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JPH0624182B2 - Substrate exchange device - Google Patents
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JPH0624182B2 - Substrate exchange device - Google Patents

Substrate exchange device

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Publication number
JPH0624182B2
JPH0624182B2 JP61010684A JP1068486A JPH0624182B2 JP H0624182 B2 JPH0624182 B2 JP H0624182B2 JP 61010684 A JP61010684 A JP 61010684A JP 1068486 A JP1068486 A JP 1068486A JP H0624182 B2 JPH0624182 B2 JP H0624182B2
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JP
Japan
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substrate
substrate holder
holder
chamber
sample chamber
Prior art date
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JP61010684A
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Japanese (ja)
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JPS62169327A (en
Inventor
拓興 沼賀
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Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Machine Co Ltd filed Critical Toshiba Machine Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、電子ビーム描画装置等の基板交換装置に関す
るものである。
Description: TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a substrate exchange apparatus such as an electron beam drawing apparatus.

〔従来技術とその問題点〕[Prior art and its problems]

電子ビーム描画装置等の基板交換装置は、従来基板をあ
らかじめ治具上で基板ホルダにセットし、この基板のセ
ットされた基板ホルダを複数枚装填できる基板ホルダマ
ガジン(以下ホルダマガジンと云う)53(第5図参
照)に挿入し、このホルダマガジン53を第5図に示す
ように、電子ビーム描画装置等の試料室1にゲートバル
ブ3を介して接続された真空チヤンバ50の内のリフタ
51に載置し、ホルダ搬送装置52で前記試料室1に基
板ホルダ25をロードし、描画された後再びホルダマガ
ジン53に戻している、ホルダマガジン53はリフタ5
1により1段ずつリフトされ、次の未処理基板4を基板
ホルダ25と共に再び試料室1に送り込む操作を繰返す
ものである。なお第5図において、2は描画ステージ、
27および33は真空排気装置、54は基板ホルダの出
入れのための扉である。
In a substrate exchanging device such as an electron beam drawing device, a conventional substrate is set on a substrate holder in advance on a jig, and a plurality of substrate holders on which the substrates are set can be loaded into a substrate holder magazine (hereinafter referred to as a holder magazine) 53 ( (See FIG. 5), and as shown in FIG. 5, the holder magazine 53 is attached to the lifter 51 in the vacuum chamber 50 connected to the sample chamber 1 of the electron beam drawing apparatus or the like through the gate valve 3. The substrate holder 25 is placed and loaded into the sample chamber 1 by the holder transport device 52, and after being drawn, it is returned to the holder magazine 53. The holder magazine 53 is the lifter 5
The operation of lifting the next unprocessed substrate 4 together with the substrate holder 25 into the sample chamber 1 again is repeated by one step by 1. In FIG. 5, 2 is a drawing stage,
27 and 33 are vacuum exhaust devices, and 54 is a door for loading and unloading the substrate holder.

このように、従来は、基板4の基板ホルダ25に対する
取付・取外し作業とホルダマガジン53に対する基板ホ
ルダ25の挿入・抜取り作業を人手によっており、時間
も長くかかり、不能率であると共により多くの汚染原因
を試料室内へ持込む欠点があった。
As described above, conventionally, the work of attaching / removing the substrate 4 to / from the substrate holder 25 and the work of inserting / removing the substrate holder 25 from / into the holder magazine 53 are manually performed, which requires a long time, is an unacceptable rate, and causes more contamination. There was a drawback of bringing the cause into the sample chamber.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明は、基板の基板ホルダに対する取付・取外しを自
動化して作業能率のアップを計ると共に、試料室内への
汚染原因の持込みを減少させることを目的としている。
An object of the present invention is to automate the attachment / detachment of a substrate to / from a substrate holder to improve the work efficiency and reduce the carry-in of a cause of contamination into the sample chamber.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

