere with the laser slit light to mark the existence of the defect. The bracket 24 integrated with the detector 10 can be swung by a predetermined angle. It is attached to.

そして、走査方向に応じてこの欠陥マーカ23の吹き付
け方向を切換え、矢示A方向に走査する時に図示の向き
にする。
Then, the blowing direction of the defect marker 23 is switched according to the scanning direction, and is set to the illustrated direction when scanning in the arrow A direction.

ここで、第9図の原理図によつてこの検出ヘツド20の
作用を説明する。なお、この第9図においては、図を判
り易くするために第7図に示した集光レンズ14とミラ
ー17,18を省略しており、ラインセンサ15のサイ
ズが非常に大きくなつているが、実際には集光レンズ1
4の縮少倍率により大幅に縮少されると共に、左右の結
像位置関係も逆になる。
Here, the operation of the detection head 20 will be described with reference to the principle diagram of FIG. In FIG. 9, the condenser lens 14 and the mirrors 17 and 18 shown in FIG. 7 are omitted for the sake of clarity, and the size of the line sensor 15 is extremely large. , Actually a condenser lens 1
The reduction ratio is significantly reduced, and the left and right image forming positional relationships are also reversed.

欠陥検査用レーザスリツト光発生器11によつて第1の
レーザスリツト光LSTが発生して被検査面2に投射
され、その反射光LST′がスクリーン13に投影さ
れてスリツト像SLを形成する。このスリツト像SLの
散乱光が図示しない集光レンズによつて集光され、ライ
ンセンサ15の受光面である検出ライン15a上にスリ
ツト像SL′として結像される。
The first laser slit light LST 1 is generated by the defect inspection laser slit light generator 11 and projected onto the surface 2 to be inspected, and the reflected light LST 1 ′ is projected onto the screen 13 to form a slit image SL. The scattered light of the slit image SL is condensed by a condenser lens (not shown) and is formed as a slit image SL 'on the detection line 15a which is the light receiving surface of the line sensor 15.

一方、鮮映性測定用のレーザスリツト光発生器12によ
つて、第1のレーザスリツト光LSTの延長面に直交
し、間隔dを置いて互いに平行な2本の第2のレーザス
リツト光LST,LSTが発生して被検査面2に投
射される。
On the other hand, by the laser slit light generator 12 for measuring the image clarity, two second laser slit lights LST 2 , which are orthogonal to the extension plane of the first laser slit light LST 1 and are parallel to each other with a distance d, LST 3 is generated and projected on the surface 2 to be inspected.

そして、その各反射光LST′,LST′は、スク
リーン13に投影されることなく、直接図示しない集光
レンズによつてラインセンサ15上の検出ライン15a
の先端部付近に、その検出ライン15aと交差する2本
のスリツト像SLa,SLbとして結像される。
The reflected lights LST 2 ′ and LST 3 ′ are not projected onto the screen 13 but directly detected by a condenser lens (not shown) on the line sensor 15 to detect the detection line 15 a.
Two slit images SLa and SLb that intersect the detection line 15a are formed near the tip of the.

このスリツト像SLa,SLbは、被検査面2の細かい
凹凸等によつて各反射光LST,LSTがそれぞれ
スリツト幅方向に若干振られるため、図示のようにラン
ダムなうねりを生ずる。
In the slit images SLa and SLb, the reflected lights LST 2 and LST 3 are slightly swung in the slit width direction due to fine unevenness of the surface 2 to be inspected, etc., so that random waviness occurs as illustrated.

ところで、この実施例では、ラインセンサ15として2
048ビツトのCCD,PDA,又はPCD(Plasma C
oupled Device)ラインセンサを使用し、その1〜25
6ビツトを鮮映性測定エリアとして使用し、257〜2
048ビツトを欠陥検査エリアとして使用する。
By the way, in this embodiment, as the line sensor 15,
048-bit CCD, PDA, or PCD (Plasma C
oupled Device) line sensor, 1-25
6 bits are used as a clearness measurement area, and 257-2
048 bits are used as a defect inspection area.

次に、このラインセンサ15からビデオ出力信号を読出
して、表面欠陥の検出と鮮映性を示すデータを得るため
の図示しないコントロールユニツト内の回路について、
第10図によつて説明する。
Next, regarding the circuit in the control unit (not shown) for reading the video output signal from the line sensor 15 and obtaining the data indicating the surface defect detection and the image clarity,
This will be described with reference to FIG.

