JPH0644588B2 - Orientation flat mark position detector - Google Patents
Orientation flat mark position detectorInfo
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- JPH0644588B2 JPH0644588B2 JP63266123A JP26612388A JPH0644588B2 JP H0644588 B2 JPH0644588 B2 JP H0644588B2 JP 63266123 A JP63266123 A JP 63266123A JP 26612388 A JP26612388 A JP 26612388A JP H0644588 B2 JPH0644588 B2 JP H0644588B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体製造工程において、単結晶インゴット
の端面に付されたオリエンテーションフラット・マーク
(以下、OFマークと略称する)の位置を検出するため
の検出装置に関する。The present invention detects the position of an orientation flat mark (hereinafter abbreviated as OF mark) attached to an end face of a single crystal ingot in a semiconductor manufacturing process. To a detection device for.
(従来の技術) 半導体電子装置の基板として用いられる半導体ウエーハ
は、例えばシリコン等の単結晶インゴットをその棒軸方
向にほぼ直角にスライスし、スライスして得られたもの
に対して更にラッピング、エッチング及びポリッシング
等を施すことによって少なくとも片面が鏡面の薄円板状
に成形されるが、通常、その円周上の一部に、オプティ
カルパターンの位置決め等のための所謂オリエンテーシ
ョンフラット(以下、OFと略称する)が少なくとも一
箇所に設けられる。このOFはウエーハの鏡面に直角な
平面で構成され、これに対しては高い方位精度と加工精
度が要求されている。(Prior Art) A semiconductor wafer used as a substrate of a semiconductor electronic device is obtained by slicing a single crystal ingot of silicon or the like at a right angle to the rod axis direction, and further lapping and etching the sliced product. And at least one surface is formed into a thin disk shape with a mirror surface by polishing or the like, and a so-called orientation flat (hereinafter abbreviated as OF) for positioning an optical pattern is usually formed on a part of the circumference thereof. Is provided in at least one place. This OF is composed of a plane perpendicular to the mirror surface of the wafer, and for this, high azimuth accuracy and processing accuracy are required.
製造上は、OFは、半導体単結晶インゴットを所定の寸
法精度で円筒に機械的(場合によっては、更に化学的)
に加工した後、該単結晶インゴットを回転させずに、そ
の側面を例えば円筒研磨機で棒軸に平行に研削して加工
される。In terms of manufacturing, OF mechanically (in some cases, further chemically) a semiconductor single crystal ingot into a cylinder with a predetermined dimensional accuracy.
After the processing, the single crystal ingot is processed by grinding the side surface of the single crystal ingot in parallel with the rod axis by, for example, a cylindrical polishing machine without rotating.
ところで、従来、OF面に対しては、一定の結晶学的方
位とその許容公差が指定されるため、単結晶インゴット
の一端面にはOFマークが付されている。このOFマー
クは、例えば、単結晶インゴットの一端面に付された着
色、その他のマーキング又はこれに類する手段から成
り、従来、このOFマークを肉眼で確認しながら、研磨
砥石の研磨面にOFマークの位置合わせを行なうことに
よってOFの加工が行なわれていた。By the way, conventionally, a constant crystallographic orientation and a permissible tolerance thereof are specified for the OF plane, so that an OF mark is attached to one end surface of the single crystal ingot. The OF mark is composed of, for example, coloring on one end surface of the single crystal ingot, other markings, or a similar means. Conventionally, while checking the OF mark with the naked eye, the OF mark is formed on the polishing surface of a polishing grindstone. The OF was processed by aligning the positions.
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、斯かる方法によれば、砥石研磨面とOF
マークの位置合わせが目視によってなされるため、正確
さを欠き、時間的な損失を避けることができなかった。(Problems to be Solved by the Invention) However, according to such a method, the grindstone polishing surface and the OF
Since the alignment of the marks is done visually, the accuracy is lacking and time loss cannot be avoided.
