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JPH06293B2 - 試料ステ−ジの上下駆動機構 - Google Patents
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JPH06293B2 - 試料ステ−ジの上下駆動機構 - Google Patents

試料ステ−ジの上下駆動機構

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Publication number
JPH06293B2
JPH06293B2 JP9340986A JP9340986A JPH06293B2 JP H06293 B2 JPH06293 B2 JP H06293B2 JP 9340986 A JP9340986 A JP 9340986A JP 9340986 A JP9340986 A JP 9340986A JP H06293 B2 JPH06293 B2 JP H06293B2
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JP
Japan
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sample stage
base
rotational force
stage
feed gear
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JP9340986A
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JPS62250341A (ja
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秀一 近松
昌幸 蜂谷
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Hitachi High Tech Corp
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Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体用ウエハ、ホトマスク等の試料の微細
欠陥(異物、キズなど)をレーザ等の光ビームで検査す
る表面検査装置において上記試料を載せて焦点合せをす
る試料ステージの上下駆動機構に関し、特に試料ステー
ジを横揺れすることなく正しく上下移動することができ
る試料ステージの上下駆動機構に関する。
従来の技術 従来の試料ステージの上下駆動機構は、第4図に示すよ
うに、駆動源としてのモータ1と、このモータ1の駆動
軸に取り付けられた駆動ギア2に噛み合って回転されベ
ース5に対して上下方向には移動せず鉛直軸周りに回転
のみ可能に設けられた送り用ギア3と、この送り用ギア
3の中心部に形成された雌ネジに螺合する雄ネジを有す
るステージ軸4の上端に取り付けられ上記送り用ギア3
の回転によりベース5に対して上昇または下降する試料
ステージ6とを有して成っていた。そして、モータ1を
駆動して駆動ギア2を回転することにより送り用ギア3
が回転し、この送り用ギア3の回転によりステージ軸4
が矢印A,B方向に上昇または下降し、その上端の試料
ステージ6が上昇または下降するようになっていた。な
お、第4図において、符号7はステージ軸4の下部を保
持するガイドである。ここで、上記試料ステージ6の上
面には、半導体ウエハ、ホトマスク等の試料8がセット
されており、この試料8の上方には表面検査のための光
学系の対物レンズ(図示省略)が固定されている。そし
て、上記試料ステージ6の全体を一平面内でX−Y方向
に順次移動させると共に、該試料ステージ6を上下移動
することにより上記試料8の表面に対物レンズの焦点合
せをしながら光学系で検出して二次元画像を構成し、欠
陥マップ図などで出力して表面検査を行っていた。この
場合、上記半導体ウエハ、ホトマスク等の試料8の表面
は完全に平らではなく微小な起伏があり、この起伏に対
して常に対物レンズの焦点合せをしなければならない。
従って、上記X−Y方向の移動による起伏の変化に追従
して試料ステージ6を上昇または下降させるようになっ
ていた。
発明が解決しようとする問題点 しかし、このような試料ステージの上下駆動機構におい
ては、送り用ギア3の中心部の雌ネジが試料ステージ6
のステージ軸4の雄ネジに直接螺合しているので、モー
タ1を駆動して駆動ギア2を回転させると、その回転力
は上記ステージ軸4の上部に直接作用するものであっ
た。すなわち、第5図に示すように、駆動ギア2の回転
により、送り用ギア3にはその円周の接線方向にトルク
Tが働き、このトルクTがステージ軸4の上部に直接作
用して該ステージ軸4が弾性変形してやや曲がり、この
結果試料ステージ6が矢印Cのように横方向に微小変位
(約1ミクロン程度)すると共にやや傾斜するものであ
った。従って、上述のように光学系で試料8の表面に対
物レンズの焦点合せをしながら検出して二次元画像を構
成する際に、上記試料ステージ6の微小変位と共に試料
8も横方向に移動し、該試料8から取り込んだ隣り同士
の画像位置に狂いが生じて二次元画像が正しく構成でき
ないことがあった。このことから、表面検査のための欠
陥マップ図の精度が低下するものであった。また、上記
試料ステージ6を対物レンズのオートフォーカス回路と
連動させたときは、該試料ステージ6の上下移動に従っ
て試料ステージ6がやや傾斜することから、目標位置に
対する追従動作が直線性を有さず動揺的になることがあ
り、試料8の表面に対する焦点合せに時間がかかるもの
であった。そこで、本発明はこのような問題点を解決す
ることを目的とする。
問題点を解決するための手段 上記の問題点を解決する本発明の手段は、ベースと、こ
のベースに対して上下方向には移動せず鉛直軸周りに回
転のみ可能に設けられた送り用ギアと、この送り用ギア
を回転させる駆動源と、上記送り用ギアの回転によりベ
ースに対して上昇または下降する試料ステージとを有し
て成る試料ステージの上下駆動機構において、上記送り
用ギアの下面側に短寸円筒状の回転力伝達部を設けると
共に、この回転力伝達部の内周面の少なくとも二箇所に
は内向きに回転力の伝達部材を突設し、上記回転力伝達
部の内側には有底円筒状に形成されて該回転力伝達部の
円筒状内部に嵌合されると共にその側壁の上記伝達部材
と対応する箇所には上下方向に伸びる切欠溝が形成され
且つその底面中央部には下方に突出したネジ支軸を有す
る昇降部材を設け、このネジ支軸を上記ベースの底部中