クロツクジエネレータ30によつてクロツクパルスCP
を発生し、ラインセンサ15からその検出ライン15a
(第1図)の各ビツトに受光量に応じて蓄積される電荷
によるビデオ信号を、1ビツトから2048ビツトまで
順次読出す。
A clock pulse CP is generated by the clock generator 30.
Is generated, and the detection line 15a from the line sensor 15 is generated.
From 1 bit to 2048 bits, the video signal by the electric charge accumulated in each bit shown in FIG. 1 according to the amount of received light is sequentially read.

それをビデオアンプ35によつて増幅したビデオ出力信
号の包絡線波形は、例えば第11図に示すようになる。
The envelope waveform of the video output signal amplified by the video amplifier 35 is, for example, as shown in FIG.

この時、鮮映性用ウインドパルス発生回路31で1〜2
56ビツトのウインドパルスを発生し、欠陥検出用ウイ
ンドバルス発生回路32で257〜2048ビツトのウ
インドパルスを発生して、それぞれビデオスイツチ回路
33,34を制御する。
At this time, the image clarity window pulse generation circuit 31
A 56-bit window pulse is generated, and a window pulse generation circuit for defect detection 32 generates a 257-2048-bit window pulse to control the video switch circuits 33 and 34, respectively.

そして、ビデオスイツチ回路33はラインセンサ15の
鮮映性測定エリアからのビデオ出力信号のみを通過さ
せ、第2のレーザスリツト光の反射光LST′,LS
′の受光位置で2つのパルス状にレベルが高くなる
信号が抽出される。
Then, the video switch circuit 33 allows only the video output signal from the image clarity measuring area of the line sensor 15 to pass therethrough, and reflects the second laser slit light reflected light LST 2 ′, LS.
At the light receiving position of T 3 ′, a signal whose level is increased like two pulses is extracted.

一方、ビデオスイツチ回路34はラインセンサ15の欠
陥検出エリアのビデオ信号のみを通過させ、被検査面2
上の第1のレーザスリツト光LSTの投射位置に欠陥
が在つた場合、その欠陥に対応する位置でレベルが急激
に低下するビデオ信号Vsaが抽出される。
On the other hand, the video switch circuit 34 allows only the video signal of the defect detection area of the line sensor 15 to pass therethrough, and
When there is a defect in the projection position of the first laser slit light LST 1 above, the video signal Vsa whose level sharply drops at the position corresponding to the defect is extracted.

このビデオ信号Vsaを2値化回路36に入力して2値化
処理を行ない、欠陥検出信号Saを得る。
This video signal Vsa is input to the binarization circuit 36 and binarized to obtain the defect detection signal Sa.

この2値化回路36は、積分回路37,オフセツト回路
38及びアナログ比較回路39からなるオフセツト電圧
可変型2値化回路であり、ビデオスイツチ回路34から
のビデオ信号Vsaを積分回路37で積分して、第12図
に破線で示すような波形の信号を作り、これをオフセツ
ト回路38によつて鮮映性の測定値に応じてオフセツト
して比較信号Vrとする。
The binarization circuit 36 is an offset voltage variable type binarization circuit including an integration circuit 37, an offset circuit 38, and an analog comparison circuit 39. The integration circuit 37 integrates the video signal Vsa from the video switch circuit 34. , A signal having a waveform as shown by a broken line in FIG. 12 is created, and this signal is offset by the offset circuit 38 according to the measured value of the image clarity to obtain the comparison signal Vr.

すなわち、後述する鮮映性度の測定値をD/A変換回路
47によつてアナログ信号に変換して、最小検出サイズ
変更手段であるオフセツト回路38に入力し、鮮映性が
非常によい場合には第12図に破線で示す信号をそのま
ま比較信号Vrとし、鮮映性が悪い場合にはその度合に
応じて第13図に示すように、積分回路37によつて平
均化された信号のレベルを下げるようにオフセツトして
比較信号Vrとする。
That is, when the measured value of the sharpness described later is converted into an analog signal by the D / A conversion circuit 47 and input to the offset circuit 38 which is the minimum detection size changing means, and the sharpness is very good. The signal indicated by the broken line in FIG. 12 is used as it is as the comparison signal Vr, and when the image clarity is poor, the signal averaged by the integration circuit 37 as shown in FIG. The comparison signal Vr is offset so as to lower the level.

そして、アナログ比較回路39がこの比較信号Vrとビ
デオ信号Vsaとを比較して、Vsa<Vrの時にのみハイ
レベル“H”になるパルス状の欠陥検出信号Saを出力
する。
Then, the analog comparison circuit 39 compares the comparison signal Vr with the video signal Vsa, and outputs the pulse-like defect detection signal Sa which becomes the high level “H” only when Vsa <Vr.

