JPH0641914B2 - Emission spectroscopy analyzer using selective excitation - Google Patents
Emission spectroscopy analyzer using selective excitationInfo
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- JPH0641914B2 JPH0641914B2 JP59156346A JP15634684A JPH0641914B2 JP H0641914 B2 JPH0641914 B2 JP H0641914B2 JP 59156346 A JP59156346 A JP 59156346A JP 15634684 A JP15634684 A JP 15634684A JP H0641914 B2 JPH0641914 B2 JP H0641914B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、発光スペクトルから定量,定性分析を行う発
光分光分析計に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an emission spectrophotometer for performing quantitative and qualitative analysis from an emission spectrum.
現在発光分光分析は、高感度な元素分析法として普及し
ている。この発光分光分析装置には従来から光源の種類
により、アーク法,スパーク法,プラズマジエツト法,
ICP(誘導結合プラズマ)法などがある。発光分光分
析の発光線は、多数存在し、その密度が濃く、線が林立
しており、目的の分析線(通常1本あるいは2本)の元
素が他の元素の線と重なり合つて識別できない場合があ
る。そこで、この重なり合つている元素分析線を分離す
るため分解能を上げる必要がある。そこで、いずれの分
析法によつた場合でも、スペクトル分析には、大形の分
光器が使用されている。大形分光器が使用されるのは、
先にも述べた如く一般に発光スペクトルは、極めて多く
の発光像から成り、目的元素の分析線を分離する為に高
い分解能が必要とされるからである。例えば、鉄鋼を分
析する場合、発光スペクトル線は紫外・可視波長域だけ
で数千本にのぼる。従つて、通常、分解能5Å/mmの能
力を有する分光器が使用される。この大形分光器の制約
から、発光分析装置は、従来大形でかつ高価であつた。
また、最近では、新材料、原子力などの分野で希土類の
元素を分析する需要が高まつているが、希土類は極めて
多くの発光線を放出し、さらに分解能の高い分光器が要
求されるようになつてきている。At present, emission spectroscopy is popular as a highly sensitive elemental analysis method. In this emission spectroscopic analyzer, the arc method, spark method, plasma jet method,
There is an ICP (inductively coupled plasma) method or the like. There are many emission lines in emission spectroscopy, their density is high, the lines are forested, and the element of the target analysis line (usually 1 or 2) overlaps with the line of other elements and cannot be identified. There are cases. Therefore, it is necessary to increase the resolution in order to separate the overlapping elemental analysis lines. Therefore, regardless of which analysis method is used, a large-scale spectroscope is used for the spectral analysis. Large spectroscopes are used
This is because, as described above, the emission spectrum generally consists of an extremely large number of emission images, and high resolution is required to separate the analysis line of the target element. For example, when iron or steel is analyzed, the emission spectrum line reaches several thousand in the ultraviolet / visible wavelength range only. Therefore, usually a spectroscope having a resolution of 5Å / mm is used. Due to the limitation of the large-sized spectroscope, the emission analysis device has conventionally been large-sized and expensive.
In addition, recently, the demand for analyzing rare earth elements is increasing in the fields of new materials, nuclear power, etc., but rare earth emits a large number of emission lines, and a spectrometer with high resolution is required. It is coming.
特開昭57−133340号公報には、あるレベルより
大きなエネルギの励起光を試料に与えてその際に発生す
るフォトルミネッセンスを検出するようにした測定方法
が開示されている。しかし、これには、試料に入射され
る粒子ビームの粒子のエネルギレベルの上限を制限する
点については何も開示されていない。また、特開昭50
−126490号公報には、選択励起波長のビームを放
出するモノクロメータが記載されているが、試料に入射
される粒子のエネルギレベルを如何に制御するかについ
ては何ら開示していない。Japanese Unexamined Patent Publication No. 57-133340 discloses a measuring method in which excitation light having an energy larger than a certain level is applied to a sample and photoluminescence generated at that time is detected. However, it does not disclose anything about limiting the upper limit of the particle energy level of the particle beam incident on the sample. In addition, JP-A-50
No. 126490 discloses a monochromator that emits a beam having a selective excitation wavelength, but does not disclose how to control the energy level of particles incident on a sample.
