JPH064543B2 - 光学活性アルコ−ルの製造法 - Google Patents
光学活性アルコ−ルの製造法Info
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- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 9
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000009876 asymmetric hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 7
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N binap Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C(=C2C=CC=CC2=CC=1)C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N triethylamine Natural products CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GTCCGKPBSJZVRZ-RFZPGFLSSA-N (2r,4r)-pentane-2,4-diol Chemical compound C[C@@H](O)C[C@@H](C)O GTCCGKPBSJZVRZ-RFZPGFLSSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical class [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 2
- 235000014680 Saccharomyces cerevisiae Nutrition 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- -1 triethylamine tertiary amine Chemical class 0.000 description 2
- VYXHVRARDIDEHS-QGTKBVGQSA-N (1z,5z)-cycloocta-1,5-diene Chemical compound C\1C\C=C/CC\C=C/1 VYXHVRARDIDEHS-QGTKBVGQSA-N 0.000 description 1
- DEQCPJZUPZQCIE-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(dimethylamino)pentane-2,4-dione Chemical compound CN(C)CC(=O)CC(=O)CN(C)C DEQCPJZUPZQCIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLNDCGULCDMPBH-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(methylamino)pentane-2,4-dione Chemical compound CNCC(=O)CC(=O)CNC LLNDCGULCDMPBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEALKQRHAJOSMN-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(phenylmethoxy)pentane-2,4-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC(=O)CC(=O)COCC1=CC=CC=C1 FEALKQRHAJOSMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZVHUIHSGSRFHM-UHFFFAOYSA-N 1,5-diaminopentane-2,4-dione Chemical compound NCC(=O)CC(=O)CN TZVHUIHSGSRFHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUZMIZMSMICNNC-UHFFFAOYSA-N 1,5-dichloropentane-2,4-dione Chemical compound ClCC(=O)CC(=O)CCl UUZMIZMSMICNNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMVGBPVRCDIKKS-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxypentane-2,4-dione Chemical compound OCC(=O)CC(=O)CO VMVGBPVRCDIKKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNFHVPDEAVTSAR-UHFFFAOYSA-N 1,5-diphenylpentane-2,4-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC(=O)CC(=O)CC1=CC=CC=C1 HNFHVPDEAVTSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbutane-1,3-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCCNOQBFGNXMME-UHFFFAOYSA-N 1-phenylheptane-1,3-dione Chemical compound CCCCC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 NCCNOQBFGNXMME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBMJETLNTZLTFE-UHFFFAOYSA-N 1-phenylhexane-1,3-dione Chemical compound CCCC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 WBMJETLNTZLTFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKXMBTKMOVMBPH-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpentane-1,3-dione Chemical compound CCC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 NKXMBTKMOVMBPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFBXUKHERGLHLG-UHFFFAOYSA-N 2,4-Nonanedione Chemical compound CCCCCC(=O)CC(C)=O KFBXUKHERGLHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEKATORRSPXJHE-UHFFFAOYSA-N 2-acetylcyclohexan-1-one Chemical