本発明は斯かる問題に鑑みてなされたもので、その目的
とする処は、ワークの端面に付されたOFマークを光電
的に検出し、簡単な信号処理回路を利用して、高精度な
OFの加工を可能にするオリエンテーションフラット・
マークの位置検出装置を提供することにある。The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to detect an OF mark provided on an end surface of a workpiece photoelectrically and use a simple signal processing circuit to achieve high accuracy. Orientation flat that enables OF processing
It is to provide a mark position detecting device.
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成すべく本発明は、単結晶インゴットをそ
の中心軸周りに回転させながら、該単結晶インゴットの
端面に付された直線状のオリエンテーションフラット・
マークの位置を検出する装置を、一直線上に配列されて
前記オリエンテーションフラット・マークからの反射光
を受けてハイレベル信号を出力する複数の光電センサー
と、該光電センサーを単結晶インゴットの前記オリエン
テーションフラット・マークを含む所定範囲を走査せし
める走査手段を含む検出部と、前記オリエンテーション
フラット・マークが前記光電センサーの受光部を結ぶ直
線に一致したときに出力される全光電センサーからのハ
イレベル信号によってこれを検知する検知回路を含んで
構成したことを特徴とする。(Means for Solving the Problem) In order to achieve the above-mentioned object, the present invention is directed to a linear orientation flat-shape attached to an end face of a single crystal ingot while rotating the single crystal ingot around its central axis.
A device for detecting the position of the mark, a plurality of photoelectric sensors that are arranged in a straight line and output a high level signal by receiving the reflected light from the orientation flat mark, and the photoelectric sensors that are the orientation flats of the single crystal ingot. A high-level signal from all photoelectric sensors output when the orientation flat mark coincides with a straight line connecting the light receiving portion of the photoelectric sensor and a detecting portion including a scanning unit that scans a predetermined range including the mark. It is characterized in that it is configured to include a detection circuit for detecting.
又、本発明では、前記光電センサーを、単結晶インゴッ
トの中心軸に直交する軸周りに回動するセンサー部材に
一直線状に配列し、前記検出部の走査手段を、前記セン
サー部材の中心軸に結着された揺動アームと、該揺動ア
ームが摺接する偏心カムと、該偏心カムを回転駆動する
モーターを含んで構成した。Further, in the present invention, the photoelectric sensor is arranged in a straight line on a sensor member that rotates around an axis orthogonal to the central axis of the single crystal ingot, and the scanning means of the detection unit is arranged on the central axis of the sensor member. It is configured to include a swing arm that is bound, an eccentric cam that is in sliding contact with the swing arm, and a motor that rotationally drives the eccentric cam.
更に、本発明では、前記検知回路を、前記光電センサー
の1つから出力されるハイレベル信号によって作動する
ワンショット回路と、該ワンショット回路の作動中に他
の全ての光電センサーからハイレベル信号が入力される
と作動するAND回路と、該AND回路の出力信号を保
持するラッチ回路を含んで構成した。Further, in the present invention, the detection circuit is operated by a high-level signal output from one of the photoelectric sensors, and a high-level signal from all other photoelectric sensors during operation of the one-shot circuit. It is configured to include an AND circuit that operates when is input, and a latch circuit that holds an output signal of the AND circuit.
(作用) 本発明によれば、半導体インゴットに付されたOFマー
クの位置が光電センサーによって光学的に検出され、光
電センサーからの出力によってこのOFマークが所定の
位置にあるか否かが検知回路によって検知されるため、
半導体インゴットに対するOFの加工が高精度になされ
得る。(Operation) According to the present invention, the position of the OF mark attached to the semiconductor ingot is optically detected by the photoelectric sensor, and whether the OF mark is at a predetermined position or not is detected by the output from the photoelectric sensor. Is detected by
The OF processing for the semiconductor ingot can be performed with high accuracy.
(実施例) 以下に本発明の一実施例を添付図面に基づいて説明す
る。(Embodiment) An embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
第1図は本発明に係る位置検出装置の斜視図、第2図は
同装置の平面図、第3図は同装置の回路構成図、第4図
は同装置による位置検出動作のプロセスチャート、第5
図乃至第7図は同装置による位置検出動作の説明図であ
る。FIG. 1 is a perspective view of a position detecting device according to the present invention, FIG. 2 is a plan view of the device, FIG. 3 is a circuit configuration diagram of the device, and FIG. 4 is a process chart of a position detecting operation by the device. Fifth
FIG. 7 to FIG. 7 are explanatory views of the position detecting operation by the device.
