JPH0626820B2 - Optical disk substrate manufacturing method - Google Patents
Optical disk substrate manufacturing methodInfo
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- JPH0626820B2 JPH0626820B2 JP24438286A JP24438286A JPH0626820B2 JP H0626820 B2 JPH0626820 B2 JP H0626820B2 JP 24438286 A JP24438286 A JP 24438286A JP 24438286 A JP24438286 A JP 24438286A JP H0626820 B2 JPH0626820 B2 JP H0626820B2
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 フォトポリマー法により案内溝つきの光ディスク基板を
少ない不良率で形成する方法として、紫外線照射により
昇温した転写型を紫外線照射前の温度にまで冷却して使
用する光ディスク基板の製造方法。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Outline] As a method of forming an optical disk substrate with a guide groove by a photopolymer method with a low defect rate, a transfer mold heated by UV irradiation is cooled to a temperature before UV irradiation and used. Optical disk substrate manufacturing method.
〔産業上の利用分野〕 本発明は紫外線硬化樹脂を使用して案内溝を形成する光
ディスク基板の製造方法に関する。[Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for manufacturing an optical disk substrate in which a guide groove is formed using an ultraviolet curable resin.
光ディスクは所謂る光ディスクと光磁気ディスクとに分
類されるが、共にレーザ光を用いて高密度の情報記録を
行うメモリであり、記録容量が大きく、非接触で記録と
再生を行うことができ、また塵埃の影響を受けないなど
優れた特徴をもっている。Optical discs are classified into so-called optical discs and magneto-optical discs, both of which are memories that perform high-density information recording using laser light, have a large recording capacity, and are capable of non-contact recording and reproduction. It also has excellent features such as being unaffected by dust.
すなわち、レーザ光はレンズによって直径が約1μmの
小さなスポットに絞り込むことが可能であり、従って1
ビットの情報記録に要する面積は1μm2程度で足り
る。That is, the laser beam can be focused by a lens into a small spot having a diameter of about 1 μm.
The area required for recording information of bits is about 1 μm 2 .
また、レンズで絞り込まれたレーザ光の焦点面までの距
離は1〜2mmとれるので、非接触化が可能であり、また
基板面では光ビームの径は約1mmとなるので、たとえ基
板面に数10μm2の大きさの塵埃が存在していても記録
・再生に殆ど影響を与えずに済ませることができる。In addition, since the distance to the focal plane of the laser beam focused by the lens can be 1 to 2 mm, it can be made non-contact, and the diameter of the light beam on the substrate surface is about 1 mm. Even if there is dust with a size of 10 μm 2 , recording and reproduction can be hardly affected.
ここで、光ディスクは記録媒体として低融点金属を用
い、情報の記録と再生を穴(ピット)の有無により行う
再生専用メモリ(Read Only Memory)や追記型メモリ(Wri
te Once Memory)があり、また反射率の変化を利用して
記録と再生を行う書き換え可能なメモリ(Erasable Memo
ry)など各種のものがある。Here, an optical disc uses a low melting point metal as a recording medium, and a read-only memory (Read Only Memory) or a write-once type memory (Wri
te Once Memory), and rewritable memory (Erasable Memo) that records and plays using changes in reflectance.
There are various things such as (ry).
一方、光磁気ディスクは書き換え可能なメモリ(Erasabl
e Memory)として開発が進められているもので、記録媒
体は垂直磁化した磁性膜からなり、レーザ照射された磁
性膜の温度上昇による磁化反転が情報の記録と消去に用
いられ、磁性膜からの反射光あるいは透過光の偏光面の
回転が磁化方向により異なるのを利用して再生が行われ
ている。On the other hand, a magneto-optical disk is a rewritable memory (Erasabl
e memory), the recording medium consists of a perpendicularly magnetized magnetic film, and the magnetization reversal due to the temperature rise of the laser-irradiated magnetic film is used for recording and erasing information. Reproduction is performed by utilizing the fact that the rotation of the plane of polarization of reflected light or transmitted light differs depending on the magnetization direction.
本発明はかゝる光ディスクを構成する基板の製造方法に
関するものである。The present invention relates to a method for manufacturing a substrate that constitutes such an optical disc.
光ディスクを構成する基板はガラス或いはポリメチルメ
タクリレート(略称PMMA),ポリカーボネート(略称P
C)などの透明なプラスチックスからなり、これに同心
円状または渦巻き状の案内溝(プリグループ)を付けて
使用されている。The substrate forming the optical disk is glass or polymethylmethacrylate (abbreviation PMMA), polycarbonate (abbreviation P
It is made of transparent plastic such as C) and is used with a concentric or spiral guide groove (pre-group).
