JPH0624620B2 - Powder processing equipment - Google Patents
Powder processing equipmentInfo
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- JPH0624620B2 JPH0624620B2 JP60084166A JP8416685A JPH0624620B2 JP H0624620 B2 JPH0624620 B2 JP H0624620B2 JP 60084166 A JP60084166 A JP 60084166A JP 8416685 A JP8416685 A JP 8416685A JP H0624620 B2 JPH0624620 B2 JP H0624620B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は粉粒体処理装置に、特に、粉粒体の造粒,コー
チング,混合,乾燥等を生産性良く行うことのできる粉
粒体処理装置に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a powder or granular material processing apparatus, and more particularly to a powder or granular material processing apparatus capable of performing granulation, coating, mixing, drying, etc. of powder particles with high productivity. .
一般に、たとえば医薬,食品,フェライト,トナー等に
用いられる粉粒体の造粒,コーチング,混合,乾燥等に
は、従来から様々な型式の機械装置が使用されている。In general, various types of mechanical devices have been conventionally used for granulation, coating, mixing, drying, etc. of powders and granules used for medicines, foods, ferrites, toners and the like.
このような従来装置の1つとして、造粒筒内の下部の全
面に金網を設け、かつ金網の上部に回転円板を設けた構
造が特開昭54−62978号および特開昭56−13
3024号公報に開示されている。しかし、この従来装
置は造粒コーチングは可能であるものの、造粒物が回転
円板と金網との間に入り込み、回転円板の回転により金
網の全面にすり付けられて粉砕されてしまうという問題
点があった。さらに、この従来装置は生産性が低いとい
う問題点もあった。As one of such conventional devices, a structure in which a wire mesh is provided on the entire lower surface in the granulating cylinder and a rotating disk is provided on the upper part of the wire mesh is disclosed in JP-A-54-62978 and JP-A-56-13.
It is disclosed in Japanese Patent No. 3024. However, although this conventional apparatus is capable of granulation coating, the problem that granules enter between the rotating disc and the wire mesh and are rubbed and crushed on the entire surface of the wire mesh by the rotation of the rotating disk There was a point. Further, this conventional device has a problem that the productivity is low.
また、特公昭46−22544号および特公昭47−4
7794号公報には、容器底部を回転円板で形成し、こ
の回転円板の回転と、該回転円板と容器壁との間の間隙
から吹き込まれるスリットエアとの働きによる遠心転動
作用でコーチングを行う構造が開示されている。しかし
ながら、この従来装置は基本的にはコーチングを主眼と
するもので、造粒操作のために適用しても生産性が低
く、量産には不向きであるという重大な欠点があった。
また、この従来装置は重質で球形の造粒物は形成できる
が、軽質のものには不適当であるという問題点もある。Also, Japanese Patent Publication No. 46-22544 and Japanese Patent Publication No. 47-4.
In Japanese Patent Publication 7794, the container bottom is formed of a rotating disk, and the centrifugal rotation operation is performed by the rotation of the rotating disk and the action of slit air blown from the gap between the rotating disk and the container wall. A structure for coaching is disclosed. However, this conventional device is basically intended for coating, and has a serious drawback that it is not suitable for mass production even if it is applied for granulation operation, and its productivity is low.
Further, this conventional apparatus can form heavy and spherical granules, but has a problem that it is not suitable for light ones.
そこで本出願人は、これらの問題点を解決するために特
開昭59−55337号に公報に示す造粒コーチング装
置を提供し、所期の効果を得ている。In order to solve these problems, the applicant of the present invention has provided the granulation coating apparatus disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 59-55337 and has achieved the desired effect.
