JPH0634390B2 - EL display device - Google Patents
EL display deviceInfo
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- JPH0634390B2 JPH0634390B2 JP61114852A JP11485286A JPH0634390B2 JP H0634390 B2 JPH0634390 B2 JP H0634390B2 JP 61114852 A JP61114852 A JP 61114852A JP 11485286 A JP11485286 A JP 11485286A JP H0634390 B2 JPH0634390 B2 JP H0634390B2
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- Japan
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- film
- glass substrate
- substrate
- transparent
- refractive index
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、電界の印加によってEL(エレクトロ・ルミ
ネッセンス)発光を生ずるEL表示装置に関するもので
あり、特にガラス基板表面からの反射を抑制する技術に
関するものである。The present invention relates to an EL display device that produces EL (electroluminescence) light emission by applying an electric field, and more particularly to a technique for suppressing reflection from a glass substrate surface.
従来の薄膜ELパネルとしては、例えば、第3図に示す
ごときものがある(例えば、実願昭57−182595号に記
載)。As a conventional thin film EL panel, for example, there is one as shown in FIG. 3 (for example, described in Japanese Patent Application No. 57-182595).
第3図において、ガラス基板1の上には、In2O3やS
nO2等の透明導電膜からなる前面電極2(膜厚約2000
Å)が蒸着され、続いてY2O3やSi3N4等からなる
第1誘電体膜3、Mnを微量に含むZnSからなる発光膜4
および第1誘電体膜3と同様の材質からなる第2誘電体
膜5が電子ビーム蒸着あるいはスパッタリングによって
順次積層されており、上記の3〜5が透明多層膜100 を
形成している。なお、それぞれの膜厚は誘電体膜が5000
Å、発光膜6000Å程度である。In FIG. 3, In 2 O 3 and S are formed on the glass substrate 1.
Front electrode 2 made of a transparent conductive film such as nO 2 (film thickness of about 2000
Å) is vapor-deposited, followed by a first dielectric film 3 made of Y 2 O 3 , Si 3 N 4, etc., and a light emitting film 4 made of ZnS containing a small amount of Mn.
The second dielectric film 5 made of the same material as the first dielectric film 3 is sequentially laminated by electron beam evaporation or sputtering, and the above 3 to 5 form the transparent multilayer film 100. The thickness of each dielectric film is 5000
Å, luminescent film is about 6000Å.
次に、上記の第2誘電体膜5の上に、質量膜厚が50〜30
0ÅのMo膜からなる島状吸収体膜6を電子ビーム蒸着あ
るいはスパッタリングによって形成する。なお、この島
状吸収体膜6は、島状構造をもつ他の金属膜や半導体
膜、例えば、Ta, Cr,Si等で代替することも可能であ
る。Next, a mass film thickness of 50 to 30 is formed on the second dielectric film 5 described above.
The island-shaped absorber film 6 made of a 0Å Mo film is formed by electron beam evaporation or sputtering. The island-shaped absorber film 6 can be replaced with another metal film or semiconductor film having an island-shaped structure, for example, Ta, Cr, Si or the like.
上記の島状吸収体膜6の上に、5000Å程度の膜厚をもつ
Al2O3等の透明誘電体膜7を形成し、さらにその上にAl
等の金属膜8を蒸着あるいはスパッタリングによって順
次積層する。A film thickness of about 5000Å is formed on the island-shaped absorber film 6 described above.
A transparent dielectric film 7 such as Al 2 O 3 is formed, and Al is formed on the transparent dielectric film 7.
A metal film 8 of the like is sequentially laminated by vapor deposition or sputtering.
上記の6〜8が黒色化背面電極200を形成している。The above 6 to 8 form the blackened back electrode 200.
また、上記の前面電極2および黒色化背面電極200は、
通常のフォトリソグラフィによって、所望の表示形状に
対応した形状にパターニングする。In addition, the front electrode 2 and the blackened rear electrode 200 described above are
Patterning into a shape corresponding to a desired display shape is performed by ordinary photolithography.
上記のようにして、ガラス基板上に薄膜EL素子を形成
したEL表示装置が完成する。As described above, the EL display device in which the thin film EL element is formed on the glass substrate is completed.