compound CC(=O)C1CCCCC1=O OEKATORRSPXJHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWDNIFICGLKEE-UHFFFAOYSA-N 2-acetylcyclopentan-1-one Chemical compound CC(=O)C1CCCC1=O OSWDNIFICGLKEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAORVUMOXXAMPL-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoro-2-methoxy-2-phenylpropanoyl chloride Chemical compound COC(C(Cl)=O)(C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 PAORVUMOXXAMPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLRGXXKFHVJQOL-UHFFFAOYSA-N 3-chloropentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(Cl)C(C)=O VLRGXXKFHVJQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSOHKPVFCOWKPU-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C)C(C)=O GSOHKPVFCOWKPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011914 asymmetric synthesis Methods 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CHQVQXZFZHACQQ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 CHQVQXZFZHACQQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N binaphthyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- DBOVMTXPZWVYAQ-UHFFFAOYSA-N cycloheptane-1,3-dione Chemical compound O=C1CCCCC(=O)C1 DBOVMTXPZWVYAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJSLFCCWAKVHIW-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dione Chemical compound O=C1CCCC(=O)C1 HJSLFCCWAKVHIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCFZBCCYOPSZLG-UHFFFAOYSA-N cyclopent-4-ene-1,3-dione Chemical compound O=C1CC(=O)C=C1 MCFZBCCYOPSZLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOGSONSNCYTHPS-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-dione Chemical compound O=C1CCC(=O)C1 LOGSONSNCYTHPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUOXSJGIRWCWNR-UHFFFAOYSA-N decane-3,5-dione Chemical compound CCCCCC(=O)CC(=O)CC NUOXSJGIRWCWNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N dibenzoylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGCYJKDJSLVDGX-UHFFFAOYSA-N dodecane-2,4-dione Chemical compound CCCCCCCCC(=O)CC(C)=O PGCYJKDJSLVDGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FMESKHXZDRZUSB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2,4-dioxocyclopentane-1-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1CC(=O)CC1=O FMESKHXZDRZUSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- ILPNRWUGFSPGAA-UHFFFAOYSA-N heptane-2,4-dione Chemical compound CCCC(=O)CC(C)=O ILPNRWUGFSPGAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGCTVLNZTFDPDJ-UHFFFAOYSA-N heptane-3,5-dione Chemical compound CCC(=O)CC(=O)CC DGCTVLNZTFDPDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAMFBRUWYYMMGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluoroacetylacetone Chemical compound FC(F)(F)C(=O)CC(=O)C(F)(F)F QAMFBRUWYYMMGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDOGLIPWGGRQCO-UHFFFAOYSA-N hexane-2,4-dione Chemical compound CCC(=O)CC(C)=O NDOGLIPWGGRQCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- UHCPCQYUMVLUKU-UHFFFAOYSA-N methyl 2-acetyl-3-oxobutanoate Chemical compound COC(=O)C(C(C)=O)C(C)=O UHCPCQYUMVLUKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUKCTOHWTHYRPF-UHFFFAOYSA-N methyl 3,5-dioxohexanoate Chemical compound COC(=O)CC(=O)CC(C)=O JUKCTOHWTHYRPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- HWWGUUIGLJQLQD-UHFFFAOYSA-N nonane-3,5-dione Chemical compound