ところで、この装置ではスリットエアは装置外部の給気
ファンから流量調整弁を通してスリット下部に位置する
スリットチャンバに供給され、そこからスリットを通し
て造粒筒内へ噴出される。しかしながら、スリットエア
を環状のスリットの各部から均一に噴出させることは回
転板が回転する必要上、精密な構造が要求されるので必
ずしも容易ではなく、スリットチャンバへの入口径路に
近い部分のスリットから多く、そこから遠い部分のスリ
ットからは少し噴出する。したがって少量のエアしか噴
出しない部分では、造粒筒内の粉粒体がスリットから落
下し、原料の無駄や装置内部の汚染を生じるおそれがあ
り得ることを本発明者は見い出した。By the way, in this apparatus, slit air is supplied from an air supply fan outside the apparatus to a slit chamber located under the slit through a flow rate adjusting valve, and is ejected from there into the granulating cylinder through the slit. However, it is not always easy to eject the slit air uniformly from each part of the annular slit because a rotating plate needs to rotate and a precise structure is required, and it is not easy from the slit near the inlet path to the slit chamber. Many, a little gushes out from the slit far from it. Therefore, the present inventor has found that in a portion where only a small amount of air is ejected, the powder or granules in the granulation cylinder may drop from the slit, resulting in waste of raw materials or contamination of the inside of the apparatus.
本発明の目的は、回転板と造粒筒側との間に形成される
スリットから粉粒体が落下することを防止でき、原料の
無駄や装置内部の汚染を排除できる粉粒体処理装置を提
供することにある。An object of the present invention is to provide a powdery or granular material processing device capable of preventing powdery or granular materials from falling through a slit formed between a rotating plate and a granulating cylinder side, and eliminating waste of raw materials and contamination inside the device. To provide.
本発明の他の目的は、製品の嵩密度や硬度,粒度等を所
望通りにコントロールでき、球形度の高い製品を生産性
良く得ることのできる粉粒体処理装置を提供することに
ある。Another object of the present invention is to provide a powdery or granular material treating apparatus capable of controlling the bulk density, hardness, particle size and the like of a product as desired and obtaining a product having a high sphericity with high productivity.
本発明による造粒コーチング装置は、造粒およびコーチ
ングが行われる粉粒体が投入される胴体部と、この胴体
部内の底部でほぼ水平に回転し、通気可能な通気部を有
する回転板と、この回転板の外周面と前記胴体部の内周
面との間に形成された環状のスリットと、前記回転板の
下側に設けられ、前記スリットを介して前記胴体部内に
スリットガスを供給するスリットガス通路と、前記通気
部を介して前記胴体部内にガスを供給するガス通路とに
区分する環状隔壁と、前記スリットガス通路内における
前記スリットの下方の全面を覆うよう前記スリットの下
方に環状に配置され、前記スリットを通るスリットガス
の流れを均一にするとともに前記粉粒体の落下を防止す
る通気性の粉粒体落下防止整流部材とを有し、回転板と
この回転板に形成された通気部から噴出するガスとスリ
ットから噴出するガスによって粉粒体を流動させつつ造
粒コーチング処理を行うものである。The granulation coating apparatus according to the present invention is a body portion into which the granules to be subjected to granulation and coating are charged, and a rotating plate having a ventilation portion that rotates substantially horizontally at the bottom portion of the body portion and that can be aerated, An annular slit formed between the outer peripheral surface of the rotating plate and the inner peripheral surface of the body portion, and a slit gas provided on the lower side of the rotating plate and supplying slit gas into the body portion through the slit. An annular partition that divides into a slit gas passage and a gas passage that supplies gas into the body through the ventilation portion, and an annular partition below the slit so as to cover the entire lower surface of the slit in the slit gas passage. And a flow plate having a breathable powder particle fall prevention rectifying member that makes the flow of the slit gas through the slits uniform and prevents the powder particles from falling, and is formed on the rotary plate and the rotary plate. While flowing granular material by gas ejected from the gas and slit ejected from the vent performs a granulation coating process.
〔実施例1〕 第1図は本発明による粉粒体処理装置の一実施例を示す
全体的概略断面図である。[Embodiment 1] FIG. 1 is an overall schematic cross-sectional view showing one embodiment of a powdery or granular material processing apparatus according to the present invention.
この実施例における粉粒体処理装置は、ほぼ直立状態で
設地され、その中に投入した粉粒体の造粒およびコーチ
ングを行う略円筒状の造粒筒1を有している。造粒筒1
の底部側面には、造粒およびコーチングを完了した製品
を取り出すための排出シュート2および排出口の開閉用
の排出弁3が設けられている。The powdery- or granular-material processing apparatus in this Example has a substantially cylindrical granulating tube 1 which is installed in a substantially upright state and which granulates and coats the powdery and granular materials charged therein. Granulation cylinder 1
A discharge chute 2 for taking out a product which has been granulated and coated and a discharge valve 3 for opening and closing the discharge port are provided on the bottom side surface of the.