上記目的を達成するための本発明は、電子ビーム描画装
置等における真空の試料室と、同試料室にゲートバルブ
を介して接続されると共に真空引き可能になされた予備
室と、試料室内において処理すべき基板を着脱可能に保
持する基板ホルダを、試料室と予備室との間で交互に移
送する手段と、予備室内にある基板ホルダに対し別のゲ
ートバルブを介して基板をロード・アンロードする手段
と、予備室内にある「空」の基板ホルダと予備室外にあ
る別の「空」の基板ホルダとをさらに別のゲートバルブ
を介して交換する手段とからなり、通常の運転時には、
基板ホルダを試料室及び予備室から外部へ出すことな
く、基板を基板ホルダに対向してロード・アンロード
し、基板のサイズが異なるときには、基板ホルダをその
交換手段によって交換し、交換した基板ホルダに対して
上記と同様に基板をロード・アンロードするようにした
ものである。
The present invention for achieving the above-mentioned object includes a vacuum sample chamber in an electron beam drawing apparatus and the like, a preliminary chamber connected to the sample chamber through a gate valve and capable of being evacuated, and processing in the sample chamber. A means for alternately transferring the substrate holder that holds the substrate to be detached between the sample chamber and the spare chamber, and loading / unloading the substrate holder via a separate gate valve to the substrate holder in the spare chamber. And a means for exchanging an "empty" substrate holder inside the spare chamber and another "empty" substrate holder outside the spare chamber via a further gate valve, and during normal operation,
The substrate holder is loaded and unloaded facing the substrate holder without exposing the substrate holder from the sample chamber and the preliminary chamber, and when the substrate size is different, the substrate holder is replaced by the replacement means, and the replaced substrate holder On the other hand, the board is loaded and unloaded in the same manner as described above.

