JPH062827B2 - Roughened polyimide film and method for producing the same - Google Patents
Roughened polyimide film and method for producing the sameInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、粗面化ポリイミドフィルムに関するものであ
る。さらに詳しくは本発明は、特に高密度記録媒体用の
ベースフィルムとして有用な粗面化ポリイミドフィルム
に関するものである。TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a roughened polyimide film. More specifically, the present invention relates to a roughened polyimide film which is particularly useful as a base film for high density recording media.
[発明の背景] 磁気テープなどの磁気記録媒体の非磁性支持体(ベース
フィルム)として、従来よりポリエチレンテレフタレー
トなどのポリエステルからなるフィルムが一般的に用い
られてきたが、最近では耐熱性や強度などに芳香族ポリ
イミドフィルムの使用が提案されている。BACKGROUND OF THE INVENTION A film made of polyester such as polyethylene terephthalate has been generally used as a non-magnetic support (base film) for a magnetic recording medium such as a magnetic tape, but recently, heat resistance, strength, etc. It has been proposed to use an aromatic polyimide film.
非磁性支持体の特性として、上記のように耐熱性や強度
は非常に重要なものであるが、同時に、支持体の表面状
態が適当な状態にあることも、優れた磁気記録媒体を得
るためには重大な要件となる。すなわち磁性物質層をベ
ースフィルムの表面に蒸着等により形成した金属薄膜タ
イプの磁気記録媒体は高密度記録が可能であるが、この
ように形成された磁性層はその厚さが非常に薄いため、
使用するベースフィルムの表面形態がそのまま磁性層の
表面形態となって現われる傾向がある。このため、ベー
スフィルムの表面が粗すぎると、電磁変換特性が悪くな
るとの問題があり、例えば出力の低下やドロップアウト
の増加が発生する。一方、逆に電磁変換特性を向上させ
る目的でフィルム表面を鏡面のような高度に平滑な状態
ににするとすべり性が著しく低下し、テープの走行性や
耐久性が悪くなるとの問題がある。As described above, heat resistance and strength are very important properties of the non-magnetic support, but at the same time, the surface condition of the support is also appropriate in order to obtain an excellent magnetic recording medium. Is a serious requirement. That is, a metal thin film type magnetic recording medium in which a magnetic substance layer is formed on the surface of a base film by vapor deposition or the like is capable of high-density recording, but the magnetic layer formed in this way has an extremely thin thickness.
The surface morphology of the base film used tends to appear as the surface morphology of the magnetic layer. Therefore, if the surface of the base film is too rough, there is a problem that the electromagnetic conversion characteristics are deteriorated, and for example, the output is decreased and the dropout is increased. On the other hand, when the film surface is made into a highly smooth state such as a mirror surface for the purpose of improving electromagnetic conversion characteristics, the slipperiness is remarkably lowered, and there is a problem that the running property and durability of the tape are deteriorated.
上記のような理由により、テープの走行性、耐摩耗性及
び耐久性のためにテープ表面に適度な凹凸を付与する方
法が種々提案されている。例えば、テープ表面に微粒子
を含んだ塗布液をコーティングする方法、微粒子をベー
スフィルム中に添加してフィルム表面に微細突起を付与
する方法、ベースフィルム表面にポリマー溶液をコーテ
ィングした後、フィルムを延伸することにより不連続膜
を形成する方法等が提案されている。しかしながらこれ
らの提案されている方法では、微粒子の分散、分級、濾
過工程あるいは、コーティング工程や延伸工程を従来の
フィルム製膜工程に組込む必要があり、これらの工程は
精度の要求が厳しく、装置類も高価であり、フィルム製
造の運転管理も難しくなる場合が多い。For the reasons described above, various methods have been proposed for imparting appropriate irregularities to the tape surface in order to improve the running property, abrasion resistance and durability of the tape. For example, a method of coating a tape surface with a coating liquid containing fine particles, a method of adding fine particles to a base film to give fine projections to the film surface, a polymer solution is coated on the base film surface, and then the film is stretched. Therefore, a method for forming a discontinuous film has been proposed. However, in these proposed methods, it is necessary to incorporate a fine particle dispersion, classification, filtration step, or a coating step or a stretching step into a conventional film forming step, and these steps have strict accuracy requirements, and the equipment Is expensive, and the operation control of film production is often difficult.
また、これらの従来の方法では、以下に示す本発明のポ
リイミドフィルムのような好ましい凹凸を有するベース
フィルムを得ることができない。Further, with these conventional methods, it is not possible to obtain a base film having preferable unevenness like the polyimide film of the present invention shown below.
[発明の構成] 本発明は、強度および耐熱製に優れ、磁気記録媒体のよ
うな高密度記録媒体のベースフィルムとして使用するの
に特に適した適度凹凸を有するフィルムを提供すること
を主な目的とする。[Structure of the Invention] The main object of the present invention is to provide a film having excellent strength and heat resistance, and having an appropriate degree of unevenness which is particularly suitable for use as a base film of a high density recording medium such as a magnetic recording medium. And
本発明は、全芳香族テトラカルボン酸成分に対して15
〜85モル%のビフェニルテトラカルボン酸類と85〜
15モル%のピロメリット酸類とからなる芳香族テトラ
カルボン酸成分と、全芳香族ジアミン成分に対して30
〜100モル%のフェニレンジアミン類と70〜0モル
%のジアミノジフェニルエーテル類とからなる芳香族ジ
アミン成分から得られた芳香族ポリイミドフィルムであ
って、フィルム表面に直径0.02〜2μmの微細突起
が104〜108個/mm2の範囲の数にて存在すること
を特徴とする粗面化ポリイミドフィルムにある。The present invention provides a total aromatic tetracarboxylic acid component of 15
85 to 85 mol% of biphenyl tetracarboxylic acids
Aromatic tetracarboxylic acid component consisting of 15 mol% of pyromellitic acid, and 30 with respect to wholly aromatic diamine component
An aromatic polyimide film obtained from an aromatic diamine component consisting of -100 mol% of phenylenediamines and 70-0 mol% of diaminodiphenyl ethers, wherein fine projections having a diameter of 0.02 to 2 µm are formed on the film surface. The roughened polyimide film is characterized by being present in a number in the range of 10 4 to 10 8 pieces / mm 2 .
上記の、粗面化ポリイミドフィルムは、全芳香族テトラ
カルボン酸成分に対して15〜85モル%のビフェニル
テトラカルボン酸類と85〜15モル%のピロメリット
酸類とからなる芳香族テトラカルボン酸成分と、全芳香
族ジアミン成分に対して30〜100モル%のフェニレ
ンジアミン類と70〜0モル%のジアミノジフェニレエ
ーテル類とからなる芳香族ジアミン成分から得られたポ
リアミック酸を加熱することにより芳香族ポリイミドフ
ィルムを製造するに際して、上記加熱工程における最高
加熱温度を、得られる芳香族ポリイミドフィルムのガラ
ス転移温度よりも高くすることにより容易に製造するこ
とができる。The above-mentioned roughened polyimide film is an aromatic tetracarboxylic acid component composed of 15 to 85 mol% of biphenyltetracarboxylic acid and 85 to 15 mol% of pyromellitic acid relative to the wholly aromatic tetracarboxylic acid component. Aroma by heating a polyamic acid obtained from an aromatic diamine component comprising 30 to 100 mol% of phenylenediamines and 70 to 0 mol% of diaminodiphenyleethers with respect to the wholly aromatic diamine component. In producing the group-polyimide film, the maximum heating temperature in the above heating step can be easily produced by making it higher than the glass transition temperature of the obtained aromatic polyimide film.