上記のごときEL表示装置の前面電極2と黒色化背面電
極200との間に交流電圧を印加し、発光膜4中の電界が
1〜2×106V/cmに達すると、上記両電極に挟まれ
た部分が発光し、図形が表示される。When an AC voltage is applied between the front electrode 2 and the blackened back electrode 200 of the EL display device as described above, and the electric field in the light emitting film 4 reaches 1 to 2 × 10 6 V / cm, the electrodes are applied to both electrodes. The sandwiched part emits light and a graphic is displayed.
なお、上記のEL表示装置において、外部から透明多層
膜100を通って黒色化背面電極200に侵入した外来光は、
島状吸収体膜6及び透明誘電体膜7によって吸収され
る。したがって、黒色化背面電極200による正反射及び
拡散反射は、Al等の金属のみで背面電極を形成した場合
に比較して、それぞれ1/100以下であり、上記のごと
き構成によって背面電極の反射で視認性が低下するとい
う問題を解決している。In the above EL display device, external light that has entered the blackened back electrode 200 from the outside through the transparent multilayer film 100 is
It is absorbed by the island-shaped absorber film 6 and the transparent dielectric film 7. Therefore, the specular reflection and diffuse reflection by the blackened back electrode 200 are 1/100 or less, respectively, as compared with the case where the back electrode is formed only by a metal such as Al, and the reflection of the back electrode by the above configuration is It solves the problem of reduced visibility.
上記のごとき従来のEL表示装置においては、ガラス基
板1の屈折率と空気の屈折率との差がかなり大きいた
め、ガラス基板1の表面で正反射が強く起こり、明るい
環境下で利用した場合には、観測者の目に観測者自身の
姿が写ったり、あるいは周囲の景色が写ったりして表示
が見にくいばかりでなうく不快感を与えるという問題が
あった。In the conventional EL display device as described above, since the difference between the refractive index of the glass substrate 1 and the refractive index of air is quite large, specular reflection occurs strongly on the surface of the glass substrate 1, and when used in a bright environment. Had a problem in that the display of the observer himself or the surrounding scenery was not visible, and the display was not easy to see, which caused a lot of discomfort.
上記の課題を解決するため、ELパネルのガラス基板1
の前面に反射防止膜を直接設けることも考えられる。し
かし、その場合には、反射防止膜を形成する際にELパ
ネルの温度が上昇するため、歩留まりが悪化するという
問題が生じる。In order to solve the above problems, a glass substrate 1 of an EL panel
It is also possible to directly provide an antireflection film on the front surface of. However, in that case, since the temperature of the EL panel rises when the antireflection film is formed, there arises a problem that the yield is deteriorated.
本発明は、上記のごとき従来技術の問題を解決するため
になされたものであり、ガラス基板の表面における反射
を防止して明るい環境下でも表示が見やすく、かつ製造
歩留まりのよいEL表示装置を提供することを目的とす
るものである。The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art as described above, and provides an EL display device that prevents reflection on the surface of a glass substrate, makes it easy to see the display even in a bright environment, and has a good manufacturing yield. The purpose is to do.
上記の目的を達成するため、本発明においては、ガラス
基板の一方の面に薄膜EL素子を形成したELパネル
と、上記のガラス基板と同一屈折率を有する透明基板の
一方の面に反射防止膜を形成した正反射抑制体とを上記
ガラス基板とほぼ同一屈折率を有する透明体を介して上
記薄膜EL素子の形成面と反射防止膜の形成面とが相互
に背中合わせになるように平行に配設している。To achieve the above object, in the present invention, an EL panel having a thin film EL element formed on one surface of a glass substrate, and an antireflection film on one surface of a transparent substrate having the same refractive index as the above glass substrate. And the regular reflection suppressor having the above-mentioned structure are arranged in parallel so that the thin film EL element formation surface and the antireflection film formation surface are back-to-back with each other through a transparent body having substantially the same refractive index as the glass substrate. I have set up.
