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JPH064750B2 - Epoxy resin composition and cured product thereof - Google Patents
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JPH064750B2 - Epoxy resin composition and cured product thereof - Google Patents

Epoxy resin composition and cured product thereof

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JPH064750B2
JPH064750B2 JP1099214A JP9921489A JPH064750B2 JP H064750 B2 JPH064750 B2 JP H064750B2 JP 1099214 A JP1099214 A JP 1099214A JP 9921489 A JP9921489 A JP 9921489A JP H064750 B2 JPH064750 B2 JP H064750B2
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epoxy resin
resin composition
fatty acid
higher fatty
cured product
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嘉夫 藤村
哲夫 吉田
稔 武井
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、離型性がよく、成形物の外観及び捺印性が良
好で、かつリードシール性や耐湿性に優れている上、接
着性及び耐アルミニウム腐食性に優れた硬化物を与え、
半導体装置の封止用等として好適に用いられるエポキシ
樹脂組成物及び該エポキシ樹脂組成物の硬化物に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention has good releasability, good appearance and imprintability of a molded article, and excellent lead sealability and moisture resistance, as well as adhesiveness and resistance. Gives a cured product with excellent aluminum corrosivity,
The present invention relates to an epoxy resin composition preferably used for sealing semiconductor devices and the like, and a cured product of the epoxy resin composition.

従来の技術及び発明が解決しようとする課題 従来、エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂等の硬
化剤、無機質充填剤、更には各種添加剤を含有するエポ
キシ樹脂組成物は、一般に他の熱硬化性樹脂組成物に比
べて成形性,接着性、電気特性,機械特性,耐湿性に優
れた硬化物を与えることから、各種成形材料、粉体塗装
用材料、半導体装置封止用材料等として広く使用されて
いる。
Conventional techniques and problems to be solved by the invention Conventionally, an epoxy resin composition containing a curing agent such as an epoxy resin and a phenol novolac resin, an inorganic filler, and various additives is generally another thermosetting resin composition. Since it gives cured products with superior moldability, adhesiveness, electrical properties, mechanical properties, and moisture resistance compared to other products, it is widely used as various molding materials, powder coating materials, semiconductor device encapsulation materials, etc. There is.

このエポキシ樹脂組成物を例えば半導体装置封止用材料
として用いる場合には、半導体素子をトランスファー成
形機で封止する際、金型からの離型性を良くするために
エポキシ樹脂組成物にカルナバワックス等の離型剤が添
加される。
When this epoxy resin composition is used as a material for encapsulating a semiconductor device, for example, carnauba wax is added to the epoxy resin composition to improve releasability from a mold when a semiconductor element is encapsulated by a transfer molding machine. And the like release agent is added.

しかしながら、従来のカルナバワックス等の離型剤を添
加したエポキシ樹脂組成物は、ガラス,金属,セラミッ
クス等を封止剤として用いたハーメチック封止の場合に
比較して、封止剤として湿気に対する信頼性に劣るもの
である上、離型剤を添加すると、半導体素子やリードフ
レームと封止樹脂との界面の接着力が低下して樹脂とリ
ードフレームとの界面から水が侵入し、封止処理後の半
導体装置の耐湿性の面での信頼性が著しく低下してしま
うという欠点がある。また、離型剤を添加したエポキシ
樹脂組成物で半導体装置を封止すると、半導体装置の外
観が悪くなって商品価値が低下し、かつ成形物上に印刷
する際の捺印性が低下するという問題もある。
However, the conventional epoxy resin composition containing a release agent such as carnauba wax is more reliable as a sealing agent against moisture than the case of hermetic sealing using glass, metal, ceramics or the like as a sealing agent. In addition, it is inferior in performance, and when a release agent is added, the adhesive force at the interface between the semiconductor element or the lead frame and the encapsulation resin decreases, and water invades from the interface between the resin and the lead frame, resulting in encapsulation treatment. There is a drawback that the reliability of the subsequent semiconductor device in terms of moisture resistance is significantly reduced. Further, when a semiconductor device is sealed with an epoxy resin composition containing a release agent, the appearance of the semiconductor device is deteriorated, the commercial value is reduced, and the imprintability when printing on a molded article is reduced. There is also.

