JPH06406B2 - Optical drawing device - Google Patents
Optical drawing deviceInfo
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- JPH06406B2 JPH06406B2 JP2781487A JP2781487A JPH06406B2 JP H06406 B2 JPH06406 B2 JP H06406B2 JP 2781487 A JP2781487 A JP 2781487A JP 2781487 A JP2781487 A JP 2781487A JP H06406 B2 JPH06406 B2 JP H06406B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はスポットパターンを光で照射し、得られた光点
を感光物上に投影し、それを連続的に相対的移動させる
ことで罫線を描くようにした写真植字機や光プロッター
などの光描画装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention irradiates a spot pattern with light, projects the obtained light spots on a photosensitive material, and continuously moves them relative to a ruled line. The present invention relates to an optical drawing device such as a phototypesetting machine or an optical plotter designed to draw.
[従来技術と問題点] 従来、写真植字機などで罫線などの線を描くには、光点
を感光物上に投影しながら感光物と光点を相対的に移動
させて記録していた。このとき用いられる光点を作るた
めのスポットパターンは、第1図の11で示すように一
般的には長方形または正方形の矩形であった。これは従
来の装置がX方向、Y方向の直線だけを主に処理するよ
う構成されていたためであるが、罫線の始端、終端の線
端部を直角に再生するためでもあった。[Prior Art and Problems] Conventionally, in order to draw a line such as a ruled line with a phototypesetting machine or the like, recording is performed by relatively moving the photoconductor and the light spot while projecting the light spot on the photoconductor. The spot pattern used to create the light spot used at this time was generally rectangular or square, as indicated by 11 in FIG. This is because the conventional apparatus was mainly configured to process only straight lines in the X and Y directions, but it was also for reproducing the start and end line ends of the ruled line at right angles.
さらに矩形のスポットパターンには、そこに光を照射し
て得られた矩形の光点をその辺と平行な二方向(即ちX
方向,Y方向)に移動させて線を描いたとしても、パタ
ーンの進行方向に平行な辺の長さは同一であるから、感
光物が受ける光量は全領域にわたってほぼ均等であり、
感光物に露光される像は濃度ムラのない均一な線になる
という利点がある。Further, in the rectangular spot pattern, the rectangular light spot obtained by irradiating light on the rectangular spot pattern is arranged in two directions (that is, X
Direction, Y direction) to draw a line, the lengths of the sides parallel to the traveling direction of the pattern are the same, so that the amount of light received by the photosensitive member is substantially uniform over the entire area.
The image exposed on the photosensitive material has an advantage that it becomes a uniform line without density unevenness.
従ってこのようなパターン11を罫線の太さに応じてあ
らかじめ複数個用意しておけば、それらを選択的に使用
することによって求める太さの罫線を描いていくことが
できる。Therefore, if a plurality of such patterns 11 are prepared in advance according to the thickness of the ruled line, the ruled line having the required thickness can be drawn by selectively using them.
ところでこのような矩形のパターン11では、X方向,
Y方向の直線を描くのには適しているが曲線を描くのに
は向いていない。第1図は長方形の光点が少しづつ進む
向きを変えて曲線を描くときの状態を示した図である。
図において一点鎖線はパターン11の進行方向を示し、
11a,11b,11cはこのパターンによって形成さ
れた光点が移動していく模様を示している。パターン1
1がその辺と平行に移動するのであればその線幅は
W1、W2であるが、斜め方向に移動するときは図に点
線で示したように線の太さがW3に変化してしまう(W
3>W1)。By the way, in such a rectangular pattern 11, in the X direction,
It is suitable for drawing straight lines in the Y direction, but not suitable for drawing curves. FIG. 1 is a view showing a state in which a rectangular light spot is drawn in a curve by changing the direction in which the light spot advances little by little.