央部に形成されたネジ穴に螺合すると共に上記切欠溝を
回転力伝達部の伝達部材と上下方向の遊びをもって係合
することによりベースに対して昇降部材を上昇または下
降可能とし、さらにこの昇降部材により上記試料ステー
ジのステージ軸の底面をフローティング機構で支えたこ
とによってなされる。
実施例 以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて詳細に説明
する。
第1図は本発明による試料ステージの上下駆動機構の実
施例を示す中央縦断面図である。図において、ベース1
0は本発明の上下駆動機構を保持する基部材となるもの
で、このベース10の底部中央部には、昇降部材11が
上昇または下降可能に設けられている。この昇降部材1
1は、後述の送り用ギア15によって回転されて上記ベ
ース10に対して上昇または下降するもので、第2図に
示すように、有底で背の低い円筒状に形成されると共
に、その側壁の対向する二箇所には上縁から上下方向に
伸びる切欠溝としてU形溝12,12が穿設され、かつ
その底面中央部には雄ネジを形成した支軸13が下方に
突出している。そして、この支軸13を上記ベース10
の底部中央部に形成されたネジ穴14に螺合することに
より、昇降可能とされている。
上記昇降部材11の外側面には、送り用ギア15が嵌合
している。この送り用ギア15は、駆動源としてのモー
タ1によって回転されると共にこの回転力を上記昇降部
材11に伝達するもので、第2図に示すように、中央部
がくり抜かれたドーナツ板状の歯車に形成されると共
に、このドーナツ板状の歯車の下面側にはその内径が上
記昇降部材11の外径よりも大きい短寸円筒状の回転力
伝達部16が設けられ、かつこの回転力伝達部16の内
周面にて上記昇降部材11のU形溝12,12の位置に
対応する対向二箇所には回転力の伝達部材としてピン1
7,17が内向きに突設されている。そして、このピン
17,17を上記昇降部材11のU形溝12,12に位
置合せして回転力伝達部16を嵌合することにより、上
記ピン17とU形溝12とが上下方向の遊びをもって係
合している。また、上記送り用ギア15の外周面には、
ギア歯18が形成されており、このギア歯18にモータ
1の駆動軸に取り付けられた駆動ギア2が噛み合うこと
により、送り用ギア15が前記ベース10に対して上下
方向には移動せず鉛直軸周りに回転のみ可能に設けられ
ている。
上記ベース10の中央部には、試料ステージ19が支持
されている。この試料ステージ19は、表面検査の対象
物である半導体用ウエハ、ホトマスク等の試料8をその
上面にセットして上昇または下降するもので、上記試料
ステージ19の下面中央部から下方に伸びるステージ軸
20の底部が前記昇降部材11内に嵌合してその底面が
鋼球21を介して昇降部材11の内部底面によりフロー
ティング機構で支えられると共に、該ステージ軸20の
上部側面は上記ベース10の上部材10′の中央開口部
に設けられたベアリング22,22により上下動可能に
保持されている。従って、上記試料ステージ19のステ
ージ軸20は、駆動ギア2で回転される送り用ギア15
に直結されることなく、中間に昇降部材11が介在して
いると共にこの昇降部材11に対して鋼球21によりフ
ローティング機構で支えられているので、上記ステージ
軸20には上下方向の力しか作用しない。
次に、このように構成された試料ステージの上下駆動機
構の動作について説明する。初めに、試料ステージ19
の上面に検査対象物である試料8をセットする。そし
て、上記試料ステージ19の全体を適宜X−Y方向に移
動したところで、その点における試料8の表面に対物レ
ンズの焦点を合せるために試料ステージ19を上昇また
は下降させる。すなわち、まず、モータ1を駆動して駆
動ギア2を回転させる。すると、この駆動ギア2にギア
歯18が噛み合っている送り用ギア15が回転される。
そして、上記送り用ギア15の回転と共にその下面側に
設けられた回転力伝達部16の内向きのピン17,17
も回転するので、このピン17,17とU形溝12,1
2との係合により回転力が伝達され、昇降部材11も上
記送り用ギア15と共に回転する。このとき、上記ピン
17,17が上下方向の動きをしたとしても、U形溝1
2,12の切り欠き部によりその動きを逃げることがで
きるので、上記昇降部材11には回転力のみが伝達され
る。次に、この昇降部材11の回転と共にその底面の支
軸13も回転するので、この支軸13とベース10のネ
ジ穴14との螺合により上記昇降部材11の全体は上昇
または下降する。この昇降部材11の上下移動は鋼球2
1を介してステージ軸20の底面に伝達され、該ステー
ジ軸20を上昇または下降させる。従って、上記ステー
ジ軸20の上端に設けられた試料ステージ19が上昇ま
たは下降し、その上面にセットされた試料8が上下移動
する。これにより、上記試料8の上方に固定された光学
系の対物レンズの焦点に合せることができる。
発明の効果 本発明は以上のように構成されたので、モータ1で回転
される送り用ギア15と試料ステージ19のステージ軸
20とを直結することなく、上記試料ステージ19を上
昇または下降させることができる。従って、上記送り用
ギア15に働くトルク等は上記フローティング機構です
べて吸収され、上記ステージ軸20には昇降部材11に
よる上下方向の動きしか伝達されない。このことによ
り、試料ステージ19を横揺れすることなく正しく上下
移動することができる。この結果、上記試料ステージ1
9をX−Y方向に順次移動させながら上下移動して対物
レンズの焦点合せをしても、試料8から取り込んだ画像
により二次元画像を正しく構成することができ、表面検
査のための欠陥マップ図の精度を向上することができ
る。また、上記試料ステージ19を対物レンズのオート
フォーカス回路と連動させた場合は、目標位置に対する
追従動作が直線性を有する動きとなり、試料8の表面に
対する焦点合せを短時間に行うことができる。さらに、
上記追従動作の直線性から、焦点合せの精度を向上する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による試料ステージの上下駆動機構の実
施例を示す中央縦断面図、第2図はその送り用ギアと昇
降部材の形状を示す分解組立斜視図、第3図は送り用ギ
アと昇降部材の位置関係を示す平面図、第4図は従来の
試料ステージの上下駆動機構を示す中央縦断面図、第5
図はその平面図である。 1…モータ 2…駆動ギア 8…試料 10…ベース 11…昇降部材 12…U形溝 13…支軸 14…ネジ穴 15…送り用ギア 16…回転力伝達部 17…ピン(伝達部材) 19…試料ステージ 20…ステージ軸 21…鋼球