更に、最近では半導体部品を回路基板に実装する際、例
えば215〜260℃の高温下で半田付けした後、12
0〜150℃,100%RHのプレッシャークッカーテ
ストを行なうなどの苛酷な条件が採用されているが、従
来のエポキシ樹脂組成物は、このような高温高湿雰囲気
下では封止材として十分に対処できず、満足な樹脂封止
をすることが困難である。
Furthermore, recently, when mounting a semiconductor component on a circuit board, after soldering at a high temperature of 215 to 260 ° C., for example, 12
Although harsh conditions such as performing a pressure cooker test at 0 to 150 ° C. and 100% RH are adopted, the conventional epoxy resin composition sufficiently handles as a sealing material under such a high temperature and high humidity atmosphere. However, it is difficult to achieve satisfactory resin sealing.

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、離型性,耐
湿性,接着性,捺印性が良好な硬化物を与えるエポキシ
樹脂組成物及びその硬化物を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an epoxy resin composition and a cured product thereof that give a cured product having good mold releasability, moisture resistance, adhesiveness, and imprintability.

課題を解決するための手段及び作用 本発明者は、上記目的を達成するため、半導体装置封止
用等として好適に用いられるエポキシ樹脂組成物に対し
て優れた性能を有する離型材につき鋭意検討を進めた結
果、エポキシ樹脂と硬化剤と無機質充填剤とからなるエ
ポキシ樹脂組成物に、 (A)シリコーン変性エポキシ樹脂又はフェノール樹脂、
特にアルケニル基含有エポキシ樹脂又はフェノール樹脂
と、下記式(I) (但し、式中Rは置換又は非置換の1価の炭化水素基、
aは0.01〜0.1、bは1.8〜2.2、1,81<a+b<2.3であ
り、また1分子中のケイ素原子数は20〜400の整数で
あり、ケイ素原子に直接結合する水素原子数は1〜5の
整数である。) で示されるオルガノポリシロキサンとを付加反応させる
ことにより得られる共重合体と、(B)炭素数10以上の
高級脂肪酸、高級アルコール、高級脂肪酸エステル又は
これらの誘導体とを、好ましくは重量比で(A)成分/(B)
成分=1〜0.05の割合で溶融反応させることにより得ら
れる溶融反応生成物を離型剤として使用し、この新規離
型剤を好ましくはエポキシ樹脂と硬化剤との合計量10
0部(重量部、以下同様)に対して0.2〜15部配合し
た場合、離型性が良好であると共に、半導体素子やリー
ドフレーム等との接着性が良く、優れた耐湿性を有し、
かつ外観や捺印性も良好な硬化物を与え、高温高湿雰囲
気下においても信頼性の高い満足できる性能を発揮し、
このため半導体封止用等として有効に使用し得るエポキ
シ樹脂組成物が得られることを見い出した。
Means and Actions for Solving the Problems The present inventor, in order to achieve the above-mentioned object, has made earnest studies on a release material having excellent performance with respect to an epoxy resin composition suitably used for semiconductor device encapsulation and the like. As a result, the epoxy resin composition comprising an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler, (A) a silicone-modified epoxy resin or a phenol resin,
In particular, an alkenyl group-containing epoxy resin or phenol resin and the following formula (I) (In the formula, R is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group,
a is 0.01 to 0.1, b is 1.8 to 2.2, 1,81 <a + b <2.3, the number of silicon atoms in one molecule is an integer of 20 to 400, and the number of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms is 1 Is an integer of ~ 5. ) The copolymer obtained by the addition reaction with the organopolysiloxane represented by: and (B) a higher fatty acid having 10 or more carbon atoms, a higher alcohol, a higher fatty acid ester or a derivative thereof, preferably in a weight ratio. (A) ingredient / (B)
A melt reaction product obtained by performing a melt reaction in a ratio of component = 1 to 0.05 is used as a mold release agent, and the novel mold release agent is preferably added in a total amount of 10 parts by weight of an epoxy resin and a curing agent.
When 0.2 to 15 parts are mixed with 0 parts (parts by weight, the same applies hereinafter), the mold releasability is good, and the adhesiveness to semiconductor elements, lead frames, etc. is good, and it has excellent moisture resistance,
In addition, it gives a cured product with good appearance and imprintability, and demonstrates highly reliable and satisfactory performance even in a high temperature and high humidity atmosphere.
Therefore, it has been found that an epoxy resin composition that can be effectively used for semiconductor encapsulation and the like can be obtained.