〔発明の実施例〕Example of Invention

以下本発明の一実施例を示す第1図ないし第4図につい
て説明する。第1図ないし第2図において、電子ビーム
描画装置等の試料室1は真空排気され、その内部の描画
ステージ2上に基板4を保持する基板ホルダ25を載置
し、電子光学鏡筒(EOS)24により電子ビームを走
査し、基板4上に描画がなされる。基板ホルダ25はゲ
ートバルブ3を開いた状態で試料室1の描画ステージ2
と予備室内の移動ステージ22との間でホルダ移送装置
18によりやりとりが行なわれる。なおこのホルダ移送
装置18は、第5図に示した従来から用いられているホ
ルダ搬送装置52と同様であるため詳述を避ける。描画
中にはゲートバルブ3が閉じられて予備室5に対する試
料室1の真空気密が保たれる。第3図に示すように、移
動ステージ22は、モータ21、ボールネジ23等の駆
動装置により基板ホルダ保持部A,BのピッチPだけシ
ヤトル移動する。移動ステージ22上には基板ホルダ2
5を保持する箇所がA,Bの2箇所あり、Aは処理済の
基板ホルダ25を保持し、Bは未処理の基板ホルダ25
を保持し、第3図の状態は、Bの位置にあった基板ホル
ダ25を移動ステージ22上から試料室1に移送して
「空」になった状態を示し、Aの位置ある処理済の基板
ホルダ25は後述するアンロードステーション19に描
画済基板4がこれからアンロードされる状態を示す。基
板4がアンロードステーション19にアンロードされた
後「空」になった基板ホルダ25をAの位置からBの位
置に移動装置31でピッチP移動させ、さらに移動ステ
ージ22をPだけ後述するロードステーション12の方
に駆動装置21により移動させる。基板ホルダ25に対
する基板4のクランプは基板ホルダ25に設けられてい
る図示しないスプリングにより行なわれ、第1図に示す
リリーズ機構7,7′により、該スプリングを押圧して
開放される。従って基板ホルダ25に基板4をロードま
たはアンロードする際はリリーズ機構7または7′を作
動させて、クランプを開放した状態で行なわれる。ロー
ドステーション12とアンロードステーション19は第
1図と第4図で説明するロードステーション12とアン
ロードステーション19は、ほゞ同じ構造で、移動ステ
ージ22上の基板ホルダ25に基板4を送り込む機能と
受取る機能の違いだけであり、各部を示す番号も同じ番
号とし、アンロードステーション用には番号にダッシュ
(′)をつけてある。ゲートバルブ8,8′は予備室5
とロードステーション12、アンロードステーション1
9を接続し、基板4のやりとりの際のみ開放される。基
板カセット9,9′はそれぞれ未処理および処理済の基
板4を収納し、エレベータ10,10′に載置されて上
下する基板搬送板11,11′は基板4を基板カセット
9から受取りまたは基板カセット9′に受渡し、モータ
14,14′、ボールネジ15,15′によりガイドレ
ール13,13′に沿って移動する。34,34′はエ
レベータ10,10′の駆動用モータであり、20,2
0′はボールネジである。
1 to 4 showing an embodiment of the present invention will be described below. In FIGS. 1 and 2, the sample chamber 1 of the electron beam drawing apparatus or the like is evacuated, and the substrate holder 25 holding the substrate 4 is placed on the drawing stage 2 inside the sample chamber 1 and the electron optical column (EOS). ) 24, the electron beam is scanned to draw on the substrate 4. The substrate holder 25 is placed in the drawing stage 2 of the sample chamber 1 with the gate valve 3 opened.
And the moving stage 22 in the spare chamber are exchanged by the holder transfer device 18. The holder transfer device 18 is similar to the conventionally used holder transfer device 52 shown in FIG. During drawing, the gate valve 3 is closed to maintain the vacuum tightness of the sample chamber 1 with respect to the preliminary chamber 5. As shown in FIG. 3, the moving stage 22 is shuttle-moved by the pitch P of the substrate holder holding portions A and B by a driving device such as a motor 21 and a ball screw 23. The substrate holder 2 is placed on the moving stage 22.
There are two places A and B for holding 5, where A holds the processed substrate holder 25 and B holds the unprocessed substrate holder 25.
3 shows the state in which the substrate holder 25 in the position B is transferred from the moving stage 22 to the sample chamber 1 and becomes "empty". The substrate holder 25 shows a state in which the drawn substrate 4 is to be unloaded from the unload station 19 described later. After the substrate 4 is unloaded at the unload station 19, the substrate holder 25 which has become “empty” is moved from the position A to the position B by the pitch P by the moving device 31, and the moving stage 22 is loaded by P, which will be described later. It is moved to the station 12 by the driving device 21. The substrate 4 is clamped to the substrate holder 25 by a spring (not shown) provided in the substrate holder 25, and the release mechanism 7, 7'shown in FIG. Therefore, when the substrate 4 is loaded or unloaded on the substrate holder 25, the release mechanism 7 or 7'is operated and the clamp is opened. The load station 12 and the unload station 19 have almost the same structure as the load station 12 and the unload station 19 described in FIGS. 1 and 4, and have a function of sending the substrate 4 to the substrate holder 25 on the moving stage 22. The only difference is the function received, and the numbers indicating the parts are the same, and for the unload station, a dash (') is added to the number. Gate valves 8 and 8'are in the spare chamber 5
And load station 12, unload station 1
9 is connected and is opened only when the substrate 4 is exchanged. Substrate cassettes 9 and 9'retain unprocessed and treated substrates 4, respectively, and substrate transfer plates 11 and 11 'placed on elevators 10 and 10' and moved up and down receive substrate 4 from substrate cassette 9 or It is delivered to the cassette 9'and moved along the guide rails 13 and 13 'by the motors 14 and 14' and the ball screws 15 and 15 '. 34 and 34 'are drive motors for the elevators 10 and 10',
0'is a ball screw.