In the figure, the alternate long and short dash line indicates the traveling direction of the pattern 11,
Reference numerals 11a, 11b, and 11c show patterns in which the light spots formed by this pattern move. Pattern 1
If 1 moves in parallel to its side, its line width is W 1 and W 2 , but when moving diagonally, the thickness of the line changes to W 3 as shown by the dotted line in the figure. (W
3 > W 1 ).
そこでどの方向にも同じ幅で線が引けるように、第2図
(イ)に示すような円形のスポットパターン21を用い
ることが考えられる。しかしこのスポットパターン21
を移動して直線、曲線を描いたときの露光量の分布22
は、第2図(ロ)に示すようにパターンの進む方向(図
の矢印方向)から見て線の中心部の露光量が周辺部の露
光量に比べ著しく大きくなってしまい、罫線の境界とな
る輪郭が不鮮明となる。Therefore, it is conceivable to use a circular spot pattern 21 as shown in FIG. 2A so that a line can be drawn with the same width in any direction. However, this spot pattern 21
Of exposure dose when moving to draw a straight line or curve 22
As shown in FIG. 2B, the exposure amount in the central portion of the line becomes significantly larger than the exposure amount in the peripheral portion when viewed from the direction in which the pattern advances (the direction of the arrow in the figure). The contour is blurred.
またパターンを照射する光ビームの輝度を高くすると、
中心の露光量が強くなりカブリという現象が生じ、パタ
ーンの直径Wよりも線が太くなってしまう。When the brightness of the light beam that illuminates the pattern is increased,
The exposure amount at the center becomes strong and a phenomenon of fogging occurs, and the line becomes thicker than the diameter W of the pattern.
さらに罫線の太さを変えるためには矩形のスポットパタ
ーンの場合と同じようにパターンの径Wを変化させたも
のを複数種用意しておかなければならないが、それらを
選択的に使用したときパターンの径が変れば光が通過す
る量も当然変化する。光点の移動速度が一定であるなら
ば露光量はパターンの面積に比例するから、小さな径の
パターンに光量を合せると径の大きなパターンでは光量
過多となり、露光する線の濃度が上り過ぎて前記のカブ
リ現象が発生する。つまり、パターンの大きさを変える
と光ビームの強さもそれに合せて変えなければならない
という問題が残される。Furthermore, in order to change the thickness of the ruled line, it is necessary to prepare a plurality of types in which the diameter W of the pattern is changed as in the case of the rectangular spot pattern. If the diameter of the light changes, the amount of light passing through also changes. If the moving speed of the light spot is constant, the exposure amount is proportional to the area of the pattern.Therefore, if the light amount is adjusted to a pattern having a small diameter, the light amount becomes excessive in a pattern having a large diameter, and the density of the line to be exposed rises excessively. The fog phenomenon occurs. That is, if the size of the pattern is changed, the intensity of the light beam must be changed accordingly.
そこでスポットパターン自体に露光量調整機能を持たせ
ることが考えられる。このようなものとして例えば特公
昭47−39886号公報などにおいて開示されている
ように、パターンの中心部を遮光して光を通さないよう
にした円環状のスポットパターンが知られている。この
円環状のパターンでは円の直径にかかわらず環状開口バ
ンドの幅を一定にしたことにより、露光量を一定にする
ことができる。Therefore, it may be considered that the spot pattern itself has an exposure amount adjusting function. As such, for example, as disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 47-39886, there is known an annular spot pattern in which the central portion of the pattern is shielded so as not to transmit light. In this annular pattern, the exposure amount can be made constant by making the width of the annular opening band constant regardless of the diameter of the circle.
第3図はこのような円環パターンによって罫線を描く様
子を示したものである。斜線部で示した線の始点と終点
31では二重斜線で示した中間部32にくらべ半分の露
光量しか得られない。従って線端の濃度は低くなり視覚
上ぼけた感じになるのは避けられない。FIG. 3 shows how ruled lines are drawn by such an annular pattern. At the start point and the end point 31 of the shaded line, only half the exposure amount can be obtained as compared with the intermediate portion 32 shown by the double shaded line. Therefore, it is unavoidable that the density at the end of the line becomes low and the image becomes visually blurred.