したがつて、被検査面2の鮮映性がよい場合には第12
図に示すように小さなサイズの欠陥をも正確に検出で
き、鮮映性が悪い場合には第13図に示すように比較的
大きなサイズの欠陥のみを検出して、ノイズ波形による
誤検出を防ぐことができる。
Therefore, if the surface 2 to be inspected has a good image clarity, the 12th
As shown in the figure, even small size defects can be accurately detected, and when the image clarity is poor, only relatively large size defects are detected as shown in FIG. 13 to prevent erroneous detection due to noise waveforms. be able to.

この欠陥検出信号Saを欠陥表示回路40に入力して、
欠陥表示ユニツト41によつて例えばデイスプレイ上に
欠陥位置を表示する。
This defect detection signal Sa is input to the defect display circuit 40,
The defect display unit 41 displays the defect position on the display, for example.

また、欠陥マーカ駆動回路42によつて欠陥マーカ23
を作動させ、検出された欠陥部の近傍にマーキング材を
塗布して目印を付ける。
In addition, the defect marker driving circuit 42 allows the defect marker 23
Is operated to apply a marking material in the vicinity of the detected defective portion to make a mark.

なお、この実施例では比較電圧Vrを鮮映度に応じてオ
フセツトするようにしたが、比較電圧Vrは一定にし
て、ビデオ信号Vsaの方を鮮映度に応じてオフセツトす
るようにしてもよい。
In this embodiment, the comparison voltage Vr is offset according to the sharpness, but the comparison voltage Vr may be fixed and the video signal Vsa may be offset according to the sharpness. .

ここで、検出ヘツド20と被検査面2との相対位置を第
9図の矢示B方向(第1のレーザスリツト光LST
直交する方向)に移動させるようにスキヤニングし、1
回のスキヤニング終了後第1のスリツト光LSTのス
リツト長方向に位置をずらして同様なスキヤニングを繰
返すことにより、被検査面全面の表面欠陥を検出して表
示することができる。
Here, scanning is performed so that the relative position between the detection head 20 and the surface 2 to be inspected is moved in the direction of arrow B in FIG. 9 (direction orthogonal to the first laser slit light LST 1 ).
After the completion of the second scanning, the position of the first slit light LST 1 is shifted in the slit length direction and the same scanning is repeated, so that the surface defects on the entire surface to be inspected can be detected and displayed.

一方、ビデオスイツチ回路33によつて抽出されたビデ
オ信号Vsbは、2値化回路43によつて2値化され、そ
の2値化信号Dvによつて鮮映性演算処理回路44が被
検査面2の鮮映性を示すデータを算出し、それを鮮映度
表示回路45にに入力して、鮮映度表示ユニツト46に
鮮映度を表示させる。
On the other hand, the video signal Vsb extracted by the video switch circuit 33 is binarized by the binarizing circuit 43, and the image clarity arithmetic processing circuit 44 causes the image plane to be inspected by the binarizing signal Dv. Data indicating the sharpness of 2 is calculated and input to the freshness display circuit 45 to display the freshness on the freshness display unit 46.

鮮映性演算処理回路44は、例えば第14図に示すよう
に、2値化回路43から順次入力する各ビツトの2値化
信号のパルス間隔をクロツクパルスによりカウントする
位置カウンタ47と、そのカウント結果を演算処理する
ためのCPU,RAM,ROM及びI/Oポートを備え
たマイクロコンピユータ48とからなり、このマイクロ
コンピユータ48からの出力データを鮮映度表示回路4
5に入力して、鮮映性を示すデータを表示ユニツト46
にデジタル表示する。
The sharpness calculation processing circuit 44, for example, as shown in FIG. 14, has a position counter 47 for counting the pulse intervals of the binarized signals of the respective bits sequentially input from the binarization circuit 43 by a clock pulse, and a count result thereof. And a microcomputer 48 having a RAM, a ROM, and an I / O port for arithmetically processing the output data from the microcomputer 48.
Input the data in 5 and display the data showing the sharpness.
Digitally displayed on.

なお、このマイクロコンピユータ48は、前述の検出ヘ
ツド20を取付けたロボツト等の走査装置50によるス
キヤニング動作も制御する。
The microcomputer 48 also controls the scanning operation by the scanning device 50 such as a robot to which the above-described detection head 20 is attached.

次に、これらの回路による鮮映性測定機能について第1
5図乃至第18図も参照して説明する。
Next, regarding the image clarity measuring function by these circuits,
It will be described with reference to FIGS. 5 to 18.