次に基板ホルダ交換装置について、第1図および第2図
により説明する。予備室5の中央前部に基板ホルダ交換
装置16とホルダマガジン17を設ける。基板ホルダ交
換装置16は180゜旋回可能な2組のアーム16aを
持ち、このアーム16aはラジアル方向に伸縮自在で、
1組のアーム16aでホルダマガジン17内の基板ホル
ダ26の受取りと予備室5への送り渡しを行ない、他の
アーム16aで予備室5内の基板ホルダ25の受取りと
ホルダマガジン17への送り渡しを行なうようになって
いる。予備室5内の基板ホルダ25は描画作業を休止し
た状態で予備室5のフタ32を開放し、移動ステージ本
体内に組込まれている複数の押上ロッド39を上昇させ
るとこれらの押上ロッド9が移動ステージ22に設けら
れている穴を通って上昇するため予備室5の上部に持上
げられる。この状態で基板ホルダ交換装置16を作動さ
せてアーム16aで基板ホルダ25を受取り、既に他の
アーム16aで受取った次のロッド用の基板ホルダ26
を保持した状態でアーム16aを180゜旋回させ、押
上ロッド39上とホルダマガジン17内にそれぞれのア
ーム16aを伸長して載置する。以上の動作を2回繰返
して予備室5内の2組の基板ホルダの交換を行なう。
Next, the substrate holder exchanging device will be described with reference to FIGS. 1 and 2. A substrate holder exchanging device 16 and a holder magazine 17 are provided in the center front part of the auxiliary chamber 5. The substrate holder exchanging device 16 has two sets of arms 16a which can be rotated by 180 °, and the arms 16a are extendable and contractible in the radial direction.
The pair of arms 16a receives the substrate holder 26 in the holder magazine 17 and transfers it to the preliminary chamber 5, and the other arm 16a receives the substrate holder 25 in the preliminary chamber 5 and transfers it to the holder magazine 17. Is designed to do. The substrate holder 25 in the preliminary chamber 5 opens the lid 32 of the preliminary chamber 5 in a state where the drawing work is stopped and raises the plurality of push-up rods 39 incorporated in the main body of the moving stage. Since it ascends through the hole provided in the moving stage 22, it is lifted to the upper part of the auxiliary chamber 5. In this state, the substrate holder exchanging device 16 is operated to receive the substrate holder 25 by the arm 16a, and the substrate holder 26 for the next rod already received by the other arm 16a.
The arms 16a are rotated 180 ° while holding, and the arms 16a are extended and placed on the push-up rod 39 and in the holder magazine 17. The above operation is repeated twice to replace the two sets of substrate holders in the preliminary chamber 5.