ここで、案内溝は情報が記録される場所であって、光デ
ィスク基板上に幅0.7μm,深さ0.07μm,ピッチ
1.6μm程度の大きさに形成されており、光ディスク
が高速回転している状況で、直径が約1μmに集束され
たレーザ光はこの案内溝に沿って照射され、情報の記録
・再生および消去が行われている。Here, the guide groove is a place where information is recorded, and is formed on the optical disc substrate with a width of 0.7 μm, a depth of 0.07 μm, and a pitch of 1.6 μm. In this situation, the laser beam focused to a diameter of about 1 μm is irradiated along this guide groove to record / reproduce and erase information.
さて、案内溝付きの光ディスク基板の製造方法は基板材
料により異なるが、次のような方法が用いられている。The method of manufacturing the optical disk substrate with the guide groove differs depending on the substrate material, but the following method is used.
予め案内溝が型形成されている転写型に溶融してい
るPMMAやPC樹脂を注型して作る方法。A method in which molten PMMA or PC resin is cast into a transfer mold with guide grooves formed in advance.
ガラスやプラスチックからなる平滑な透明基板の上
に紫外線硬化樹脂(フォトポリマー)を塗布した後、案
内溝が形成されている金型を圧着し、透明基板を通じて
紫外線を照射して硬化させ、基板と一体化させて形成す
る方法。After applying a UV-curable resin (photopolymer) on a smooth transparent substrate made of glass or plastic, press-fit the mold with the guide groove and irradiate it with ultraviolet rays through the transparent substrate to cure it. A method of forming them integrally.
ガラス基板にフォトレジストを塗布し、これを選択
的に露光して現像し、エッチングする写真蝕刻技術(フ
ォトリソグラフィ)により成形する方法。A method in which a glass substrate is coated with a photoresist, selectively exposed, developed, and etched by a photo-etching technique (photolithography).
ここで、の方法は2P法と言われて量産に適し、また
品質がよいので一般に使用されている。This method is called the 2P method, is suitable for mass production, and is generally used because it has good quality.
本発明はこの方法の改良に関するものである。The present invention relates to improvements in this method.
第2図(A)〜(D)は2P法を説明する断面図であっ
て、この製造工程を説明すると次のようになる。FIGS. 2A to 2D are sectional views for explaining the 2P method, and the manufacturing process will be described as follows.
先ず、案内溝が形成されているニッケル(Ni)製の転写
型(通称スタンパ)1の案内溝2の上に紫外線硬化樹脂
3を盛り上げる。(同図A) 次に、この上に透明基板4を置いて位置決めし、透明基
板4を押圧する。(同図B) 次に、紫外線5照射して紫外線硬化樹脂3を硬化させ
る。(同図C) 次に、透明基板4を転写型1から剥離することにより案
内溝2を備えた光ディスク基板8を得ることができる。
(同図D) 然しながら、この方法の問題点は紫外線硬化樹脂3の中
に気泡6が存在し、その位置が同図(B)に示すように
案内溝2の位置に存在すると、案内溝2の幅は約0.7
μmと狭いので、同図(D)に示すように欠陥7を生
じ、これが存在するとレーザ光のトラッキングが外れ、
また焦点がずれると云う問題が発生する。First, the ultraviolet curable resin 3 is piled up on the guide groove 2 of the transfer mold (commonly called stamper) 1 made of nickel (Ni) in which the guide groove is formed. (A in the figure) Next, the transparent substrate 4 is placed and positioned on this, and the transparent substrate 4 is pressed. (B in the figure) Next, the ultraviolet curable resin 3 is cured by irradiating the ultraviolet ray 5. Next, by peeling the transparent substrate 4 from the transfer mold 1, the optical disc substrate 8 having the guide groove 2 can be obtained.
(D in the same figure) However, the problem with this method is that if the bubble 6 exists in the ultraviolet curable resin 3 and its position is in the position of the guide groove 2 as shown in FIG. Width is about 0.7
Since it is as narrow as μm, a defect 7 occurs as shown in FIG.
In addition, the problem of defocusing occurs.
さて、光ディスクの製造において、紫外線硬化樹脂を用
いる光ディスク基板8は転写型1を使って繰り返し行わ
れているが、気泡の発生は連続使用するに従って大きく
なる傾向があり、この解決が望まれていた。Now, in the manufacture of optical disks, the optical disk substrate 8 using an ultraviolet curable resin is repeatedly used by using the transfer mold 1, but the bubble generation tends to increase with continuous use, and this solution has been desired. .
以上記したように紫外線硬化樹脂を用いて案内溝のつい
た光ディスク基板を形成する場合に気泡の存在による不
良が発生し易く、特に転写型を連続して使用する場合に
多いことが問題である。As described above, when forming an optical disk substrate with a guide groove using an ultraviolet curable resin, defects due to the presence of air bubbles are likely to occur, and this is a problem especially when the transfer mold is used continuously. .