本発明の目的は小形でかつ所望の分析線を得ることので
きる発光分光分析計を提供することにある。An object of the present invention is to provide an emission spectrophotometer that is compact and can obtain a desired analytical line.
本発明は原子の特定の準位のみを選択的に励起して単純
なスペクトルを得ることにより、小形化し、所望の分析
線を得ようというものである。The present invention is intended to obtain a simple analytical spectrum by selectively exciting only a specific level of an atom to obtain a desired analysis line.
以下、本発明の実施例について説明する。 Examples of the present invention will be described below.
第1図には、本発明の一実施例が示されている。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention.
図において、チヤンバ1内の一方にイオン源2が設けら
れている。このイオン源2は陽極3に接続されている。
このイオン源2のイオン出射側に偏向電極4,5が設け
られている。また、イオン源2には電子源(フイラメン
ト)6から出力される電子ビーム7が加速供給されるよ
うに構成されており、この電子源6から供給された電子
によつてイオン源2はイオン形成し、このイオンを加速
して偏向電極で偏向して出射する。このイオン源2から
出射されるイオンビーム8の通路の途中に絶縁板10に
設けられたエネルギー選択アイリス9が設けられてい
る。このエネルギー選択アイリス9を通つたイオンビー
ム8が試料保持台11によつて支持された試料(ターゲ
ツト)12に当り、この試料12から出力光13がチヤ
ンバ1に設けられた光用窓(石英板)を介して出力され
る。このチヤンバ1のイオン源2と対向する側にフラン
ジ15が取付けられており、このフランジ15に試料保
持台10が設けられている。また、チヤンバ1のイオン
源2側の一部に排気口16が設けられており、チヤンバ
1内が真空になるように図示されていない真空ポンプに
よつて、排気口16よりエアを排気している。In the figure, an ion source 2 is provided on one side of a chamber 1. The ion source 2 is connected to the anode 3.
Deflection electrodes 4 and 5 are provided on the ion emission side of the ion source 2. The ion source 2 is configured so that an electron beam 7 output from an electron source (filament) 6 is accelerated and supplied. The electrons supplied from the electron source 6 cause the ion source 2 to form ions. Then, the ions are accelerated, deflected by the deflection electrode, and emitted. An energy selection iris 9 provided on an insulating plate 10 is provided in the path of the ion beam 8 emitted from the ion source 2. The ion beam 8 passing through the energy selection iris 9 strikes a sample (target) 12 supported by a sample holder 11, and output light 13 from the sample 12 is a light window (quartz plate) provided in the chamber 1. ) Is output. A flange 15 is attached to the side of the chamber 1 facing the ion source 2, and a sample holder 10 is provided on the flange 15. Further, an exhaust port 16 is provided in a part of the chamber 1 on the side of the ion source 2, and air is exhausted from the exhaust port 16 by a vacuum pump (not shown) so that the inside of the chamber 1 becomes a vacuum. There is.
このように構成されるものであるから、分析対象の試料
(例えば鉄鋼)はフランジ15に固定された試料保持台
11に装着される。フランジ15により気密が保たれた
あと、チヤンバ1の内部は図示されていない真空ポンプ
により空気が排気され10-4〜10-6Torrの真空に保た
れる。その後、電子源6とイオン源2の間に数KVの加
速電圧が印加される。いま、電子源6から電子ビーム7
が加速供給され、この供給された電子はイオン源2に高
速で衝突し、スパツタリング現象によりイオンを形成す
る。このようにして発生したイオンは(+)電荷を持つ
ので(−)電位の電子源に向けて加速される。また、イ
オン源2におけるイオンは偏向電極4,5により偏向さ
れる。このイオンビーム8の内エネルギーの低いイオン
程、大きく偏向されるので、イオンの飛行方向に分散が
生じる。従つて、エネルギー選択アイリス9をもうける
ことにより、特定のエネルギーを有するイオンのみを選
別することができる。このエネルギー選択アイリス9を
通過したイオンは、試料保持台上の試料12に衝突す
る。このときのイオンの衝突速度をvとすると次の(1)
式のエネルギーにより試料がスパツタリングされ、かつ
励起される。With this configuration, the sample to be analyzed (for example, steel) is mounted on the sample holder 11 fixed to the flange 15. After the airtightness is maintained by the flange 15, the inside of the chamber 1 is evacuated by a vacuum pump (not shown) to maintain a vacuum of 10 −4 to 10 −6 Torr. Then, an acceleration voltage of several KV is applied between the electron source 6 and the ion source 2. Now, from the electron source 6 to the electron beam 7
Are acceleratedly supplied, and the supplied electrons collide with the ion source 2 at high speed to form ions by the spattering phenomenon. The ions generated in this way have a (+) charge and thus are accelerated toward an electron source having a (-) potential. Ions in the ion source 2 are deflected by the deflection electrodes 4 and 5. Ions having a lower internal energy of the ion beam 8 are deflected more, so that dispersion occurs in the flight direction of the ions. Therefore, by providing the energy selection iris 9, only ions having a specific energy can be selected. The ions that have passed through the energy selective iris 9 collide with the sample 12 on the sample holder. If the collision velocity of ions at this time is v, the following (1)
The energy of the equation causes the sample to be sputtered and excited.