CCCCC(=O)CC(=O)CC HWWGUUIGLJQLQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDYWPVCQPUPOJV-UHFFFAOYSA-N nonane-4,6-dione Chemical compound CCCC(=O)CC(=O)CCC ZDYWPVCQPUPOJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- GJYXGIIWJFZCLN-UHFFFAOYSA-N octane-2,4-dione Chemical compound CCCCC(=O)CC(C)=O GJYXGIIWJFZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTCCGKPBSJZVRZ-UHFFFAOYSA-N pentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)O GTCCGKPBSJZVRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTBPUYSGSDIIMM-UHFFFAOYSA-N phosphane;ruthenium Chemical compound P.[Ru] GTBPUYSGSDIIMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- LECPYKYNIWHZFT-UHFFFAOYSA-K ruthenium(3+) triperchlorate Chemical compound [Ru+3].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O LECPYKYNIWHZFT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M sodium perchlorate Chemical compound [Na+].[O-]Cl(=O)(=O)=O BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001488 sodium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/132—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group
- C07C29/136—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH
- C07C29/143—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH of ketones
- C07C29/145—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH of ketones with hydrogen or hydrogen-containing gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/18—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds
- C07C41/26—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds by introduction of hydroxy or O-metal groups
-
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- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
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- C07B2200/07—Optical isomers
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は1,3−ジケトン類を、ルテニウム−光学活性
ホスフイン錯体を触媒として用いて不斉水素化すること
により、医薬品を合成するための中間体、光学活性化合
物を得るための重要な助剤として、あるいは液晶材料そ
の他各種の有用な化合物である光学活性アルコールを製
造する方法に関する。
ホスフイン錯体を触媒として用いて不斉水素化すること
により、医薬品を合成するための中間体、光学活性化合
物を得るための重要な助剤として、あるいは液晶材料そ
の他各種の有用な化合物である光学活性アルコールを製
造する方法に関する。
従来、光学活性アルコールを不斉合成する方法として、
パン酵母を使用する不斉水素化反応を利用する方法
特定の触媒を用いて不斉水素化する方法が知られてい
る。
パン酵母を使用する不斉水素化反応を利用する方法
特定の触媒を用いて不斉水素化する方法が知られてい
る。
特に、β−ジケトン類から不斉合成によつて光学活性ア
ルコールを得る方法としては、酒石酸を修飾したニッケ
ル触媒を用いて不斉水素化する方法が報告されている。
すなわち、A.Taiら:Chem.Lett.,(1979)p.1049-1050で
は、アセチルアセトンの不斉水素化においては、不斉収
率87%eeで2,4−ペタンジオールを得ている。
ルコールを得る方法としては、酒石酸を修飾したニッケ
ル触媒を用いて不斉水素化する方法が報告されている。
すなわち、A.Taiら:Chem.Lett.,(1979)p.1049-1050で
は、アセチルアセトンの不斉水素化においては、不斉収
率87%eeで2,4−ペタンジオールを得ている。
しかしながら、パン酵母による方法は、比較的高い光学
純度のアルコールを得ることができるが、得られる光学
活性アルコールの絶対配置は特定のものに限られ、鏡像
体の合成は困難である。また修飾ラネーニツケルを用い
て1,3−ジケトン類を不斉水素化する方法は、触媒の
調製が難かしく、得られるアルコールの光学純度も充分
ではない。
純度のアルコールを得ることができるが、得られる光学
活性アルコールの絶対配置は特定のものに限られ、鏡像
体の合成は困難である。また修飾ラネーニツケルを用い
て1,3−ジケトン類を不斉水素化する方法は、触媒の
調製が難かしく、得られるアルコールの光学純度も充分
ではない。
斯かる実状において、本発明者らは上記問題点を解決せ
んと鋭意研究を行つた結果、触媒として比較的安価なル
テニウム−光学活性ホスフイン錯体を使用して不斉水素
化を行えば、高い光学純度のアルコールが得られること
を見出し本発明を完成した。
んと鋭意研究を行つた結果、触媒として比較的安価なル
テニウム−光学活性ホスフイン錯体を使用して不斉水素
化を行えば、高い光学純度のアルコールが得られること
を見出し本発明を完成した。
すなわち、本発明は次の一般式(I) (式中、R1、R2は炭素数1〜8のアルキル基、ハロゲ
ン置換アルキル基、水酸基置換アルキル基、トリフロロ
メチル基、置換基を有してもよいフェニル置換低級アル
キル基、アルコキシカルボニル置換低級アルキル基、低
級アルキル基で置換してもよい低級アミノアルキル基、
置換基を有してもよいフェニル基またはベンジルオキシ
基、R3は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基ま
たは低級アルコシカルボニル基を示し、R1とR2または
R2とR3はそれぞれその間にある炭素原子と一緒になっ
て、低級アルコシカルボニル基あるいは二重結合を有し