また第2図で示した円形のスポットパターンの中心部に
適当な透過率のフィルターを設け光量を調節する方法も
考えられる。パターンの直径が大きいものは透過率の低
いフィルターを設けて露光量を下げ、パターンの直径が
小さなものは透過率の高いフィルターを設けて光量を上
げてやれば前記の円環状パターンと同じように罫線の品
質を標準化することができる。しかし、円形スポットパ
ターンの直径に応じて透過率が異なるフィルターを設け
ていくことは工程上むずかしい作業になり、製造上好ま
しくない。A method of adjusting the light quantity by providing a filter having an appropriate transmittance at the center of the circular spot pattern shown in FIG. 2 is also conceivable. If the diameter of the pattern is large, a filter with a low transmittance is provided to reduce the exposure amount.If the diameter of the pattern is small, a filter with a high transmittance is provided to increase the light amount. The quality of ruled lines can be standardized. However, providing a filter having a different transmittance depending on the diameter of the circular spot pattern is a difficult process and is not preferable in manufacturing.
[発明の目的] 本発明は、光点を感光物上に投影し両者を相対的に移動
させることによって感光物上に線を描く光描画装置にお
いて、一定の品質の罫線が感光物上に記録される光描画
装置を提供することを目的とする。[Object of the Invention] The present invention is an optical drawing device that draws a line on a photosensitive material by projecting a light spot on the photosensitive material and moving the both relatively, and a ruled line of a constant quality is recorded on the photosensitive material. It is an object of the present invention to provide an optical drawing device.
そして第2の目的は、使用するスポットパターンの大き
さによって光量を調節することなく全て一定の条件の下
で所定の作業が進められるようにしたスポットパターン
を有する光描画装置を提供することである。A second object is to provide an optical drawing device having a spot pattern that allows a predetermined work to be performed under a constant condition without adjusting the light amount according to the size of the spot pattern to be used. .
さらに第3の目的は、罫線の太さに応じて円環の幅を調
節したり、濃度の異なるフィルターを設けることなく、
簡単な方法で容易に製造することのできるスポットパタ
ーンを有する光描画装置を提供することである。Furthermore, the third purpose is to adjust the width of the circular ring according to the thickness of the ruled line or to provide a filter with different density,
An object is to provide an optical drawing apparatus having a spot pattern that can be easily manufactured by a simple method.
そして本発明はこのような目的を達成するため、スポッ
トパターンを光照射して感光物上に光点を投影し、連続
的に相対移動させて罫線を描く光描画装置において、遮
光性ドットまたは透光性ドットを所定の円形領域内に不
規則に分布させて前記スポットパターンを構成したこと
を特徴とするものである。In order to achieve such an object, the present invention irradiates a spot pattern with light to project a light spot on a photoconductor, and continuously moves the light spot to draw a ruled line. It is characterized in that the light spots are formed by irregularly distributing light dots in a predetermined circular area.
[発明の実施例] 第4図は本発明で使用するスポットパターンの原理を示
したもので、スポットパターン41には透光性のドット
42が一様に不規則に多数配置されて構成されている。
(ロ)図の43で示す斜線部分はこのパターン41を照
射したときの露光量の分布43を示している。[Embodiment of the Invention] FIG. 4 shows the principle of a spot pattern used in the present invention. In the spot pattern 41, a large number of light-transmissive dots 42 are arranged uniformly and irregularly. There is.
(B) The shaded portion indicated by 43 in the figure shows the distribution 43 of the exposure amount when the pattern 41 is irradiated.