上記の問題は案内溝を型形成した転写型の上に光硬化樹
脂を置き、該転写型に平滑な透明基板を押圧しながら紫
外線を照射し、前記光硬化樹脂を重合せしめて一体化
し、案内溝つきの透明基板を繰り返し形成する光ディス
ク基板の製造工程において、紫外線照射により昇温した
転写型を紫外線照射前の温度にまで冷却して使用する光
ディスク基板の製造方法により解決することができる 〔作用〕 本発明は2P法により案内溝を形成する場合にフォトポ
リマーの粘度の低下が気泡の増加と密接な関係があるこ
とを発見した結果なされたものである。The above problem is that a photo-curing resin is placed on a transfer mold having a guide groove formed therein, ultraviolet rays are radiated while pressing a smooth transparent substrate against the transfer mold, and the photo-curing resin is polymerized to be integrated and guided. In a manufacturing process of an optical disk substrate in which a transparent substrate with a groove is repeatedly formed, it can be solved by a manufacturing method of an optical disk substrate in which a transfer mold heated by UV irradiation is cooled to a temperature before UV irradiation and used. The present invention has been made as a result of the discovery that the decrease in the viscosity of the photopolymer is closely related to the increase in bubbles when the guide groove is formed by the 2P method.
すなわち、案内溝を形成するには使用する紫外線硬化樹
脂の粘度を100 〜200 CPS(センチポイズ)に保つ必要
があるが、使用回数が増すに従って紫外線照射の予熱の
ために転写型の温度が増し、従って供給した紫外線硬化
樹脂の粘度が下がることが気泡の発生を招く原因である
ことが判ったからである。That is, to form the guide groove, it is necessary to keep the viscosity of the UV curable resin used at 100 to 200 CPS (centipoise), but as the number of times of use increases, the temperature of the transfer mold increases due to the preheating of UV irradiation, Therefore, it was found that the decrease in the viscosity of the supplied ultraviolet curable resin is a cause of the generation of bubbles.
2P法により案内溝を気泡の含有がなく形成するには第
2図(A)に示すように紫外線硬化樹脂3をディスク状
の転写型の案内溝2の上に盛り上げて形成する必要があ
り、そのためには粘度は高いほうがよい。In order to form the guide groove without the inclusion of bubbles by the 2P method, it is necessary to build up the ultraviolet curable resin 3 on the disc-shaped transfer type guide groove 2 as shown in FIG. 2 (A). Therefore, the viscosity should be high.
一方、紫外線硬化樹脂はこの中に含まれる塵埃やオリゴ
マーを除去するために使用に先立って濾過する必要があ
り、この点からすると粘度は低いほうが良く、この兼ね
合いから使用粘度は100 〜200 CPS に制限されている。On the other hand, UV curable resin needs to be filtered prior to use in order to remove dust and oligomers contained in it.From this point, it is better that the viscosity is low, and from this tradeoff, the viscosity used is 100-200 CPS. It is restricted.
然し、紫外線照射を行って紫外線硬化樹脂を硬化した後
では、転写型の温度は上昇しており、例えば照射前の温
度が25℃であった場合は32℃にまでの上昇し、熱容量が
大きいために仲々常温にまで降下しない。However, the temperature of the transfer mold has risen after the UV-curable resin has been cured by irradiating it with ultraviolet rays. For example, if the temperature before irradiation was 25 ° C, the temperature rises to 32 ° C, and the heat capacity is large. Because of this, the temperature does not drop to room temperature.
そのために同一の転写型を用いて第2図に示した工程を
繰り返し行うと転写型の温度は次第に上昇し、それに比
例して気泡混入の頻度が増加するのである。Therefore, when the same transfer mold is used and the process shown in FIG. 2 is repeated, the temperature of the transfer mold gradually rises, and the frequency of bubble inclusion increases proportionally.
そこで、本発明は使用毎に転写型を冷却して常温に戻し
て行うか、あるいは転写型を水冷装置などの冷却装置に
装着して第2図に示す2P法を行うことにより気泡の混
入を抑制するものである。Therefore, in the present invention, the transfer die is cooled and returned to room temperature after each use, or the transfer die is attached to a cooling device such as a water cooling device and the 2P method shown in FIG. It suppresses.
直径が190 mmで厚さが0.3mmのNi製スタンパを厚さが
15mmのアルミニウム(Al)円板で補強したものを転写
型として用い、また紫外線硬化樹脂としては三菱油化製
のアクリル酸エステル(品名SA1002)を使用した。A Ni stamper with a diameter of 190 mm and a thickness of 0.3 mm has a thickness of
A reinforced with a 15 mm aluminum (Al) disk was used as a transfer mold, and an acrylic acid ester (product name SA1002) manufactured by Mitsubishi Yuka was used as an ultraviolet curable resin.