第1図及び第2図において、Wは円柱状の単結晶インゴ
ットであり、これの外周は円筒研磨盤によって研磨さ
れ、その端面Waには直線のOFマークlが赤マジック
インキで付されている。In FIGS. 1 and 2, W is a columnar single crystal ingot, the outer periphery of which is polished by a cylindrical grinder, and a linear OF mark 1 is attached to its end surface Wa with red magic ink. .
一方、上記インゴットWの端面Waの近傍には、本発明
に係る位置検出装置を構成する円柱状のセンサー部材1
が垂直に、且つ、回動自在に配されており、該センサー
部材1の上下方向には3つの円孔1a,1b,1cが貫
設されている。そして、これらの円孔1a,1b,1c
内には光電スイッチPH1,PH0,PH2が各々収納
されている。尚、上記光電スイッチPH1,PH0,P
H2は、これらから発せられた光の反射光を受けてこれ
を電気信号に変換する光電センサーである。On the other hand, in the vicinity of the end surface Wa of the ingot W, a cylindrical sensor member 1 constituting the position detecting device according to the present invention.
Are arranged vertically and rotatably, and three circular holes 1a, 1b, 1c are formed through the sensor member 1 in the vertical direction. And these circular holes 1a, 1b, 1c
Photoelectric switches PH1, PH0 and PH2 are housed therein. The photoelectric switches PH1, PH0, P
H2 is a photoelectric sensor that receives reflected light emitted from these and converts it into an electric signal.
又、上記センサー部材1の近傍にはDCモーター2が配
されており、該DCモーター2の出力軸2aの上端には
円板状の偏心カム3が結着されている。そして、この偏
心カム3の外周面には、その一端がセンサー部材1の中
心軸4に結着された揺動アーム5の他端が摺接されてお
り、該揺動アーム5の他端はスプリング6によって偏心
カム3の外周面に一定圧力で常時押圧されている。A DC motor 2 is arranged near the sensor member 1, and a disc-shaped eccentric cam 3 is connected to the upper end of an output shaft 2a of the DC motor 2. The eccentric cam 3 has an outer peripheral surface slidably in contact with the other end of a swing arm 5 whose one end is connected to the central shaft 4 of the sensor member 1. The spring 6 constantly presses the outer peripheral surface of the eccentric cam 3 with a constant pressure.
ところで、第3図に示すように、前記光電スイッチPH
0はワンショット回路7に電気的に接続され、ワンショ
ット回路7はAND回路8に接続されている。By the way, as shown in FIG.
0 is electrically connected to the one-shot circuit 7, and the one-shot circuit 7 is connected to the AND circuit 8.
又、前記光電スイッチPH1,PH2は共にAND回路
8に接続され、AND回路8はラッチ回路9に接続され
ており、ラッチ回路9には警告用のブザー10とリセッ
トスイッチ11が接続されている。尚、第3図中、12
は単結晶インゴットWの1回転を検出するセンサーであ
る。Further, the photoelectric switches PH1 and PH2 are both connected to an AND circuit 8, the AND circuit 8 is connected to a latch circuit 9, and the latch circuit 9 is connected to a warning buzzer 10 and a reset switch 11. Incidentally, in FIG. 3, 12
Is a sensor for detecting one rotation of the single crystal ingot W.
次に、第4乃至図第7図に基づいて本発明装置によるO
Fマークlの位置検出動作を説明する。Next, based on FIG. 4 to FIG.
The position detecting operation of the F mark 1 will be described.