以下、本発明の粗面化ポリイミドを製造する方法につい
て、代表的な実施の態様を示して詳しく説明する。Hereinafter, the method for producing the roughened polyimide of the present invention will be described in detail with reference to typical embodiments.
本発明の粗面化ポリイミドの製造法において使用される
芳香族ポリアミック酸は、全芳香族テトラカルボン酸成
分に対して15〜85モル%のビフェニルテトラカルボ
ン酸類と85〜15モル%のピロメリット酸類とからな
る芳香族テトラカルボン酸成分と、全芳香族ジアミン成
分に対して30〜100モル%のフェニレンジアミン類
と70〜0モル%のジアミノジフェニルエーテル類とか
らなる芳香族ジアミン成分を、実質的に等モル使用し、
有機極性溶媒中にて重合して得られる芳香族ポリアミッ
ク酸である。The aromatic polyamic acid used in the method for producing a roughened polyimide of the present invention is 15 to 85 mol% of biphenyltetracarboxylic acid and 85 to 15 mol% of pyromellitic acid with respect to the wholly aromatic tetracarboxylic acid component. An aromatic tetracarboxylic acid component consisting of, and an aromatic diamine component consisting of 30 to 100 mol% of phenylenediamines and 70 to 0 mol% of diaminodiphenyl ethers relative to the wholly aromatic diamine component, Use equimolar,
It is an aromatic polyamic acid obtained by polymerization in an organic polar solvent.
前記ビフェニルテトラカルボン酸類としては、ビフェニ
ルテトラカルボン酸、その二無水物、またはその低級ア
ルキルエステル、さらにそれらの混合物を挙げることが
できる。ビフェニルテトラカルボン酸類としては、2,
3',3,4'-ビフェニルテトラカルボン酸類、3,3',4,4'-ビ
フェニルテトラカルボン酸類を好適に挙げることができ
る。Examples of the biphenyltetracarboxylic acids include biphenyltetracarboxylic acid, a dianhydride thereof, a lower alkyl ester thereof, and a mixture thereof. As the biphenyl tetracarboxylic acids, 2,
Preferable examples include 3 ', 3,4'-biphenyltetracarboxylic acids and 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acids.
前記ピロメリット酸類としては、ピロメリット酸、その
二無水物、またはその低級アルキルエステル、さらにそ
れらの混合物を挙げることができる。Examples of the pyromellitic acid include pyromellitic acid, a dianhydride thereof, a lower alkyl ester thereof, and a mixture thereof.
なお、上記芳香族テトラカルボン酸成分には、全芳香族
テトラカルボン酸成分に対して70モル%以下、好まし
くは50モル%以下、さらに好ましくは30モル%以
下、の量にて他の芳香族テトラカルボン酸類を使用して
もよい。そのような他の芳香族テトラカルボン酸類の例
としては、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン
酸、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン、
ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン、ビス(3,4-
ジカルボキシフェニル)エーテル、ビス(3,4-ジカルボ
キシフェニル)ホスフィン、およびこらのカルボン酸の
無水物、低級アルキルエステルなどを挙げることができ
る。The aromatic tetracarboxylic acid component contains other aromatic compounds in an amount of 70 mol% or less, preferably 50 mol% or less, more preferably 30 mol% or less based on the total aromatic tetracarboxylic acid component. Tetracarboxylic acids may be used. Examples of such other aromatic tetracarboxylic acids include 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane,
Bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane, bis (3,4-
Examples thereof include dicarboxyphenyl) ether, bis (3,4-dicarboxyphenyl) phosphine, and anhydrides of these carboxylic acids and lower alkyl esters.
本発明において、フェニレンジアミン類としては、1,4-
ジアミノベンゼン(パラフェニレンジアミン)、1,3-ジ
アミノベンゼン、1,2-ジアミノベンゼンなどを挙げるこ
とができる。In the present invention, phenylenediamines include 1,4-
Examples thereof include diaminobenzene (paraphenylenediamine), 1,3-diaminobenzene and 1,2-diaminobenzene.
本発明において芳香族ジアミン成分として、全芳香族ジ
アミン成分に対して70モル%以下、好ましくは50モ
ル%以下、さらに好ましくは30モル%以下、そして好
ましくは1モル%以上、さらに好ましくは5モル%以上
の量にて、ジアミノジフェニルエーテル類を併用するこ
ともできる。そのようなジアミノジフェニルエーテル類
としては、4,4'-ジアミノフェニルエーテル、3,4-ジア
ミノジフェニルエーテル、3,3'-ジアミノジフェニルエ
ーテルを好適に挙げることができる。In the present invention, the aromatic diamine component is 70 mol% or less, preferably 50 mol% or less, more preferably 30 mol% or less, and preferably 1 mol% or more, more preferably 5 mol, based on the total aromatic diamine component. Diaminodiphenyl ethers can also be used together in an amount of at least%. Preferable examples of such diaminodiphenyl ethers include 4,4′-diaminophenyl ether, 3,4-diaminodiphenyl ether, and 3,3′-diaminodiphenyl ether.
なお、上記芳香族ジアミン成分には、全芳香族ジアミン
成分に対して70モル%以下、好ましくは50モル%以
下、さらに好ましくは30モル%以下、の量にて他の芳
香族ジアミン類を使用してもよい。そのような他の芳香
族ジアミン成分としては、4,4'-ジアミノジフェニルチ
オエーテルなどのジフェニルチオエーテル系ジアミ、3,
3'-ジアミノベンゾフェノン、4,4'-ジアミノベンゾフェ
ノンなどのベンゾフェノン系ジアミン、3,3'-ジアミノ
ジフェニルホスフィン、4,4'-ジアミノジフェニルホス
フィンなどのジフェニルホスフィン系ジアミン、3,3'-
ジアミノジフェニルメタン、4,4'-ジアミノフェニルメ
タンなどのジフェニルメタン系ジアミンなどを挙げるこ
とができる。Note that the aromatic diamine component contains other aromatic diamines in an amount of 70 mol% or less, preferably 50 mol% or less, and more preferably 30 mol% or less with respect to the total aromatic diamine component. You may. Examples of such other aromatic diamine components include diphenylthioether-based diamis such as 4,4′-diaminodiphenylthioether, 3,
3'-diaminobenzophenone, benzophenone diamines such as 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminodiphenylphosphine, diphenylphosphine diamines such as 4,4'-diaminodiphenylphosphine, 3,3'-
Examples thereof include diphenylmethane-based diamines such as diaminodiphenylmethane and 4,4′-diaminophenylmethane.
前記重合反応に使用される有機極性溶媒としては、各モ
ノマー成分、および/または両モノマー成分が生成する
オリゴマー、または低分子のポリアミック酸を均一に溶
解する溶倍を用いる。そのような有機極性溶媒の例とし
ては、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセト
アミド、N-メチル-2-ピロリドン、N-メチルカプロラク
タムなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、ヘキ
サメチルフォスホルムアミド、ジメチルスルホン、テト
ラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホ
ン、ピリジン、エチレングリコールなどを挙げることが
できる。これらの有機極性溶媒は、ベンゼン、トルエ
ン、ベンゾニトリル、キシレン、ソルベントナフサ、お
よびジオキサンのような他の有機溶倍と混合して使用す
ることもできる。As the organic polar solvent used in the polymerization reaction, a solution that uniformly dissolves each monomer component, and / or an oligomer produced by both monomer components, or a low molecular weight polyamic acid is used. Examples of such organic polar solvents include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, amide solvents such as N-methylcaprolactam, dimethyl sulfoxide, and hexamethylfosformamide. , Dimethyl sulfone, tetramethylene sulfone, dimethyl tetramethylene sulfone, pyridine, ethylene glycol and the like. These organic polar solvents can also be used in admixture with other organic solubilizers such as benzene, toluene, benzonitrile, xylene, solvent naphtha, and dioxane.