上記のごとく構成したことにより、本発明においては、
反射防止膜によって外来光の反射が抑制され、また、正
反射抑制体の基板とELパネルのガラス基板とは同一の
屈折率を有し、かつ、間に設けられている透明体もほぼ
同一の屈折率を有するので、それらの部分からの反射は
ほどんどなく、したがって、外来光の反射を大幅に抑制
したEL表示装置を実現することが出来る。According to the present invention, which is configured as described above,
The reflection of external light is suppressed by the antireflection film, and the substrate of the regular reflection suppressor and the glass substrate of the EL panel have the same refractive index, and the transparent bodies provided between them are also substantially the same. Since it has a refractive index, there is almost no reflection from those portions, and therefore, it is possible to realize an EL display device in which reflection of external light is significantly suppressed.
また、ELパネルと正反射抑制体とを別個に構成し、そ
の後に組み合わせるように構成しているので、製造時に
ELパネルの温度上昇によって歩留まりが悪化する、と
いう問題を生じることもない。Further, since the EL panel and the specular reflection suppressor are separately configured and then combined, there is no problem that the yield is deteriorated due to the temperature rise of the EL panel during manufacturing.
第1図は本発明の一実施例の主要部断面図であり、前記
第3図と同符号は同一物を示す。FIG. 1 is a sectional view of a main part of an embodiment of the present invention, and the same reference numerals as those in FIG. 3 denote the same parts.
第1図において、基板21はガラス基板と同一の屈折率を
有する透明体であり、例えば、ガラス基板1と同一のガ
ラス基板を用いればよい。In FIG. 1, the substrate 21 is a transparent body having the same refractive index as the glass substrate, and for example, the same glass substrate as the glass substrate 1 may be used.
また、基板21の表面には反射防止膜400が形成されてい
る。Further, an antireflection film 400 is formed on the surface of the substrate 21.
この反射防止膜400としては、例えば基板21が屈折率n
=1.52のソーダガラスの場合には、屈折率n1=1.70の
CeF322と、屈折率n2=2.1のZrO2O223と、屈折
率n3=1.38のMgF224とをそれぞれ順に920Å程
度、1200Å程度、750Å程度の膜厚で積層した、いわゆ
るλ0/4−λ0/2−λ0/4型の三層反射防止膜を用
いることが出来る。As the antireflection film 400, for example, the substrate 21 has a refractive index n.
= 1.52 soda glass, CeF 3 22 with a refractive index n 1 = 1.70, ZrO 2 O 2 23 with a refractive index n 2 = 2.1, and MgF 2 24 with a refractive index n 3 = 1.38 are in order respectively. about 920 Å, about 1200 Å, was laminated with a film thickness of about 750 Å, called λ 0/4-λ 0/ 2-λ 0/4 type three-layer anti-reflection film can be used.
上記の三層反射防止膜は、例えば、電子ビーム蒸着法、
あるいは抵抗線加熱蒸着法によって形成する。The above three-layer antireflection film, for example, electron beam evaporation method,
Alternatively, it is formed by a resistance wire heating vapor deposition method.
上記のようにして基板21の上に反射防止膜400 を形成し
た正反射抑制体500を形成する。As described above, the regular reflection suppressor 500 having the antireflection film 400 formed on the substrate 21 is formed.
次に、ELパネル300と正反対抑制体500とを、四隅に設
置した厚さ約0.3mm、縦3mm、横3mmのスペーサ25を介
して、蒸着面が相互に背中合わせになるように平行に配
置した後、基板21の周囲に沿ってエポキシ系の接着剤26
を添付して固着する。Next, the EL panel 300 and the diametrically opposite suppressor 500 are arranged in parallel so that the vapor deposition surfaces are back to back with each other through the spacers 25 having a thickness of about 0.3 mm, a length of 3 mm, and a width of 3 mm installed at the four corners. Then, an epoxy adhesive 26 is applied along the periphery of the substrate 21.
Attach and fix.
ただし、ガラス基板1と基板21との間には後述する透明
体28を注入するために、1個所だけ接着剤を付与しない
部分、すなわち注入孔(図示せず、例えば約1mmの大き
さ)を設けるものとする。However, in order to inject a transparent body 28, which will be described later, between the glass substrate 1 and the substrate 21, there is only one portion where an adhesive is not applied, that is, an injection hole (not shown, for example, a size of about 1 mm). Shall be provided.