第10図のビデオスイツチ回路33によつて抽出された
第15図(a)に示すようなビデオ信号Vsbを2値化回路
43に入力して、所定レベルの比較信号Vrbと比較し、
Vsb>Vrbの時にのみハイレベル“H”となり、それ以
外ではローレベル“L”となるように2値化して、第1
5図(b)に示すような二値化信号Dvを得る。
The video signal Vsb as shown in FIG. 15 (a) extracted by the video switch circuit 33 of FIG. 10 is input to the binarization circuit 43 and compared with the comparison signal Vrb of a predetermined level,
Binarization is performed so that the high level becomes “H” only when Vsb> Vrb, and the low level becomes “L” in other cases.
A binarized signal Dv as shown in FIG. 5 (b) is obtained.

第14図の位置カウンタ47は、この2値化信号Dvを
各ビツト毎にカウントして、最初に“H”になつてから
“L”に戻るまでのカウント値T、その後再び“H”
になるまでのカウント値T、及びその後“L”に戻る
までのカウント値T(第15図(b)参照)を出力す
る。
The position counter 47 shown in FIG. 14 counts the binarized signal Dv for each bit, count value T 1 from when it first becomes “H” to when it returns to “L”, and then again “H”.
It outputs the count value T 2 until it becomes, and the count value T 3 until it returns to "L" (see FIG. 15 (b)).

これを受けるマイクロコンピユータ48は、第16図の
フローチヤートに従つて動作する。
The microcomputer 48 receiving this operates according to the flow chart of FIG.

先ず、ステツプで位置カウンタ47によるカウント値
,T,Tを読込み、ステツプでP=T
(T+T)/2の演算を行なつて、第15図(a)に
示すビデオ信号Vsbの2つのピーク点の間隔に相当する
データ、すなわちラインセンサ15による第2のレーザ
スリツト光LST,LSTの反射光LST′,L
ST′の受光位置間隔を示すデータPを求めてそれを
記憶する。
First, the count values T 1 , T 2 , T 3 by the position counter 47 are read in step, and P = T 2 + in step.
The data corresponding to the interval between the two peak points of the video signal Vsb shown in FIG. 15 (a), that is, the second laser slit light LST 2 by the line sensor 15 is calculated by calculating (T 1 + T 3 ) / 2. , LST 3 reflected light LST 2 ′, L
Data P indicating the light receiving position interval of ST 3 ′ is obtained and stored.

次に、ステツプで記憶したデータPが所要数N個にな
つたかどうかを判断し、N個になつていなければステツ
プで走査装置50に起動信号を出力して、検出ヘツド
20をスキヤン方向(第9図の矢示B方向)へ1ピツチ
移動させる。
Next, it is judged whether or not the required number P of data P stored in the step has reached N, and if not, the start signal is output to the scanning device 50 in step and the detection head 20 is moved in the scan direction (first step). Move one pitch in the direction of arrow B in FIG. 9).

そして、再びステツプで新たなカウント値T
,Tを読込んで、ステツプでデータPを求めて
記憶する。このステツプ〜の動作をデータPの記憶
数がN個になるまで繰返し、N個になるとステツプへ
進む。
Then, in step again, a new count value T 1 ,
T 2 and T 3 are read, and the data P is obtained and stored in step. The operations from step to are repeated until the number of stored data P reaches N, and when the number of stored data P reaches N, the operation proceeds to step.

第2のレーザスリツト光の反射光LST′,LS
′は、被測定面2の凹凸等によつて若干偏向され
て、第9図に示したようにそれぞれ不規則な「うねり」
を生ずる。また、検出ヘツド20と被測定面2との相対
位置が変化すると、ラインセンサ15によつて受光され
る部分の各スリツト光の反射位置が変化する。
Reflected light of the second laser slit light LST 2 ′, LS
T 3 ′ is slightly deflected by the unevenness of the surface to be measured 2 and the like, and as shown in FIG. 9, each has an irregular “waviness”.
Cause Further, when the relative position between the detection head 20 and the surface 2 to be measured changes, the reflection position of each slit light of the portion received by the line sensor 15 changes.

そのため、ラインセンサ15によつて検出されるビデオ
信号Vsbの2つのピーク位置が不規則に偏位し、ステツ
プで算出する各回毎のピーク位置間隔を示すデータP
の値も第17図(a)に示すよにそれぞれ若干異なる。
Therefore, the two peak positions of the video signal Vsb detected by the line sensor 15 are irregularly deviated, and the data P indicating the peak position interval for each time calculated in step.
The values of are also slightly different as shown in FIG.

