JPH0624052B2

JPH0624052B2 - 磁気記録方法

Info

Publication number: JPH0624052B2
Application number: JP22334984A
Authority: JP
Inventors: 俊明泉; 潔野口; 久恵清水; 操河本
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1984-10-24
Filing date: 1984-10-24
Publication date: 1994-03-30
Anticipated expiration: 2009-03-30
Also published as: JPS61104420A

Description

【発明の詳細な説明】Ｉ発明の背景技術分野本発明は、磁気記録方法、特にいわゆる斜め蒸着法によ
り連続薄膜型の磁性層を有する磁気記録媒体を用いた磁
気記録方法に関する。

先行技術とその問題点ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、長尺の基体
上に、連続薄膜型の磁性層を有するものの開発が活発に
行われている。

このような金属薄膜型の媒体の磁性層としては、特性
上、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわ
ゆる斜め蒸着法によって形成したＣｏ、Ｃｏ−Ｎｉ系等
からなる蒸着膜が好適である。

このような斜め蒸着法による強磁性金属薄膜層は、基体
主面の法線に対して傾斜し、その長手方向径が強磁性金
属薄膜層厚さ方向全域に及ぶ、柱状結晶粒の集合体とし
て形成される。

そして、Ｃｏ，Ｎｉ等は、柱状結晶粒中に存在し、ま
た、好ましい態様において導入されるＯは、柱状結晶粒
の表面に、酸化物を形成して存在するものである。

しかし、このような強磁性金属薄膜層は、基体の長手方
向、すなわち媒体の走行方向に形状異方性をもつため
に、媒体の走行方向の正逆のいかんにより、入出力特性
に大きな差を生じるという欠点がある。

そこで、本発明者らは、先に、このような入出力差のな
い媒体として、基体の長手方向と、基体主面の法線方向
とではられる平面上で、方向をかえながら保磁力を測定
したとき、（Hc max−Hc min）／Hc(O)≦０．９〔ここに、Hc maxは保磁力の最大値、Hc minは保磁力の
最小値、Hc(O)は基体の長手方向における保磁力を表わ
す。〕なる関係を有することを特徴とする磁気記録媒体を提案
している。

これによって、媒体の走行方向の正逆によって、入出力
特性の差のない磁気記録媒体をうることができた。

ところで、このような媒体は、スペーシングロスによる
特性低下が大きいので、その表面をできるだけ平滑化す
る必要がある。

しかし、あまり表面を平坦にすると、摩擦が大きくな
り、ヘッドタッチ、走行面で支障が出る。

この場合、金属薄膜型の媒体では、磁性層が０．０５〜
０．５μｍと非常にうすいため、媒体の表面性は基板の
表面性に依存する。

このため、表面の摩擦を小さくするため、基板の表面処
理を行ったり、微粒子を配設する試みがなされている
が、これらでも、走行摩擦、耐久走行性、走行安定性等
の物性や、電磁変換特性の点で未だ不十分である。

すなわち、媒体の走行方向の正逆による入出力特性に差
を生じない磁気記録媒体であって、走行摩擦が低く、耐
久走行性、走行安定性が高く、ヘッド付着、ヘッド目づ
まりを解消しうる磁気記録方法は未だ実現されていな
い。

II発明の目的本発明の目的は、金属薄膜型の磁気記録媒体を用いた磁
気記録方法において、摩擦耐久走行性、走行安定性等の
物性を改良し、しかも物性面で支障のない範囲でヘッド
付着や目づまりを解消し、かつ電磁変換特性の面でも何
ら不都合が生じないようにし、しかも、媒体の走行方向の正逆に対し、入出力差が少な
い磁気記録方法を提供することにある。