次に本装置の作用について説明すると、先づ未処理の基
板4を収納した基板カセット9を、ロードステーション
12に、「空」の基板カセット9′をアンロードステー
ション19にセットする。ロードステーション12のリ
フタ10は上昇限を、アンロードステーション19のリ
フタ10′は下降限を原位置とし、基板4を1枚ずつ基
板搬送板11,11′を作動させて、移送または収納す
るごとに基板カセット9,9′を1ピッチずつ自動的に
下降または上昇する。基板4の予備室5の基板ホルダ2
5への移送は、移動ステージ22がロードステーション
12側に移動されている状態で、ゲートバルブ8を開放
し、リリース機構7を押圧して、基板ホルダ25のスプ
リングクランプを開放した状態で、基板搬送板11を前
進させて基板4を基板ホルダ保持部Bにある基板ホルダ
25に移送し、リリーズ機構7を戻してスプリングクラ
ンプしたら、基板搬送板11を後退させる。ゲートバル
ブ8を閉じて予備室5を密閉する。この時試料室1の正
面に位置する移動ステージ22の基板保持部Aは「空」
になっており、試料室1内で描画が終了するのを待期し
ている。描画が終了すると、ゲートバルブ3を開放し、
基板ホルダ25の搬送機構18を作動させて試料室1よ
り描画済の基板ホルダ25を移動ステージ22の基板ホ
ルダ保持部Aに引取る。移動ステージ22をアンロード
ステーション19側に移動させ、試料室1の正面に移動
した基板ホルダ保持部Bにある未処理基板4を保持した
基板ホルダ25を搬送機構18を作動させて試料室1に
送り込み、搬送機構18を後退させた後ゲートバルブ3
を閉じてから試料室1内では描画作業が開始される。ま
た基板保持部Aにある描画された基板4をアンロードす
るため、リリース機構7′でスプリングクランプを開放
し、ゲートバルブ8′を開き、基板搬送板11′を前進
・後退させて描画済みの基板4を基板カセット9′に収
納する。
Next, the operation of this apparatus will be described. First, the substrate cassette 9 accommodating the unprocessed substrate 4 is set in the load station 12, and the "empty" substrate cassette 9'is set in the unload station 19. When the lifter 10 of the load station 12 is in the upper limit position and the lifter 10 'of the unload station 19 is in the lower limit position, the substrate 4 is moved one by one to transfer or store the substrate transport plates 11 and 11'. Then, the substrate cassettes 9 and 9'are automatically lowered or raised one pitch at a time. Substrate holder 2 in preparatory chamber 5 for substrate 4
The transfer to the substrate 5 is performed while the movable stage 22 is moved to the load station 12 side, the gate valve 8 is opened, the release mechanism 7 is pressed, and the spring clamp of the substrate holder 25 is opened. The carrier plate 11 is moved forward to transfer the substrate 4 to the substrate holder 25 in the substrate holder holding part B, the release mechanism 7 is returned, and the spring clamp is performed. Then, the substrate carrier plate 11 is retracted. The gate valve 8 is closed to seal the preliminary chamber 5. At this time, the substrate holding part A of the moving stage 22 located in front of the sample chamber 1 is “empty”.
And waiting for the drawing to be completed in the sample chamber 1. When the drawing is finished, open the gate valve 3,
The transport mechanism 18 of the substrate holder 25 is operated to take the drawn substrate holder 25 from the sample chamber 1 to the substrate holder holding portion A of the moving stage 22. The moving stage 22 is moved to the unload station 19 side, and the substrate holder 25 holding the unprocessed substrate 4 in the substrate holder holding part B moved to the front of the sample chamber 1 is moved to the sample chamber 1 by operating the transfer mechanism 18. Gate valve 3 after feeding in and retracting transport mechanism 18
After closing, the drawing work is started in the sample chamber 1. Further, in order to unload the drawn substrate 4 on the substrate holding portion A, the spring clamp is opened by the release mechanism 7 ′, the gate valve 8 ′ is opened, and the substrate transfer plate 11 ′ is moved forward and backward to move the drawn substrate 4 The substrate 4 is stored in the substrate cassette 9 '.

こうして、上記の動作を繰返し、ロードステーション1
2の未処理基板カセット9が「空」になり、アンロード
ステーション19の処理済基板カセット9′が満杯にな
って1ロット完了すると装置全体がサイクル停止する。
基板カセット9,9′を交換セットして次のロットのた
めに再起動を指示する。
In this way, the above operation is repeated and the load station 1
When the second unprocessed substrate cassette 9 becomes "empty" and the processed substrate cassette 9'in the unload station 19 becomes full and one lot is completed, the entire apparatus stops the cycle.
The substrate cassettes 9 and 9'are exchanged and set, and a restart is instructed for the next lot.