てもよい5〜7員環を形成してもよい) で表わされる1,3−ジケトン類を、一般式(III)また
は(V) RuxHyClz(R4-BINAP)2(S)p (III) 〔RuHl(R4-BINAP)v〕Yw (V) (式中、R4-BINAPは式(IV) で表わされる三級ホスフィンを示し、R4は水素原子、
メチル基またはt-ブチル基を示し、Sは三級アミンを示
し、yが0のときxは2、zは4、pは1を示し、yが
1のときxは1、zは1、pは0を示し、YはClO4、B
F4またはPF6を示し、lが0のときvは1、wは2を
示し、lが1のときvは2、wは1を示す) で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触
媒として不斉水素化を行うことを特徴とする次の一般式
(II) (式中、R1、R2及びR3は上記と同じ意義を有する) で表わされる光学活性アルコールの製造法である。
ン置換アルキル基、水酸基置換アルキル基、トリフロロ
メチル基、置換基を有してもよいフェニル置換低級アル
キル基、アルコキシカルボニル置換低級アルキル基、低
級アルキル基で置換してもよい低級アミノアルキル基、
置換基を有してもよいフェニル基またはベンジルオキシ
基、R3は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基ま
たは低級アルコシカルボニル基を示し、R1とR2または
R2とR3はそれぞれその間にある炭素原子と一緒になっ
て、低級アルコシカルボニル基あるいは二重結合を有し
てもよい5〜7員環を形成してもよい) で表わされる1,3−ジケトン類を、一般式(III)また
は(V) RuxHyClz(R4-BINAP)2(S)p (III) 〔RuHl(R4-BINAP)v〕Yw (V) (式中、R4-BINAPは式(IV) で表わされる三級ホスフィンを示し、R4は水素原子、
メチル基またはt-ブチル基を示し、Sは三級アミンを示
し、yが0のときxは2、zは4、pは1を示し、yが
1のときxは1、zは1、pは0を示し、YはClO4、B
F4またはPF6を示し、lが0のときvは1、wは2を
示し、lが1のときvは2、wは1を示す) で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触
媒として不斉水素化を行うことを特徴とする次の一般式
(II) (式中、R1、R2及びR3は上記と同じ意義を有する) で表わされる光学活性アルコールの製造法である。
本発明の原料である1,3−ジケトン類としては、例え
ば、アセチルアセトン、3,5−ヘプタンジオン、4,
6−ノナンジオン、5,7−ウンデカジオン、1,3−
ジフエニル−1,3−プロパンジオン、1,5−ジフエ
ニル−2,4−ペンタンジオン、1,3−ジ(トリフロ
ロメチル)−1,3−プロパンジオン、1,5−ジクロ
ロ−2,4−ペンタンジオン、1,5−ジヒドロキシ−
2,4−ペンタンジオン、1,5−ジベンジルオキシ−
2,4−ペンタンジオン、1,5−ジアミノ−2,4−
ペンタンジオン、1,5−ジ(メチルアミノ)−2,4
−ペンタンジオン、1,5−ジ(ジメチルアミノ)−
2,4−ペンタンジオン、1−フエニル−1,3−ブタ
ンジオン、1−フエニル−1,3−ペンタンジオン、1
−フエニル−1,3−ヘキサンジオン、1−フエニル−
1,3−ヘプタンジオン、2,4−ヘキサンジオン、
2,4−ヘプタンジオン、2,4−オクタンジオン、
2,4−ノナンジオン、3,5−ノナンジオン、3,5
−デカンジオン、2,4−ドデカンジオン、3−メチル
−2,4−ペンタンジオン、3−クロロ−2,4−ペン
タンジオン、3−カルボメトキシ−2,4−ペンタンジ
オン、3−カルボエトキシ−2,4−ペンタジオン、
1,3−シクロペンタンジオン、1,3−シクロヘキサ
ンジオン、1,3−シクロヘプタンジオン、5−カルボ
エトキシ−1,3−シクロペンタンジオン、4−シクロ
ペンテン−1,3−ジオン、2−アセチル−1−シクロ
ペンタノン、2−アセチル−1−シクロヘキサノン、
3,5−ジオキソ−ヘキサン酸メチル等が挙げられる。
ば、アセチルアセトン、3,5−ヘプタンジオン、4,
6−ノナンジオン、5,7−ウンデカジオン、1,3−
ジフエニル−1,3−プロパンジオン、1,5−ジフエ
ニル−2,4−ペンタンジオン、1,3−ジ(トリフロ
ロメチル)−1,3−プロパンジオン、1,5−ジクロ
ロ−2,4−ペンタンジオン、1,5−ジヒドロキシ−
2,4−ペンタンジオン、1,5−ジベンジルオキシ−
2,4−ペンタンジオン、1,5−ジアミノ−2,4−
ペンタンジオン、1,5−ジ(メチルアミノ)−2,4
−ペンタンジオン、1,5−ジ(ジメチルアミノ)−
2,4−ペンタンジオン、1−フエニル−1,3−ブタ
ンジオン、1−フエニル−1,3−ペンタンジオン、1
−フエニル−1,3−ヘキサンジオン、1−フエニル−
1,3−ヘプタンジオン、2,4−ヘキサンジオン、
2,4−ヘプタンジオン、2,4−オクタンジオン、
2,4−ノナンジオン、3,5−ノナンジオン、3,5
−デカンジオン、2,4−ドデカンジオン、3−メチル
−2,4−ペンタンジオン、3−クロロ−2,4−ペン
タンジオン、3−カルボメトキシ−2,4−ペンタンジ
オン、3−カルボエトキシ−2,4−ペンタジオン、
1,3−シクロペンタンジオン、1,3−シクロヘキサ
ンジオン、1,3−シクロヘプタンジオン、5−カルボ
エトキシ−1,3−シクロペンタンジオン、4−シクロ
ペンテン−1,3−ジオン、2−アセチル−1−シクロ
ペンタノン、2−アセチル−1−シクロヘキサノン、
3,5−ジオキソ−ヘキサン酸メチル等が挙げられる。
本発明に使用される触媒である一般式(III)で表わされ
るルテニウム−光学活ホスフィン錯体は、T.Ikariya
ら:J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,(1985)p.922-924特
開昭61-6390号で開示されている方法により得ることが
できる。すなわち、y=0の場合の式(III)の錯体は、
ルテニウムクロライドとシクロオクター1,5−ジエン
(以下CODと略す)をエタノール溶液で反応させること
により得られる〔RuCl2(COD)〕n1モルと、2,2′−
ビス(ジ−p−R4−フエニルホスフイノ)−1,1′
−ビナフチル(R4−BINAP)1.2モルをトリエチルアミン
のごとき三級アミン4モルの存在下、トルエンまたはエ
タノール等の溶媒中で加熱反応させることにより得られ
る。y=1の場合の化合物は、〔RuCl2(COD)〕n1モ
ル、R4-BINAP2.25モル及び三級アミン4.5モルを反応さ
せることにより得られる。
るルテニウム−光学活ホスフィン錯体は、T.Ikariya
ら:J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,(1985)p.922-924特
開昭61-6390号で開示されている方法により得ることが
できる。すなわち、y=0の場合の式(III)の錯体は、
ルテニウムクロライドとシクロオクター1,5−ジエン
(以下CODと略す)をエタノール溶液で反応させること
により得られる〔RuCl2(COD)〕n1モルと、2,2′−
ビス(ジ−p−R4−フエニルホスフイノ)−1,1′
−ビナフチル(R4−BINAP)1.2モルをトリエチルアミン
のごとき三級アミン4モルの存在下、トルエンまたはエ
タノール等の溶媒中で加熱反応させることにより得られ
る。y=1の場合の化合物は、〔RuCl2(COD)〕n1モ
ル、R4-BINAP2.25モル及び三級アミン4.5モルを反応さ