このような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち本発明は、可とう性基板上にＣｏを主成分とす
る強磁性金属薄膜層を設けた磁気記録媒体を、磁気ヘッ
ドを用いて記録再生を行う磁気記録方法において、磁気ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、ａが０．
１〜０．５であり、媒体表面が１mm²当り平均１０^５／
ａ^２個以上の突起を有し、しかも突起が３０〜３００Å
の高さを有し、さらに、基体の長手方向と、基体主面の法線方向とでは
られる平面上で、方向をかえながら保磁力を測定したと
き、（Hc max−Hc min）／Hc(O)≦０．９〔ここに、Hc maxは保磁力の最大値、Hc minは保磁力の
最小値、Hc(O)は基体の長手方向における保磁力を表わ
す。〕なる関係を有することを特徴とする磁気記録方法であ
る。

III発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明に用いる磁気記録媒体は、基体上に強磁性金属薄
膜層を有する。

本発明における強磁性金属薄膜層は、Ｃｏ，Ｃｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｍ
ｏ，Ｃｏ−Ｖ，Ｃｏ−Ｗ，Ｃｏ−Ｒｅ，Ｃｏ−Ｒｕ，Ｃ
ｏ−Ｍｎ，Ｃｏ−Ｆｅ，Ｆｅ等の公知の種々の組成であ
ってよく、その形成法も、蒸着、イオンプレーティング
等が使用できる。

ただ、本発明の効果が最も大きいのは、Ｃｏを主成分と
し、これに必要に応じＮｉ，Ｃｒ，Ｏのうちの１〜３種
が含有される組成の磁性層を有する場合である。

すなわち、Ｃｏ単独からなってもよく、ＣｏとＮｉから
なってもよい。

Ｃｏ＋Ｎｉである場合、Ｃｏ／Ｎｉの重量比は、１．５
以上であることが好ましい。

さらに、ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｉに加え、Ｏが含まれてい
てもよい。Ｏが含まれたときには、電磁変換特性の経時
変化や走行耐久性の点で、より好ましい結果をうる。

このような場合、Ｏ／Ｃｏ（Ｎｉが含まれない場合）あ
るいはＯ／（Ｃｏ＋Ｎｉ）の原子比は、０．５以下、よ
り好ましくは０．０１〜０．５であることが好ましい。

一方、強磁性金属薄膜層中には、Ｃｏ，Ｃｏ＋Ｎｉ，Ｃ
ｏ＋ＯあるいはＣｏ＋Ｎｉ＋Ｏに加え、Ｃｒが含有され
ると、より一層好ましい結果を得る。

これは、電磁変換特性が向上し、出力およびＳ／Ｎ比が
向上し、さらに膜強度が向上するからである。

このような場合、Ｃｒ／Ｃｏ（Ｎｉが含まれない場合）
あるいはＣｒ／（Ｃｏ＋Ｎｉ）の重量比は、０．１以
下、特に０．００１〜０．１であることが好ましい。

そして、Ｃｒ／ＣｏあるいはＣｒ／（Ｃｏ＋Ｎｉ）の重
量比は、０．００５〜０．０５であると、より一層好ま
しい結果を得る。

なお、このような強磁性金属薄膜層中には、さらに他の
微量成分、特に遷移元素、例えば、Ｆｅ，Ｍｎ，Ｖ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｚｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｃｕ等が含ま
れていてもよい。

このような強磁性金属薄膜層は、通常、０．０５〜０．
５μｍ、より好ましくは０．０７〜０．３μｍの厚さに
形成される。

このような強磁性金属薄膜層は、通常、基体主面の法線
に対して傾斜した注状結晶粒の集合体からなることが好
ましい。

このような場合、柱状結晶粒は、基体の主面の法線に対
して、３０°以上の角度で傾斜していることが好まし
い。

また、各柱状結晶粒は、強磁性金属薄膜層の厚さ方向全
域に亘る長さをもち、その短径は５０〜５００Å程度と
される。

そして、柱状結晶粒の基体側の部分の基体主面の法線に
対する傾斜角は、柱状結晶粒の基体と反対側の部分の基
体主面の法線に対する傾斜角よりも大きいことが好まし
い。

そして、ＣｏおよびＮｉ，Ｃｒ等は、この結晶粒内に存
在し、Ｏは各柱状結晶粒の表面に主として存在するもの
である。

この場合、Ｏは強磁性金属薄膜層表面に酸化物の形で存
在することが好ましい。

このような前提の下で、基体の長手方向と、基体主面の
法線方向とではられる平面上で、方向をかえながら保磁
力を測定したとき、Hc maxとHc minとHc(O)とは、（Hc max−Hc min）／Hc(O)≦０．９でなければならな
い。

