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JPH0636312B2 - Word line floating prevention circuit - Google Patents
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JPH0636312B2 - Word line floating prevention circuit - Google Patents

Word line floating prevention circuit

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JPH0636312B2
JPH0636312B2 JP62011616A JP1161687A JPH0636312B2 JP H0636312 B2 JPH0636312 B2 JP H0636312B2 JP 62011616 A JP62011616 A JP 62011616A JP 1161687 A JP1161687 A JP 1161687A JP H0636312 B2 JPH0636312 B2 JP H0636312B2
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JP
Japan
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word line
mosfet
ground
voltage supply
supply circuit
Prior art date
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JP62011616A
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Inventor
裕司 中岡
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はワード線フローティング防止回路、特に、MO
S型電界効果トランジスタによって構成された半導体メ
モリ回路におけるワード線フローティング防止回路に関
するものである。
The present invention relates to a word line floating prevention circuit, and more particularly to a MO
The present invention relates to a word line floating prevention circuit in a semiconductor memory circuit composed of S-type field effect transistors.

〔従来の技術〕 マルチアドレス方式を用いたダイナミック・ランダム・
アクセス・メモリ(DRAM)では、1チップに構成さ
れた多数のメモリセルのうち、任意の一つを識別するた
めのアドレス情報は、行アドレス起動信号▲▼と
列アドレス起動信号▲▼により起動される。
[Prior Art] Dynamic Random
In an access memory (DRAM), address information for identifying any one of a large number of memory cells configured in one chip is activated by a row address activation signal ▲ ▼ and a column address activation signal ▲ ▼. It

このうち、行アドレス起動信号で起動された選択信号で
特定されるのがワード線であり、1トルンジスタ型のメ
モリセルを用いた回路において、このワード線には、メ
モリセルに接続されたスイッチングMOS型電界効果ト
ランジスタのゲートが接続される。そして選択されたワ
ード線を電源電圧側レベル、あるいはそれ以上のレベル
に上げることによりこのスイッチングMOSFETをオ
ンさせ、メモリセルに記憶された情報をビット線に伝達
する。
Of these, the word line is specified by the selection signal activated by the row address activation signal. In a circuit using one transistor type memory cell, the switching MOS connected to the memory cell is connected to this word line. The gate of the field effect transistor is connected. Then, the switching MOSFET is turned on by raising the level of the selected word line to the level of the power supply voltage side or higher, and the information stored in the memory cell is transmitted to the bit line.

この時、非選択のワード線は過渡的にフローティングレ
ベルであり、クロストーク等の雑音により、チャージア
ップする可能性があるため防止回路が必要になる。
At this time, a non-selected word line is transiently at a floating level and may be charged up due to noise such as crosstalk, so that a prevention circuit is required.

第2図は、上記のチャージアップを防止するため従来の
回路図を示す。
FIG. 2 shows a conventional circuit diagram for preventing the above charge-up.

第2図において、NOR式アドレスデコーダドライバ回
路5(以下デコーダと記す)は、アドレス情報を解読し
てワード線Wを指定し、ワード線駆動用電圧供給回路
(以下電圧供給回路と記す)6はデコーダ5と対に設け
られる。また、MOSFET QとQはワード線W
毎に設けられる。
In FIG. 2, a NOR type address decoder driver circuit 5 (hereinafter referred to as a decoder) decodes address information to specify a word line W, and a word line driving voltage supply circuit (hereinafter referred to as a voltage supply circuit) 6 It is provided as a pair with the decoder 5. Further, the MOSFETs Q 5 and Q 6 are word lines W
It is provided for each.

デコーダ5は、行アドレス起動信号▲▼が起動さ
れてアクティブ時になると、ハイレベル(電源電圧側レ
ベル)を出力し、また、スタンバイ時においては、デコ
ーダ5の全出力はハイレベルにリセットされる。
The decoder 5 outputs a high level (power supply voltage side level) when the row address activation signal () is activated and becomes active, and all the outputs of the decoder 5 are reset to a high level during standby.