重合反応を実施するに際して、有機極性溶媒中の全モノ
マーの濃度は5〜40重量%、好ましくは6〜35重量
%、特に好ましくは10〜30重量%とされる。When carrying out the polymerization reaction, the concentration of all the monomers in the organic polar solvent is 5 to 40% by weight, preferably 6 to 35% by weight, particularly preferably 10 to 30% by weight.
上記の芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミン成
分との重合反応は、たとえば、それぞれを実施的に等モ
ルにて混合し、反応温度100℃以下、好ましくは80
℃以下にて約0.2〜60時間の反応を行なわせること
により実施する。The polymerization reaction of the above-mentioned aromatic tetracarboxylic acid component and aromatic diamine component is carried out, for example, by practically mixing them in equimolar amounts, and at a reaction temperature of 100 ° C or lower, preferably 80 ° C.
It is carried out by carrying out the reaction for about 0.2 to 60 hours at a temperature of not more than 0 ° C.
本発明のポリイミドフィルムの製造のために利用される
ポリアミック酸溶液は、30℃で測定した回転粘度が、
約0.1〜50000ポイズ、特に0.5〜30000
ポイズ、さらに好ましくは1〜20000ポイズ程度の
ものであることが、このポリアミック酸溶液を取り扱う
作業性の面から好ましい。従って、前記の重合反応は、
生成するポリアミック酸が上記のような粘度を示す程度
にまで実施することが望ましい。The polyamic acid solution used for producing the polyimide film of the present invention has a rotational viscosity measured at 30 ° C.
About 0.1-50000 poise, especially 0.5-30000
Poise, more preferably about 1 to 20,000 poise, is preferable from the viewpoint of workability of handling this polyamic acid solution. Therefore, the above polymerization reaction is
It is desirable to carry out the polyamic acid produced to such an extent that it exhibits the above viscosity.
本発明のポリイミドフィルムの製造に際してはは、たと
えば、まず前述の芳香族ポリアミック酸の溶液を、まず
適当な支持体(例えば、金属、セラミック、プラスチッ
ク製のロール、または金属ベルト、あるいは金属薄膜テ
ープが供給されつつあるロールまたはベルト)の表面上
に流延して、約10〜2000μm、特に20〜100
0μm程度の均一な厚さのポリアミック酸溶液を膜状態
に形成し、次いで熱風、赤外線等の熱源を利用して60
〜160℃に加熱して、溶剤を徐々に除去することによ
り、自己支持性になるまで前乾燥を行い、該支持体より
自己支持性フィルムを剥離する。剥離される自己支持性
フィルムは、その加熱減量が10〜65重量%の範囲に
あることが好ましく、さらに15〜60重量%の範囲に
あることが特に好ましい。In the production of the polyimide film of the present invention, for example, first the solution of the aromatic polyamic acid described above is first prepared by using a suitable support (for example, a metal, ceramic or plastic roll, or a metal belt, or a metal thin film tape). On the surface of the roll (or belt) being fed, about 10-2000 μm, in particular 20-100
A polyamic acid solution having a uniform thickness of about 0 μm is formed into a film state, and then 60 using a heat source such as hot air or infrared rays.
By heating to ˜160 ° C. and gradually removing the solvent, pre-drying is performed until it becomes self-supporting, and the self-supporting film is peeled from the support. The self-supporting film to be peeled off preferably has a weight loss upon heating in the range of 10 to 65% by weight, and particularly preferably in the range of 15 to 60% by weight.
なお、上記の自己支持性フィルムの加熱減量とは、測定
対称のフィルムを420℃で20分間乾燥し、乾燥前の
重量W1と乾燥後の重量W2とから次式によって求めた
値である。The heating loss of the self-supporting film is a value calculated by the following equation from the weight W 1 before drying and the weight W 2 after drying after drying the symmetrical film for 20 minutes at 420 ° C. .
加熱減量(重量%)= {(W1−W2)/W1}×100 次に、上記自己支持性フィルムを、フィルムに含まれる
溶媒の除去及びアミド・酸結合のイミド結合への転換を
行うために、約100℃以上の温度で加熱して、これに
より芳香族ポリイミドフィルムを製造する。Heat loss (% by weight) = {(W 1 -W 2 ) / W 1 } × 100 Next, the solvent contained in the self-supporting film was removed and the amide / acid bond was converted to an imide bond. To do so, heating at a temperature of about 100 ° C. or higher, thereby producing an aromatic polyimide film.
この芳香族ポリイミドフィルムを製造する時の最高加熱
温度を該芳香族ポリイミドのガラス転移温度(Tg)以
上、好ましくはTgよりも20℃以上、更に好ましくは
30〜200℃、とくに好ましくは50〜160℃の温
度にすることにより、生成する芳香族ポリイミドフィル
ム表面に、目的の条件にある微細突起を形成させること
ができる。The maximum heating temperature for producing the aromatic polyimide film is not lower than the glass transition temperature (Tg) of the aromatic polyimide, preferably 20 ° C or higher than Tg, more preferably 30 to 200 ° C, and particularly preferably 50 to 160. By setting the temperature to ℃, it is possible to form fine projections under the desired conditions on the surface of the aromatic polyimide film to be formed.
上記の加熱条件にて製造した芳香族ポリイミドフィルム
表面上に形成される微細突起の大きさの大部分は、0.
02〜2μmの範囲にある。ここで言う微細突起の大き
さとは、フィルム表面を電子顕微鏡で1万倍に拡大した
場合に観察される微細突起の最大径部分の長さを言う。Most of the size of the fine protrusions formed on the surface of the aromatic polyimide film produced under the above heating conditions is 0.
It is in the range of 02 to 2 μm. The size of the fine projections referred to here means the length of the maximum diameter portion of the fine projections observed when the film surface is magnified 10,000 times with an electron microscope.
本発明の芳香族ポリイミドフィルム表面上に形成されて
いる直径が0.02〜2μmの微細突起数は104〜1
08個/mm2であり、好ましくは105〜108個/
mm2の範囲にあり、更に好ましくは106〜108個
/mm2の範囲にある。この微細突起の数は、フィルム
表面を電子顕微鏡で1万倍に拡大した時に観察される突
起の最大径が0.02μ以上のものについて個数を数え
て得られる数値である。The number of fine projections having a diameter of 0.02 to 2 μm formed on the surface of the aromatic polyimide film of the present invention is 10 4 to 1
0 a 8 / mm 2, preferably 10 5 to 10 8 /
It is in the range of mm 2 , and more preferably in the range of 10 6 to 10 8 pieces / mm 2 . The number of fine protrusions is a numerical value obtained by counting the number of protrusions having a maximum diameter of 0.02 μm or more observed when the film surface is magnified 10,000 times with an electron microscope.