この値が０．９をこえると、媒体の走行方向をかえたと
き、２dB以上の大きな入出力差を生じてしまい、実用に
耐えない。

そして、この値が０．６以下となると、走行の正逆に対
する入出力差がきわめて小さくなる。

また、この値が０．６をこえると、耐食性が臨界的に低
下して、実用に耐えなくなる。

そして、この値が０．４以下となると、走行の正逆に対
する入出力差がきわめて小さくなり、また耐食性がきわ
めて高いものとなる。

このような強磁性金属薄膜層の表面には、必要に応じ、
種々のトップコート層を設層することができる。

また、強磁性金属薄膜層を形成する基体は、長尺でかつ
非磁性のものでありさえすれば特に制限はなく、特に可
とう性の基体、特にポリエステル、ポリイミド等の樹脂
製のものであることが好ましい。

また、その厚さは、種々のものであってもよいが、特に
５〜２０μｍであることが好ましい。

この場合、基板の強磁性金属薄膜層形成面の裏面には、
公知の種々のバックコート層が形成されていてもよい。

このように構成される本発明に用いる磁気記録媒体の表
面には、微細な突起が所定の密度で設けられる。

微細な突起は、３０〜３００Å、より好ましくは５０〜
２５０Åの高さを有するものである。

すなわち、本発明の突起は、光学顕微鏡で観察でき、か
つ触針型表面粗さ計で測定できるものではなく、走査型
ないし透過型電子顕微鏡にて観察できる程度のものであ
る。

突起高さが３００Åをこえ、光学顕微鏡にて観察できる
ものとなると、電磁変換特性の劣化と、走行安定性の低
下をもたらす。

また、５０Å未満となると、物性の向上の実効がない。

そして、その密度は１mm²あたり平均１０^５／ａ^２個、
より好ましくは２×１０^６／ａ^２〜１×１０^９／ａ^２個
である。

この場合、ａはμｍ単位にて、磁気ヘッドのギャップ長
を表わす。

そして、ａは０．１〜０．５μｍ、特に０．１〜０．４
μｍとされる。

なお、突起密度が１０^５／ａ^２個／mm²、より好ましく
は２×１０^６／ａ^２個mm²未満となると、ノイズが増大
し、スチル特性が低下する等物性の低下をきたし、実用
に耐えない。

また、１０^９／ａ^２個／mm²をこえると、物性上の効果
が少なくなってしまう。

このような突起を設けるには、通常、基板上に微粒子を
配設すればよい。

微粒子径は、３０〜３００Å、特に５０〜２５０Åとす
ればよく、これにより微粒子径と対応した微細突起が形
成される。

用いる微粒子としては、通常コロイド粒子として知られ
ているものであって、例えばＳｉＯ_２（コロイダルシリ
カ）、Ａｌ_１Ｏ_３（アルミナゾル）、ＭｇＯ，Ｔｉ
Ｏ_２，ＺｎＯ，Ｆｅ_２Ｏ_３，ジルコニア，ＣｄＯ，Ｎｉ
Ｏ，ＣａＷＯ_４，ＣａＣＯ_３，ＢａＣＯ_３，ＣｏＣ
Ｏ_３，ＢａＴｉＯ_３，Ｔｉ（チタンブラック），Ａｕ，
Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｆｅ、各種ヒドロゾルや、樹脂粒子
等が使用可能である。この場合、特に無機物質を用いる
のが好ましい。

このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板上に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布、乾燥してもよい。