このデコーダ5の出力はNチャンネルのMOSFET
を介してワード線9を駆動するMOSFET Q
のゲートに印加される。MOSFET Qはソースフ
ォロワNチャンネルのMOSであり、そのドレインは電
圧供給回路6に接続されており、ゲートはMOSFET
のソースに接続されている。
The output of this decoder 5 is an N-channel MOSFET
MOSFET Q 6 driving word line 9 via Q 5
Applied to the gate of. The MOSFET Q 6 is a source follower N-channel MOS whose drain is connected to the voltage supply circuit 6 and whose gate is MOSFET.
It is connected to the source of Q 5 .

アクティブ時において、デコーダ5によって選択された
MOSFET Qの出力は、対応するMOSFET
をオン状態にし、オン状態となったMOSFET
のソースに接続されているワード線Wだけがハイレ
ベルになって選択される。
In the active, the output of the MOSFET Q 5 selected by the decoder 5, the corresponding MOSFET
The Q 6 is turned on state, it was turned on MOSFET
Only the word line W connected to the source of Q 6 goes high and is selected.

また、リセット時においては、全ワード線は、MOSF
ET Qがオンしているため、それぞれのMOSFE
T Qを通して電圧供給回路6によりアース電位に保
たれている。
At reset, all word lines are MOSF.
Since ET Q 6 is on, each MOSFE
It is maintained at the ground potential by the voltage supply circuit 6 through T Q 6 .

7は1トランジスタ型のメモリセルであり、Nチャンネ
ル型のMOSFET Qと記憶用容量Cとで構成さ
れている。各メモリセル7の記憶用容量Cの対極は、
低電圧供給回路9の出力節点と接続されており低電位に
保たれている。
Reference numeral 7 denotes a 1-transistor type memory cell, which is composed of an N-channel type MOSFET Q 7 and a storage capacitor C 2 . The counter electrode of the storage capacity C 2 of each memory cell 7 is
It is connected to the output node of the low voltage supply circuit 9 and kept at a low potential.

Nチャンネル型のMOSFET Qは、ワード線Wと
アースとの間に設けられており、フローティング状態に
あるワード線Wのクロストーク等の雑音によるチャージ
アップを防止するためのものである。
N-channel type MOSFET Q 8 is provided between the word line W and the ground, it is intended to prevent the charge-up caused by noise such as crosstalk of the word lines W in a floating state.

MOSFET Qはすべてのワード線Wに1つずつ取
り付けられており、そのゲートには低電圧供給回路8に
よって形成された閾値電圧以上の低電圧が印加されてい
る。したがって、MOSFET Qは常時ON状態に
あるため、非選択ワード線がフローティングになるのを
完全に防止できる。
One MOSFET Q 8 is attached to every word line W, and a low voltage equal to or higher than the threshold voltage formed by the low voltage supply circuit 8 is applied to its gate. Accordingly, since the MOSFET Q 8 is always ON state, that the non-selected word line becomes a floating completely prevented.

しかし、選択ワード線においても同様であるため、MO
SFET QとQが共にオン状態で電圧供給回路6
による電源電圧の供給をワード線Wが受けるため、いわ
ゆるオン−オン電流がアクティブ期間中流れる事にな
り、ワード線Wの電位降下をまねくおそれがある。そこ
で、MOSFET QのサイズをMOSFET Q
に較べ大幅に小さくしかつ低電圧供給回路8によって電
源とアース線の中間電圧をそのゲートに印加する事によ
りMOSFET Qの能力を大幅にダウンさせて上記
ワード線Wの電圧降下を抑制している。
However, since the same applies to the selected word line, MO
SFET Q 6 and Q 8 are both in the ON state and the voltage supply circuit 6
Since the word line W is supplied with the power supply voltage by, the so-called ON-ON current flows during the active period, which may cause the potential drop of the word line W. Therefore, the size of the MOSFET Q 8 is changed to the MOSFET Q 6
By applying an intermediate voltage between the power supply and the ground line to the gate by the low voltage supply circuit 8, the capacity of the MOSFET Q 8 is greatly reduced and the voltage drop of the word line W is suppressed. There is.