上記の方法によって本発明の芳香族ポリイミドフィルム
表面上に形成される微細突起の大きさと個数は、芳香族
ポリイミドフィルムの組成、ガラス転移温度と最高加熱
温度によって変化する。一般的な傾向としてガラス転移
温度と最高加熱温度の差が大きくなるほど、フィルム表
面上に形成される微細突起の大きさが上記の範囲内で大
きくなり、またその個数が増大する。さらに芳香族ジア
ミン成分として4,4'-ジアミノジフェニルエーテル成分
を使用した場合に、そしてその使用量が多くなるほど、
フィルム表面上に形成される微細突起の大きさと個数が
増加する傾向がある。また、ポリアミック酸フィルムを
ポリイミドフィルムに変換する際における最高加熱温度
が同じであっても、昇温速度の相違により表面の微細突
起の形成される様子が異なる場合がある。また、一般的
に言えば、フィルム厚みが薄くなると微細突起の大き
さ、個数が減少する傾向がある。The size and number of fine projections formed on the surface of the aromatic polyimide film of the present invention by the above method vary depending on the composition of the aromatic polyimide film, the glass transition temperature and the maximum heating temperature. As a general tendency, the larger the difference between the glass transition temperature and the maximum heating temperature, the larger the size of the fine projections formed on the film surface within the above range, and the larger the number thereof. Furthermore, when the 4,4'-diaminodiphenyl ether component is used as the aromatic diamine component, and the larger the amount used,
The size and number of fine protrusions formed on the surface of the film tend to increase. Further, even when the maximum heating temperature when converting the polyamic acid film into the polyimide film is the same, the appearance of the fine protrusions on the surface may be different due to the difference in the heating rate. Further, generally speaking, as the film thickness decreases, the size and number of fine protrusions tend to decrease.
本発明における粗面化ポリイミドフィルムの厚みは、通
常1〜100μmの範囲にあり、好ましくは2〜50μ
mの範囲にある。The thickness of the roughened polyimide film in the present invention is usually in the range of 1 to 100 μm, preferably 2 to 50 μm.
It is in the range of m.
[発明の効果] 本発明の粗面化芳香族ポリイミドフィルムは、その製造
のための芳香族カルボン酸成分として、それぞれ特定量
のビフェニルテトラカルボン酸類とピロメリット酸類と
を併用して得られたものであり、そのような芳香族ポリ
イミドフィルムは、優れた機械的物性、たとえば高い引
張強度(通常は約20kg/mm2以上であり、25k
g/mm2以上のものが多い)、適度な弾性率(通常は
約300〜900kg/mm2)を有し、また優れた熱
的性質、たとえば、高い二次転移温度(通常は約300
℃以上)高い熱分解温度(通常は約400℃以上)を有
するため、特に磁気テープなどの磁気記録媒体の支持体
として優れた特性を示す。[Effect of the Invention] The roughened aromatic polyimide film of the present invention is obtained by using a specific amount of biphenyltetracarboxylic acid and pyromellitic acid in combination as an aromatic carboxylic acid component for the production thereof. Such an aromatic polyimide film has excellent mechanical properties, for example, high tensile strength (usually about 20 kg / mm 2 or more, 25 k
g / mm 2 or more), a suitable elastic modulus (usually about 300 to 900 kg / mm 2 ), and excellent thermal properties such as a high second-order transition temperature (usually about 300).
Since it has a high thermal decomposition temperature (usually about 400 ° C. or higher), it exhibits excellent properties especially as a support for magnetic recording media such as magnetic tapes.
また、本発明の粗面化ポリイミドフィルムは、その表面
に適度な量の微細突起を有するため、その上に磁気記録
層を形成した場合には、記録層の表面が、ほぼ同等な適
度な量の微細突起を有するようになる。従って、磁気記
録媒体用ベースフィルム、特に金属薄膜磁気記録媒体用
ベースフィルムとして使用した場合、得られる磁気記録
媒体の電磁変換特性が良好になり、走行性、耐久性もす
ぐれたものとなる。Further, the roughened polyimide film of the present invention has an appropriate amount of fine projections on the surface thereof, and therefore, when the magnetic recording layer is formed thereon, the surface of the recording layer has a substantially equal amount. To have fine protrusions. Therefore, when used as a base film for a magnetic recording medium, particularly as a base film for a metal thin film magnetic recording medium, the resulting magnetic recording medium has good electromagnetic conversion characteristics and excellent running properties and durability.
次に本発明の実施例と比較例を挙げる。Next, examples and comparative examples of the present invention will be described.
各々の物性値および評価方法は以下の通りである。Each physical property value and evaluation method are as follows.
(1)ガラス転移温度:理学電気(株)製TMA装置で
引張法により求めた。(1) Glass transition temperature: Determined by a tensile method using a TMA apparatus manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.
(2)微細突起数:フィルム表面を電子顕微鏡で1万倍
で観察し、突起の最大径が0.02μm以上のものにつ
いて個数を数えた。(2) Number of fine protrusions: The film surface was observed with an electron microscope at a magnification of 10,000, and the number of protrusions having a maximum diameter of 0.02 μm or more was counted.
(3)電磁変換特性:中心周波数4.5MHzで記録、
再生した場合のS/N比(相対値)を比較例14を基準
(0dB)として測定した。(3) Electromagnetic conversion characteristics: recorded at a center frequency of 4.5 MHz,
The S / N ratio (relative value) in the case of reproduction was measured using Comparative Example 14 as a reference (0 dB).
A:出力が−3dBより大きい。A: The output is larger than -3 dB.
B:出力が−3dBより小さい。B: The output is smaller than -3 dB.
(4)走行性:テープ走行の乱れによる画面のみだれを
観察した。(4) Runnability: We observed screen drooping due to irregular running of the tape.
A:走行性順調で再生画面のみだれなし。A: The running performance was good and there was no droop on the playback screen.
B:走行性が悪く再生画面がみだれる。B: Running performance is poor and playback screen is distorted.
(5)耐久性:100回走行させた後の磁性面のすり傷
や出力が低下をみた。(5) Durability: Scratches on the magnetic surface and a decrease in output were observed after running 100 times.
A:すり傷がほとんどないか、弱いすり傷程度。出力低
下が−3dBより小さい。A: Almost no scratches or weak scratches. The output drop is less than -3 dB.
B:強いすり傷が認められる。出力低下が−3dBより
大きい。B: Strong abrasion is observed. The output drop is greater than -3 dB.
[実施例1] 内容積1の円筒型重合槽に、N,N-ジメチルアセトアミ
ド448g、p−フェニレンジアミン(PPD)22.
709g(0.21モル)、4,4'-ジアミノジフェニル
エーテル(4,4'-DADE)18.022g(0.09
モル)を入れ、窒素中室温(約30℃)で撹拌した。こ
の溶液に3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物(s-BPDA)44.133g(0.15モル)およ
びピロメリット酸二無水物(PMDA)32.718g
(0.15モル)を添加し、6時間撹拌してポリアミッ
ク酸の溶液を得た。この溶液の対数粘度(30℃、0.
5g/100m、N,N-ジメチルアセトアミド)が、
2.54であり、回転粘度は2400ポイズ(30℃)
であった。粘度は東京計器(株)製E粘度計を使用して
測定した。[Example 1] N, N-dimethylacetamide 448 g, p-phenylenediamine (PPD) 22.
709 g (0.21 mol), 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-DADE) 18.022 g (0.09)
Mol) and stirred at room temperature (about 30 ° C.) in nitrogen. To this solution, 44.133 g (0.15 mol) of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) and 32.718 g of pyromellitic dianhydride (PMDA) were added.
(0.15 mol) was added and stirred for 6 hours to obtain a solution of polyamic acid. Logarithmic viscosity of this solution (30 ° C, 0.
5 g / 100 m, N, N-dimethylacetamide)
2.54, rotational viscosity 2400 poise (30 ° C)
Met. The viscosity was measured using an E viscometer manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd.
上記のポリアミック酸溶液をガラス板上に流延してポリ
アミック酸溶液の皮膜を形成し、その皮膜を120℃の
熱風で20分間乾燥して溶媒を留去して、ポリアミック
酸フィルムを形成した。The polyamic acid solution was cast on a glass plate to form a film of the polyamic acid solution, the film was dried with hot air at 120 ° C. for 20 minutes, and the solvent was distilled off to form a polyamic acid film.