なお、場合によっては、これら塗布液を基板上に配設す
るのではなく、トップコート層として配設することもで
きる。

また、樹脂分を用いる場合、これら微粒子にもとづく微
細突起に重畳してゆるやかな突起を設けることもできる
が、通常はこのようにする必要はない。

なお、基板と強磁性金属薄膜層との間には、必要に応
じ、公知の各種下地層を介在させることもできる。

また、もし必要であるならば、強磁性金属薄膜層を複数
に分割して、その間に非磁性金属薄膜層を介在させても
よい。

本発明において、磁性層の形成は電解蒸着、イオンプレ
ーティング，メッキ等を用いることもできるが、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成されることが好ましい。

この場合、基体法線に対する、蒸着物質の入射角の最小
値は、２０°以上とすることが好ましい。

入射角が２０°未満となると、電磁変換特性が低下す
る。

そして、通常は、蒸着に際しては蒸着用の円筒状のキャ
ンを用い、これに蒸着マスクを介在させて、基体主面の
法線に対し、９０〜２０°、より好ましくは９０〜４０
°の入射角となるように、成膜に際し入射角を漸次減少
させることが好ましい。

このような場合、上記のような保磁力の角度依存性をも
たせるには、例えば、基体の送り方向と直角な方向、す
なわち基体の巾方向に、ハースないしルツボを複数個配
設して、その蒸発レートをかえることによる等の方法が
ある。

なお、これ以外の蒸着条件には特に制限はない。

すなわち、蒸着雰囲気は、通常、アルゴン、ヘリウム、
真空等の不活性雰囲気とし、１０^-5〜１０^０Ｐａ程度の
圧力とし、また、蒸着距離、基体搬送方向、キャンやマ
スクの構造、配置等は公知の条件と同様にすればよい。

ただ、蒸着雰囲気中には酸素を含有させて、電磁変換特
性を向上し、耐食性等を向上させることが好ましい。

また、蒸着中の任意の磁気に、種々の方法により、酸素
を強磁性金属薄膜層中に導入することができる。

そして、強磁性金属薄膜層形成後にも、各種酸化処理を
行うことができる。

さらに、強磁性金属薄膜層形成後に、熱処理を行うこと
もできる。

他方、用いる磁気ヘッドは、種々のものが使用できる。

この場合、磁気ヘッドとしては、少なくともギャップ部
端面を金属磁性体で構成したものであることが好適であ
る。

この場合、コア全体を金属強磁性体か形成することもで
き、必要に応じ、ギャップ部端面を含むコアの一部を金
属強磁性体から形成することもできる。

第１図には、例えばフェライト等の強磁性体からなるコ
ア半体２１，２２のギャップ部端面に１〜５μｍ程度の
厚さの金属強磁性体３１，３２をスパッタリング等によ
り被着し、ガラス質等のギャップ４を介してコア半体２
１，２２をつきあわせて磁気ヘッド１を構成した例が示
される。

これによりきわめて良好となり、ヘッド付着やヘッド目
づまりも良好となる。

そして、その形状、構造等は公知のものであってもよ
い。

ただ、ギャップ長ａは、前記のとおり、通常、０．１〜
０．５μｍ、特に０．１〜０．４μｍ、また、トラック
巾は、通常、１０〜５０μｍ、特に１０〜２０μｍとす
る。

用いる強磁性体としては、種々のものが可能であり、非
晶質磁性金属、センダスト、ハードパーマロイ、パーマ
ロイ等の薄膜、薄板等はいずれも使用可能である。

ただ、これらのうちで、ヘッド目づまりないし付着が特
に少なく、電磁変換特性が良好なのは、Ｃｏを主成分と
する非晶質磁性合金である。

このような非晶質磁性合金としては、Ｃｏ７０〜９５at
％で、ガラス化元素として、Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｈｆ，
希土類元素，Ｓｉ，Ｂ，Ｐ，Ｃ，Ａｌ等、特にＺｒおよ
び／またはＮｂを５〜２０at％含有するものが好適であ
る。