そこで、ステツプでは、ある回のデータPをPiとす
ると、その前後M/2個づつ(合計M個)のデータを平
均して平均値▲▼を算出する。但し、記憶したN個
のデータのうち最初からM/2個と最後からM/2個
(合計M個)のデータについては、前後M/2個づつの
平均値算出用データがとれないので、N−M個のデータ
Piについて平均値▲▼を算出する。
Therefore, in step, if the data P of a certain number of times is Pi, M / 2 pieces of data before and after that (total of M pieces) are averaged to calculate an average value ▲ ▼. However, for the M / 2 data from the beginning and the M / 2 data from the end (total M data) of the stored N data, the average value calculation data for each M / 2 data before and after cannot be obtained. An average value ▲ ▼ is calculated for the NM data Pi.

次に、ステツプで第17図(b)に示すようにN−M個
の各データPi毎の平均値に対する変動量(偏差)ΔP
iを、ΔPi=▲▼−Piの演算を行なつて求め
る。そして、ステツプで の演算を行なつて二乗平均値σを求める。
Next, at a step, as shown in FIG. 17 (b), a variation amount (deviation) ΔP with respect to the average value of each of the N−M data pieces Pi.
i is obtained by performing a calculation of ΔPi = ▲ ▼ −Pi. And at the step Is calculated to obtain the root mean square value σ.

このσの値が、第18図に示すように従来から用いられ
ている鮮映度の値と極めてよく対応しているので、この
σの値をそのまま表示するようにしてもよく、その場合
にはその表示値が小さい程鮮映性が良く、大きい程鮮映
性が悪いことを示す。
Since the value of σ corresponds very well to the value of the sharpness that has been conventionally used as shown in FIG. 18, the value of σ may be displayed as it is. Indicates that the smaller the display value, the better the sharpness, and the larger the display value, the worse the sharpness.

この実施例では、予め第18図に示すような鮮映度変換
テーブルをメモリに格納しておいて、ステツプでその
テーブルによりσを鮮映度に変換した値を表示ユニツト
46に表示するようにしている。
In this embodiment, a freshness conversion table as shown in FIG. 18 is stored in the memory in advance, and the value obtained by converting σ to the freshness by the table is displayed on the display unit 46 in step. ing.

なお、この実施例によれば、上述のようにラインセンサ
による一対の反射スリツト光の検出位置間隔の変動量に
よつて鮮映性を示すデータを得るようにし、且つ各デー
タPiの変動量(偏差)ΔPiを、各データの前後所定
個づつのデータの平均値との差によつて求めるようにし
たので、検出ヘツド20と被検査面2との相対的な傾き
等によつて、反射スリツト光の検出位置が全体的に変化
したような場合にもその影響を受けることなく、常に精
度の良い鮮映性測定ができる。
According to this embodiment, as described above, the data indicating the sharpness is obtained by the variation of the detection position interval of the pair of reflected slit light by the line sensor, and the variation of each data Pi ( The deviation .DELTA.Pi is determined by the difference between the average value of a predetermined number of data before and after each data. Therefore, the reflection slit is determined by the relative inclination between the detection head 20 and the surface 2 to be inspected. Even when the detection position of light changes as a whole, it is not affected by the change, and accurate image clarity can be measured at all times.

このようにして鮮映性演算処理回路44によつて算出さ
れた値σを、第10図のD/A変換回路47によつてア
ナログ信号に変換してオフセツト回路38のオフセツト
電圧を制御する。
The value .sigma. Thus calculated by the sharpness calculation processing circuit 44 is converted into an analog signal by the D / A conversion circuit 47 in FIG. 10 to control the offset voltage of the offset circuit 38.

第19図は、この発明の他の実施例を示す第10図と同
様なブロツク図である。
FIG. 19 is a block diagram similar to FIG. 10 showing another embodiment of the present invention.

この実施例で第10図と異なるのは、オフセツト電圧可
変型2値化回路36に代えて、従来と同様な2値化回路
51と、欠陥サイズカウント回路52及びデジタル比較
回路53を設け、D/A変換回路47に代えて比較値設
定回路54を設けたことである。
This embodiment is different from FIG. 10 in that the offset voltage variable type binarizing circuit 36 is replaced with a binarizing circuit 51 similar to the conventional one, a defect size counting circuit 52 and a digital comparing circuit 53. The comparison value setting circuit 54 is provided in place of the / A conversion circuit 47.