次に、ポリアミック酸フィルムをガラス板からはがし
た。このフィルムの加熱減量は34.1重量%であっ
た。Next, the polyamic acid film was peeled off from the glass plate. The weight loss on heating of this film was 34.1% by weight.
このポリアミック酸フィルムを金属枠にとり付けて、熱
風乾燥器内で200℃から400℃まで20分間で昇温
して、厚さ35μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成
した。なお、この芳香族ポリイミドフィルムのガラス転
移温度は360℃であった。This polyamic acid film was attached to a metal frame, and the temperature was raised from 200 ° C. to 400 ° C. in a hot air dryer for 20 minutes to prepare an aromatic polyimide film having a thickness of 35 μm. The glass transition temperature of this aromatic polyimide film was 360 ° C.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は5.
0×106mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 5.
It was 0 × 10 6 mm 2 .
[実施例2] ポリアミック酸の最高加熱温度を450℃(ポリイミド
のTg=360℃)とし、200℃から450℃まで2
5分間で昇温させた以外は実施例1と同様にして、厚さ
35μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。Example 2 The maximum heating temperature of polyamic acid was 450 ° C. (Tg of polyimide = 360 ° C.), and 200 ° C. to 450 ° C.
An aromatic polyimide film having a thickness of 35 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that the temperature was raised for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は2.
6×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 2.
It was 6 × 10 7 pieces / mm 2 .
[実施例3] ポリアミック酸の最高加熱温度を450℃(ポリイミド
のTg=360℃)とし、200℃から450℃まで2
5分間で昇温させたのち、450℃にて5分間の加熱を
行なった以外は実施例1と同様にして、厚さ21μmの
芳香族ポリイミドフィルムを作成した。Example 3 The maximum heating temperature of polyamic acid was 450 ° C. (Tg of polyimide = 360 ° C.), and 200 ° C. to 450 ° C.
An aromatic polyimide film having a thickness of 21 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that the temperature was raised for 5 minutes and then heating was performed at 450 ° C. for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は2.
3×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 2.
It was 3 × 10 7 pieces / mm 2 .
[実施例4] ポリアミック酸の最高加熱温度を450℃(ポリイミド
のTg=360℃)とし、200℃から450℃まで2
5分間で昇温させたのち、450℃にて5分間の加熱を
行なった以外は実施例1と同様にして、厚さ10μmの
芳香族ポリイミドフィルムを作成した。Example 4 The maximum heating temperature of polyamic acid was 450 ° C. (Tg of polyimide = 360 ° C.), and 200 ° C. to 450 ° C.
An aromatic polyimide film having a thickness of 10 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that the temperature was raised for 5 minutes and then heating was performed at 450 ° C. for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は1.
0×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 1.
It was 0 × 10 7 pieces / mm 2 .
[実施例5] ポリアミック酸の最高加熱温度を450℃(ポリイミド
Tg=360℃)とし、200℃から450℃まで20
分間で昇温させたのち、450℃にて5分間の加熱を行
なった以外は実施例1と同様にして、厚さ56μmの芳
香族ポリイミドフィルムを作成した。Example 5 The maximum heating temperature of polyamic acid was 450 ° C. (polyimide Tg = 360 ° C.), and 200 ° C. to 450 ° C. was used.
An aromatic polyimide film having a thickness of 56 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that the temperature was raised for 1 minute and then heating was performed at 450 ° C. for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は1.
8×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 1.
It was 8 × 10 7 pieces / mm 2 .
[実施例6] ポリアミック酸の最高加熱温度を450℃(ポリイミド
のTg=360℃)とし、200℃から450℃まで2
0分間で昇温させたのち、450℃にて5分間の加熱を
行なった以外は実施例1と同様にして、厚さ12μmの
芳香族ポリイミドフィルムを作成した。Example 6 The maximum heating temperature of polyamic acid was 450 ° C. (Tg of polyimide = 360 ° C.), and 200 ° C. to 450 ° C.
An aromatic polyimide film having a thickness of 12 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that the temperature was raised for 0 minutes and the heating was performed at 450 ° C. for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は5.
0×106個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 5.
It was 0 × 10 6 pieces / mm 2 .
[比較例1] ポリアミック酸の最高加熱温度を300℃(ポリイミド
のTg=360℃)とし、200℃から300℃まで1
0分間で昇温させた以外は実施例1と同様にして、厚さ
35μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。[Comparative Example 1] The maximum heating temperature of the polyamic acid was set to 300 ° C (Tg of polyimide = 360 ° C), and 200 ° C to 300 ° C was set to 1
An aromatic polyimide film having a thickness of 35 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that the temperature was raised for 0 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面には微細突起が生成
していなかった。No fine projections were formed on the surface of this aromatic polyimide film.
[比較例2] ポリアミック酸の最高加熱温度を350℃(ポリイミド
のTg=360℃)とし、200℃から350℃まで1
5分間で昇温させた以外は実施例1と同様にして、厚さ
35μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。[Comparative Example 2] The maximum heating temperature of polyamic acid was set to 350 ° C (Tg of polyimide = 360 ° C), and 200 ° C to 350 ° C was set to 1
An aromatic polyimide film having a thickness of 35 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that the temperature was raised for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面には微細突起が生成
していなかった。No fine projections were formed on the surface of this aromatic polyimide film.
[磁気テープ支持体としての評価] 各例にて得られたポリイミドフィルム表面に、真空蒸着
により厚さ0.2μmのCo−Cr合金槽を形成して磁
気テープとし、磁気テープの電磁変換特性、走行性およ
び耐久性を前期の方法により評価した。その結果を第1
表に示す。[Evaluation as Magnetic Tape Support] On the surface of the polyimide film obtained in each example, a Co—Cr alloy bath having a thickness of 0.2 μm was formed by vacuum vapor deposition to form a magnetic tape, and the electromagnetic conversion characteristics of the magnetic tape, The running property and durability were evaluated by the method of the previous term. The result is first
Shown in the table.
[実施例7] p−フェニレンジアミン(PPD)の使用量を0.15
モル、そして4,4'-ジアミノジフェニルエーテル(4,4'-
DADE)の使用量を0.15モルに変えた以外は、実
施例1と同様にしてポリアミック酸をを得た。この溶液
の対数粘度(30℃、0.5g/100m、N,N-ジメ
チルアセトアミド)は2.61であり、回転粘度は43
00ポイズ(30℃)であった。 [Example 7] The amount of p-phenylenediamine (PPD) used was 0.15.
Mol, and 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-
A polyamic acid was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of DADE) used was changed to 0.15 mol. The logarithmic viscosity (30 ° C., 0.5 g / 100 m, N, N-dimethylacetamide) of this solution was 2.61, and the rotational viscosity was 43.
It was 00 poise (30 ° C.).
上記のポリアミック酸溶液をガラス板上に流延してポリ
アミック酸溶液の皮膜を形成し、その皮膜を120℃の
熱風で20分間乾燥して溶媒を留去して、ポリアミック
酸フィルムを形成した。The polyamic acid solution was cast on a glass plate to form a film of the polyamic acid solution, the film was dried with hot air at 120 ° C. for 20 minutes, and the solvent was distilled off to form a polyamic acid film.
次に、ポリアミック酸フィルムをガラス板からはがし
た。このフィルムの加熱減量は37.6重量%であっ
た。Next, the polyamic acid film was peeled off from the glass plate. The weight loss on heating of this film was 37.6% by weight.