せることにより得られる。
さらに、本発明に使用されるもう一つの型の触媒である
一般式(V)で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィ
ン錯体のうち、lが0、vが1、wが2の場合の錯体
は、上記の方法により得られたRu2Cl4(R2-BINAP)2(NE
t3)(Etはエチル基を示す)を原料として製造することが
できる。すなわち、このものと次式(VI) MY (VI) (式中、MはNa、K、Li、Mg、Agの金属を示し、Yは前
記と同様の意義を有する) で表わされる塩とを、溶媒として水と塩化メチレンを用
いて、次式(VII) R5R6R7R8AB (VII) (式中、R5、R6、R7及びR8は炭素数1〜16のアル
キル基、フエニル基またはベンジル基を意味し、Aは窒
素原子またはリン原子を意味し、Bはハロゲン原子を意
味する) で表わされる四級アンモニウム塩または四級ホスホニウ
ム塩を相間移動触媒として使用し、反応せしめてルテニ
ウム−ホスフイン錯体を得る。Ru2Cl4(R4-BINAP)2(NE
t3)と塩(VI)との反応は、水と塩化メチレンの混合溶媒
中に両者と相間移動触媒(VII)を加えて撹拌して行わし
める。塩(VI)及び相間移動触媒(VII)の量は、ルテニウ
ムに対してそれぞれ2〜10倍モル(好ましくは5倍モ
ル)、1/100〜1/10倍モルである。反応は5〜3
0℃の温度で6〜18時間、通常は12時間の撹拌で充
分である。相間移動触媒(VII)としては、文献〔例え
ば、W.P.Weer、G.W.Gokel共著、田伏岩夫、西
谷孝子訳「相間移動触媒」(株)化学同人(1978-9-5)
に第1版〕に記載されているものが用いられる。反応終
了後、反応物を静置し、分液操作を行い、水層を除き、
塩化メチレン溶液を水洗した後、減圧下、塩化メチレン
を留去し目的物を得る。
一般式(V)で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィ
ン錯体のうち、lが0、vが1、wが2の場合の錯体
は、上記の方法により得られたRu2Cl4(R2-BINAP)2(NE
t3)(Etはエチル基を示す)を原料として製造することが
できる。すなわち、このものと次式(VI) MY (VI) (式中、MはNa、K、Li、Mg、Agの金属を示し、Yは前
記と同様の意義を有する) で表わされる塩とを、溶媒として水と塩化メチレンを用
いて、次式(VII) R5R6R7R8AB (VII) (式中、R5、R6、R7及びR8は炭素数1〜16のアル
キル基、フエニル基またはベンジル基を意味し、Aは窒
素原子またはリン原子を意味し、Bはハロゲン原子を意
味する) で表わされる四級アンモニウム塩または四級ホスホニウ
ム塩を相間移動触媒として使用し、反応せしめてルテニ
ウム−ホスフイン錯体を得る。Ru2Cl4(R4-BINAP)2(NE
t3)と塩(VI)との反応は、水と塩化メチレンの混合溶媒
中に両者と相間移動触媒(VII)を加えて撹拌して行わし
める。塩(VI)及び相間移動触媒(VII)の量は、ルテニウ
ムに対してそれぞれ2〜10倍モル(好ましくは5倍モ
ル)、1/100〜1/10倍モルである。反応は5〜3
0℃の温度で6〜18時間、通常は12時間の撹拌で充
分である。相間移動触媒(VII)としては、文献〔例え
ば、W.P.Weer、G.W.Gokel共著、田伏岩夫、西
谷孝子訳「相間移動触媒」(株)化学同人(1978-9-5)
に第1版〕に記載されているものが用いられる。反応終
了後、反応物を静置し、分液操作を行い、水層を除き、
塩化メチレン溶液を水洗した後、減圧下、塩化メチレン
を留去し目的物を得る。
式(V)の錯体のうち、lが1、vが2、wが1に相当す
る錯体を製造する場合、RuHCl(R4-BINAP)2(このもの
は特開昭61−63690号に開示された製造法により得る
ことができる)を原料として、これと塩(VI)とを相間移
動触媒(VII)の存在下に塩化メチレン等と水の混合溶媒
中で反応せしめればよい。塩(VI)と相間移動触媒(VII)
の量は、ルテニウムに対してそれぞれ2〜10倍モル
(好ましくは5倍モル)、1/100〜1/10倍モルで
ある。反応は、5〜30℃の温度で6〜18時間、通常
は12時間の撹拌で充分である。
る錯体を製造する場合、RuHCl(R4-BINAP)2(このもの
は特開昭61−63690号に開示された製造法により得る
ことができる)を原料として、これと塩(VI)とを相間移
動触媒(VII)の存在下に塩化メチレン等と水の混合溶媒
中で反応せしめればよい。塩(VI)と相間移動触媒(VII)
の量は、ルテニウムに対してそれぞれ2〜10倍モル
(好ましくは5倍モル)、1/100〜1/10倍モルで
ある。反応は、5〜30℃の温度で6〜18時間、通常
は12時間の撹拌で充分である。
以上の錯体の例として次のものが挙げられる。
Ru2Cl4(BINAP)2(NEt3) 〔BINAPは、2,2′−ビス(ジフエニルホスフイノ)
−1,1′−ビナフチルをいう〕 Ru2Cl4(T−BINAP)2(NEt3) 〔T−BINAPは、2,2′−ビス(ジ−p−トリルホス
フイノ)−1,1′−ビナフチルをいう〕 Ru2Cl4(t−Bu−BINAP)2(NEt3) 〔t−Bu−BINAPは、2,2′−ビス(ジ−p−ターシ
ャリーブチルフエニルホスフイノ)−1,1′−ビナフ
チルをいう〕 RuHCl(BINAP)2 RuHCl(T−BINAP)2 RuHCl(t−Bu−BINAP)2 〔Ru(BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(T−BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(t−Bu−BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(T−BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(t−Bu−BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(BINAP)〕(PF6)2 〔Ru(T−BINAP)〕(PF6)2 〔RuH(BINAP)2〕ClO4 〔RuH(T−BINAP)2〕ClO4 〔RuH(BINAP)2〕BF4 〔RuH(T−BINAP)2〕BF4 〔RuH(BINAP)2〕PF6 〔RuH(T−BINAP)2〕PF6 本発明を実施するには、1,3−ジケトン類(I)を、メ
タノール、エタノール、メチルセロソルブ等のプロテツ
ク溶媒の単独、あるいはこれらとテトラヒドロフラン、
トルエン、ベンゼン、塩化メチレン等との混合溶媒に溶
かし、オートクレーブに仕込み、これにルテニウム−光
学活性ホスフイン錯体を上記の1,3−ジケトン類(I)
に対して1/100〜1/50000倍モル加えて、水素圧5〜
40kg/cm2、水素化温度5〜50℃、好ましくは25
〜35℃で、1時間から48時間撹拌して水素化を行
う。溶媒を留去して残留物を減圧下で蒸留するか、また
はシリカゲルカラムクロマトグラフイーで生成物を単離
すると、目的とする光学活性アルコール(II)がほぼ定量
的吸収率で得られる。
−1,1′−ビナフチルをいう〕 Ru2Cl4(T−BINAP)2(NEt3) 〔T−BINAPは、2,2′−ビス(ジ−p−トリルホス
フイノ)−1,1′−ビナフチルをいう〕 Ru2Cl4(t−Bu−BINAP)2(NEt3) 〔t−Bu−BINAPは、2,2′−ビス(ジ−p−ターシ
ャリーブチルフエニルホスフイノ)−1,1′−ビナフ