先ず、第1図に示されるセンサー部材1、DCモーター
2、偏心カム3等で構成される検出部をインゴットWに
対して下降せしめ(第4図のステップ1)、検出部を第
1図に示すようにインゴットWの端面Wa近傍に位置せ
しめる。尚、インゴットWは、その端面Waに付された
OFマークlがセンサー部材1の光電スイッチPH1,
PH0,PH2の各中心を結ぶ線に略一致するよう予め
回転せしめられている。First, the detection unit composed of the sensor member 1, the DC motor 2, the eccentric cam 3 and the like shown in FIG. 1 is lowered to the ingot W (step 1 in FIG. 4), and the detection unit is shown in FIG. As shown, the ingot W is positioned near the end surface Wa. In the ingot W, the OF mark 1 attached to the end surface Wa of the ingot W has the photoelectric switch PH1,
It is preliminarily rotated so as to substantially coincide with the line connecting the centers of PH0 and PH2.
次に、検出部を第2図の矢印方向にスライドさせ(第4
図のステップ2)、これがインゴットWのOFマークl
の近傍に達したか否かが判断され(ステップ3)、判断
結果がYesであれば該検出部は停止され(ステップ
4)、Noであれば検出部のスライドが続行される。Next, slide the detector in the direction of the arrow in FIG.
Step 2) of the figure, this is the OF mark l of the ingot W
It is determined whether or not it has reached the vicinity of (step 3), and if the determination result is Yes, the detection unit is stopped (step 4), and if No, the detection unit continues to slide.
上記のように検出部がOFマークl近傍に位置すると、
センサー部材1が中心軸4の周りに揺動せしめられる
(ステップ5)。As described above, when the detection unit is located near the OF mark 1,
The sensor member 1 is swung around the central axis 4 (step 5).
而して、上記センサー部材1の揺動は次のようにしてな
される。Then, the swing of the sensor member 1 is performed as follows.
即ち、DCモーター2が駆動されて偏心カム3が第1図
の矢印方向に回転せしめられると、該偏心カム3の外周
面に摺動する揺動アーム5が中心軸4を中心に揺動し、
この結果、センサー部材1も中心軸4を中心に揺動せし
められる。That is, when the DC motor 2 is driven to rotate the eccentric cam 3 in the direction of the arrow in FIG. 1, the swing arm 5 sliding on the outer peripheral surface of the eccentric cam 3 swings about the central axis 4. ,
As a result, the sensor member 1 is also swung about the central axis 4.
ここで、第2図に示すように、インゴットWの端面Wa
とセンサー部材1の揺動中心との間の距離をSとし、セ
ンサー部材1の揺動角をθとすれば、センサー部材1に
取り付けられた光電スイッチPH1,PH0,PH2の
インゴッド端面Wa上の走査範囲Lは次式: L=2S・tan(θ/2) ≒S・θ(θが小さいとき) で表され、この走査範囲Lの中にOFマークlが含まれ
ている。Here, as shown in FIG. 2, the end surface Wa of the ingot W is
Letting S be the distance between the swinging center of the sensor member 1 and θ, and θ be the swinging angle of the sensor member 1, the photoelectric switches PH1, PH0, PH2 mounted on the sensor member 1 are provided on the ingot end face Wa. The scanning range L is represented by the following formula: L = 2S · tan (θ / 2) ≈S · θ (when θ is small), and the OF mark 1 is included in this scanning range L.
上記のようにセンサー部材1を揺動せしめることによっ
て、光電スイッチPH1,PH0,PH2にインゴット
Wの端面Wa上のLの範囲(第2図参照)を走査せし
め、インゴットWを回転させながら(ステップ6)、O
Fマークlが光電スイッチPH1,PH0,PH2の各
中心を結ぶ線(垂線)mに一致しているか否かが検出さ
れる(第4図のステップ7)が、この検出は具体的には
次のようになされる。By swinging the sensor member 1 as described above, the photoelectric switches PH1, PH0, PH2 are caused to scan the range L (see FIG. 2) on the end surface Wa of the ingot W, while rotating the ingot W (step 6), O
It is detected whether or not the F mark 1 coincides with a line (perpendicular) m connecting the centers of the photoelectric switches PH1, PH0, PH2 (step 7 in FIG. 4). Is done like.