あるいは、Ｃｏ６５〜８５at％で、ガラス化元素として
Ｓｉおよび／またはＢを１５〜３５at％含有するものも
好適である。この場合、さらに１０at％以下のＦｅ、２
５at％以下のＮｉ、総計２０at％以下のＣｒ，Ｔｉ，Ｒ
ｕ，Ｗ，Ｍｏ，Ｔｉ，Ｍｎ等の１種以上が含有されてい
てもよい。

これら非晶質磁性合金は、スパッタリングや高速急冷法
等を用いて、コア半体ないしギャップ部等として形成さ
れる。

このような磁気ヘッドを用いて、前記した媒体に対して
記録再生を行うには、いわゆるＶＨＳ方式、ベータ方
式、８mmビデオ方式、Ｕ規格方式等公知のビデオ録画シ
ステムに従えばよい。

IV発明の具体的作用効果本発明の磁気記録方法は、ビデオ用、オーディオ用、計
算機用等の媒体に用いて有用である。本発明によれば、
媒体の走行方向の正逆による入出力差がきわめて少なく
なる。

さらに、走行摩擦がきわめて小さくなり、安定化する。

また、走行耐久性が格段と向上し、多数回走行後も走行
摩擦の増大がなく、くりかえし録画、再生回数が格段と
向上し、スチル特性が格段と向上する。

そして、走行安定性も高く、高温多湿から低温低湿ま
で、巾広い条件下できわめて高い安定性を示す。

さらに、スペーシングロスにもとづく再生出力もきわめ
て小さい。

また、ノイズもきわめて少ない。

そして、ヘッドの目づまりやヘッドの付着もきわめて少
ない。

このような効果は、金属強磁性体製ヘッドを用いると
き、より高いものとなる。

また、このような効果は、最低記録波長１μｍ未満の高
密度記録において、より一層高いものとなる。

Ｖ発明の具体的実施例以下に本発明の具体的実施例について詳細に説明する。

実施例１実質的に微粒子を含まない平滑なポリエステルフィルム
（厚さ１２μｍ）上にコロイダルシリカを塗布し、高さ
１５０Å、密度１０^７個／mm²の微小突起を有する基板
をえた。

次に、Ｃｏ，Ｃｏ／Ｎｉの重量比が４／１である場合、
およびＣｏ／Ｎｉ／Ｃｒの重量比が６５／３０／５であ
る合金を用い、上記基体上に、斜め蒸着法により、０．
１５μｍの強磁性金属薄膜層を形成した。

基体はキャンにて連続搬送し、蒸着物質の入射角を９０
〜４０°に逓減した。また、蒸発源とキャンの距離は２
００mmとした。そして、蒸着はＰ＝５×１０^-3Ｐａ、お
よびこれにＰ＝２×１０^-1Ｐａの酸素を導入した雰囲気
で行った。

この場合、ハースの溶融面積を２５cm²とし、基体中央
部と、これから基体巾方向に２０mmはなれた２点に１基
づつ、３個のハースを配置した。

これら３個のハースからの蒸発レートのうち、基体端部
方向両ハースの蒸発レートは同一とし、端部方向ハース
と中心ハースの蒸発レートとの比を下記表１のようにか
えて、蒸着を行った。

このようにして作製されたサンプルの（Hc max−Hc mi
n）／Hc(O)が表１に示される。

なお、各サンプルとも、磁性層は、磁性層の厚さ方向全
域に亘る長さをもち、基体法線に対し傾斜した柱状結晶
粒の集合体からなり、柱状結晶粒の基体側部分の基体法
線に対する傾斜角は、表面側部分のそれより大きいもの
であった。

また、各サンプルの酸素量は、雰囲気中にＯ_２を導入し
たもので、Ｏ／（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）＝１８〜２０
％、Ｏ_２を導入しないもので、約１％であった。