以上説明したように、ワード線Wとアース線との間に、
常時オン状態のMOSFET Qを設けて放電経路を
構成される事により、非選択ワード線のチャージアップ
が完全に防止されるため誤動作を確実に防ぐ事ができ
る。
As explained above, between the word line W and the ground line,
By being configured the discharge path provided MOSFET Q 8 of the always-on state, the charge-up of the non-selected word line can reliably prevent possible malfunction to be prevented completely.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

上述した従来の構成においては、メモリセルの記憶用容
量の対極を低電位に固定させるための低電圧供給回路と
ワード線フローティング防止用に取り付けられたトラン
ジスタのゲートに印加するための低電圧供給回路との2
つの低電圧供給回路が必要であった。そのため素子数が
増加しかつ別々のとがった配線が二本必要であるため、
マスクレイアウトの作成上不便な点があるという欠点が
ある。
In the above-described conventional configuration, a low voltage supply circuit for fixing the counter electrode of the storage capacitor of the memory cell to a low potential and a low voltage supply circuit for applying to the gate of the transistor attached to prevent word line floating And 2
Two low voltage supply circuits were needed. Therefore, the number of elements increases and two separate sharp wires are required,
There is a drawback in that it is inconvenient for creating a mask layout.

前者の低電圧供給回路はアース線にすれば上記の欠点は
解消するが、メモリの大容量化に伴なう素子数の増加、
従って各素子の微細化が進んだため、各素子の耐圧限度
が低下してきているので、メモリセルの記憶用容量の対
極は電源と接地の中間電位にする事により、記憶用容量
の電位変化を小さくする必要性があり、したがって、メ
モリセルの記憶用容量の対極を電源と接地の中間電位に
するための低電圧供給回路は必要なのである。
If the former low-voltage supply circuit is made to be an earth line, the above-mentioned drawbacks will be solved, but the number of elements will increase as the memory capacity increases,
Therefore, as the miniaturization of each element has progressed, the withstand voltage limit of each element is decreasing, so the potential change of the storage capacity can be changed by setting the counter electrode of the storage capacity of the memory cell to the intermediate potential between the power supply and ground. It is necessary to make it small, and therefore, a low voltage supply circuit for setting the counter electrode of the storage capacitor of the memory cell to an intermediate potential between the power supply and the ground is necessary.

上述した従来のワード線フローティング防止回路に対
し、本発明は、メモリセルの記憶用容量の対極と、ワー
ド線とアースとの間に設けられたMOSFETのゲート
とを接続し、その節点を電源とアース電位との中間電位
に保つ中間電圧供給回路の出力接点に接続するという独
創的内容を有する。
In contrast to the conventional word line floating prevention circuit described above, the present invention connects the counter electrode of the storage capacity of the memory cell and the gate of the MOSFET provided between the word line and the ground, and uses the node as a power source. It has the original content of connecting to the output contact of an intermediate voltage supply circuit that maintains an intermediate potential with respect to the ground potential.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の回路は、ドレインがワード線、ソースがアース
にそれぞれ接続されゲートが電源とアースの電位の中間
電位に保持されかつワード線駆動用トランジスタより能
力を低く抑えた電界効果トランジスタをワード線毎に設
け、メモリセルの記憶用容量の非駆動側の対極を上記中
間電位に接続した事を特徴とする。
The circuit of the present invention includes a field effect transistor for each word line, the drain of which is connected to the word line, the source of which is connected to the ground, the gate of which is held at an intermediate potential between the power supply and the ground and which has a lower capability than the word line driving transistor. And a counter electrode on the non-driving side of the storage capacitor of the memory cell is connected to the intermediate potential.

〔実施例〕〔Example〕

次に図面を参照して本発明を詳細に説明する。 The present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment of the present invention.

3は、1トランジスタ型のメモリセルであり、QはN
チャンネル型のMOSFET Cは記憶用容量を表わ
す。MOSFET Qのゲートはワード線Wに接続さ
れており、ソースはディジット線Bに接続され、ドレイ
ンは記憶用容量Cと接続されている。
3 is a one-transistor type memory cell, and Q 3 is N
The channel type MOSFET C 1 represents a storage capacitor. The MOSFET Q 3 has a gate connected to the word line W, a source connected to the digit line B, and a drain connected to the storage capacitor C 1 .