但し:mはイオンの質量 このようにして励起された原子からの発光は光用窓14
から外部へ取り出され観測される。また、実際には、エ
ネルギー選択アイリス9の穴径から、エネルギーEに幅
が生じる。なお、イオン源として、加速電子によるスパ
ツタリング現象を用いずに、Csなどの低沸点金属を加
熱して原子蒸気を得、電子衝突によりイオンを生成する
事も可能である。 However: m is the mass of the ion.
It is taken out from the outside and observed. Further, in reality, the energy E has a width due to the hole diameter of the energy selection iris 9. As the ion source, it is also possible to heat a low boiling point metal such as C s to obtain atomic vapor without using the spattering phenomenon due to accelerated electrons and generate ions by electron collision.
本実施例における選択励起を次に説明する。例えばNa
のエネルギー準位の一部は第2図に示す如きである。こ
のNaは常温ではボルツマン分布により、ほとんどの原
子が基底状態 に有する。外部からエネルギを与え、上位の準位に励起
すると、量子力学的に許容された準位間に遷移が起こ
り、エネルギー差ΔEに対し、次の関係の波長の光が放
出される。The selective excitation in this embodiment will be described next. For example, N a
Some of the energy levels of are as shown in FIG. The N a is the Boltzmann distribution at room temperature, most of the atoms is a ground state Have. When energy is given from the outside and excited to an upper level, a transition occurs between the quantum mechanically allowed levels, and light having a wavelength having the following relation with respect to the energy difference ΔE is emitted.
ΔE=hν ……………………(2) ここで、νは放出される光の振動数、hはプランクの定
数である。ΔE = hν (2) where ν is the frequency of emitted light and h is Planck's constant.
本実施例における選択励起は、E2〜E3間の選択励起
により、E2〜E3間の原子準位を励起し、励起された
準位から低エネルギーの準位へ遷移する過程における光
の放出を観測するものである。この方法の特長は、E2
〜E3を狭く選ぶ事により、 の準位だけを励起することができ、最も単純な場合とし
ては、二本(あるいは一本)のみの発光線から成るスペ
クトルを得ることができる。この場合には、分光器は不
要となる。即ち、選択照射のエネルギー(E2〜E3の
中心エネルギーに対応)を変えることにより、元素固有
の発光線を得る事ができる。E2〜E3のエネルギー間
かくが狭い程、選択性は良くなる。Selective excitation in this embodiment, the selective excitation between E 2 to E 3, to excite atomic level between E 2 to E 3, the light in the process of transition from the excited state to the level of the low energy To observe the release of. The advantage of this method is that E 2
~ By narrowly selecting E 3 , Can be excited, and in the simplest case, a spectrum consisting of only two (or one) emission lines can be obtained. In this case, the spectroscope is unnecessary. That is, by changing the energy of selective irradiation (corresponding to the central energy of E 2 to E 3 ), it is possible to obtain a light emission line specific to the element. The narrower the energy gap between E 2 and E 3, the better the selectivity.