このようなパターン41に光を照射すると、透光性のド
ット42より光が通過し感光物を露光する。そして感光
物と光点を相対的に移動することで罫線を描くことがで
きる。従ってスポットパターンの直径に応じて不規則に
ドットを分布(数と大きさ)させてやれば罫線の太さに
かかわらず露光量を一定に保つことができる。つまり径
の大きいスポットパターンには単位面積あたり少しの透
光性のドットを、径の小さいスポットパターンには単位
面積あたり多くの透光性のドットを不規則に分布させれ
ば良い(ドットの大きさが同じたとして)。When such a pattern 41 is irradiated with light, the light passes through the translucent dots 42 to expose the photosensitive material. A ruled line can be drawn by moving the photoconductor and the light spot relatively. Therefore, if the dots are randomly distributed (number and size) according to the diameter of the spot pattern, the exposure amount can be kept constant regardless of the thickness of the ruled line. That is, a small number of translucent dots per unit area may be irregularly distributed in a spot pattern with a large diameter, and a large number of translucent dots per unit area may be irregularly distributed in a spot pattern with a small diameter. The same.)
このようなスポットパターンで罫線を描けば、例えば第
2図(ロ)の露光分布22のピークより第4図(ロ)の
分布43のようにピークを低く押えることが可能である
から、ハレーションやカブリといった現象を大幅に減少
させることができる。また、罫線の始点と終点において
も、第3図に例示した円環パターンに比べ、露光量をパ
ターン全体に一様に分布させることができるので濃度の
低下を押えることができる。By drawing a ruled line with such a spot pattern, for example, it is possible to suppress the peak lower than the peak of the exposure distribution 22 of FIG. 2B, as shown by the distribution 43 of FIG. The phenomenon of fogging can be greatly reduced. Further, at the starting point and the ending point of the ruled line, the exposure amount can be evenly distributed over the entire pattern as compared with the annular pattern illustrated in FIG. 3, so that the decrease in density can be suppressed.
第4図(ハ),(ニ)は、ドットを不規則に配置する理
由を説明するものである。仮にドットを(ハ)図のよう
に規則的に配置したものとし、それによって得られる光
点を矢印方向に移動させたとすれば、ドットの配置され
ている位置に応じて(ニ)図のように露光量に差が生
じ、露光分布44に凹凸が発生してしまう。FIGS. 4C and 4D explain the reason why the dots are arranged irregularly. If the dots are regularly arranged as shown in (c) and the light spots obtained thereby are moved in the direction of the arrow, as shown in (d), depending on the position where the dots are arranged. The difference in the amount of exposure occurs in the exposure distribution 44, resulting in unevenness in the exposure distribution 44.
そこで本発明では光点がどのように移動したとしても、
濃度ムラのない罫線が作成されるよう(イ)図のように
ドットを不規則に配置するようにした。このようなドッ
トの配置は乱数表などによって容易に求めることができ
る。Therefore, in the present invention, no matter how the light spot moves,
In order to create a ruled line without unevenness in density, dots are arranged irregularly as shown in (a). Such dot arrangement can be easily obtained by a random number table or the like.
第5図は透光性のドット51を一様に不規則に分布させ
たパターン52で線の始端部を描きはじめたときを示し
たもので、斜線部53はパターン52により露光され罫
線となる部分である。この実施例では、第2図、第3
図、第4図(ハ),(ニ)で説明したような問題は解決
されるが、最左端に配置されるドット(終端部では最右
端)の有無によって端部の形状に凹凸が生じてしまい、
ドットを配列したときの粗さがそのまま感光物上に露光
されてしまう。FIG. 5 shows a case where the starting end portion of the line is started to be drawn by the pattern 52 in which the translucent dots 51 are uniformly and irregularly distributed, and the hatched portion 53 is exposed by the pattern 52 and becomes a ruled line. It is a part. In this embodiment, FIG. 2 and FIG.
Although the problems described in FIGS. 4 (c) and 4 (c) and (d) are solved, unevenness occurs in the shape of the end portion depending on the presence or absence of the dot arranged at the leftmost end (the rightmost end at the end portion). Sisters,
The roughness when the dots are arranged is directly exposed on the photosensitive material.