また、記憶用容量Cの対極は、残りのすべてのメモリ
セルの記憶用容量の対極と接続されており、この接点
は、ソースがワード線Wと接続され、ドレインが接地さ
れているNチャンネル型のMOSFET Qのゲート
と接続されかつ電源と接地の中間電位を供給する中間電
圧供給回路4の出力接点と接続されている。
The counter electrode of the storage capacitor C 1 is connected to the counter electrodes of the storage capacitors of all the remaining memory cells, and this contact has an N channel whose source is connected to the word line W and whose drain is grounded. Type MOSFET Q 4 and is connected to the output contact of an intermediate voltage supply circuit 4 which supplies an intermediate potential between the power supply and ground.

MOSFET Qは、各ワード線にそれぞれ設けられ
ている。つまり、各メモリセル3の記憶用容量Cの対
極と、各ワード線とアース線とアースの間に設けられた
MOSFET Qのゲートはすべて接続され、その接
点は中間電圧供給回路4の出力節点と接続される事によ
り、電源とアースとの中間電位に保たれている。
The MOSFET Q 4 is provided in each word line. That is, the counter electrode of the storage capacitor C 1 of each memory cell 3 and the gate of the MOSFET Q 4 provided between each word line, ground line, and ground are all connected, and the contact point is the output of the intermediate voltage supply circuit 4. By connecting to the node, it is kept at the intermediate potential between the power supply and ground.

次に、デコーダ1と、電圧供給回路2と、ゲートにMO
SFET Qを介してデコーダ1の出力電圧が印加さ
れまた、ソースは電圧供給回路2の出力節点が接続さ
れ、ドレインにはワード線Wが接続されているソースフ
ォロワNチャンネル型のMOSFET Qを交えて、
この実施例の動作を以下に説明する。
Next, the decoder 1, the voltage supply circuit 2, and the gate are provided with MO.
SFET Q 1 is applied the output voltage of the decoder 1 via the addition, the source is connected to the output node of the voltage supply circuit 2, the drain of the source follower N-channel type the word line W is connected to MOSFET Q 2 Mix
The operation of this embodiment will be described below.

メモリチップがスタンバイ時は、すべてのデコーダ1は
それぞれのMOSFET Qのゲートにハイレベルを
印加しているが、アクティブ期間に入ると選択されたデ
コーダのみ出力はハイレベルを維持し、他の非選択のデ
コーダの出力はハイレベルからローレベル(接地電圧側
レベル)になる。つまり選択されたMOSFET Q
はオン状態のままであり、非選択のMOSFET Q
はオフ状態となる。
When the memory chips are in the standby mode, all the decoders 1 apply the high level to the gates of the respective MOSFETs Q 2 , but when the active period starts, only the selected decoder maintains the high level, and the other The output of the selected decoder changes from high level to low level (ground voltage side level). That is, the selected MOSFET Q 2
Remains on and unselected MOSFET Q 2
Is turned off.

その後、電圧供給回路2の出力がローレベルからハイレ
ベルになると、選択されているMOSFET Qはオ
ン状態であるため、選択ワード線Wはローレベルからハ
イレベルにもち上げられるが、ワード線Wとアースとの
間に設けられたMOSFET Qもオン状態であるた
め、これら2つのMOSFETはいわゆるオン−オン状
態のまま、選択ワード線Wをハイレベルに持ち上げる事
になる。
After that, when the output of the voltage supply circuit 2 changes from the low level to the high level, the selected word line W is raised from the low level to the high level because the selected MOSFET Q 2 is in the ON state. because MOSFET Q 4 which is provided between the ground even in the on state, these two MOSFET so-called on - kept on, so that the lifting selected word line W to the high level.

しかしながらMOSFET Qのサイズは、MOSF
ET Qの比べて大幅に小さくかつ中間電圧供給回路
4によって、電源とアースの中間電位がゲートに印加さ
れているのでその能力は大幅に抑えられているため、選
択ワード線Wはハイレベルを維持する事ができる。
However, the size of MOSFET Q 4 is
Since the intermediate potential between the power supply and the ground is applied to the gate by the intermediate voltage supply circuit 4 which is significantly smaller than that of ET Q 2 , the selected word line W is set to the high level because its ability is greatly suppressed. Can be maintained.