即ち、OFマークlが垂線mに対して取り得る姿勢に
は、第5図(a)、第6図(a)、第7図(a)に示す
態様が考えられ、第5図(a)及び第6図(a)はOF
マークlが垂線mに一致していない場合を示し、第7図
(a)はOFマークlが垂線mに一致している場合を示
す。尚、第5図、第6図及び第7図において(b),
(c),(d)はそれぞれ光電スイッチPH0,PH
1,PH2の信号波形を、(e),(f),(g)はそ
れぞれワンショット回路7、AND回路8、ラッチ回路
9の信号波形を示す。That is, as the posture that the OF mark 1 can take with respect to the perpendicular m, the modes shown in FIGS. 5 (a), 6 (a) and 7 (a) are conceivable, and FIG. And FIG. 6 (a) shows OF
The case where the mark 1 does not match the perpendicular m is shown, and FIG. 7A shows the case where the OF mark 1 matches the perpendicular m. Incidentally, in FIG. 5, FIG. 6 and FIG. 7, (b),
(C) and (d) are photoelectric switches PH0 and PH, respectively.
1, PH2, and (e), (f), and (g) show the signal waveforms of the one-shot circuit 7, AND circuit 8, and latch circuit 9, respectively.
而して、第5図(a)に示すようにOFマークlが垂線
mと交わっており、且つ、OFマークlが水平線となす
角度αがα<90゜である場合において、垂線m上に並
ぶ光電スイッチPH0,PH1,PH2が図示矢印方向
に走査されれば、光電スイッチPH0,PH1,PH2
は、OFマークlからの反射光を受けて第5図(b),
(c),(d)に示すような信号を出力する。即ち、光
電スイッチPH0は第5図(b)に破線にて示すトリガ
ー位置に一致してハイレベル信号Hを出力し、光電スイ
ッチPH1,PH2は第5図(c),(d)に示すよう
に破線にて示すトリガー位置に対してそれぞれ早く、遅
くハイレベル信号Hを出力する。Thus, when the OF mark 1 intersects with the perpendicular m as shown in FIG. 5 (a), and the angle α formed by the OF mark 1 and the horizontal line is α <90 °, the perpendicular to the perpendicular m. If the aligned photoelectric switches PH0, PH1, PH2 are scanned in the direction of the arrow shown, the photoelectric switches PH0, PH1, PH2
Receives the reflected light from the OF mark l, and FIG.
The signals as shown in (c) and (d) are output. That is, the photoelectric switch PH0 outputs the high level signal H in agreement with the trigger position shown by the broken line in FIG. 5 (b), and the photoelectric switches PH1 and PH2 are as shown in FIGS. 5 (c) and 5 (d). The high level signal H is output earlier and later than the trigger position indicated by the broken line.
上記のように光電スイッチPH0がOFマークlを検出
してその信号がローレベルLからハイレベルHに変化し
た時点において、第5図(e)に示すように、ワンショ
ット回路7は光電スイッチPH0の出力立ち上がりのタ
イミングでパルスを発生させる。尚、このパルスの幅t
はワンショット回路7の定数で決定され、この幅tが狭
い程測定精度が高くなる。As described above, when the photoelectric switch PH0 detects the OF mark 1 and the signal changes from the low level L to the high level H, the one-shot circuit 7 operates as shown in FIG. 5 (e). A pulse is generated at the timing of the output rise of. The width t of this pulse
Is determined by the constant of the one-shot circuit 7, and the narrower the width t, the higher the measurement accuracy.
而して、ワンショット回路7のパルス幅tの時間内に光
電スイッチPH1,PH2の出力が共にハイレベルHで
あれば、AND回路8の出力もハイレベルHを示すが、
この場合は光電スイッチPH1,PH2の出力は共にロ
ーレベルLにあるため、第5図(f),(g)に示すよ
うにAND回路8及びラッチ回路9の出力は共にローレ
ベルLを示し、OFマークlが垂線mに合致していない
ことが検出される。Thus, if the outputs of the photoelectric switches PH1 and PH2 are both at the high level H within the pulse width t of the one-shot circuit 7, the output of the AND circuit 8 also indicates the high level H.