この欠点を解決した実施例が第6図である。これはパタ
ーン61の周辺部のドット62を高密度に分布し、中心
部ではそれより粗に分布して構成したものである。それ
によって線の始終端部における品質を例えば円環のパタ
ーンのものに近ずけることができる。それも第6図
(ロ)図に示すように中心部での露光量を押えることが
できるから罫線の境界を鮮明にすることができる。FIG. 6 shows an embodiment which solves this drawback. This is configured such that the dots 62 in the peripheral portion of the pattern 61 are distributed with high density, and the dots are coarser in the central portion. This allows the quality at the beginning and end of the line to approach that of a circular pattern, for example. Also, as shown in FIG. 6 (b), the exposure amount at the center can be suppressed, so that the boundary of the ruled line can be made clear.
第7図は第6図のものをさらに発展させた実施例で、パ
ターン71の外周部に、ドットの粗さに基づく濃度ムラ
が無視出来る程度均等にドット72を密に配置し、中心
部では前記周辺部に比べて不規則に粗にしてドット73
を分布させたものである。パターンの周辺部に配置した
規則的なドット72は線の始まりと終りの端面の品質を
そろえるために、つまりドットの粗さからくる濃度ムラ
をなくすため作用させることができ、パターン端部のド
ットの有無が視覚上確認されるのを防止する。FIG. 7 shows an embodiment which is a further development of that shown in FIG. 6, in which dots 72 are densely arranged on the outer periphery of the pattern 71 so that density unevenness due to the roughness of the dots can be ignored, and at the center. The dots 73 are irregularly roughened compared to the peripheral portion.
Are distributed. The regular dots 72 arranged in the peripheral portion of the pattern can be operated to align the quality of the end faces at the beginning and end of the line, that is, to eliminate the density unevenness due to the roughness of the dots. Prevent the visual confirmation of the presence or absence of.
従って第8図のように幅の狭い円環81を最外周部に設
け、その内側に規則的に配置したドット82を配置し、
中心部に不規則に配置したドット83を分布させたパタ
ーン84とすれば、さらに輪郭の滑らかな罫線が得られ
る。Therefore, as shown in FIG. 8, a ring 81 having a narrow width is provided at the outermost peripheral portion, and dots 82 regularly arranged are arranged inside thereof.
If the pattern 84 in which the dots 83 arranged irregularly in the central portion are distributed, a ruled line having a smoother contour can be obtained.
なお、以上の各実施例では所定の円形領域に配置するド
ットを透光性のものとしてあるが、逆に透光性の円形領
域に遮光性のドットを配置した場合でもスポットパター
ン自体に露光量調整機能を持たせることが可能である。In each of the above examples, the dots arranged in the predetermined circular area are translucent, but conversely, when the light shielding dots are arranged in the translucent circular area, the exposure amount on the spot pattern itself is increased. It is possible to have an adjusting function.
第9図は以上述べてきたような複数の径の異なるスポッ
トパターンを収容した文字盤を使って感光物上に罫線を
描く装置を写真植字機を例として説明したものである。
91は光源で、光はコンデンサーレンズ92で集光され
プリズムまたはミラー93で光路を変更する。94の文
字盤には文字や記号などと共に前記のような複数のスポ
ットパターンが収容されている。この文字盤をXY方向
に移動させるなどして所望のパターンを選択し、光軸位
置にセットする。セットされたパターンは光源からの光
で照射され主レンズ95、変形レンズ96を通り、プリ
ズム97、98で光路変換され、感光物99上に結像す
る。100はシャッターで露光を制御する。また、プリ
ズム98の図面上左右移動と、感光物99を保持したド
ラムの回転で光点を移動させる。この移動はパルスモー
タ101などによって行なうが、定速移動のための各種
制御装置102などは公知のものを採用すればよい。FIG. 9 illustrates an apparatus for drawing ruled lines on a photosensitive material by using a phototypesetting machine as an example, using a dial containing a plurality of spot patterns having different diameters as described above.