前記排出シュート2とほぼ同じレベルにおける造粒筒1
内の底部には、該造粒筒1内でほぼ水平方向に回転して
造粒コーチングを行うための回転円板4が設けられてい
る。Granulation cylinder 1 at approximately the same level as the discharge chute 2
At the bottom of the inside, there is provided a rotating disk 4 for rotating in the granulating cylinder 1 in a substantially horizontal direction for granulating coating.
回転円板4は、造粒筒1の胴体部のほぼ中心に略垂直状
に設けられた回転軸5を可変速式のモータ6からベルト
7を経て所望方向に回転駆動することにより回転され
る。The rotary disc 4 is rotated by rotating a rotary shaft 5 provided in a substantially vertical shape substantially at the center of the body of the granulating cylinder 1 from a variable speed motor 6 via a belt 7 in a desired direction. .
また、回転円板4は孔あけによる多孔板で作られた通気
部8を有している。この通気部8は孔あけによる多孔板
以外にも粉粒体が漏れない程度の細孔を持つ焼結板また
は金網の如き編組物等で作ることができる。Further, the rotary disc 4 has a ventilation part 8 made of a perforated plate by punching. The ventilation part 8 can be made of a braided material such as a sintered plate or a wire mesh having pores to the extent that powder particles do not leak in addition to the perforated plate.
回転円板4の周縁と造粒筒1の胴体部の内壁面との間の
間隙は環状のスリット9として形成されている。この環
状のスリット9を通って造粒筒1内に供給されるスリッ
トガスと、回転円板4の通気部8を通って造粒筒1内に
供給されるガスをそれぞれ別個にコトロールすることに
より、粉粒体に対しスリットガスまたは通気部8を通る
ガスだけのフローパターンとは異なるフローパターンを
与え、所望の製品を製造することができる。The gap between the peripheral edge of the rotating disk 4 and the inner wall surface of the body of the granulating cylinder 1 is formed as an annular slit 9. By separately controlling the slit gas supplied through the annular slit 9 into the granulation cylinder 1 and the gas supplied through the ventilation part 8 of the rotary disc 4 into the granulation cylinder 1, respectively. A desired product can be manufactured by giving a flow pattern different from the flow pattern of only the slit gas or the gas passing through the ventilation portion 8 to the granular material.
そのため、回転円板4の下側には、上端に該回転円板4
の下面に形成した環状溝の中に入り込むラビリンス式の
シールリング10を設けた環状隔壁11が底壁12畳に
設置され、これらの環状隔壁11により、スリット9を
通って造粒筒1内に噴出されるスリットガスと、通気部
8を通って造粒筒1内に噴出されるガスとの各々のガス
通路13,14が別系統として区分して形成され、互い
に独立にガス流量をコントロールできるよう構成されて
いる。Therefore, on the lower side of the rotating disk 4, the rotating disk 4 is attached to the upper end.
An annular partition wall 11 provided with a labyrinth-type seal ring 10 that fits into an annular groove formed on the lower surface of the bottom wall 12 tatami mat is installed in the granulation tube 1 through the slit 9 by the annular partition wall 11. The gas passages 13 and 14 for the jetted slit gas and the gas jetted into the granulation cylinder 1 through the ventilation portion 8 are separately formed as separate systems, and the gas flow rates can be controlled independently of each other. Is configured.
さらに、スリットガス通路13内には環状のスリット9
の下方の全面を覆うようにスリット9の下方に位置し、
金網、多孔板、織布等からなる整流板15が設けられて
いる。整流板15は通気性を有し、スリット9を通るガ
スの流れを均一にし、かつスリット9から粉粒体が落下
することを防止するという2つの機能を併有した粉粒体
落下防止整流部材として設けられているものであり、そ
の目的は以下に説明するように、スリット9を通るスリ
ットガスの流れをコントロールしてスリット9からの粉
粒体の落下を防止することにある。Further, in the slit gas passage 13, an annular slit 9 is provided.