次に、上記の注入孔から、屈折率がガラス基板1および
基板21とほぼ同一でしかも透明な液体27を注入し、ガラ
ス基板1と基板21とで形成される空間を完全に満たした
後、注入孔を前記と同様のエポキシ系接着剤で封止す
る。Next, a transparent liquid 27 having a refractive index substantially the same as that of the glass substrate 1 and the substrate 21 is injected from the above injection hole to completely fill the space formed by the glass substrate 1 and the substrate 21. The injection hole is sealed with the same epoxy adhesive as above.
上記の透明な液体27としては、例えば、ガラス基板1お
よび基板21が屈折率1.52のソーダガラスの場合には、シ
リコンオイル(例えば、信越化学工業株式会社のKF5
1、屈折率n=1.51)を用いることが出来る。Examples of the transparent liquid 27 include silicon oil (for example, KF5 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) when the glass substrate 1 and the substrate 21 are soda glass having a refractive index of 1.52.
1, the refractive index n = 1.51) can be used.
注入の方法としては、注入孔をシリコンオイル中に沈め
たままで減圧し、ガラス基板1と基板21との間の空気を
完全に排気した後、再び大気圧に戻すことによって気圧
差を利用してシリコンオイルを間隙内に注入する方法を
用いることが出来る。As the injection method, the pressure difference is utilized by reducing the pressure while the injection hole is submerged in the silicone oil, completely exhausting the air between the glass substrate 1 and the substrate 21, and then returning to the atmospheric pressure again. A method of injecting silicone oil into the gap can be used.
上記のようにして第1図のEL表示装置が完成する。The EL display device of FIG. 1 is completed as described above.
次に、作用を説明する。Next, the operation will be described.
外部からEL表示装置の反射防止膜400に到達した環境
光Iのうち、ごく一部が反射光I1として反射するが、
ほとんどはそのまま通り抜け、基板21と透明体27との境
界面に進む。Of the ambient light I that reaches the antireflection film 400 of the EL display device from the outside, a small part is reflected as the reflected light I 1 .
Most of them pass through as they are, and proceed to the boundary surface between the substrate 21 and the transparent body 27.
しかし、基板21と透明体27とは屈折率がほぼ同じであ
り、言い替えれば光学的に同質なため、この面での正反
射は全く起こらず直進する。However, since the substrate 21 and the transparent body 27 have substantially the same refractive index, in other words, they have the same optical quality, and therefore go straight without causing regular reflection at this surface.
また、透明体27とガラス基板1との境界面でも上記と同
様に無反射のまま透過する。Further, also at the boundary surface between the transparent body 27 and the glass substrate 1, the light is transmitted without reflection as in the above.
上記にようにして薄膜EL素子に侵入した透過光I1′
は、最終的には黒色化背面電極200に吸収されて消滅す
る。The transmitted light I 1 ′ entering the thin film EL device as described above
Is finally absorbed by the blackened back electrode 200 and disappears.
第1図の実施例の場合、EL表示装置の表面で観測者側
に反射する光は、反射防止膜で反射する微弱な反射光I
1のみである。In the case of the embodiment shown in FIG. 1, the light reflected on the observer side by the surface of the EL display device is a weak reflected light I reflected by the antireflection film.
1 only.
これに対して、前記第3図のごとき従来のEL表示装置
においては、ガラス基板1の表面で反射する光I2はか
なり大きくなる。On the other hand, in the conventional EL display device as shown in FIG. 3, the light I 2 reflected on the surface of the glass substrate 1 is considerably large.
第2図は、第1図に示す本実施例と第3図に示す従来の
EL表示装置との可視光域における正反射の強さを比較
した図であり、外来光をガラス基板1の法線方向から入
射させた場合を示している。FIG. 2 is a diagram comparing the intensity of regular reflection in the visible light region between the present embodiment shown in FIG. 1 and the conventional EL display device shown in FIG. The case where the light is incident from the line direction is shown.
第2図から判るように、本発明のEL表示装置の反射率
は、可視光域の広い範囲にわたって従来の1/5以下に
低下している。As can be seen from FIG. 2, the reflectance of the EL display device of the present invention is reduced to ⅕ or less of the conventional value over a wide visible light range.
すなわち、ELパネルを同じ輝度で点灯した場合、約5
倍の明るさの環境下においても同じ見やすさを確保出来
ることを意味している。That is, when the EL panel is lit with the same brightness, about 5
This means that it is possible to ensure the same legibility even in an environment with double the brightness.