Reference numeral 91 is a light source, and light is condensed by a condenser lens 92, and an optical path is changed by a prism or a mirror 93. A plurality of spot patterns as described above are accommodated in a dial of 94 together with characters and symbols. A desired pattern is selected by moving the dial in the XY directions and set at the optical axis position. The set pattern is irradiated with the light from the light source, passes through the main lens 95 and the deforming lens 96, undergoes optical path conversion by the prisms 97 and 98, and forms an image on the photosensitive material 99. A shutter 100 controls exposure. Further, the light spot is moved by the horizontal movement of the prism 98 in the drawing and the rotation of the drum holding the photosensitive material 99. Although this movement is performed by the pulse motor 101 or the like, various control devices 102 for constant speed movement may be publicly known.
このような装置で直線を感光物上に描くには、図示して
ない入力部より始点と終点の座標あるいは罫線の長さな
どを入力し、露光開始を指令すればシャッタ100が解
放されると共にプリズム98、あるいは感光物99を保
持しているドラムが動作してセットしたスポットパター
ンによる光点が移動していく。このときの光点は主レン
ズ95、変形レンズ96などの光学系の倍率の影響を受
けることになるが、求める直線を任意に記録していくこ
とができる。In order to draw a straight line on the photosensitive material with such an apparatus, the coordinates of the start point and the end point or the length of the ruled line are input from an input unit (not shown), and an instruction to start the exposure releases the shutter 100. The prism 98 or the drum holding the photosensitive material 99 operates to move the light spot according to the set spot pattern. The light spot at this time is affected by the magnification of the optical system such as the main lens 95 and the deformable lens 96, but the desired straight line can be recorded arbitrarily.
曲線を描くときには、曲線の大きさを指定する半径rと
始終点の座標などを入力すれば、直線の場合と同じよう
にシャッタ100が動作し、プリズム98と感光物99
が同時に駆動されて指定した半径rに応じた曲率の曲線
を感光物上に再生していくことができる。When drawing a curve, if the radius r designating the size of the curve and the coordinates of the start and end points are input, the shutter 100 operates in the same way as in the case of a straight line, and the prism 98 and the photosensitive member 99 are operated.
Can be simultaneously driven to reproduce a curve having a curvature corresponding to the designated radius r on the photosensitive material.
勿論、スポットパターンの径が小さい場合よりも大きい
径の場合の方が、本発明による効果が大であることは自
明である。また前記のように文字盤94にはスポットパ
ターンだけでなく、文字記号等も収容されているから、
それらと併用して感光物上に露光していけば、文字と罫
線が一緒になった印字物を指定された通りに作成してい
くことができる。Of course, it is obvious that the effect of the present invention is greater when the diameter of the spot pattern is larger than when it is small. Further, as described above, since the dial 94 contains not only the spot pattern but also the character symbols,
If they are used together and exposed on the photosensitive material, it is possible to create a printed material with characters and ruled lines together as specified.
さらに、第9図のような光学系をもった写真植字機だけ
でなく任意の光プロッターでスポットパターンを使用す
れば、同様にして感光物に罫線を記録していくことがで
きる。Furthermore, if a spot pattern is used not only with a phototypesetting machine having an optical system as shown in FIG. 9 but also with an arbitrary optical plotter, it is possible to record ruled lines on the photosensitive material in the same manner.
[発明の効果] 以上説明してきたように本発明は、透光性ドット、また
は遮光性ドットを所定の円形領域内に不規則に分布させ
たスポットパターンを使用するようにしたから、罫線を
その幅にとらわれずに感光物上に濃度のムラなく一定の
品質でその輪郭を鮮明にして描くことができる。それも
必要な光量調整はスポットパターン上で行なわれるた
め、光源からの光量を罫線の太さに応じて調節すること
なく、一定の条件下で異なる罫の作業を進めることがで
きる。また、アナログ的な濃度変化を持ったフィルター
をスポットパターンに設けるのではなく、二値画像のド
ットで対応できるようにしたので製作するのに手間がか
からず、安定した品質で作ることができる。EFFECTS OF THE INVENTION As described above, the present invention uses a spot pattern in which translucent dots or light-shielding dots are randomly distributed in a predetermined circular area. Contours can be drawn sharply with a constant quality on the photosensitive material without being restricted by the width and with uniform density. Since the necessary light amount adjustment is also performed on the spot pattern, it is possible to proceed with the work of different ruled lines under certain conditions without adjusting the light amount from the light source according to the thickness of the ruled line. Also, instead of providing a filter with an analog density change in the spot pattern, it is possible to handle it with dots of a binary image, so it does not take time to produce, and stable quality can be produced. .