このポリアミック酸フィルムを金属枠にとり付けて、熱
風乾燥器内で200℃から400℃まで20分間で昇温
して、厚さ39μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成
した。なお、この芳香族ポリイミドフィルムのガラス転
移温度は330℃であった。This polyamic acid film was attached to a metal frame, and the temperature was raised from 200 ° C. to 400 ° C. in a hot air dryer for 20 minutes to prepare an aromatic polyimide film having a thickness of 39 μm. The glass transition temperature of this aromatic polyimide film was 330 ° C.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は2.
8×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 2.
It was 8 × 10 7 pieces / mm 2 .
[実施例8] ポリアミック酸の最高加熱温度を410℃(ポリイミド
のTg=330℃)とし、200℃から410℃までの
20分間で昇温させた以外は実施例7と同様にして、厚
さ39μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。[Example 8] The thickness was the same as in Example 7 except that the maximum heating temperature of the polyamic acid was 410 ° C (Tg of polyimide = 330 ° C) and the temperature was raised from 200 ° C to 410 ° C for 20 minutes. A 39 μm aromatic polyimide film was prepared.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は2.
5×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 2.
It was 5 × 10 7 pieces / mm 2 .
[実施例9] ポリアミック酸の最高加熱温度を450℃(ポリイミド
のTg=330℃)とし、200℃から450℃まで2
5分間で昇温させた以外は実施例7と同様にして、厚さ
39μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。Example 9 The maximum heating temperature of polyamic acid was 450 ° C. (Tg of polyimide = 330 ° C.), and 200 ° C. to 450 ° C.
An aromatic polyimide film having a thickness of 39 μm was prepared in the same manner as in Example 7 except that the temperature was raised for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は4.
1×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 4.
It was 1 × 10 7 pieces / mm 2 .
[比較例3] ポリアミック酸の最高加熱温度を300℃(ポリイミド
のTg=330℃)とし、200℃から300℃まで1
0分間で昇温させた以外は実施例7と同様にして、厚さ
39μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。[Comparative Example 3] The maximum heating temperature of polyamic acid was set to 300 ° C (Tg of polyimide = 330 ° C), and 200 ° C to 300 ° C was set to 1
An aromatic polyimide film having a thickness of 39 μm was prepared in the same manner as in Example 7 except that the temperature was raised for 0 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面には微細突起が生成
していなかった。No fine projections were formed on the surface of this aromatic polyimide film.
[比較例4] ポリアミック酸の最高加熱温度を340℃(ポリイミド
のTg=350℃)とし、200℃から350℃まで1
5分間で昇温させた以外は実施例7と同様にして、厚さ
39μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。[Comparative Example 4] The maximum heating temperature of the polyamic acid was set to 340 ° C (Tg of polyimide = 350 ° C), and 200 ° C to 350 ° C was set to 1
An aromatic polyimide film having a thickness of 39 μm was prepared in the same manner as in Example 7 except that the temperature was raised for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面には微細突起が生成
していなかった。No fine projections were formed on the surface of this aromatic polyimide film.
[磁気テープ支持体としての評価] 各例にて得られたポリイミドフィルム表面に、真空蒸着
により厚さ0.2μmのCo−Cr合金層を形成して磁
気テープとし、磁気テープの電磁変換特性、走行性およ
び耐久性を前記の方法により評価した。その結果を第2
表に示す。[Evaluation as Magnetic Tape Support] On the surface of the polyimide film obtained in each example, a Co—Cr alloy layer having a thickness of 0.2 μm was formed by vacuum vapor deposition to form a magnetic tape. The runnability and durability were evaluated by the above methods. The result is the second
Shown in the table.
[実施例10] p−フェニレンジアミン(PPD)の使用量を0.12
モルそして4,4'-ジアミノジフェニルエーテル(4,4'−
DADE)の使用量を0.15モルに変え、3,3',4,4'-
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s-BPDA)の
使用量を0.12モル、そしてピロメリット酸二無水物
(PMDA)の使用量を0.18モルに変えた以外は、
実施例1と同様にしてポリアミック酸をを得た。この溶
液の対数粘度(30℃、0.5g/100m、N,N-ジ
メチルアセトアミド)は2.01であり、回転粘度は1
500ポイズ(30℃)であった。 [Example 10] The amount of p-phenylenediamine (PPD) used was 0.12.
Mol and 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-
The amount of DADE) was changed to 0.15 mol, and 3,3 ', 4,4'-
Other than changing the amount of biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) used to 0.12 mol and the amount of pyromellitic dianhydride (PMDA) to 0.18 mol,
A polyamic acid was obtained in the same manner as in Example 1. The logarithmic viscosity (30 ° C., 0.5 g / 100 m, N, N-dimethylacetamide) of this solution is 2.01, and the rotational viscosity is 1
It was 500 poise (30 ° C.).
上記のポリアミック酸溶液をガラス板上に流延してポリ
アミック酸溶液の皮膜を形成し、その皮膜を120℃の
熱風で20分間乾燥して溶媒を留去して、ポリアミック
酸フィルムを形成した。The polyamic acid solution was cast on a glass plate to form a film of the polyamic acid solution, the film was dried with hot air at 120 ° C. for 20 minutes, and the solvent was distilled off to form a polyamic acid film.
次に、ポリアミック酸フィルムをガラス板からはがし
た。このフィルムの加熱減量は36.2重量%であっ
た。Next, the polyamic acid film was peeled off from the glass plate. The weight loss on heating of this film was 36.2% by weight.
このポリアミック酸フィルムを金属枠にとり付けて、熱
風乾燥器内で200℃から400℃まで20分間で昇温
して、厚さ43μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成
した。なお、この芳香族ポリイミドフィルムのガラス転
移温度は350℃であった。This polyamic acid film was attached to a metal frame, and the temperature was raised from 200 ° C. to 400 ° C. in a hot air dryer for 20 minutes to prepare an aromatic polyimide film having a thickness of 43 μm. The glass transition temperature of this aromatic polyimide film was 350 ° C.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は9.
0×106個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 9.
It was 0 × 10 6 pieces / mm 2 .
[実施例11] ポリアミック酸の最高加熱温度を410℃(ポリイミド
のTg=350℃)とし、200℃から410℃まで2
0分間で昇温させた以外は実施例10と同様にして、厚
さ43μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。Example 11 The maximum heating temperature of polyamic acid was 410 ° C. (Tg of polyimide = 350 ° C.), and 200 ° C. to 410 ° C.
An aromatic polyimide film having a thickness of 43 μm was prepared in the same manner as in Example 10 except that the temperature was raised for 0 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は3.
4×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of the aromatic polyimide film is 3.
It was 4 × 10 7 pieces / mm 2 .
[実施例12] ポリアミック酸の最高加熱温度を450℃(ポリイミド
のTg=350℃)とし、200℃から450℃まで2
5分間で昇温させた以外は実施例10と同様にして、厚
さ43μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。Example 12 The maximum heating temperature of polyamic acid was 450 ° C. (Tg of polyimide = 350 ° C.), and 200 ° C. to 450 ° C.
An aromatic polyimide film having a thickness of 43 μm was prepared in the same manner as in Example 10 except that the temperature was raised for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は2.
3×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 2.
It was 3 × 10 7 pieces / mm 2 .
[比較例5] ポリアミック酸の最高加熱温度を300℃(ポリイミド
のTg=350℃)とし、200℃から300℃まで1
0分間で昇温させた以外は実施例10と同様にして、厚
さ43μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。[Comparative Example 5] The maximum heating temperature of polyamic acid was set to 300 ° C (Tg of polyimide = 350 ° C), and 200 ° C to 300 ° C was set to 1
An aromatic polyimide film having a thickness of 43 μm was prepared in the same manner as in Example 10 except that the temperature was raised for 0 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面には微細突起が生成
していなかった。No fine projections were formed on the surface of this aromatic polyimide film.