次に、各サンプルを１／２インチ巾に切断し、中央部か
らテープを作製した。

なお、用いた磁気ヘッドは、第１図に示されるものであ
り、ギャップ長０．２５μｍ、トラック長２０μｍのも
のである。この場合、コア半体２１，２２はフェライト
製、ギャップ端面は、スパッタリングにより形成した３
μｍ厚のＣｏ０．８Ｎｉ０．１Ｚｒ０．１（原子比）で
あり、ギャップ材はガラスとした。

なお、１０^５／ａ^２は１．６×１０^６である。

次いで、各サンプルにつき、下記の測定を行った。

（１）入出力差市販のＶＨＳ型ビデオデッキに搭載して、両走行方向の
４．５MHzにおける入出力を測定し、その最大値の差を
もとめた。

結果を表１に示す。

実施例２実施例１のサンプルに対し、空気中で、８５℃、１時間
の熱処理を行った。

表２に入出力差を示す。

また、各サンプルを６０℃、相対湿度９０％にて７日間
放置し、１cm²あたりの−△φｍ／φ（％）を測定し
た。

結果を表２に示す。

表１および表２に示される結果から、本発明における保
磁力分布のもたらす効果があきらかである。

実施例３実施例１のＣｏ／Ｎｉ合金を酸素雰囲気下で蒸着したサ
ンプルにおいて、基板上にコロイダルシリカを塗布し、
下記表３に示される微小突起を設けた。

本発明のサンプルでは、光学顕微鏡による観察および触
針型表面粗さ計による測定で、コロイダルシリカ塗布の
効果は検出されなかったが、走査型電子顕微鏡による高
倍率の観察では、磁性膜に突起がみられ、その大小は、
塗布したコロイダルシリカの大小に対応していた。

磁性層表面の突起の高さおよび密度と特性の関係を表３
に示す。

なお、特性、最短記録波長０．７μｍの信号を用いて実
験を行った。

また、用いた磁気ヘッドは、第１図に示されるものであ
り、ギャップ長０．２５μｍ、トラック長２０μｍのも
のである。この場合、コア半体２１，２２はフェライト
製、ギャップ端面は、スパッタリングにより形成した３
μｍ厚のＣｏ０．８、Ｎｉ０．１、Ｚｒ０．１（at％）
であり、ギャップ材はガラスとした。

なお、１０^５／ａ^２は1.6×１０^６（mm²）^-1である。

また、比較用の磁気ヘッドとして、フェライトヘッドを
用いた。

なお、特性の測定方法は以下のとおりである。

１．突起観察ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）およびＴＥＭ（透過型電子
顕微鏡）を使用２．スチル特性５MHzで記録し、再生出力のスチル特性を測定する。１
０分以上をＯＫレベルとする。

３．出力中心周波数５MHzで記録、再生した場合のＳ／Ｎ比（相
対値）を示す。ＶＨＳのＶＴＲを改造し、５MHzまで測
定できるようにする。

４．ノイズ再生出力の測定において、４MHzでのノイズ（dB）を測
定する。

５．耐久走行テスト後の面状態５０パス走行後のテープ面の状態を光学顕微鏡で観察す
る。

○：変化なし △：磁性面損傷 ×：磁性層欠落なお、これら各実施例の磁性層表面はオージェ分光分析
の結果、１００〜２００Åの酸化物層で覆われているこ
とが判明した。

なお、サンプルNo．３３は酸素を含まない雰囲気での蒸
着による酸素を含まない磁性層のものである。

なお、上記各実施例では、無機微粒子としてコロイダル
シリカを用いたが、他の物質例えばアルミナゾル，チタ
ンブラック，ジルコニアあるいは各種ヒドロゾル等を用
いても、同等の結果を得た。

また、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｒｕ−Ｃｒ−Ｓｉ−Ｂ系非晶質を用
いて作成したヘッドを用いた場合も、同様の結果が得ら
れた。