図は本発明の実施の一例を示すもので、第1図、2図、
3図は従来の説明図、第4図は本発明で使用するスポッ
トパターンの原理を説明する図、第5図、6図、7図、
8図は本発明で使用するスポットパターンの実施例を説
明する図、第9図は写真植字機の例を示す図である。 11 スポットパターン 21 スポットパターン 41 スポットパターン 42 透光性ドット 52 スポットパターン 61 スポットパターン 72 規則的ドット 73 不規則ドット 81 円環 94 文字盤 99 感光物FIG. 1 shows an example of the implementation of the present invention.
FIG. 3 is a conventional explanatory diagram, FIG. 4 is a diagram for explaining the principle of the spot pattern used in the present invention, FIG. 5, FIG. 6, FIG.
FIG. 8 is a diagram for explaining an embodiment of a spot pattern used in the present invention, and FIG. 9 is a diagram showing an example of a phototypesetting machine. 11 spot pattern 21 spot pattern 41 spot pattern 42 translucent dot 52 spot pattern 61 spot pattern 72 regular dot 73 irregular dot 81 circular ring 94 dial 99 photosensitive material
Claims (3)
光点を投影し、該光点と感光物を連続的に相対移動させ
て罫線を描く光描画装置において、 前記スポットパターンは、遮光性ドットまたは透光性ド
ットを所定の円形領域内に不規則に分布させて構成した
ことを特徴とする光ビームによる光描画装置。1. An optical drawing apparatus for irradiating a spot pattern with light to project a light spot on a photosensitive material and continuously moving the light spot and the photosensitive material to draw a ruled line, wherein the spot pattern is a light shield. An optical drawing device using a light beam, characterized in that the transparent dots or the transparent dots are irregularly distributed in a predetermined circular area.
たは遮光性ドット)を、該領域の中心部に比較して高密
度(または低密度)に分布して構成したことを特徴とす
る特許請求の範囲第(1)項記載の光描画装置。2. The spot pattern is such that light-transmitting dots (or light-shielding dots) in a peripheral portion of the predetermined circular region are distributed at a higher density (or a lower density) than the central portion of the region. The optical drawing device according to claim 1, wherein the optical drawing device is configured as follows.
の粗さに基づく濃度ムラが無視出来る程度均等に、中心
部のドットを前記周辺部に比べて不規則に分布させて構
成したことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載
の光描画装置。3. The spot pattern is such that the dots in the peripheral portion of the predetermined circular region are evenly distributed so that density unevenness due to dot roughness can be ignored, and the dots in the central portion are irregular compared to the peripheral portion. The optical drawing device according to claim (1), characterized in that the optical drawing device is configured to be distributed in the following manner.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2781487A JPH06406B2 (en) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | Optical drawing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2781487A JPH06406B2 (en) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | Optical drawing device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63194950A JPS63194950A (en) | 1988-08-12 |
| JPH06406B2 true JPH06406B2 (en) | 1994-01-05 |
Family
ID=12231438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2781487A Expired - Lifetime JPH06406B2 (en) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | Optical drawing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06406B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN119087732A (en) * | 2024-10-25 | 2024-12-06 | 东莞市尺度电子科技有限公司 | A projection film structure for projecting grayscale patterns and a projection film production method |
-
1987
- 1987-02-09 JP JP2781487A patent/JPH06406B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63194950A (en) | 1988-08-12 |
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