Located below the slit 9 so as to cover the entire lower surface of
A rectifying plate 15 made of a wire net, a perforated plate, a woven cloth, or the like is provided. The flow regulating plate 15 has air permeability, makes the flow of gas through the slit 9 uniform, and prevents the powder or granular material from dropping from the slit 9. The purpose thereof is to control the flow of the slit gas through the slit 9 to prevent the powder or granules from falling from the slit 9, as will be described below.
すなわち、通気部8およびスリット9から造粒筒1内に
供給されるガスは最初は給気ファン16から共通的に吹
き出され、給気ダクト17内のフィルタ18を経て清浄
化され、次に熱交換器19で所望の加熱または冷却温度
とされた後、給気ダクト17の底部に供給されるが、こ
の給気ダクト17の底部から造粒筒1の底部に至る給気
路は、前記ガス通路13,14を仕切る前記環状隔壁1
1につながる隔壁20でスリットガス通路21と通気部
8へのガス通路22とに仕切られている。これらのスリ
ットガス通路21とガス通路22は、それぞれ前記した
スリットガス通路13およびガス通路14の各々と流通
している。また、各々のガス通路21,22の入口付近
には、スリットガス流量調整弁23と、ガス流量調整弁
24とが配設されている。これらの流量調整弁23,2
4を独立的に制御することにより、スリット9または通
気部8を通って造粒筒1内に噴出される2つのガス流に
よって様々なフローパターンを得ることができる。That is, the gas supplied from the ventilation part 8 and the slit 9 into the granulation cylinder 1 is first commonly blown out from the air supply fan 16, is cleaned through the filter 18 in the air supply duct 17, and is then heated. After being heated to a desired heating or cooling temperature by the exchanger 19, it is supplied to the bottom of the air supply duct 17, and the air supply passage from the bottom of the air supply duct 17 to the bottom of the granulation cylinder 1 is the gas The annular partition wall 1 for partitioning the passages 13 and 14
The partition wall 20 connected to 1 divides into a slit gas passage 21 and a gas passage 22 to the ventilation portion 8. The slit gas passage 21 and the gas passage 22 are in communication with the slit gas passage 13 and the gas passage 14, respectively. Further, a slit gas flow rate adjusting valve 23 and a gas flow rate adjusting valve 24 are arranged near the inlets of the respective gas passages 21 and 22. These flow rate adjusting valves 23, 2
By controlling 4 independently, various flow patterns can be obtained by the two gas flows ejected into the granulation cylinder 1 through the slit 9 or the ventilation part 8.
ところで、その場合において、回転円板4が回転する必
要上、スリット6の巾は全体的に均一であるのが好まし
いが、製造上の公差あるいは回転軸5の角度のずれ等に
よりスリット9の巾が部分的に小さくなることも考えら
れる他、一定の巾であっても、スリットガス通路13の
位置によっては、スリット9から噴出されるスリットガ
スの流量には部分的に差が出る場合がありうる。そこ
で、本実施例では、スリット9のすぐ下方にスリットガ
スの流れに抵抗を与える整流板15を設けることによ
り、スリット9から噴出するスリットガスの流量を全体
的に均一にすることができ、造粒操作中にスリット9か
ら粉粒体が落下することを防止するものである。本実施
例1の整流板15は面積が回転円板4の面積に比してか
なり小さく、整流板15と回転円板4との間に粉粒体が
挟み込まれてこすられるという現象は発生しないことが
本発明者の実験によい認められた。By the way, in that case, the width of the slit 6 is preferably uniform because the rotating disk 4 is required to rotate, but the width of the slit 9 may be different due to manufacturing tolerances or deviation of the angle of the rotary shaft 5. May be partially reduced, and even if the width is constant, the flow rate of the slit gas ejected from the slit 9 may be partially different depending on the position of the slit gas passage 13. sell. Therefore, in this embodiment, the flow rate of the slit gas ejected from the slit 9 can be made uniform as a whole by providing the straightening plate 15 that provides a resistance to the flow of the slit gas just below the slit 9. It is intended to prevent the granular material from dropping from the slit 9 during the granular operation. The rectifying plate 15 of the first embodiment has an area that is considerably smaller than the area of the rotating disc 4, and the phenomenon that powder particles are rubbed between the rectifying plate 15 and the rotating disc 4 does not occur. This was well accepted in the experiments by the present inventors.