この粘度は25℃において100 cps である。The viscosity is 100 cps at 25 ° C.
また、透明基板として厚さが1.2mmで直径が200 mmの
ガラス板を用いた。A glass plate having a thickness of 1.2 mm and a diameter of 200 mm was used as the transparent substrate.
製造工程は第2図に示した通りであり、樹脂の供給,透
明基板の装着,紫外線照射,剥離の各工程に要する時間
を1分とし、種類を二つに分け、一方は本発明に係るよ
うに一サイクル毎に転写型を常温にまで強制冷却し、ま
た他方は従来のようにそのまゝ製造を続けた。The manufacturing process is as shown in FIG. 2, and the time required for each process of resin supply, transparent substrate mounting, ultraviolet irradiation, and peeling is set to 1 minute, and the type is divided into two, one of which is related to the present invention. As described above, the transfer die was forcibly cooled to room temperature every cycle, and the other one was produced as usual.
なお、紫外線照射は出力120 W/cmで光源とガラス基板
との距離は20cmに保った。The irradiation of ultraviolet rays was 120 W / cm, and the distance between the light source and the glass substrate was kept at 20 cm.
第1図はこのようにして形成した光ディスクについて測
定したエラーレートと転写回数との関係図であり、従来
法による場合は破線9に示すようにエラーレートは急増
しているが、本発明に係る方法による場合は実線10に示
すように約5×10-7の値を維持することができた。FIG. 1 is a diagram showing the relationship between the error rate measured on the optical disc formed in this manner and the number of times of transfer. The error rate sharply increases as shown by the broken line 9 in the case of the conventional method. According to the method, the value of about 5 × 10 −7 could be maintained as shown by the solid line 10.
以上記したように本発明の実施により転写型を繰り返し
使用しても、エラーレートの上昇を抑制することがで
き、これにより製造歩留まりの向上が可能となる。As described above, even if the transfer mold is repeatedly used by implementing the present invention, it is possible to suppress an increase in the error rate, and thus it is possible to improve the manufacturing yield.
第1図は試作した光ディスクの転写回数とエラーレート
との関係図、 第2図(A)〜(D)は2P法を説明する断面図、 である。 図において、 1は転写型、2は案内溝、 3は紫外線硬化樹脂、4は透明基板、 5は紫外線、6は気泡、 7は欠陥、8は光ディスク基板、 である。FIG. 1 is a diagram showing the relationship between the number of transfers of a prototype optical disc and the error rate, and FIGS. 2 (A) to 2 (D) are sectional views for explaining the 2P method. In the figure, 1 is a transfer type, 2 is a guide groove, 3 is an ultraviolet curable resin, 4 is a transparent substrate, 5 is ultraviolet rays, 6 is a bubble, 7 is a defect, and 8 is an optical disk substrate.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩村 康正 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 前田 巳代三 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Yasumasa Iwamura 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-city, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited (72) Inventor, Mitsuyo Maeda 1015, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited
Claims (1)
化樹脂を置き、該転写型に平滑な透明基板を押圧しなが
ら紫外線を照射し、前記紫外線硬化樹脂を重合せしめて
一体化し、案内溝つきの透明基板を繰り返し形成する光
ディスク基板の製造工程において、紫外線照射により昇
温した転写型を紫外線照射前の温度にまで冷却して使用
することを特徴とする光ディスク基板の製造方法。1. An ultraviolet curable resin is placed on a transfer mold having a guide groove formed therein, and ultraviolet rays are applied to the transfer mold while pressing a smooth transparent substrate, and the ultraviolet curable resin is polymerized and integrated, A method for manufacturing an optical disk substrate, characterized in that in a manufacturing process of an optical disk substrate in which a transparent substrate having a guide groove is repeatedly formed, a transfer mold heated by ultraviolet irradiation is cooled to a temperature before ultraviolet irradiation and used.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24438286A JPH0626820B2 (en) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | Optical disk substrate manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24438286A JPH0626820B2 (en) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | Optical disk substrate manufacturing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6398435A JPS6398435A (en) | 1988-04-28 |
| JPH0626820B2 true JPH0626820B2 (en) | 1994-04-13 |
Family
ID=17117853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24438286A Expired - Lifetime JPH0626820B2 (en) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | Optical disk substrate manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0626820B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2801487B2 (en) * | 1992-04-30 | 1998-09-21 | シャープ株式会社 | Panel mounting structure, mounting method, and resin supply curing method |
-
1986
- 1986-10-15 JP JP24438286A patent/JPH0626820B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6398435A (en) | 1988-04-28 |
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