なお、センダストを用いて作成したヘッドを用いた場合
は、上記の場合に比べて若干効果が少なかった。

本発明によるテープとヘッドの組合わせは、他の組合わ
せに比較して、物性面で優れており、各雰囲気における
摩擦係数も安定して低く、耐久走行性の面でもはるかに
優れていた。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に用いる磁気ヘッドの１例を示す正面
図である。１……磁気ヘッド，２１，２２……コア半体，３１，３２……金属強磁性体，４……ギャップ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁
性金属薄膜層を設けた磁気記録媒体を、磁気ヘッドを用
いて記録再生を行う磁気記録方法において、磁気ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、ａが０．
１〜０．５であり、媒体表面が１mm²当り平均１０^５／
ａ^２個以上の突起を有し、しかも突起が３０〜３００Å
の高さを有し、さらに、基体の長手方向と、基体主面の法線方向とでは
られる平面上で、方向をかえながら保磁力を測定したと
き、（Hc max−Hc min）／Hc(O)≦０．９〔ここに、Hc maxは保磁力の最大値、Hc minは保磁力の
最小値、Hc(O)は基体の長手方向における保磁力を表わ
す。〕なる関係を有することを特徴とする磁気記録方法。
【請求項２】磁気ヘッドの少なくともギャップ部端面が
金属強磁性体で構成されている特許請求の範囲第１項に
記載の磁気記録方法。
【請求項３】金属強磁性体がＣｏを主成分とする非晶質
磁性合金である特許請求の範囲第２項に記載の磁気記録
方法。
【請求項４】磁気記録媒体は、可とう性基板が高分子か
らなり、この基板上に、径が３０〜３００Åの大きさを
有する微粒子を配設し、その上に強磁性金属薄膜層を設
けてなる特許請求の範囲第１項〜第３項のいずれかに記
載の磁気記録方法。
【請求項５】強磁性金属薄膜層が、Ｃｏ、あるいはＣｏ
とＮｉ，ＣｒおよびＯの１〜３種を主成分とする特許請
求の範囲第１項〜第４項のいずれかに記載の磁気記録方
法。
【請求項６】強磁性金属薄膜層が、Ｎｉを含み、Ｃｏ／
Ｎｉの重量比が１．５以上である特許請求の範囲第１項
〜第５項のいずれかに記載の磁気記録方法。
【請求項７】強磁性金属薄膜層が、Ｃｒを含み、Ｃｒ／
（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）の重量比が０．００１〜０．
１である特許請求の範囲第１項〜第６項のいずれかに記
載の磁気記録方法。
【請求項８】強磁性金属薄膜層が、Ｏを含み、Ｏ／（Ｃ
ｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）の原子比が０．４５以下である特
許請求の範囲第１項〜第７項のいずれかに記載の磁気記
録方法。
【請求項９】Ｏ／（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）の原子比が
０．０１〜０．５である特許請求の範囲第８項に記載の
磁気記録方法。
【請求項１０】強磁性金属薄膜が、表面に強磁性金属の
酸化物の層を有する特許請求の範囲第１項〜第９項のい
ずれかに記載の磁気記録方法。
【請求項１１】強磁性金属薄膜の厚さが０．０５〜０．
５μｍである特許請求の範囲第１項〜第１０項のいずれ
かに記載の磁気記録方法。
【請求項１２】強磁性金属薄膜層が、基体主面の法線に
対して傾斜した柱状結晶粒の集合体からなる特許請求の
範囲第１項〜第１１項のいずれかに記載の磁気記録方
法。
【請求項１３】柱状結晶粒の基体側の部分の基体主面の
法線に対する傾斜角が、柱状結晶粒の基体と反対側の部
分の基体主面の法線に対する傾斜角よりも大きい特許請
求の範囲第１項〜第１２項のいずれかに記載の磁気記録
方法。
【請求項１４】（Hc max−Hc min）／Hc(O)≦０．６で
ある特許請求の範囲第１項〜第１３項のいずれかに記載
の磁気記録方法。