さらに、原料投入時は従来装置では回転円板を下させス
リット9を間隙をゼロにして原料の落下を防止する必要
があったが、本実施例1では整流板15が投入原料の落
下を直接防止するため、回転円板4の昇降装置が不要と
なる。Further, when the raw material was charged, in the conventional apparatus, it was necessary to lower the rotating disk to make the slit 9 have a gap of zero to prevent the raw material from falling. In the first embodiment, the straightening plate 15 directly drops the charged raw material. In order to prevent this, an elevating device for the rotating disc 4 becomes unnecessary.
また、本実施例1では、スリット9のうち、スリットガ
スの流量の特に大きい部分、たとえば第1図においてス
リットガス通路13の噴出口の上方の部分には、たとえ
ば三日月状の形状を有する抵抗部材15aを別設するこ
とができる。この抵抗部材15aはスリットガス通路1
3から噴出されるスリットガスを一度この抵抗部材15
aに当てて流速を弱めることができるので、スリットガ
ス通路13の噴出口に相当する部分のみのスリットガス
流量が他の部分よりも大きくなることを防止でき、スリ
ットガスの流量をより均一化できる。もっとも、抵抗部
材15aは必ずしも設けなくてもよい。Further, in the first embodiment, a resistance member having a crescent shape, for example, is provided in a portion of the slit 9 where the flow rate of the slit gas is particularly large, for example, a portion above the ejection port of the slit gas passage 13 in FIG. 15a can be provided separately. The resistance member 15a is provided in the slit gas passage 1
The slit gas ejected from No. 3 is once applied to the resistance member 15
Since the flow velocity can be weakened by hitting a, it is possible to prevent the slit gas flow rate of only the portion corresponding to the ejection port of the slit gas passage 13 from becoming larger than the other portions, and to make the slit gas flow rate more uniform. . However, the resistance member 15a does not necessarily have to be provided.
また、抵抗部材15aを設ける代わりに、整流板15の
金網のスリットガス通路13の噴出口の上方の部分にお
いて開口面積を小さくし、他の部分は開口面積をより大
きくすれば、スリット9のガス流量の大きい部分は抵抗
が大きく、ガス流量の少ない部分は抵抗が小さくなり、
スリットガス流量の均一化をさらに良好にすることがで
きる。Further, instead of providing the resistance member 15a, if the opening area is made smaller in the portion above the ejection port of the slit gas passage 13 of the wire mesh of the rectifying plate 15 and the opening area is made larger in the other portions, the gas of the slit 9 will be The part where the flow rate is large has a large resistance, and the part where the gas flow rate is small has a small resistance.
The slit gas flow rate can be made more uniform.
〔実施例2〕 第2図は本発明の他の実施例を示す拡大部分断面図であ
る。[Embodiment 2] FIG. 2 is an enlarged partial sectional view showing another embodiment of the present invention.
本実施例2では、整流板15として多孔板を用いた構造
であり、その整流作用によりスリットガスの流量を均一
にすることができる。In the second embodiment, a perforated plate is used as the straightening plate 15, and the flow rate of the slit gas can be made uniform by the straightening action.
勿論、この実施例2においても、スリットガスの流量の
大きい部分に抵抗部材を設けるか、あるいはその部分の
多孔の個数または大きさを大とし、他の部分を小とする
ことによって、さらに均一なスリットガス流量を得るこ
とができる。Of course, also in the second embodiment, by providing a resistance member in a portion where the flow rate of the slit gas is large, or by increasing the number or size of the pores in that portion and decreasing the other portions, a more uniform structure can be obtained. The slit gas flow rate can be obtained.
〔実施例3〕 第3図は本発明のさらに他の実施例を示す拡大部分断面
図である。[Embodiment 3] FIG. 3 is an enlarged partial sectional view showing still another embodiment of the present invention.
この実施例3においては、通気部8が金網で構成される
と共に、整流板15が織布で構成されている。In the third embodiment, the ventilation part 8 is made of wire mesh and the rectifying plate 15 is made of woven cloth.