チルをいう〕 RuHCl(BINAP)2 RuHCl(T−BINAP)2 RuHCl(t−Bu−BINAP)2 〔Ru(BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(T−BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(t−Bu−BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(T−BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(t−Bu−BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(BINAP)〕(PF6)2 〔Ru(T−BINAP)〕(PF6)2 〔RuH(BINAP)2〕ClO4 〔RuH(T−BINAP)2〕ClO4 〔RuH(BINAP)2〕BF4 〔RuH(T−BINAP)2〕BF4 〔RuH(BINAP)2〕PF6 〔RuH(T−BINAP)2〕PF6 本発明を実施するには、1,3−ジケトン類(I)を、メ
タノール、エタノール、メチルセロソルブ等のプロテツ
ク溶媒の単独、あるいはこれらとテトラヒドロフラン、
トルエン、ベンゼン、塩化メチレン等との混合溶媒に溶
かし、オートクレーブに仕込み、これにルテニウム−光
学活性ホスフイン錯体を上記の1,3−ジケトン類(I)
に対して1/100〜1/50000倍モル加えて、水素圧5〜
40kg/cm2、水素化温度5〜50℃、好ましくは25
〜35℃で、1時間から48時間撹拌して水素化を行
う。溶媒を留去して残留物を減圧下で蒸留するか、また
はシリカゲルカラムクロマトグラフイーで生成物を単離
すると、目的とする光学活性アルコール(II)がほぼ定量
的吸収率で得られる。
次に参考例及び実施例により本発明を説明する。
尚実施例中の分析は、次の分析機器を用いて行つた。
ガスクロマトグラフイー:島津GC-9A(株式会社島津製
作所製) カラム:PEG−20Mシリカキヤピラリー、φ0.25mm×
25m(ガスクロ工業株式会社製) 測定温度100〜250℃で3℃/分で昇温 高速液体クロマトグラフイー:日立液体クロマトグラフ
イー655A11(株式会社日立製作所製) カラム:Chemcopack Nucleosil100-3、φ4.6mm×300mm
(Chemco社製) 展開溶媒:ヘキサン:エーテル=7:3 1ml/分 検出器:UV検出器655A(UV-254)(株式会社日立製
作所製) 施光度計:施光度計DIP-4(日本分校工業株式会社製)31 P核磁気共鳴スペクトル(以下31P NMRと略す): JNM-GX400型(161MHz)(日本電子株式会社製)を用いて
測定し、化学シフトは85%リン酸を外部標準として測
定 参考例1 Ru2Cl4〔(+)-BINAP〕2(NEt3)(ジ〔2,2′−ビス(ジ
フエニルホスフイノ)−1,1′−ビナフチル〕テトラ
クロロ−ジルテニウムトリエチルアミン)の合成: 〔RuCl2(COD)〕n1g(3.56ミルモル)、(+)-BINAP2.66
g(4.27ミリモル)及びトリエチルアミン1.5gを100m
lのトルエン中に窒素雰囲気下に加える。10時間加熱
還流させた後、溶媒を減圧下留去した。結晶を塩化メチ
レンを加えて溶解した後、セライト上でろ過し、ろ液を
濃縮乾固したところ3.7gの濃褐色の固体を得た。
作所製) カラム:PEG−20Mシリカキヤピラリー、φ0.25mm×
25m(ガスクロ工業株式会社製) 測定温度100〜250℃で3℃/分で昇温 高速液体クロマトグラフイー:日立液体クロマトグラフ
イー655A11(株式会社日立製作所製) カラム:Chemcopack Nucleosil100-3、φ4.6mm×300mm
(Chemco社製) 展開溶媒:ヘキサン:エーテル=7:3 1ml/分 検出器:UV検出器655A(UV-254)(株式会社日立製
作所製) 施光度計:施光度計DIP-4(日本分校工業株式会社製)31 P核磁気共鳴スペクトル(以下31P NMRと略す): JNM-GX400型(161MHz)(日本電子株式会社製)を用いて
測定し、化学シフトは85%リン酸を外部標準として測
定 参考例1 Ru2Cl4〔(+)-BINAP〕2(NEt3)(ジ〔2,2′−ビス(ジ
フエニルホスフイノ)−1,1′−ビナフチル〕テトラ
クロロ−ジルテニウムトリエチルアミン)の合成: 〔RuCl2(COD)〕n1g(3.56ミルモル)、(+)-BINAP2.66
g(4.27ミリモル)及びトリエチルアミン1.5gを100m
lのトルエン中に窒素雰囲気下に加える。10時間加熱
還流させた後、溶媒を減圧下留去した。結晶を塩化メチ
レンを加えて溶解した後、セライト上でろ過し、ろ液を
濃縮乾固したところ3.7gの濃褐色の固体を得た。
元素分析値:C94H79Cl4NP4Ru2として 31P NMR(CDCl3)δppm:51.06 (s) 51.98 (s) 53.87 (s) 54.83 (s) 参考例2 〔Ru((-)-T-BINAP)〕(ClO4)2(〔2,2′−ビス(ジ−
p−トリルホスフイノ)−1,1′−ビナフチル〕ルテ
ニウム過塩素酸塩)の合成: Ru2Cl4((-)-T-BINAP)2(NEt3) 0.54g (0.03ミルモル)を、250mlのシユレンク管に入れ、
充分窒素置換を行つてから、塩化メチレン60mlを加
え、続いて過塩素酸ソーダ0.73g(6.0ミリモル)を6
0mlの水に溶解したものと、トリエチルベンジルアンモ
ニウムブロマイド16mg(0.06ミリモル)を3mlの水に
溶かしたものを加えた後、室温にて12時間撹拌して反
応させた。反応終了後、静置し、分液操作を行い水層を
取り除き、塩化メチレンを減圧下にて留去し、減圧下で
乾燥を行い、濃褐色の固体〔Ru((-)-T-BINAP)〕(ClO4)2
0.59gを得た。収率99.6%。
p−トリルホスフイノ)−1,1′−ビナフチル〕ルテ
ニウム過塩素酸塩)の合成: Ru2Cl4((-)-T-BINAP)2(NEt3) 0.54g (0.03ミルモル)を、250mlのシユレンク管に入れ、
充分窒素置換を行つてから、塩化メチレン60mlを加
え、続いて過塩素酸ソーダ0.73g(6.0ミリモル)を6
0mlの水に溶解したものと、トリエチルベンジルアンモ
ニウムブロマイド16mg(0.06ミリモル)を3mlの水に
溶かしたものを加えた後、室温にて12時間撹拌して反
応させた。反応終了後、静置し、分液操作を行い水層を
取り除き、塩化メチレンを減圧下にて留去し、減圧下で
乾燥を行い、濃褐色の固体〔Ru((-)-T-BINAP)〕(ClO4)2
0.59gを得た。収率99.6%。
元素分析値:C48H40Cl2O8P2Puとして 31P NMR(CDCl3)δppm: 12.920(d,J=41.1Hz) 61.402(d,J=41.1Hz) 実施例1 (2R,4R)−(-)−2,4−ペンタンジオールの合
成: あらかじめ窒素置換した200mlのステンレスオートク
レープに、アセチルアセトン11.4ml(110モリモル)
とメタノール50mlを加えて、これに参考例1で合成し
たRu2Cl4〔(+)-BINAP〕2(NEt3)93mg(0.055ミリモ
ル)を入れ、水素圧40kg/cm2で30℃の反応温度で
20時間水素化を行い、溶媒を留去し、続いて減圧蒸留
を行い、(2R,4R)−(-)−2,4−ペンタンジオ
ール11.2gを得た。収率98%、b.p.98〜100
℃(10mmHg)。ガスクロマトグラフイーで分析する
と、純度99.4%であつた。施光度は〔α〕▲25 D▼+39.