2値化回路51は、第10図の2値化回路36における
オフセツト回路38を省いた回路であり、鮮映度に係わ
らず、ビデオ信号Vsaとそれを積分して平均化した比較
信号とを比較して、第12図に示したような欠陥検出信
号Saを出力する。
The binarization circuit 51 is a circuit in which the offset circuit 38 in the binarization circuit 36 in FIG. 10 is omitted, and the video signal Vsa and the comparison signal obtained by integrating and averaging the video signal Vsa are irrespective of the sharpness. In comparison, the defect detection signal Sa as shown in FIG. 12 is output.

欠陥サイズカウント回路52は、この欠陥検出信号Sa
がハイレベル“H”の間、例えばクロツクジエネレータ
30が発生するクロツクパルスCPをカウントしてその
パルス幅Wを計測することにより、欠陥サイズに応じた
デジタル値Daを出力する。
The defect size counting circuit 52 uses the defect detection signal Sa.
Is high level "H", for example, the clock pulse CP generated by the clock generator 30 is counted and the pulse width W thereof is measured to output the digital value Da corresponding to the defect size.

デジタル比較回路53は、このデジタル値Daを比較値
設定回路54によつて設定されたデジタル値Drと比較
し、Dr≦Daの時にのみ検出信号Spを出力する。こ
の信号Spが出力された時に欠陥表示ユニツト41によ
つて欠陥位置を表示し、欠陥マーカ23を作動させるの
は前述の実施例と同様である。
The digital comparison circuit 53 compares the digital value Da with the digital value Dr set by the comparison value setting circuit 54, and outputs the detection signal Sp only when Dr ≦ Da. The defect position is displayed by the defect display unit 41 when the signal Sp is output, and the defect marker 23 is activated, as in the above-described embodiment.

ここで、比較値設定回路54は、鮮映性演算処理回路4
4によつて算出された鮮映度を示すデータσに応じて、
σが小さい程比較値Drを小さく設定し、σが大きい程
比較値Drを大きく設定する。
Here, the comparison value setting circuit 54 uses the sharpness calculation processing circuit 4
According to the data σ showing the sharpness calculated by 4,
The smaller σ is, the smaller the comparison value Dr is set, and the larger σ is, the larger the comparison value Dr is set.

このようにしても、被検査面の鮮映性がよい(σが小さ
い)時にはサイズの小さい欠陥まで正確に検出でき、鮮
映性が悪い(σが大きい)時には、比較的大きなサイズ
の欠陥のみを誤検出なく検出できる。
Even in this case, even if the image clarity of the surface to be inspected is good (small σ), even small defects can be accurately detected, and when the image clarity is poor (large σ), only defects of relatively large size are detected. Can be detected without false detection.

なお、これらの実施例では、鮮映性測定用のレーザスリ
ツト光発生器12が互いに平行する2本のレーザスリツ
ト光を発生して第2のレーザスリツト光として被検査面
に投射するようにしたが、これを1本のレーザスリツト
光にしても鮮映性を示すデータを算出することは可能で
ある。
In these embodiments, the laser slit light generator 12 for measuring the sharpness produces two laser slit lights which are parallel to each other and projects them as second laser slit light on the surface to be inspected. Even with one laser slit light, it is possible to calculate the data showing the sharpness.