なお、前記第1図の実施例においては、反射防止膜とし
ていわゆるλ0/4−λ0/2−λ0/4型の三層反射防
止膜を用いが、これに限られるものではなく、例えば、
さらにEL表示装置の反射率を低下させたい場合には、
より多層にした反射防止膜を用いることが出来る。Incidentally, the in the embodiment of FIG. 1, using a so-called λ 0/4-λ 0/ 2-λ 0/4 type three-layer anti-reflection film as an antireflection film is not limited thereto, For example,
To further reduce the reflectance of the EL display device,
A more multilayer antireflection film can be used.
例えば、屈折率n=1.52の基板21に近い方から順に、M
gF2(n1=1.38)、ThF4(n2=1.53)、ZnS(n3
=2.35)、およびMgF2(n4=1.38)をそれぞれ920
Å、1085Å、830Å、920Åの膜厚で堆積させた四層反射
防止膜を用いた場合には、EL表示装置の正反射率を従
来の1/10以下にすることが出来る。For example, from the side closer to the substrate 21 having a refractive index n = 1.52, M
gF 2 (n 1 = 1.38), ThF 4 (n 2 = 1.53), ZnS (n 3
= 2.35) and MgF 2 (n 4 = 1.38) 920 respectively
When a four-layer antireflection film deposited with a film thickness of Å, 1085Å, 830Å, 920Å is used, the regular reflectance of the EL display device can be reduced to 1/10 or less of the conventional value.
また、環境光がさほど強くない場所で利用されるEL表
示装置の場合には、反射率の抑制度は低下するが、製造
コストの安い単層反射防止膜やλ0/4−λ0/4型の二
層反射防止膜等を用いることも出来る。Further, in the case of an EL display device the ambient light is used in not very strong place, although suppression of the reflectance decreases, cheap single-layer antireflection film manufacturing cost and λ 0/4-λ 0/ 4 It is also possible to use a two-layer antireflection film of the type.
また、前記の実施例においては、ガラス基板1と基板21
との間に充填する物質として、透明の液体、例えば、シ
リコンオイルを用いた場合を例示したが、この物質とし
ては、透明であり、かつ、ガラス基板1および基板21と
ほぼ同一の屈折率を有しているものであれば液体に限ら
れるものではなく、例えば、最終的に固化する透明接着
剤や透明ペースト等を用いることも出来る。Further, in the above embodiment, the glass substrate 1 and the substrate 21
The case where a transparent liquid, for example, silicon oil is used as a substance to be filled between the and is illustrated. However, this substance is transparent and has a refractive index almost the same as that of the glass substrate 1 and the substrate 21. The liquid is not limited to the liquid as long as it has, and for example, a transparent adhesive or a transparent paste that finally solidifies can be used.
また、第1図の実施例においては、基板21の上に反射防
止膜を設けた製反射抑制体を形成し、これをELパネル
と組み合わせるように形成しているが、ELパネルのガ
ラス基板1の前面に反射防止膜を直接設けることも考え
られる。Further, in the embodiment of FIG. 1, the antireflection film having the antireflection film is formed on the substrate 21, and the antireflection film is formed so as to be combined with the EL panel. It is also possible to directly provide an antireflection film on the front surface of.
しかし、その場合には、反射防止膜を形成する際にEL
パネルの温度が上昇するため、歩留まりが悪化するとい
う問題が生じるので好ましくない。However, in that case, when forming the antireflection film, the EL
Since the temperature of the panel rises, there is a problem that the yield deteriorates, which is not preferable.
その点、第1図の実施例のごとく、ELパネルと正反射
抑制体とを別個に構成し、その後に組み合わせるように
した場合には、上記のごとき問題を生じるおそれがな
い。In that respect, when the EL panel and the specular reflection suppressor are separately configured and then combined as in the embodiment of FIG. 1, the above-mentioned problems do not occur.