57(C2.25、CHCl3)であった。
成: あらかじめ窒素置換した200mlのステンレスオートク
レープに、アセチルアセトン11.4ml(110モリモル)
とメタノール50mlを加えて、これに参考例1で合成し
たRu2Cl4〔(+)-BINAP〕2(NEt3)93mg(0.055ミリモ
ル)を入れ、水素圧40kg/cm2で30℃の反応温度で
20時間水素化を行い、溶媒を留去し、続いて減圧蒸留
を行い、(2R,4R)−(-)−2,4−ペンタンジオ
ール11.2gを得た。収率98%、b.p.98〜100
℃(10mmHg)。ガスクロマトグラフイーで分析する
と、純度99.4%であつた。施光度は〔α〕▲25 D▼+39.
57(C2.25、CHCl3)であった。
得られたアルコールと(+)−α−メトキシ−α−トリフ
ロロメチルフエニル酢酸クロリドからエステルを合成
し、高速液体クロマトグラフイー分析を行つた結果、
(2R,4R)−(-)−2,4−ペンタンジオール99
%と(2RS,4SR)−(±)−2,4−ペンタンジオー
ル1%の混合物であり、すなわち、anti化合物とsyn化
合物の比は99:1であり、従つて(2R,4R)−
(-)−2,4−ペンタンジオールの不斉収率は98%ee
であつた。
ロロメチルフエニル酢酸クロリドからエステルを合成
し、高速液体クロマトグラフイー分析を行つた結果、
(2R,4R)−(-)−2,4−ペンタンジオール99
%と(2RS,4SR)−(±)−2,4−ペンタンジオー
ル1%の混合物であり、すなわち、anti化合物とsyn化
合物の比は99:1であり、従つて(2R,4R)−
(-)−2,4−ペンタンジオールの不斉収率は98%ee
であつた。
実施例2〜13 実施例1において基質、触媒、反応条件を変えたほか
は、実施例1に準じた操作を行つた結果を第1表に示
す。
は、実施例1に準じた操作を行つた結果を第1表に示
す。
〔発明の効果〕 本発明は、ルテニウム−光学活性ホスフイン錯体を用い
て、1,3−ジケン類を不斉水素化することにより、医
薬品を合成するための中間体、光学活性化合物を得るた
めの重要な助剤として、あるいは液晶材料その他各種の
有用な化合物である光学活性アルコールを効率よく製造
することの出来る工業的にすぐれた方法である。
て、1,3−ジケン類を不斉水素化することにより、医
薬品を合成するための中間体、光学活性化合物を得るた
めの重要な助剤として、あるいは液晶材料その他各種の
有用な化合物である光学活性アルコールを効率よく製造
することの出来る工業的にすぐれた方法である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 33/26 8827−4H 33/46 8827−4H 35/06 8827−4H 43/178 B 8619−4H 67/31 69/675 9279−4H 215/18 7457−4H C07F 15/00 A 7731−4H // C07B 61/00 300 (72)発明者 野依 良治 愛知県愛知郡日進町大字梅森字新田135− 417 (72)発明者 高谷 秀正 愛知県岡崎市明大寺町字坂下11−72 (56)参考文献 特開 昭49−1505(JP,A) 特開 昭63−310847(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】次の一般式(I) (式中、R1、R2は炭素数1〜8のアルキル基、ハロゲ
ン置換アルキル基、水酸基置換アルキル基、トリフロロ
メチル基、置換基を有してもよいフェニル置換低級アル
キル基、アルコキシカルボニル置換低級アルキル基、低
級アルキル基で置換してもよい低級アミノアルキル基、
置換基を有してもよいフェニル基またはベンジルオキシ
基、R3は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基ま
たは低級アルコキシカルボニル基を示し、R1とR2また
はR2とR3はそれぞれその間にある炭素原子と一緒にな
って、低級アルコキシカルボニル基あるいは二重結合を
有してもよい5〜7員環を形成してもよい) で表わされる1,3-ジケトン類を、一般式(III)または
(V) RuxHyClz(R4-BINAP)2(S)p (III) 〔RuHl(R4-BINAP)v〕Yw (V) (式中、R4-BINAPは式(IV) で表わされる三級ホスフィンを示し、R4は水素原子、
メチル基またはt-ブチル基を示し、Sは三級アミンを示
し、yが0のときxは2、zは4、pは1を示し、yが
1のときxは1、zは1、pは0を示し、YはClO4、B
F4またはPF6を示し、lが0のときvは1、wは2を
示し、lが1のときvは2、wは1を示す) で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触
媒として不斉水素化を行うことを特徴とする次の一般式
(II) (式中、R1、R2及びR3は上記と同じ意義を有する) で表わされる光学活性アルコールの製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62150187A JPH064543B2 (ja) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | 光学活性アルコ−ルの製造法 |
| DE8888305462T DE3874627T2 (de) | 1987-06-18 | 1988-06-15 | Herstellungsverfahren eines optisch aktiven alkohols. |
| EP88305462A EP0297752B1 (en) | 1987-06-18 | 1988-06-15 | Process of preparing optically active alcohol |
| US07/207,428 US4916252A (en) | 1987-06-18 | 1988-06-16 | Process for preparing optically active alcohol |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62150187A JPH064543B2 (ja) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | 光学活性アルコ−ルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63316742A JPS63316742A (ja) | 1988-12-26 |
| JPH064543B2 true JPH064543B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=15491415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62150187A Expired - Lifetime JPH064543B2 (ja) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | 光学活性アルコ−ルの製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4916252A (ja) |
| EP (1) | EP0297752B1 (ja) |
| JP (1) | JPH064543B2 (ja) |
| DE (1) | DE3874627T2 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2623800B1 (fr) * | 1987-12-01 | 1990-01-26 | Rhone Poulenc Sante | Procede de preparation d'alcools insatures |