第3図に、本発明の他の実施例が示されている。FIG. 3 shows another embodiment of the present invention.
図において、チヤンバ100にはフランジ101が取り
付けられている。このフランジ101には試料保持台1
02が取り付けられており、この試料保持台102に陰
極を形成する試料103が設けられている。この試料に
対向して陽極104が設けられている。この陽極104
と陰極103の近傍に磁場Hが図の方向に形成されてい
る。また、チヤンバ100の一方に空気排気口105が
設けられており、他方にガス入口106が設られてい
る。また、チヤンバ100には光用窓(石英板)107
が設けられており、試料103から出力される出力光1
08を取り出せるように構成されている。In the figure, a flange 101 is attached to the chamber 100. The sample holder 1 is attached to the flange 101.
02 is attached, and a sample 103 for forming a cathode is provided on the sample holder 102. An anode 104 is provided to face this sample. This anode 104
A magnetic field H is formed near the cathode 103 in the direction of the drawing. An air exhaust port 105 is provided on one side of the chamber 100, and a gas inlet 106 is provided on the other side. In addition, a light window (quartz plate) 107 is provided on the chamber 100.
Is provided, and the output light 1 output from the sample 103
08 can be taken out.
また、陽極104にはチヨークコイル109とコンデン
サ110が接続されている。このチヨークコイル109
にはコンデンサ111と直流電源112の並列回路を介
して、チヨークコイル113が接続されている。このチ
ヨークコイル113の他端は陰103と共に接地されて
いる。またコンデンサ110の他端には高周波電源11
4が接続されており、この高周波電源114は、コンデ
ンサ115を介して接地されている。The anode 104 is connected with a yoke coil 109 and a capacitor 110. This chain coil 109
A chain yoke coil 113 is connected to the capacitor via a parallel circuit of a capacitor 111 and a DC power source 112. The other end of this yoke coil 113 is grounded together with the shadow 103. The high frequency power supply 11
4 is connected, and the high frequency power supply 114 is grounded via a capacitor 115.
このように構成される本実施例の場合、試料(金属)は
フランジ101に固定された試料保持台102に装着さ
れる。チヤンバ100は空気排気口105より空気を排
気し、一度真空に排気したあと、ガス入口10から、ア
ルゴン,ネオンなどの希ガスを導入する。このガスの圧
力は、1〜10Torrであり、第1図図示実施例のように
高い真空度は要求されない。また、試料103には
(−)の電位が印加され、陽極104との間に放電を生
じさせる。通常の直流放電では、本実施例による装置で
実験したところ、最低180Vの放電維持電圧が必要で
あつた。しかし、磁場の印加により約60Vの放電維持
電圧の低下が観測され、さらに高周波の印加により、約
145Vの放電維持電圧の低下が観測された。In the case of this example configured as described above, the sample (metal) is mounted on the sample holder 102 fixed to the flange 101. The chamber 100 evacuates air from the air exhaust port 105, and once evacuates it to a vacuum, introduces a rare gas such as argon or neon from the gas inlet 10. The pressure of this gas is 1 to 10 Torr, and a high degree of vacuum is not required unlike the embodiment shown in FIG. Further, a (−) potential is applied to the sample 103 to cause discharge between the sample 103 and the anode 104. In a normal DC discharge, an experiment with the device according to this example showed that a discharge sustaining voltage of at least 180 V was required. However, a decrease in discharge sustaining voltage of about 60 V was observed by applying a magnetic field, and a decrease in discharge sustaining voltage of about 145 V was observed by applying a high frequency.
本実施例における選択励起はエネルギーの上限E1を決
めて原子の励起を行う方法である。第2図に示されるN
aは常温では、ほとんどの原子が最下位レベルの基底準
位 にある。いま、E1に相当するエネルギーで励起する
と、基底準位に最も近い準位のみが励起され、これから
基底状態へ遷移する発光のみが観測される。基底準位へ
の遷移は、一般に共鳴遷移と呼ばれ、スペクトル線は共
鳴線と呼ばれる。従来の発光分析法では、イオン化準位
近くまで励起するのが通例であつたので、極めて多くの
スペクトル線が観測されていた。放電維持電圧の印加し
た磁場の強さによる変化が、高周波印加の有無とともに
第4図に示されている。図においてAが直流放電のカー
ブ、Bが流プラス高周波放電のカーブである。ここで用
いた高周波は、100MHz、10Wのものである。第
4図から高周波と磁場を印加して放電を行うと、放電維
持電圧が35V程度に抑さえられる。このような特殊な
放電を行うと、通常の放電で励起される準位と比較し
て、はるかに低いエネルギーを持つ準位のみが選択的に
励起されることが分かつた。The selective excitation in this embodiment is a method of exciting atoms by determining the upper limit E 1 of energy. N shown in FIG.