上述の如きロット生産を繰返し、次に基板サイズの違っ
たロットのものを生産する場合には、基板ホルダ25を
基板ホルダ26に段取換えをするため基板ホルダ交換装
置16を使用する。このとき、基板ホルダ25は、2個
共基板4が「空」になっている状態で移動ステージ22
の保持部A,Bに置かれている、この状態で予備室5の
フタ32を開き、押上ロッド39を上昇させ、第3図に
おいて保持部B上にある基板ホルダ25をリフトアップ
し、基板ホルダ25と基板ホルダ26に、アーム16a
を同時に伸長させて係合させ、両アーム16上を縮少さ
せ、基板ホルダ交換装置16上に基板ホルダ25と26
を載置した状態で、アーム16aを180゜旋回させ、
伸長し、係合を離脱させ、縮少させると基板ホルダ2
5,26はそれぞれ予備室5上の押上ロッド39上と、
ホルダマガジン17内に載置される。押上ロッド39を
下降させて基板ホルダ26を移動ステージ22の基板ホ
ルダ保持部Bに載置する。次に移動ステージ22をロー
ドステーション側にPだけ移動させ、基板ホルダマガジ
ン17を下降させた状態で前述の基板ホルダ交換動作を
再び繰返して基板ホルダ保持部Aに基板ホルダ26を載
置してホルダ交換動作を終える。フタ32を閉じて交換
動作が完了する。
When the lot production as described above is repeated and next lots of different substrate sizes are produced, the substrate holder exchange device 16 is used to change the substrate holder 25 to the substrate holder 26. At this time, the substrate holders 25 are moved to the moving stage 22 while the two substrates 4 are “empty”.
In this state, the lid 32 of the auxiliary chamber 5 is opened, the push-up rod 39 is raised, and the substrate holder 25 on the holding portion B is lifted up in FIG. The arm 16a is attached to the holder 25 and the substrate holder 26.
Are simultaneously extended and engaged with each other to reduce the size of both arms 16 and the substrate holders 25 and 26 on the substrate holder exchange device 16.
With the arm mounted, rotate the arm 16a 180 °,
When it is extended, disengaged, and contracted, the substrate holder 2
5 and 26 are respectively on the push-up rod 39 on the auxiliary chamber 5,
It is placed in the holder magazine 17. The push-up rod 39 is lowered to place the substrate holder 26 on the substrate holder holding portion B of the moving stage 22. Next, the moving stage 22 is moved to the load station side by P, and the substrate holder exchanging operation described above is repeated again with the substrate holder magazine 17 lowered, and the substrate holder 26 is placed on the substrate holder holding portion A to hold the holder. Finish the exchange operation. The lid 32 is closed and the exchange operation is completed.

前述した実施例は、移動ステージ22上に2個の基板ホ
ルダ25を載置し、かつロードステーション12とアン
ロードステーション19を別々に設けた例を示したが、
これに限らず、移動ステージ22に1個の基板ホルダの
みを載置したり、またロード・アンロードステーション
を1つのステーションで兼用してもよい、等種々の変更
が可能である。
In the above-described embodiment, an example in which the two substrate holders 25 are placed on the moving stage 22 and the load station 12 and the unload station 19 are separately provided,
However, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made such that only one substrate holder is placed on the moving stage 22 or one station serves as a loading / unloading station.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

1) 基板ホルダに基板を取付ける手作業を省いて自動化
することにより生産性を高めることができる。
1) Productivity can be improved by omitting the manual work of mounting the substrate on the substrate holder and automating it.

2) 試料室に入る基板ホルダは該基板ホルダを交換しな
い限り、予備室より外へは出ず、人手にも触れず、外部
から試料室に入るものは基板のみであるため、試料室の
汚染をより確実に押えることができる。
2) The substrate holder that enters the sample chamber does not go out of the spare chamber and is not touched by human hands unless the substrate holder is replaced. Can be held more reliably.