本実施例の場合も、整流板15の働きによりスリット9
を通るガス流量が全体的に均一化され、しかも粉粒体が
スリット9から落下して原料の無駄や汚染を起こすこと
を防止できる。Also in the case of the present embodiment, the function of the current plate 15 causes the slit 9
It is possible to make the gas flow rate through the whole uniform, and to prevent the granular material from dropping from the slit 9 and causing waste or contamination of the raw material.
なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
他の様々な変形が可能である。The present invention is not limited to the above embodiment,
Various other modifications are possible.
たとえば、整流部材や抵抗部材の構造等を前記実施例以
外のものとすることは任意に可能である。For example, the structures of the rectifying member and the resistance member and the like may be arbitrarily set to those other than those in the above embodiments.
スリットガス通路内におけるスリットの下方の全面を覆
うように前記スリットの下方に環状に配置された粉粒体
落下防止整流部材を有し、この粉粒体落下防止整流部材
がスリットを通るスリットガスの流れを均一にするとと
もに粉粒体の落下を防止するという2つの機能を同時に
果たすことにより、原料や製品がスリットから落下して
無駄や装置内部の汚染を生じることを防止することがで
きる。The slit gas passage has a granular material fall prevention rectifying member annularly arranged below the slit so as to cover the entire surface below the slit, and the granular material fall prevention rectifying member of the slit gas passing through the slit. By simultaneously performing the two functions of making the flow uniform and preventing the powder particles from falling, it is possible to prevent the raw materials and products from dropping from the slits and causing waste and contamination inside the apparatus.
(2).前記(1)により、製品の嵩密度や硬度,粒度等を所
望通りにコントロールでき、球形度の高い製品を生産性
良く得ることができる。(2). According to the above (1), the bulk density, hardness, particle size, etc. of the product can be controlled as desired, and a product with high sphericity can be obtained with good productivity.
(3).整流部材を、スリットガス流量の大きい部分は抵
抗が大きく、流量の少ない部分は抵抗が小さくなるよう
構成することにより、スリットのガス流量をさらに均一
化することができる。(3). By configuring the rectifying member such that the portion having a large slit gas flow rate has a large resistance and the portion having a small flow rate has a small resistance, the gas flow rate of the slit can be made more uniform.
(4).スリットのガス流量の大きい部分のみに抵抗部材
を設けることにより、スリットのガス流量をさらに均一
にすることができる。(Four). By providing the resistance member only in the portion where the gas flow rate of the slit is large, the gas flow rate of the slit can be made more uniform.
第1図は本発明による粉粒体処理層装置の一実施例を示
す概略的全体断面図、第2図は本発明の他の実施例の拡
大部分断面図、第3図は本発明のさらに他の実施例の拡
大部分断面図である。 1……造粒筒、2……排出シュート、 3……排出弁、4……回転円板、 5……回転軸、6……モータ、 7……ベルト、8……通気部、 9……スリット、10……シールリング、 11……環状隔壁、12……底壁、 13……スリットガス通路、 14……ガス通路、15……整流板、 15a……抵抗部材、16……給気ファン、 17……給気ダクト、 18……フィルタ、19……熱交換器、 20……隔壁、 21……スリットガス通路、 22……ガス通路、 23……スリットガス流量調整弁、 24……ガス流量調整弁、 25……スプレー、26……バグフィルタ、 27……パルスジェット。FIG. 1 is a schematic overall cross-sectional view showing an embodiment of the powder / particle processing layer apparatus according to the present invention, FIG. 2 is an enlarged partial cross-sectional view of another embodiment of the present invention, and FIG. It is an expanded partial sectional view of other examples. 1 ... Granulation cylinder, 2 ... Discharge chute, 3 ... Discharge valve, 4 ... Rotating disk, 5 ... Rotating shaft, 6 ... Motor, 7 ... Belt, 8 ... Ventilation section, 9 ... ... slit, 10 ... seal ring, 11 ... annular partition, 12 ... bottom wall, 13 ... slit gas passage, 14 ... gas passage, 15 ... straightening plate, 15a ... resistance member, 16 ... supply Air fan, 17 ... Air supply duct, 18 ... Filter, 19 ... Heat exchanger, 20 ... Partition wall, 21 ... Slit gas passage, 22 ... Gas passage, 23 ... Slit gas flow control valve, 24 ...... Gas flow control valve, 25 …… Spray, 26 …… Bag filter, 27 …… Pulse jet.