At room temperature, most of the atoms are at the lowest level ground level. It is in. Now, when excited with an energy corresponding to E 1 , only the level closest to the ground level is excited, and only the light emission transiting to the ground state is observed. The transition to the ground level is generally called a resonance transition, and the spectral line is called a resonance line. In the conventional emission analysis method, it has been customary to excite near the ionization level, so that an extremely large number of spectral lines have been observed. The change of the discharge sustaining voltage depending on the strength of the applied magnetic field is shown in FIG. 4 together with the presence or absence of high frequency application. In the figure, A is a curve of DC discharge, and B is a curve of flow plus high frequency discharge. The high frequency used here is 100 MHz and 10 W. From FIG. 4, when a high frequency and a magnetic field are applied to perform discharge, the discharge sustaining voltage is suppressed to about 35V. It has been found that, when such a special discharge is performed, only the level having much lower energy is selectively excited as compared with the level excited by the normal discharge.
第5図に示すように、一般の放電では、紫外可視波長領
域に極めて多くのスペクトル線が観測されるが、上記の
高周波と磁場を重畳した直流放電で励起すると、共鳴線
(基底準位からの遷移)のみが強く発光する事が分かつ
た。第6図は試料がcdの場合の発光スペクトルの一例
である。このように、各元素の共鳴線のみが主として発
光すると、多くの金属が混在する場合でも、スペクトル
は比較的単純となり高分解能の大形分光器を必要としな
い。分散能も25Å/mm程度で良く、分光器の大きさも
1/5程度となる。As shown in FIG. 5, in a general discharge, an extremely large number of spectral lines are observed in the UV-visible wavelength region, but when excited by a DC discharge in which the above high frequency and magnetic field are superposed, a resonance line (from the ground level) It was found that only the (transition of) emits intense light. FIG. 6 shows an example of the emission spectrum when the sample is cd. Thus, if only the resonance line of each element mainly emits light, the spectrum is relatively simple and a large-scale spectroscope with high resolution is not required even when many metals are mixed. The dispersive power is about 25 Å / mm, and the size of the spectroscope is about 1/5.
本実施例では、真空ポンプでもロータリーポンプのみで
良く、発光源も小形で単純であり、システム全体として
もコンパクトでコストの低い発光分光分析計が実現され
る。In this embodiment, only a vacuum pump or a rotary pump is required, the light emission source is small and simple, and a compact and low-cost emission spectrophotometer can be realized as the entire system.
以上説明したように、本発明によれば、試料に入射され
る粒子のエネルギレベルの上限を低い値に制限したり、
上下限を限定したりすることによって励起エネルギを制
御することが可能になり、試料から放出される原子スペ
クトルの本数を低い値に留めることができるので、分解
能の低い発光分光分析計を使用することができる。As described above, according to the present invention, the upper limit of the energy level of particles incident on the sample is limited to a low value,
It is possible to control the excitation energy by limiting the upper and lower limits, and it is possible to keep the number of atomic spectra emitted from the sample at a low value, so use an emission spectrophotometer with low resolution. You can
第1図は本発明の発光分光分析計の実施例を示す図、第
2図は原子のエネルギー準位をNaを例に示した図、第
3図は本発明の他の実施例を示す図、第4図は磁束密度
と放電維持電圧の関係を示す図、第5図は従来の発光分
析装置による発光スペクトルを示す図、第6図は本発明
による発光スペクトルを示す図である。 2……イオン源、4,5……偏向電極、6……電子源、
12……試料、14……光用窓。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of an emission spectroscopic analyzer of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing the energy level of atoms by taking N a as an example, and FIG. 3 is another embodiment of the present invention. FIG. 4 is a diagram showing the relationship between magnetic flux density and discharge sustaining voltage, FIG. 5 is a diagram showing an emission spectrum by a conventional emission analyzer, and FIG. 6 is a diagram showing an emission spectrum according to the present invention. 2 ... Ion source, 4,5 ... Deflection electrode, 6 ... Electron source,
12 ... Sample, 14 ... Light window.