3)基板のサイズが変わる場合には、予備室内の基板ホル
ダが基板のサイズに応じた基板ホルダに自動的に交換さ
れるため、種々のサイズに対して能率的な運転が可能と
なり、この場合にも人手を介さないため、汚染をより少
なく押えることができる。
3) When the size of the board changes, the board holder in the spare chamber is automatically replaced with a board holder according to the size of the board, which enables efficient operation for various sizes. Moreover, since no human intervention is required, pollution can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図ないし第4図は本発明の実施例を示し、第1図は
平面図、第2図は第1図のX−X断面矢視図、第3図は
第2図のY−Y断面矢視図、第4図は第1図のZ−Z断
面図、第5図は従来技術を示す平面図である。 1……試料室、2……描画ステージ、3,8,8′……
ゲートバルブ、4……基板、5……予備室、7,7′…
…リリース機構、9,9′……基板カセット、10,10′
……カセットエレベータ、11,11′……基板搬送板、12
……ロードステーション、13,13′……ガイド、14,1
4′,21,29,34……モータ、15,15′,20,20′,2
3,30……ボールネジ、16……基板ホルダ交換装置、16a
……アーム、17……ホルダマガジン、18……ホルダ搬送
装置、19……アンロードステーション、22……移動ス
テージ、24……EOS、25,26……基板ホルダ、27,
33……真空排気装置、28……定盤、31……移動装置、32
……フタ、36,37,38……ガイド、39……押上ロッド、
50……真空チヤンバ、51……リフタ、52……ホルダ搬送
装置、53……基板ホルダマガジン、54……扉。
1 to 4 show an embodiment of the present invention, FIG. 1 is a plan view, FIG. 2 is a sectional view taken along the line XX in FIG. 1, and FIG. 3 is YY in FIG. FIG. 4 is a sectional view taken along the line ZZ in FIG. 1, and FIG. 5 is a plan view showing a conventional technique. 1 ... Sample chamber, 2 ... Drawing stage, 3, 8, 8 '...
Gate valve, 4 ... Substrate, 5 ... Preliminary chamber, 7, 7 '...
... Release mechanism, 9,9 '... Substrate cassette, 10,10'
...... Cassette elevator, 11, 11 '…… Substrate carrier plate, 12
…… Road station, 13,13 ′ …… Guide, 14,1
4 ', 21, 29, 34 ... Motor, 15, 15', 20, 20 ', 2
3, 30 …… Ball screw, 16 …… Board holder exchange device, 16a
…… Arm, 17 …… Holder magazine, 18 …… Holder transfer device, 19 …… Unload station, 22 …… Movement stage, 24 …… EOS, 25,26 …… Substrate holder, 27,
33 …… Vacuum exhaust device, 28 …… Surface plate, 31 …… Movement device, 32
...... Lid, 36, 37, 38 …… Guide, 39 …… Push-up rod,
50 …… Vacuum chamber, 51 …… Lifter, 52 …… Holder transfer device, 53 …… Substrate holder magazine, 54 …… Door.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電子ビーム描画装置等における真空の試料
室と、同試料室にゲートバルブを介して接続されると共
に真空引き可能になされた予備室と、前記試料室内にお
いて処理すべき基板を着脱可能に保持する基板ホルダ
を、前記試料室と予備室との間で交互に移送する手段
と、予備室内にある基板ホルダに対し別のゲートバルブ
を介して前記基板をロード・アンロードする手段と、前
記予備室内にある「空」の基板ホルダと予備室外にある
別の「空」の基板ホルダとをさらに別のゲートバルブを
介して交換する手段とからなることを特徴とする基板交
換装置。
1. A vacuum sample chamber in an electron beam drawing apparatus, a preliminary chamber which is connected to the sample chamber via a gate valve and is capable of vacuuming, and a substrate to be processed is attached and detached in the sample chamber. Means for alternately transferring the substrate holder that holds the substrate between the sample chamber and the preliminary chamber, and means for loading and unloading the substrate through another gate valve with respect to the substrate holder in the preliminary chamber A substrate exchanging device, comprising means for exchanging an "empty" substrate holder inside the spare chamber and another "empty" substrate holder outside the spare chamber via a further gate valve.
【請求項2】基板ホルダを移送する手段が、予備室内に
あって基板ホルダを1ないし複数載置する移動ステージ
を有し、前記基板ホルダを試料室,基板ホルダの交換手
段およびロード・アンロード部に通ずるそれぞれのゲー
トバルブに対向する位置に移送可能に構成されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の基板交換装
置。
2. A means for transferring a substrate holder has a moving stage for placing one or a plurality of substrate holders in a preliminary chamber, the substrate holder being a sample chamber, a means for exchanging the substrate holder, and loading / unloading. The substrate exchanging device according to claim 1, wherein the substrate exchanging device is configured to be transferable to a position facing each gate valve communicating with the section.
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