また、表面欠陥検出用と鮮映性測定用に1個のラインセ
ンサをエリア分けして使用する例について説明したが、
これを別々にして2個のラインセンサを使用するように
してもよい。
Also, an example in which one line sensor is divided into areas for surface defect detection and image clarity measurement has been described.
You may make it separate and use two line sensors.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明してきたように、この発明による表面検査装置
を使用して被検査物の表面を走査すれば、その表面に存
在する欠陥を確実に検出することができると同時に、そ
の表面の写像鮮映性をも自動的に精度よく測定すること
ができ、さらにその鮮映性の測定値に応じて検出する最
小欠陥サイズを変更するので、鮮映性の悪いパネル面等
を検査する場合にも誤検出を防止できる。
As described above, by scanning the surface of the object to be inspected by using the surface inspection apparatus according to the present invention, the defect existing on the surface can be surely detected, and at the same time, the image clarity of the surface can be visualized. Image quality can also be measured automatically and accurately, and the minimum defect size to be detected is changed according to the measured value of image clarity, so even when inspecting a panel surface etc. with poor image clarity Detection can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明による表面検査装置の基本構成を示す
ブロツク図、 第2図は先に出願した表面欠陥検査装置の原理説明図、 第3図は同じくその作用説明図、 第4図は同じくそのラインセンサによるビデオ出力信号
の2値化処理を説明するための波形図、 第5図及び第6図はこの発明が解決しようとする問題点
を説明するための説明図及びラインセンサからのビデオ
出力信号の波形図、 第7図はこの発明の一実施例における検出ヘツドの構造
例を示す正面図、 第8図は第7図の矢示A方向から見た側面図、 第9図は同じくその検出ヘツドの原理図、 第10図はコントロールユニツト内のこの発明に係わる
信号処理回路の構成を示すブロツク図、 第11図はラインセンサ15から出力されるビデオ出力
信号の包絡線波形と鮮映性測定エリア及び欠陥検出エリ
アを示す波形図、 第12図及び第13図は第10図における2値化回路3
6の作用を説明するための波形図、 第14図は第10図における鮮映性演算処理回路44の
構成及びその関連回路を示すブロツク図、 第15図は第10図のビデオスイツチ回路33から出力
されるビデオ信号と2値化回路43から出力される2値
化信号の波形を示す波形図、 第16図は第14図のマイクロコンピユータ48が実行
する処理動作のフロー図、 第17図はマイクロコンピユータ48によるデータPの
平均値P及び変動量ΔPの算出方法及び算出結果を示す
説明図、 第18図は演算によつて求めた二乗平均値σと鮮映度と
の関係を示す線図、 第19図はこの発明の他の実施例を示す第10図と同様
なブロツク図である。 2……被検査面(パネル面)、10……検出器 11……表面欠陥検査用のレーザスリツト光発生器 12……鮮映性測定用のレーザスリツト光発生器 13……スクリーン、14……集光レンズ 15……ラインセンサ、17,18……ミラー 20……検出ヘツド、21……フレーム 33,34……ビデオスイツチ回路 36,43,51……2値化回路 38……オフセツト回路(最小検出サイズ変更手段) 40……欠陥表示ユニツト 44……鮮映度表示ユニツト 53……デジタル比較回路(最小検出サイズ変更手段)
FIG. 1 is a block diagram showing the basic structure of a surface inspection apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a principle explanatory view of the surface defect inspection apparatus previously filed, FIG. 3 is the same operation explanatory drawing, and FIG. 4 is the same. Waveform diagrams for explaining the binarization processing of the video output signal by the line sensor, FIGS. 5 and 6 are explanatory diagrams for explaining the problems to be solved by the present invention, and the video from the line sensor. FIG. 7 is a waveform diagram of the output signal, FIG. 7 is a front view showing a structural example of the detection head in one embodiment of the present invention, FIG. 8 is a side view seen from the direction of arrow A in FIG. 7, and FIG. FIG. 10 is a block diagram showing the configuration of the signal processing circuit according to the present invention in the control unit, and FIG. 11 is an envelope waveform and a clear image of the video output signal output from the line sensor 15. Sex measurement And waveform diagram showing a defect detection area, Fig. 12 and Fig. 13 binarizing circuit 3 in FIG. 10
6 is a waveform diagram for explaining the operation of FIG. 6, FIG. 14 is a block diagram showing the configuration of the image clarity arithmetic processing circuit 44 in FIG. 10 and its related circuits, and FIG. 15 is a video switch circuit 33 of FIG. FIG. 16 is a waveform diagram showing the waveforms of the output video signal and the binarized signal output from the binarization circuit 43. FIG. 16 is a flow chart of the processing operation executed by the microcomputer 48 of FIG. FIG. 18 is an explanatory diagram showing a calculation method and a calculation result of the average value P and the variation amount ΔP of the data P by the micro computer 48, and FIG. FIG. 19 is a block diagram similar to FIG. 10 showing another embodiment of the present invention. 2 ... Inspected surface (panel surface), 10 ... Detector 11 ... Laser slit light generator for surface defect inspection 12 ... Laser slit light generator for image clarity measurement 13 ... Screen, 14 ... Optical lens 15 ... Line sensor, 17, 18 Mirror 20 ... Detection head, 21 ... Frame 33, 34 ... Video switch circuit 36, 43, 51 ... Binarization circuit 38 ... Offset circuit (minimum) Detecting size changing means 40 ... Defect display unit 44 ... Freshness display unit 53 ... Digital comparison circuit (minimum detection size changing means)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−93934(JP,A) 特開 昭62−112003(JP,A) 特開 昭62−233712(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP 61-93934 (JP, A) JP 62-112003 (JP, A) JP 62-233712 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被検査面に第1のレーザスリット光を投射
して、その反射光をスクリーン上に投影させ、そのスリ
ット像から被検査面の表面欠陥を検出する表面欠陥検査
手段と、 前記第1のレーザスリット光の投射位置の一端に隣接し
て、その延長線に直行する方向に互いに平行な2本のレ
ーザスリット光を第2のレーザスリット光として前記被
検査面に投射して、前記被検査面のわずかな凹凸による
うねりによって変化する反射光を該平行な2本のレーザ
スリット光の間隔の変化として検出することにより、前
記表面欠陥検査手段による前記被検査面上の検査位置付
近の鮮映性を測定する鮮映性測定手段とを備えた表面検
査装置において、 前記鮮映性測定手段による鮮映性の測定値に応じて、前
記欠陥検査手段によって検出する最小欠陥サイズを変更
する最小検出サイズ変更手段を設けたことを特徴とする
表面検査装置。
1. A surface defect inspection means for projecting a first laser slit light on a surface to be inspected, projecting the reflected light on a screen, and detecting a surface defect on the surface to be inspected from the slit image, Adjacent to one end of the projection position of the first laser slit light, two laser slit lights parallel to each other in a direction orthogonal to the extension line are projected as second laser slit light on the surface to be inspected, Near the inspection position on the surface to be inspected by the surface defect inspection means by detecting the reflected light that changes due to the undulation due to slight unevenness of the surface to be inspected as a change in the interval between the two parallel laser slit lights. In the surface inspecting device, which includes a sharpness measuring unit for measuring the sharpness of the image, the minimum defect size detected by the defect inspecting unit according to the value of the sharpness measured by the sharpness measuring unit. Surface inspection apparatus characterized in that a minimum detection size changing means for changing the's.
JP7676286A 1986-04-04 1986-04-04 Surface inspection device Expired - Lifetime JPH0621775B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7676286A JPH0621775B2 (en) 1986-04-04 1986-04-04 Surface inspection device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7676286A JPH0621775B2 (en) 1986-04-04 1986-04-04 Surface inspection device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62233710A JPS62233710A (en) 1987-10-14
JPH0621775B2 true JPH0621775B2 (en) 1994-03-23