In this case, since the outputs of the photoelectric switches PH1 and PH2 are both at the low level L, the outputs of the AND circuit 8 and the latch circuit 9 are both at the low level L as shown in FIGS. 5 (f) and (g). It is detected that the OF mark 1 does not match the perpendicular m.
上記と同様に、第6図(a)に示すようにOFマークl
が垂線mと交わっていてこれと水平線となす角α>90
゜である場合にも、ワンショット回路7のパルス幅tの
時間内では光電スイッチPH1,PH2の出力が共にロ
ーレベルLにあるため(第6図(b),(c),(d)
参照)、第6図(f),(g)に示すようにAND回路
8及びラッチ回路9の出力は共にローレベルLを示し,
OFマークlが垂線mに合致していないことが検出され
る。Similar to the above, as shown in FIG.
Intersects with the vertical line m and makes an angle α> 90 between it and the horizontal line.
Even in the case of .degree., The outputs of the photoelectric switches PH1 and PH2 are both at the low level L within the pulse width t of the one-shot circuit 7 (FIGS. 6 (b), (c), (d)).
As shown in FIGS. 6 (f) and 6 (g), the outputs of the AND circuit 8 and the latch circuit 9 both show a low level L,
It is detected that the OF mark 1 does not match the perpendicular m.
これに対して、第7図(a)に示すようにOFマークl
が垂線mに合致するα=90゜の場合には、第7図
(b),(c),(d)に示すようにワンショット回路
7のパルス幅tの時間内で光電スイッチPH0,PH
1,PH2の出力が共にハイレベルHにあるため、同図
(f)に示すようにAND回路8の出力がハイレベルH
となり、この出力信号はラッチ回路9によって維持され
(第7図(g)参照)、この信号によってブザー10が
作動せしめられ、ブザー音によってOFマークlが垂線
mに一致したことが知らされる。尚、ブザー10の作動
はリセットスイッチ11によって停止せしめられる。On the other hand, as shown in FIG.
Is α = 90 °, which coincides with the vertical line m, as shown in FIGS. 7 (b), (c), and (d), the photoelectric switches PH0, PH are turned on within the pulse width t of the one-shot circuit 7.
Since the outputs of 1 and PH2 are both at the high level H, the output of the AND circuit 8 is at the high level H as shown in FIG.
This output signal is maintained by the latch circuit 9 (see FIG. 7 (g)), and this signal causes the buzzer 10 to operate, and the buzzer sound informs that the OF mark 1 matches the perpendicular line m. The operation of the buzzer 10 is stopped by the reset switch 11.
以上のようにOFマークlの位置が検出され、OFマー
クlが垂線mに一致したことを知ることができるが、第
5図及び第6図に示すようにOFマークlが垂線mに一
致していない場合には、第4図に示すステップ6〜7ま
での動作が繰り返され、第7図に示すようにOFマーク
lが垂線mに一致した時点でインゴットWの回転が停止
され(第4図のステップ8)、その後、検出部が上昇さ
せて(ステップ9)一連の位置検出動作が終了する(ス
テップ10)。As described above, the position of the OF mark 1 is detected, and it can be known that the OF mark 1 coincides with the perpendicular m. However, as shown in FIGS. 5 and 6, the OF mark 1 coincides with the perpendicular m. If not, the operations of steps 6 to 7 shown in FIG. 4 are repeated, and the rotation of the ingot W is stopped when the OF mark 1 coincides with the perpendicular m as shown in FIG. After the step 8), the detector is raised (step 9), and a series of position detecting operations is completed (step 10).