| FR2623799B1 (fr) * | 1987-12-01 | 1990-01-26 | Rhone Poulenc Sante | Procede de preparation d'alcools insatures |
| JPH0623150B2 (ja) * | 1988-11-15 | 1994-03-30 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性3−ヒドロキシブタン酸類の製造方法 |
| JPH0641445B2 (ja) * | 1988-12-22 | 1994-06-01 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性カルニチンエステルの製法 |
| JP2782075B2 (ja) * | 1989-02-14 | 1998-07-30 | 旭電化工業株式会社 | 光学活性な化合物および該化合物を含有する液晶組成物 |
| JP2838529B2 (ja) * | 1989-02-27 | 1998-12-16 | 和光純薬工業株式会社 | 新規な光学活性化合物 |
| DE69009237T2 (de) * | 1989-02-27 | 1994-12-01 | Takasago Perfumery Co Ltd | Verfahren zur Herstellung von optisch aktiven Estern der 6-t-Butoxy-3,5-dihydroxyhexansäure. |
| JPH0753680B2 (ja) * | 1989-07-17 | 1995-06-07 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性ケトンの製造法 |
| FR2670206B1 (fr) * | 1990-12-11 | 1993-01-22 | Rhone Poulenc Sante | Procede de preparation de derives de l'acide dihydroxy-3,5 pentanouique. |
| US5321153A (en) * | 1992-06-15 | 1994-06-14 | Monsanto Company | Process for making chiral alpha-amino phosphonates selected novel chiral alpha-amino phosphonates |
| US5364961A (en) * | 1992-06-15 | 1994-11-15 | Monsanto Company | Process for making optically active α-amino ketones |
| DE69318666T2 (de) * | 1992-10-05 | 1998-09-10 | Takasago Perfumery Co Ltd | Verfahren zur Herstellung von optisch aktiven gamma-Hydroxyketonen |
| US5473092A (en) * | 1992-11-20 | 1995-12-05 | Monsanto Company | Synthesis of optically-active phosphono analogs of succinates |
| JPH09241194A (ja) * | 1996-03-07 | 1997-09-16 | Takasago Internatl Corp | シス−4−t−ブチルシクロヘキサノールの製造法 |
| DE19709069C2 (de) * | 1997-03-06 | 2000-04-06 | Asta Medica Ag | Enantiomerenreine 3-Hydroxyoctandisäurediester, Verfahren zur Herstellung derselben durch asymmetrische katalytische Hydrierung sowie Verfahren zur Herstellung von R-(+)- und S-(-)-alpha-Liponsäure |
| JP4856825B2 (ja) * | 2001-08-23 | 2012-01-18 | 田中貴金属工業株式会社 | Cvd用原料化合物及びその製造方法並びにイリジウム又はイリジウム化合物薄膜の化学気相蒸着方法 |
| CN107602360A (zh) * | 2017-09-20 | 2018-01-19 | 淮阴工学院 | 一种3,4‑己二酮的合成方法 |
| CN110105175A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-08-09 | 河南中医药大学 | 一种利用固载手性催化剂制备克唑替尼中间体的方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3883580A (en) * | 1972-02-09 | 1975-05-13 | Monsanto Co | Asymmetric reduction of ketones to form optically active alcohols |
| GB1423911A (en) * | 1972-03-16 | 1976-02-04 | Monsanto Co | Production of optically active alcohols |
| JPS6163690A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-04-01 | Takasago Corp | ルテニウム−ホスフイン錯体 |
| JPH0699367B2 (ja) * | 1987-06-11 | 1994-12-07 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性アルコ−ルの製法 |
-
1987
- 1987-06-18 JP JP62150187A patent/JPH064543B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-06-15 DE DE8888305462T patent/DE3874627T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-06-15 EP EP88305462A patent/EP0297752B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-06-16 US US07/207,428 patent/US4916252A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3874627T2 (de) | 1993-03-11 |
| JPS63316742A (ja) | 1988-12-26 |
| EP0297752A3 (en) | 1989-03-22 |
| US4916252A (en) | 1990-04-10 |
| DE3874627D1 (de) | 1992-10-22 |
| EP0297752B1 (en) | 1992-09-16 |
| EP0297752A2 (en) | 1989-01-04 |
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