Claims (3)
速された粒子を試料に衝突させ、特定のエネルギ範囲に
入るエネルギレベルのみを選択的に励起し、選択的に励
起された準位からの発光を観測することにより、定量あ
るいは定性分析を行うようにした発光分光分析計におい
て、特定のエネルギ幅を持つエネルギ範囲に加速された
粒子を選択する手段を含んでなり、該選択する手段は、
加速された粒子ビームの通路に配置されて該粒子ビーム
を偏向させる偏向電極と、該偏向電極と前記試料を結ぶ
粒子ビームの通路に配置され粒子を通過させる開口を備
え該開口以外の部分での粒子の通過を拒止する選択手段
とを含んでなることを特徴とする発光分光分析計。1. A particle accelerated into an energy range having a specific energy width is made to collide with a sample, and only energy levels falling within the specific energy range are selectively excited. In an emission spectrophotometer configured to perform quantitative or qualitative analysis by observing luminescence, it comprises means for selecting particles accelerated in an energy range having a specific energy width, and the means for selecting comprises
A portion other than the opening is provided with a deflection electrode that is arranged in the path of the accelerated particle beam and deflects the particle beam, and an opening that is arranged in the path of the particle beam that connects the deflection electrode and the sample and that allows the particles to pass therethrough. An emission spectrophotometer comprising: a selection unit that rejects passage of particles.
速された粒子を試料に衝突させ、特定のエネルギ範囲に
入るエネルギレベルのみを選択的に励起し、選択的に励
起された準位からの発行を観測することにより、定量あ
るいは定性分析を行うようにした発光分光分析計におい
て、特定のエネルギ幅を持つエネルギ範囲に粒子を加速
する手段を含んでなり、該加速する手段は、粒子を加速
する電極と、該電極間に磁場を印加する手段とを含んで
なることを特徴とする発光分光分析計。2. A particle accelerated into an energy range having a specific energy width is made to collide with a sample, and only energy levels falling within the specific energy range are selectively excited. An emission spectroscopic analyzer adapted to perform quantitative or qualitative analysis by observing issuance includes means for accelerating particles in an energy range having a specific energy width, and the accelerating means accelerates particles. And an electrode for applying a magnetic field between the electrodes, and an emission spectrophotometer.
計において、粒子を加速する電極は直流放電に高周波放
電を重畳可能に構成されていることを特徴とする発光分
光分析計。3. The emission spectroscopic analyzer according to claim 2, wherein the electrode for accelerating the particles is constructed so that the high frequency discharge can be superimposed on the direct current discharge.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59156346A JPH0641914B2 (en) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | Emission spectroscopy analyzer using selective excitation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59156346A JPH0641914B2 (en) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | Emission spectroscopy analyzer using selective excitation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6134444A JPS6134444A (en) | 1986-02-18 |
| JPH0641914B2 true JPH0641914B2 (en) | 1994-06-01 |
Family
ID=15625750
Family Applications (1)
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| JP59156346A Expired - Lifetime JPH0641914B2 (en) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | Emission spectroscopy analyzer using selective excitation |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPH0641914B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193038A (en) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | Method and apparatus for analyzing solid element |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5039594A (en) * | 1973-08-13 | 1975-04-11 | ||
| US3891853A (en) * | 1974-03-20 | 1975-06-24 | Baxter Laboratories Inc | Energy compensated spectrofluorometer |
| JPS57133340A (en) * | 1981-02-12 | 1982-08-18 | Fujitsu Ltd | Measuring method for compensating effect distribution for semi-insulating gaas crystal |
-
1984
- 1984-07-26 JP JP59156346A patent/JPH0641914B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6134444A (en) | 1986-02-18 |
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