[比較例6] ポリアミック酸の最高加熱温度を340℃(ポリイミド
のTg=350℃)とし、200℃から350℃まで1
5分間で昇温させた以外は実施例10と同様にして、厚
さ43μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。[Comparative Example 6] The maximum heating temperature of the polyamic acid was set to 340 ° C (Tg of polyimide = 350 ° C), and 200 ° C to 350 ° C was set to 1
An aromatic polyimide film having a thickness of 43 μm was prepared in the same manner as in Example 10 except that the temperature was raised for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面には微細突起が生成
していなかった。No fine projections were formed on the surface of this aromatic polyimide film.
[磁気テープ支持体としての評価] 各例にて得られたポリイミドフィルム表面に、真空蒸着
により厚さ0.2μmのCo−Cr合金層を形成して磁
気テープとし、磁気テープの電磁変換特性、走行性およ
び耐久性を前記の方法により評価した。その結果を第3
表に示す。[Evaluation as Magnetic Tape Support] On the surface of the polyimide film obtained in each example, a Co—Cr alloy layer having a thickness of 0.2 μm was formed by vacuum vapor deposition to form a magnetic tape. The runnability and durability were evaluated by the above methods. The result is the third
Shown in the table.
[実施例13] p−フェニレンジアミン(PPD)の使用量を0.12
モルそして4,4'-ジアミノジフェニルエーテル(4,4'−
DADE)の使用量を0.18モルに変え、3,3',4,4'-
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s-BPDA)の
使用量を0.09モル、そしてピロメリット酸二無水物
(PMDA)の使用量を0.21モルに変えた以外は、
実施例1と同様にしてポリアミック酸をを得た。この溶
液の対数粘度(30℃、0.5g/100m、N,N-ジ
メチルアセトアミド)は1.90であり、回転粘度は1
200ポイズ(30℃)であった。 [Example 13] The amount of p-phenylenediamine (PPD) used was 0.12.
Mol and 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-
Change the amount of DADE) to 0.18 mol, and change to 3,3 ', 4,4'-
Except that the amount of biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) used was changed to 0.09 mol and the amount of pyromellitic dianhydride (PMDA) used was changed to 0.21 mol,
A polyamic acid was obtained in the same manner as in Example 1. The logarithmic viscosity (30 ° C., 0.5 g / 100 m, N, N-dimethylacetamide) of this solution is 1.90, and the rotational viscosity is 1.
It was 200 poise (30 ° C.).
上記のポリアミック酸溶液をガラス板上に流延してポリ
アミック酸溶液の皮膜を形成し、その皮膜を120℃の
熱風で20分間乾燥して溶媒を留去して、ポリアミック
酸フィルムを形成した。The polyamic acid solution was cast on a glass plate to form a film of the polyamic acid solution, the film was dried with hot air at 120 ° C. for 20 minutes, and the solvent was distilled off to form a polyamic acid film.
次に、ポリアミック酸フィルムをガラス板からはがし
た。このフィルムの加熱減量は34.7重量%であっ
た。Next, the polyamic acid film was peeled off from the glass plate. The weight loss on heating of this film was 34.7% by weight.
このポリアミック酸フィルムを金属枠にとり付けて、熱
風乾燥器内で200℃から400℃まで20分間で昇温
して、厚さ37μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成
した。なお、この芳香族ポリイミドフィルムのガラス転
移温度は350℃であった。This polyamic acid film was attached to a metal frame, and the temperature was raised from 200 ° C. to 400 ° C. in a hot air drier for 20 minutes to prepare an aromatic polyimide film having a thickness of 37 μm. The glass transition temperature of this aromatic polyimide film was 350 ° C.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は1.
2×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 1.
It was 2 × 10 7 pieces / mm 2 .
[実施例14] ポリアミック酸の最高加熱温度を410℃(ポリイミド
のTg=350℃)とし、200℃から410℃まで2
0分間で昇温させた以外は実施例10と同様にして、厚
さ37μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。Example 14 The maximum heating temperature of polyamic acid was 410 ° C. (Tg of polyimide = 350 ° C.), and 200 ° C. to 410 ° C.
An aromatic polyimide film having a thickness of 37 μm was prepared in the same manner as in Example 10 except that the temperature was raised for 0 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は4.
2×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of this aromatic polyimide film is 4.
It was 2 × 10 7 pieces / mm 2 .
[実施例15] ポリアミック酸の最高加熱温度を450℃(ポリイミド
のTg=350℃)とし、200℃から450℃まで2
5分間で昇温させた以外は実施例10と同様にして、厚
さ37μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。Example 15 The maximum heating temperature of polyamic acid is 450 ° C. (Tg of polyimide = 350 ° C.), and 200 ° C. to 450 ° C.
An aromatic polyimide film having a thickness of 37 μm was prepared in the same manner as in Example 10 except that the temperature was raised for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数は3.
6×107個/mm2であった。The number of fine protrusions on the surface of the aromatic polyimide film is 3.
It was 6 × 10 7 pieces / mm 2 .
[比較例7] ポリアミック酸の最高加熱温度を300℃(ポリイミド
のTg=350℃)とし、200℃から300℃まで1
0分間で昇温させた以外は実施例13と同様にして、厚
さ37μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。[Comparative Example 7] The maximum heating temperature of polyamic acid was set to 300 ° C (Tg of polyimide = 350 ° C), and 200 ° C to 300 ° C was set to 1
An aromatic polyimide film having a thickness of 37 μm was prepared in the same manner as in Example 13 except that the temperature was raised for 0 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面には微細突起が生成
していなかった。No fine projections were formed on the surface of this aromatic polyimide film.
[比較例8] ポリアミック酸の最高加熱温度を340℃(ポリイミド
のTg=350℃)とし、200℃から350℃まで1
5分間で昇温させた以外は実施例13と同様にして、厚
さ43μmの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。[Comparative Example 8] The maximum heating temperature of polyamic acid was set to 340 ° C (Tg of polyimide = 350 ° C), and 200 ° C to 350 ° C was set to 1
An aromatic polyimide film having a thickness of 43 μm was prepared in the same manner as in Example 13 except that the temperature was raised for 5 minutes.
この芳香族ポリイミドフィルム表面には微細突起が生成
していなかった。No fine projections were formed on the surface of this aromatic polyimide film.
[磁気テープ支持体としての評価] 各例にて得られたポリイミドフィルム表面に、真空蒸着
により厚さ0.2μmのCo−Cr合金層を形成して磁
気テープとし、磁気テープの電磁変換特性、走行性およ
び耐久性を前記の方法により評価した。その結果を第4
表に示す。[Evaluation as Magnetic Tape Support] On the surface of the polyimide film obtained in each example, a Co—Cr alloy layer having a thickness of 0.2 μm was formed by vacuum vapor deposition to form a magnetic tape. The runnability and durability were evaluated by the above methods. The result is the fourth
Shown in the table.
[実施例16〜28] p−フェニレンジアミン(PPD)、4,4'-ジアミノフ
ェニルエーテル(4,4'−DADE)、3,3',4,4'-ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物(s-BPDA)、そして
ピロメリット酸二無水物(PMDA)使用量をそれぞれ
第5表に示す使用量に変えた以外は、実施例1と同様に
してポリアミック酸を得た。 [Examples 16 to 28] p-Phenylenediamine (PPD), 4,4'-diaminophenyl ether (4,4'-DADE), 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride ( s-BPDA) and pyromellitic dianhydride (PMDA) were changed to the amounts shown in Table 5, respectively, to obtain a polyamic acid in the same manner as in Example 1.