斯くて、OFマークlの位置が、光電スイッチPH1,
PH0,PH2の各中心を結ぶ線mと一致するよう設定
された後は、そのまま、或いは円筒研磨機内で回転され
るインゴットWの固定端に、垂線mを基準として、研磨
砥石の研磨面がOFの研磨面と平行となるよう固定さ
れ、インゴットWの外周の一部がこのOFマークlに沿
って研磨されて所望のOFが形成される。Thus, the position of the OF mark 1 is the photoelectric switch PH1,
After being set so as to coincide with the line m connecting the centers of PH0 and PH2, the polishing surface of the polishing grindstone is OF as it is or at the fixed end of the ingot W rotated in the cylindrical polishing machine with reference to the perpendicular m. The ingot W is fixed so as to be parallel to the polishing surface, and a part of the outer periphery of the ingot W is polished along the OF mark 1 to form a desired OF.
尚、インゴットWの回転速度は、作業が手動でなされる
場合には、OFマークlが垂線mに一致したときに発せ
られるブザー等の信号により作業者がインゴットWの回
転を正確にその位置に止められるように遅い方が良い。
又、自動の場合には、第3図に示す回転位置決め制御部
11にその一致記号を入力し、これによってインゴット
Wを自動位置決めするようにすれば良い。When the work is done manually, the rotation speed of the ingot W is set so that the worker can accurately rotate the ingot W by a signal such as a buzzer emitted when the OF mark 1 coincides with the vertical line m. It is better to be late so that you can stop.
Further, in the case of automatic, the coincidence symbol may be input to the rotary positioning control section 11 shown in FIG. 3 to automatically position the ingot W by this.
ところで、インゴットWの端面Waに付されるOFマー
クlは、色調、光沢度及び使用投光光源のスペクトルに
よってインゴットWの他の部分と、反射光の光エネルギ
ーに変化を生ずれば良いのであって、種々のバリエーシ
ョンが考えられる。又、他のOFマークの例として、イ
ンゴットの反射率と異なる反射率を有する反射テープを
貼り付けたり、インゴットの端面に直線ダイヤモンドペ
ン等でケガキ線を刻設することが考えられる。By the way, the OF mark 1 attached to the end face Wa of the ingot W should produce a change in the light energy of the reflected light from the other parts of the ingot W depending on the color tone, the glossiness, and the spectrum of the projection light source used. Therefore, various variations are possible. Further, as another example of the OF mark, it is conceivable to attach a reflection tape having a reflectance different from that of the ingot, or to engrave a marking line with a straight diamond pen or the like on the end face of the ingot.
(発明の効果) 以上の説明で明らかな如く、本発明によれば、単結晶イ
ンゴットの端面に付されたオリエンテーションフラット
・マークの位置が光電センサーによって光学的に検出さ
れ、光電センサーからの出力信号によってこのオリエン
テーションフラット・マークが所定の位置にあるか否か
が検出回路で見地されるため、単結晶インゴットに対す
るオリエンテーションフラットの加工が高精度になされ
得るという効果が得られる。(Effects of the Invention) As is clear from the above description, according to the present invention, the position of the orientation flat mark provided on the end face of the single crystal ingot is optically detected by the photoelectric sensor, and the output signal from the photoelectric sensor is detected. Since the detection circuit determines whether or not the orientation flat mark is located at a predetermined position, the effect that the orientation flat can be processed with high precision with respect to the single crystal ingot is obtained.
第1図は本発明に係る位置検出装置の斜視図、第2図は
同装置の平面図、第3図は同装置の回路構成図、第4図
は同装置による位置検出動作のプロセスチャート、第5
図乃至第7図は同装置による位置検出動作の説明図であ
る。 1……センサー部材、2……DCモーター、3……偏心
カム、4……揺動アーム、7……ワンショット回路、8
……AND回路、9……ラッチ回路、l……オリエンテ
ーションフラット・マーク(OFマーク)、m……垂
線、PH0,PH1,PH2……光電スイッチ(光電セ
ンサー)、W……単結晶インゴット。FIG. 1 is a perspective view of a position detecting device according to the present invention, FIG. 2 is a plan view of the device, FIG. 3 is a circuit configuration diagram of the device, and FIG. 4 is a process chart of a position detecting operation by the device. Fifth
FIG. 7 to FIG. 7 are explanatory views of the position detecting operation by the device. 1 ... Sensor member, 2 ... DC motor, 3 ... eccentric cam, 4 ... swing arm, 7 ... one-shot circuit, 8
... AND circuit, 9 ... Latch circuit, l ... Orientation flat mark (OF mark), m ... Vertical line, PH0, PH1, PH2 ... Photoelectric switch (photoelectric sensor), W ... Single crystal ingot.