Claims (7)
投入される胴体部と、 この胴体部内の底部でほぼ水平に回転し、通気可能な通
気部を有する回転板と、 この回転板の外周面と前記胴体部の内周面との間に形成
された環状のスリットと、 前記回転板の下側に設けられ、前記スリットを介して前
記胴体部内にスリットガスを供給するスリットガス通路
と、前記通気部を介して前記胴体部内にガスを供給する
ガス通路とに区分する環状隔壁と、 前記スリットガス通路内における前記スリットの下方の
全面を覆うよう前記スリットの下方に環状に配置され、
前記スリットを通るスリットガスの流れを均一にすると
ともに前記粉粒体の落下を防止する通気性の粉粒体落下
防止整流部材とを有することを特徴とする粉粒体処理装
置。1. A body part into which granules to be granulated and coated are put, a rotary plate which has a ventilation part which is substantially horizontally rotated at the bottom part of the body part and which can be aerated, and a rotary plate of the rotary plate. An annular slit formed between an outer peripheral surface and an inner peripheral surface of the body portion, and a slit gas passage provided below the rotating plate and supplying slit gas into the body portion through the slit. An annular partition that divides into a gas passage that supplies gas into the body portion through the ventilation portion, and an annular partition that is disposed below the slit so as to cover the entire lower surface of the slit in the slit gas passage,
A powdery or granular material processing device, comprising: an air-permeable powdery or granular material drop prevention rectifying member that makes the flow of slit gas through the slits uniform and prevents the powdery or granular material from falling.
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の粉粒体処
理装置。2. The powdery or granular material processing apparatus according to claim 1, wherein the powdery or granular material fall prevention rectifying member is a wire mesh.
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の粉粒体
処理装置。3. The powdery or granular material processing device according to claim 1, wherein the powdery or granular material fall prevention rectifying member is a perforated plate.
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の粉粒体処
理装置。4. The powdery or granular material processing device according to claim 1, wherein the powdery or granular material fall prevention rectifying member is a woven cloth.
ットのガスの流れ易い部分は抵抗が大きく、前記スリッ
トのガスの流れにくい部分は抵抗が小さく構成されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の粉粒体
処理装置。5. The powder / particle fall prevention rectifying member is configured such that a portion of the slit where gas easily flows has a large resistance, and a portion of the slit where gas hardly flows has a small resistance. The powder or granular material processing device according to claim 1.
抵抗部材が設けられていることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の粉粒体処理装置。6. The powdery or granular material processing apparatus according to claim 1, wherein a resistance member is provided only in a portion of the slit where gas easily flows.
リットを通るガスとはそれぞれ独立に制御されることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の粉粒体処理装
置。7. The powdery or granular material processing apparatus according to claim 1, wherein the gas passing through the ventilation part of the rotary plate and the gas passing through the slit are controlled independently of each other.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60084166A JPH0624620B2 (en) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | Powder processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60084166A JPH0624620B2 (en) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | Powder processing equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61242628A JPS61242628A (en) | 1986-10-28 |
| JPH0624620B2 true JPH0624620B2 (en) | 1994-04-06 |
Family
ID=13822906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60084166A Expired - Fee Related JPH0624620B2 (en) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | Powder processing equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0624620B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10203887A (en) * | 1997-01-16 | 1998-08-04 | Mitsubishi Chem Corp | Manufacturing method of coated granular fertilizer |
| US6745960B1 (en) | 1999-06-07 | 2004-06-08 | Freund Industrial Co., Ltd. | Centrifugally rolling granulating device and method of treating powder and granular material using the device |
| DE102018208932A1 (en) * | 2018-06-06 | 2019-12-12 | Glatt Gesellschaft Mit Beschränkter Haftung | Inlet bottom for a fluidizing apparatus |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5995924A (en) * | 1982-11-22 | 1984-06-02 | Furointo Sangyo Kk | Granulating and coating device |
-
1985
- 1985-04-19 JP JP60084166A patent/JPH0624620B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61242628A (en) | 1986-10-28 |
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