このとき、非選択のワード線WはMOSFET Q
オフしているが、MOSFET Qがオンしているた
め、フローティングにはならず、アースレベルに抑えら
れており、クロストーク等の雑音によるチャージアップ
を完全に防止しており、誤動作を確実に防ぐことができ
る。また、メモリセル3の記憶用容量Cの対極も同じ
中間電圧供給回路4に接続されているため、この記憶用
容量Cの両極間の電位変動が少なく、素子の微細化に
ともなう耐圧劣化による素子の破壊を防ぐ事ができる。
At this time, the MOSFET Q 2 of the non-selected word line W is off, but the MOSFET Q 4 is on, so that the word line W does not float and is kept at the ground level. The charge-up is completely prevented, and malfunctions can be reliably prevented. Further, since the counter electrode of the storage capacitor C 1 of the memory cell 3 is also connected to the same intermediate voltage supply circuit 4, there is little potential fluctuation between the two electrodes of the storage capacitor C 1 , and the breakdown voltage is deteriorated due to the miniaturization of the element. It is possible to prevent the destruction of the element due to.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明は、素子の微細化の進展に伴って、従来の2つの
低電圧の差が狭ってきたことをとらえて、以上に説明し
たような構成を採用することにより、従来は2つが必要
であった低電圧発生回路の代りに、電源と接地との中間
電位を発生する中間電圧発生回路一つでよいことになる
ため、素子数が減少し、従って配線が減少したのでマス
クレイアウト作成上便利になった。
The present invention takes the fact that the difference between the two conventional low voltages is narrowing with the progress of miniaturization of the element, and adopts the configuration as described above, so that two are conventionally required. Instead of the low voltage generation circuit, the intermediate voltage generation circuit that generates the intermediate potential between the power supply and the ground is sufficient. Therefore, the number of elements is reduced and therefore the wiring is reduced. It became convenient.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示し、第2図は従来例を示
す。 Q〜Q……Nチャンネル型トランジスタ(MOSF
ET)、C,C……記憶用容量、N,N……節
点、1,5……NOR式アドレスデコーダドライバ回路
(デコーダ)、2,6……ワード線駆動用電圧供給回路
(電圧供給回路)、3,7……メモリセル、4……中間
電圧供給回路、8,9……低電圧供給回路。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a conventional example. Q 1 to Q 8 N-channel type transistor (MOSF
ET), C 1 , C 2 ... storage capacity, N 1 , N 1 ... nodes, 1, 5 ... NOR type address decoder driver circuit (decoder), 2, 6 ... word line driving voltage supply circuit (Voltage supply circuit), 3, 7 ... memory cell, 4 ... intermediate voltage supply circuit, 8, 9 ... low voltage supply circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ドレインがワード線、ソースがアースにそ
れぞれ接続されゲートが電源とアースの電位の中間電位
に保持されかつワード線駆動用トランジスタより能力を
低く抑えた電界効果トランジスタを前記ワード線毎に設
け、メモリセルの記憶用容量の非駆動側の対極を前記中
間電位に接続した事を特徴とするワード線フローティン
グ防止回路。
1. A field effect transistor having a drain connected to a word line, a source connected to a ground, a gate held at an intermediate potential between a power source and a ground, and having a capability lower than that of a word line driving transistor, for each word line. And a counter electrode on the non-driving side of the memory cell storage capacitor connected to the intermediate potential.
JP62011616A 1987-01-20 1987-01-20 Word line floating prevention circuit Expired - Lifetime JPH0636312B2 (en)

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JP62011616A JPH0636312B2 (en) 1987-01-20 1987-01-20 Word line floating prevention circuit

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JPS63179495A JPS63179495A (en) 1988-07-23
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6010494A (en) * 1983-06-29 1985-01-19 Fujitsu Ltd Semiconductor memory
JPS6122498A (en) * 1984-07-10 1986-01-31 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor integrated memory

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JPS63179495A (en) 1988-07-23

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