即ち、例えば従来のカルナバワックス等の離型剤が配合
されたエポキシ樹脂組成物を半導体装置の封止に用いる
場合、通常、樹脂封止半導体装置はトランスファー成形
機で成形されるが、この成形の際、封止材のエポキシ樹
脂組成物は加圧流動されてランナーを通じキャビティー
内に流れ込み、このエポキシ樹脂が溶融流動するのと同
時に組成物中に配合された離型剤も溶融し、これはエポ
キシ樹脂とは反応せず、また相溶もしないので、エポキ
シ樹脂より先にランナーからキャビティーへと流動す
る。このため、離型剤はエポキシ樹脂組成物の半導体装
置やリードフレームへの接着性を低下させるものであっ
た。これに対し、本発明に係る離型剤のシリコーン変性
エポキシ樹脂又はフェノール樹脂と高級脂肪酸、高級ア
ルコール、高級脂肪酸エステル又はこれらの誘導体との
溶融反応生成物は、トランシファー成形時に外部離型剤
としての効力を発揮し、トランシファー成形条件150
〜190℃,1.5〜5分、アフターキュア条件160〜
190℃,3〜8時間で組成物中のエポキシ樹脂と反応
してゲル化し、半導体素子又はリードフレームと封止樹
脂との界面に遊離離型剤として存在することがほとんど
ないため、本発明のエポキシ樹脂組成物は、離型剤が配
合されていてもその硬化物の半導体素子又はリードフレ
ームとの接着性が損なわれず強固であり、耐湿性に優
れ、外観や捺印性も良好である。それ故、本発明のエポ
キシ樹脂組成物で封止された半導体装置は、半導体素子
はリードフレームと封止樹脂との界面への水の侵入が少
なく、耐湿性に優れ、しかも離型性、外観、捺印性が良
好で高温高湿下における信頼性も高く、上記溶融反応生
成物がエポキシ樹脂組成物の離型剤として非常に顕著な
特性を有していることを知見し、本発明をなすに至った
ものである。
That is, for example, when an epoxy resin composition containing a conventional release agent such as carnauba wax is used for sealing a semiconductor device, the resin-sealed semiconductor device is usually molded by a transfer molding machine. At that time, the epoxy resin composition of the encapsulant is pressurized and flows into the cavity through the runner, and at the same time when the epoxy resin is melted and flowed, the release agent compounded in the composition is also melted. Since it does not react with the epoxy resin and is not compatible with it, it flows from the runner to the cavity before the epoxy resin. Therefore, the release agent reduces the adhesiveness of the epoxy resin composition to the semiconductor device and the lead frame. On the other hand, the melt reaction product of the silicone-modified epoxy resin or phenol resin of the release agent according to the present invention and the higher fatty acid, higher alcohol, higher fatty acid ester or derivative thereof is used as an external release agent during transfer molding. The effect of the Transfer molding condition 150
~ 190 ° C, 1.5 ~ 5 minutes, after cure condition 160 ~
It reacts with the epoxy resin in the composition at 190 ° C. for 3 to 8 hours and gels, and hardly exists as a release agent at the interface between the semiconductor element or the lead frame and the sealing resin. The epoxy resin composition is strong without impairing the adhesiveness of the cured product with the semiconductor element or the lead frame even if a release agent is blended, is excellent in moisture resistance, and has good appearance and imprintability. Therefore, in the semiconductor device sealed with the epoxy resin composition of the present invention, the semiconductor element has less moisture intrusion into the interface between the lead frame and the sealing resin, is excellent in moisture resistance, and has releasability and appearance. The present invention was found to have good imprintability, high reliability under high temperature and high humidity, and that the above-mentioned molten reaction product has very remarkable properties as a mold release agent for epoxy resin compositions. It came to.

なお、アルケニル基含有エポキシ樹脂又はフェノール樹
脂と上記(I)式のオルガノポリシロキサンの付加反応
により得られる共重合体及びこれを配合したエポキシ樹
脂組成物は以前より知られている(特開昭58−214
17号、同62−84147号公報)が、かかる共重合
体と上記(B)成分との溶融反応生成物がエポキシ樹脂組
成物の離型剤として有効であることは本発明者が新しく
見い出したものである。
Incidentally, a copolymer obtained by an addition reaction of an alkenyl group-containing epoxy resin or phenol resin with an organopolysiloxane of the above formula (I) and an epoxy resin composition containing the same have been known for a long time (Japanese Patent Laid-Open No. 58-58). -214
17, No. 62-84147), the present inventors have newly found that the melt reaction product of such a copolymer and the component (B) is effective as a mold release agent for the epoxy resin composition. It is a thing.