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ベースと、このベースに対して上下方向に
    は移動せず鉛直軸周りに回転のみ可能に設けられた送り
    用ギアと、この送り用ギアを回転させる駆動源と、上記
    送り用ギアの回転によりベースに対して上昇または下降
    する試料ステージとを有して成る試料ステージの上下駆
    動機構において、上記送り用ギアの下面側に短寸円筒状
    の回転力伝達部を設けると共に、この回転力伝達部の内
    周面の少なくとも二箇所には内向きに回転力の伝達部材
    を突設し、上記回転力伝達部の内側には有底円筒状に形
    成されて該回転力伝達部の円筒状内部に嵌合されると共
    にその側壁の上記伝達部材と対応する箇所には上下方向
    に伸びる切欠溝が形成され且つその底面中央部には下方
    に突出したネジ支軸を有する昇降部材を設け、このネジ
    支軸を上記ベースの底部中央部に形成されたネジ穴に螺
    合すると共に上記切欠溝を回転力伝達部の伝達部材と上
    下方向の遊びをもって係合することによりベースに対し
    て昇降部材を上昇または下降可能とし、さらにこの昇降
    部材により上記試料ステージのステージ軸の底面をフロ
    ーティング機構で支えたことを特徴とする試料ステージ
    の上下駆動機構。
JP9340986A 1986-04-24 1986-04-24 試料ステ−ジの上下駆動機構 Expired - Lifetime JPH06293B2 (ja)

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JPS62250341A JPS62250341A (ja) 1987-10-31
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JP5014170B2 (ja) * 2008-01-16 2012-08-29 ミツテック株式会社 ワーク外観検査装置

Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101904721B1 (ko) * 2017-08-28 2018-10-16 주식회사 태웅 조미니 시험장치
WO2019045216A1 (ko) * 2017-08-28 2019-03-07 주식회사 태웅 조미니 시험장치

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JPS62250341A (ja) 1987-10-31

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