得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に流延してポ
リアミック酸溶液の皮膜を形成し、その皮膜を120℃
の熱風で20分間乾燥して溶媒を留去して、ポリアミッ
ク酸フィルムを形成したのち、このフィルムをはがした このポリアミック酸フィルムを金属枠にとり付けて、熱
風乾燥器内で200℃から第5表記載の最高温度まで2
0分間(最高温度が400℃および410℃の場合)、
あるいは25分間(最高温度が450℃の場合)で昇温
して、第5表に記載の厚さを有する芳香族ポリイミドフ
ィルムを作成した。The resulting polyamic acid solution is cast on a glass plate to form a film of the polyamic acid solution, and the film is formed at 120 ° C.
After drying for 20 minutes with hot air to evaporate the solvent to form a polyamic acid film, this film was peeled off. This polyamic acid film was attached to a metal frame and heated from 200 ° C to 5 2 to the maximum temperature shown in the table
0 minutes (when the maximum temperature is 400 ° C and 410 ° C),
Alternatively, the temperature was raised for 25 minutes (when the maximum temperature was 450 ° C.) to prepare an aromatic polyimide film having a thickness shown in Table 5.
得られた芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起数を
第5表に示す。The number of fine projections on the surface of the obtained aromatic polyimide film is shown in Table 5.
なお実施例16〜28にて得られたポリイミドフィルム
表面に、真空蒸着により厚さ0.2μmのCo−Cr合
金層を形成して磁気テープとし、磁気テープの電磁変換
特性、走行性および耐久性を前記の方法により評価した
ところ、いずれの項目についてもAの評価が得られた。A 0.2 μm-thick Co—Cr alloy layer was formed on the surface of the polyimide film obtained in Examples 16 to 28 to form a magnetic tape, and the electromagnetic conversion characteristics, running property and durability of the magnetic tape were measured. Was evaluated by the above method, the evaluation of A was obtained for all the items.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29K 79:00 B29L 7:00 4F C08L 79:00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location // B29K 79:00 B29L 7:00 4F C08L 79:00
Claims (7)
5〜85モル%のビフェニルテトラカルボン酸類と85
〜15モル%のピロメリット酸類とからなる芳香族テト
ラカルボン酸成分と、全芳香族ジアミン成分に対して3
0〜100モル%のフェニレンジアミン類と70〜0モ
ル%のジアミノジフェニルエーテル類とからなる芳香族
ジアミン成分から得られた芳香族ポリイミドフィルムで
あって、フィルム表面に直径0.02〜2μmの微細突
起が104〜108個/mm2の範囲の数にて存在するこ
とを特徴とする粗面化ポリイミドフィルム。1. A total aromatic tetracarboxylic acid component relative to 1
5-85 mol% biphenyl tetracarboxylic acids and 85
Aromatic tetracarboxylic acid component consisting of ~ 15 mol% of pyromellitic acid, and 3 with respect to wholly aromatic diamine component
An aromatic polyimide film obtained from an aromatic diamine component consisting of 0 to 100 mol% of phenylenediamines and 70 to 0 mol% of diaminodiphenyl ethers, wherein fine projections having a diameter of 0.02 to 2 μm are formed on the film surface. Is present at a number in the range of 10 4 to 10 8 pieces / mm 2 , a roughened polyimide film.
の微細突起の数が105〜108個/mm2の範囲にある
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の粗面化ポ
リイミドフィルム。2. A diameter of the film surface of 0.02 to 2 μm
2. The roughened polyimide film according to claim 1, wherein the number of the fine protrusions is in the range of 10 5 to 10 8 pieces / mm 2 .
の微細突起の数が106〜108個/mm2の範囲にある
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の粗面化ポ
リイミドフィルム。3. The film surface has a diameter of 0.02 to 2 μm.
2. The roughened polyimide film according to claim 1, wherein the number of fine protrusions is in the range of 10 6 to 10 8 / mm 2 .
らなることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第3
項のいずれかの項記載の粗面化ポリイミドフィルム。4. The first to third aspects of the present invention, wherein the fine protrusions are substantially made of polyimide.
The roughened polyimide film according to any one of the items.
5〜85モル%のビフェニルテトラカルボン酸類と85
〜15モル%のピロメリット酸類とからなる芳香族テト
ラカルボン酸成分と、全芳香族ジアミン成分に対して3
0〜100モル%のフェニレンジアミン類と70〜0モ
ル%のジアミノジフェニルエーテル類とからなる芳香族
ジアミン成分から得られたポリアミック酸を加熱するこ
とにより芳香族ポリイミドフィルムを製造するに際し
て、上記加熱工程における最高加熱温度を、得られる芳
香族ポリイミドフィルムのガラス転移温度よりも高くす
ることを特徴とする、フィルム表面に直径0.02〜2
μmの微細突起が104〜108個/mm2の範囲の数に
て存在する粗面化ポリイミドフィルムの製造法。5. One for every wholly aromatic tetracarboxylic acid component.
5-85 mol% biphenyl tetracarboxylic acids and 85
Aromatic tetracarboxylic acid component consisting of ~ 15 mol% of pyromellitic acid, and 3 with respect to wholly aromatic diamine component
In producing an aromatic polyimide film by heating a polyamic acid obtained from an aromatic diamine component consisting of 0 to 100 mol% of phenylenediamines and 70 to 0 mol% of diaminodiphenyl ethers, in the above heating step, The maximum heating temperature is set higher than the glass transition temperature of the aromatic polyimide film obtained, and the diameter of the film surface is 0.02 to 2
A method for producing a roughened polyimide film, wherein the number of micron-sized fine protrusions is 10 4 to 10 8 / mm 2 .
イミドフィルムのガラス転移温度よりも20℃以上高く
することを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の粗面
化ポリイミドフィルムの製造法。6. The method for producing a roughened polyimide film according to claim 5, wherein the maximum heating temperature is set to 20 ° C. or more higher than the glass transition temperature of the obtained aromatic polyimide film. .
イミドフィルムのガラス転移温度よりも30〜200℃
高くすることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の
粗面化ポリイミドフィルムの製造法。7. The maximum heating temperature is 30 to 200 ° C. higher than the glass transition temperature of the aromatic polyimide film obtained.
The method for producing a surface-roughened polyimide film according to claim 5, wherein the height is increased.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61106241A JPH062827B2 (en) | 1986-05-08 | 1986-05-08 | Roughened polyimide film and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61106241A JPH062827B2 (en) | 1986-05-08 | 1986-05-08 | Roughened polyimide film and method for producing the same |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9428795A Division JP2722333B2 (en) | 1995-03-27 | 1995-03-27 | Manufacturing method of roughened polyimide film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62263230A JPS62263230A (en) | 1987-11-16 |
| JPH062827B2 true JPH062827B2 (en) | 1994-01-12 |
Family
ID=14428617
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61106241A Expired - Lifetime JPH062827B2 (en) | 1986-05-08 | 1986-05-08 | Roughened polyimide film and method for producing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062827B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2039715A4 (en) * | 2006-07-06 | 2010-07-21 | Toray Industries | Thermoplastic polyimide, and laminated polyimide film and metal foil-laminated polyimide film using the thermoplastic polyimide |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60139755A (en) * | 1983-12-27 | 1985-07-24 | Ube Ind Ltd | Electrical insulating composition |
| JPH0618068A (en) * | 1991-05-27 | 1994-01-25 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Thermal storage cooling or heating method |
-
1986
- 1986-05-08 JP JP61106241A patent/JPH062827B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62263230A (en) | 1987-11-16 |
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