Family

ID=13614602

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7676286A Expired - Lifetime JPH0621775B2 (en) 1986-04-04 1986-04-04 Surface inspection device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0621775B2 (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5237404A (en) * 1990-06-28 1993-08-17 Mazda Motor Corporation Inspection apparatus with improved detection of surface defects over large and curved surfaces
JPH04160304A (en) * 1990-10-23 1992-06-03 Nippon Steel Corp Detecting apparatus of warp in widthwise direction of plate
JPH05142153A (en) * 1991-11-25 1993-06-08 Mazda Motor Corp Method and device for inspecting surface state by using irradiation
JP3172287B2 (en) * 1992-11-09 2001-06-04 マツダ株式会社 Film defect detector
JP3320858B2 (en) * 1993-10-15 2002-09-03 マツダ株式会社 Imaging range detection method in surface inspection
JP4673953B2 (en) * 2000-03-21 2011-04-20 オリンパス株式会社 Macro lighting device
JP4720287B2 (en) * 2005-05-20 2011-07-13 凸版印刷株式会社 Coating unevenness inspection method and program thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62233710A (en) 1987-10-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8621919B2 (en) Method and apparatus for determining the tread depth of a vehicle tire
KR960012330B1 (en) Discriminative flaw detector for light-transmissive sheet material
GB2078945A (en) Optical measurement system
JPH0695075B2 (en) Surface texture detection method
JPH0781853B2 (en) Vehicle wheel alignment device and method thereof
US4585947A (en) Photodetector array based optical measurement systems
JP2002168617A (en) Device and system for measuring tubular object such as tunnel
JPH0621775B2 (en) Surface inspection device
JPH01253607A (en) Optical detection method and apparatus for surface roughness of material surface
US5724140A (en) Method and apparatus for determining the quality of flat glass sheet
US7063018B2 (en) Method and apparatus for detecting the edge of an imaging media
EP0374977B1 (en) Method and device for the detection and classification of the crimpling of a surface treatment
JP3498532B2 (en) Vehicle shape discriminator
JPH0656363B2 (en) Data output method of surface defect inspection device
JP2557650B2 (en) Sample shape measuring device
JPH0553225B2 (en)
JP3381420B2 (en) Projection detection device
JP2955686B2 (en) Surface defect inspection equipment
JPH03186705A (en) 3D shape and dimension measuring device
CN120506911B (en) A method and system for detecting the flatness of rearview mirrors
JPS62103545A (en) Measurement for clearness
JPH01406A (en) Sample shape measuring device
JP2618303B2 (en) ERW pipe welding bead cutting shape measurement method
JPH0781960B2 (en) Defect detection device for continuous objects
JPS6367508A (en) Method and instrument for measuring coordinates of tape end