Claims (3)
させながら、該単結晶インゴットの端面に付された直線
状のオリエンテーションフラット・マークの位置を検出
する装置であって、一直線上に配列されて前記オリエン
テーションフラット・マークからの反射光を受けてハイ
レベル信号を出力する複数の光電センサーと、該光電セ
ンサーを単結晶インゴットの前記オリエンテーションフ
ラット・マークを含む所定範囲で走査せしめる走査手段
を含む検出部と、前記オリエンテーションフラット・マ
ークが前記光電センサーの受光部を結ぶ直線に一致した
ときに出力される全光電センサーからのハイレベル信号
によってこれを検知する検知回路を含んで構成されるこ
とを特徴とするオリエンテーションフラット・マークの
位置検出装置。1. A device for detecting the position of a linear orientation flat mark attached to an end face of a single crystal ingot while rotating the single crystal ingot about its central axis, the device being arranged in a straight line. A plurality of photoelectric sensors that receive reflected light from the orientation flat mark and output a high-level signal, and a detection unit that scans the photoelectric sensor within a predetermined range including the orientation flat mark of the single crystal ingot. Section, and a detection circuit for detecting this by a high level signal from all photoelectric sensors output when the orientation flat mark coincides with a straight line connecting the light receiving sections of the photoelectric sensor. Orientation flat mark position detection device.
中心軸に直交する軸周りに回動するセンサー部材に一直
線状に配列され、前記検出部の走査手段は、前記センサ
ー部材の中心軸に結着された揺動アームと、該揺動アー
ムが摺接する偏心カムと、該偏心カムを回転駆動するモ
ーターを含んで構成されることを特徴とする請求項1記
載のオリエンテーションフラット・マークの位置検出装
置。2. The photoelectric sensor is linearly arranged on a sensor member that rotates around an axis orthogonal to the central axis of the single crystal ingot, and the scanning means of the detection unit is connected to the central axis of the sensor member. 2. The position detection of an orientation flat mark according to claim 1, further comprising: a mounted swinging arm, an eccentric cam with which the swinging arm makes sliding contact, and a motor for rotationally driving the eccentric cam. apparatus.
から出力されるハイレベル信号によって作動するワンシ
ョット回路と、該ワンショット回路の作動中に他の全て
の光電センサーからハイレベル信号が入力されると作動
するAND回路と、該AND回路の出力信号を保持する
ラッチ回路を含んで構成されることを特徴とする請求項
1又は2記載のオリエンテーションフラット・マークの
位置検出装置。3. The one-shot circuit operated by a high-level signal output from one of the photoelectric sensors, and the detection circuit receives high-level signals from all other photoelectric sensors during operation of the one-shot circuit. 3. An orientation flat mark position detecting device according to claim 1, further comprising an AND circuit that operates when input, and a latch circuit that holds an output signal of the AND circuit.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63266123A JPH0644588B2 (en) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | Orientation flat mark position detector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63266123A JPH0644588B2 (en) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | Orientation flat mark position detector |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02112259A JPH02112259A (en) | 1990-04-24 |
| JPH0644588B2 true JPH0644588B2 (en) | 1994-06-08 |
Family
ID=17426645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63266123A Expired - Lifetime JPH0644588B2 (en) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | Orientation flat mark position detector |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644588B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3076178B2 (en) * | 1993-07-22 | 2000-08-14 | 日本電気株式会社 | Wafer positioning direction calculator |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5539901B2 (en) * | 1973-03-07 | 1980-10-14 | ||
| JPS61250505A (en) * | 1985-04-29 | 1986-11-07 | Mazda Motor Corp | Apparatus for detecting position of hole |
-
1988
- 1988-10-21 JP JP63266123A patent/JPH0644588B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02112259A (en) | 1990-04-24 |
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