以上説明したごとく、本発明においては、ガラス基板上
に薄膜EL素子を形成したELパネルと、上記のガラス
基板と同一屈折率を有する基板上に反射防止膜を形成し
た正反射抑制体とを上記のガラス基板とほぼ同一屈折率
を有する透明体を介して背中合せに配設するように構成
しているので、ガラス基板表面における正反射が著しく
低下し、明るい環境下で周囲の景色が写って表示が見に
くくなるという従来装置の問題を解消することが出来
る。As described above, in the present invention, the EL panel in which the thin film EL element is formed on the glass substrate and the specular reflection suppressor in which the antireflection film is formed on the substrate having the same refractive index as the above glass substrate are described above. Since it is configured to be placed back to back through a transparent body that has almost the same refractive index as the glass substrate of, the specular reflection on the glass substrate surface is significantly reduced, and the surrounding scenery is displayed in a bright environment. It is possible to solve the problem of the conventional device that it becomes difficult to see.
また、ELパネルと正反射抑制体とを別個に構成し、そ
の後に組み合わせるように構成しているので、製造時に
ELパネルの温度上昇によって歩留まりが悪化するとい
う問題を生じることもなく、高性能のELパネルを安価
に製造することが出来る。In addition, since the EL panel and the specular reflection suppressor are separately configured and then combined, the yield of the EL panel is not deteriorated due to the temperature rise of the EL panel at the time of manufacturing, and high efficiency is achieved. The EL panel can be manufactured at low cost.
また、同じ環境下で使用する場合には、従来装置に比べ
て電界ストレスの小さい低輝度で駆動出来るので、装置
の寿命を延長することも出来る、等の優れた効果が得ら
れる。Further, when used in the same environment, the device can be driven at a low luminance with a smaller electric field stress as compared with the conventional device, so that the life of the device can be extended and other excellent effects can be obtained.
第1図は本発明の一実施例の断面図、第2図は従来装置
と本発明の装置における反射率の比較図、第3図は従来
装置の一例の断面図である。 <符号の説明> 1……ガラス基板、2……前面電極 3……第1誘電体膜、4……発光膜 5……第2誘電体膜、6……島状吸収体膜 7……透明誘電体膜、8……金属膜 21……基板、25……スペーサ 26……接着剤、27……透明体 100……透明多層膜、200……黒色化背面電極 300……ELパネル、400……反射防止膜 500……正反射抑制体FIG. 1 is a cross-sectional view of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a comparison diagram of reflectance in a conventional device and a device of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view of an example of a conventional device. <Explanation of reference symbols> 1 ... Glass substrate, 2 ... Front electrode 3 ... First dielectric film, 4 ... Light emitting film 5 ... Second dielectric film, 6 ... Island-like absorber film 7 ... Transparent dielectric film, 8 …… Metal film 21 …… Substrate, 25 …… Spacer 26 …… Adhesive, 27 …… Transparent body ……… Transparent multilayer film, 200 …… Blackened back electrode 300 …… EL panel, 400 …… Anti-reflection film 500 …… Regular reflection suppressor
Claims (1)
子を形成したELパネルと、 上記ガラス基板と同一屈折率を有する透明基板の一方の
面に反射防止膜を形成した正反射抑制体と、 上記ガラス基板とほぼ同一屈折率を有する透明体と、を
有し、 上記ELパネルと上記正反射抑制体とを上記透明体を介
して、上記薄膜EL素子の形成面と上記反射防止膜の形
成面とが相互に背中合せになるように平行に配設して組
み合わせたことを特徴とするEL表示装置。1. An EL panel in which a thin film EL element is formed on one surface of a transparent glass substrate, and a specular reflection suppressor in which an antireflection film is formed on one surface of a transparent substrate having the same refractive index as the glass substrate. And a transparent body having substantially the same refractive index as the glass substrate, the EL panel and the specular reflection suppressing body via the transparent body, the thin film EL element formation surface and the antireflection film. An EL display device characterized in that they are arranged in parallel so as to be back-to-back with the formation surfaces of the two.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP61114852A JPH0634390B2 (en) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | EL display device |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP61114852A JPH0634390B2 (en) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | EL display device |
Publications (2)
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| JPS62272496A JPS62272496A (en) | 1987-11-26 |
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Family
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Family Applications (1)
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| JP61114852A Expired - Lifetime JPH0634390B2 (en) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | EL display device |
Country Status (1)
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1986
- 1986-05-21 JP JP61114852A patent/JPH0634390B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62272496A (en) | 1987-11-26 |
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