従って、本発明は、エポキシ樹脂と硬化剤と無機質充填
剤とを含有してなるエポキシ樹脂組成物に、シリコーン
変性エポキシ樹脂又はシリコーン変性フェノール樹脂と
炭素数10以上の高級脂肪酸、高級アルコール、高級脂
肪酸エステル又はこれらの誘導体とを溶融反応させるこ
とにより得られる溶融反応生成物を配合することを特徴
とするエポキシ樹脂組成物、及びこのエポキシ樹脂組成
物を硬化することにより得られる硬化物を提供する。
Therefore, the present invention provides an epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler, a silicone-modified epoxy resin or a silicone-modified phenol resin, and a higher fatty acid having 10 or more carbon atoms, a higher alcohol, and a higher fatty acid. Provided are an epoxy resin composition characterized by blending a melt reaction product obtained by a melt reaction with an ester or a derivative thereof, and a cured product obtained by curing the epoxy resin composition.

以下、本発明につき更に詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と硬化剤
と無機質充填剤とを含有する。
The epoxy resin composition of the present invention contains an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler.

この場合、エポキシ樹脂は1分子中に2個以上のエポキ
シ基を有するエポキシ樹脂であって、具体的には例えば
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、o−アリルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、
上記エポキシ樹脂類のブロム化物、オルガノポリシロキ
サンで変性されたエポキシ樹脂及びトリグリシジルイソ
シアネートの如き含複素環エポキシ樹脂などが挙げら
れ、これらの1種又は2種以上が適宜選択して使用され
る。
In this case, the epoxy resin is an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, and specifically, for example, cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, o-allyl. Phenol novolac type epoxy resin,
Examples thereof include brominated products of the above epoxy resins, epoxy resins modified with organopolysiloxane, and heterocyclic epoxy resins such as triglycidyl isocyanate, and one or more of these may be appropriately selected and used.

なお、これらのエポキシ樹脂は加水分解性塩素イオンの
含有量ができるだけ少ないことが好ましく、望ましいは
0.1重量%以下の含有量のものが好ましい。
It is preferable that the content of hydrolyzable chlorine ions in these epoxy resins is as low as possible, and
A content of 0.1% by weight or less is preferable.

また、上記のエポキシ樹脂の硬化剤としてはフェノール
樹脂が好適であり、フェノール樹脂としては、フェノー
ルノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、tert−
ブチルフェノールノボラック樹脂、ノニルフェノールノ
ボラック樹脂、レゾール型フェノール樹脂、ビスフェノ
ールA型ノボラック樹脂及びオルガノポリシロキサン変
性フェノールノボラック樹脂などが挙げられ、これらの
1種又は2種以上が適宜選定して使用される。
Further, a phenol resin is suitable as a curing agent for the above epoxy resin, and as the phenol resin, phenol novolac resin, cresol novolac resin, tert-
Examples thereof include butylphenol novolac resin, nonylphenol novolac resin, resol-type phenol resin, bisphenol A-type novolac resin, and organopolysiloxane-modified phenol novolac resin, and one or more of these may be appropriately selected and used.

なお、これらのフェノール樹脂を使用してエポキシ樹脂
を硬化させる場合、エポキシ樹脂のエポキシ基1個に対
し、フェノール性水酸基を0.8〜3個、好ましくは1〜
2個与えるようにフェノール樹脂をエポキシ樹脂に加え
ることが好ましく、フェノール性水酸基が0.8個より少
ないとエポキシ樹脂組成物の硬化物の電気特性や機械特
性が低下する場合があり、またフェノール性水酸基が3
より多いとエポキシ樹脂組成物の粘度が低すぎて、エポ
キシ樹脂組成物を成形する時にボイド等が発生し易くな
り、また離型性も悪くなる等の不都合が生ずる場合があ
る。
When an epoxy resin is cured using these phenolic resins, 0.8 to 3 phenolic hydroxyl groups, preferably 1 to 1 epoxy group per epoxy resin is used.
It is preferable to add a phenol resin to the epoxy resin so as to give two, and if the number of the phenolic hydroxyl groups is less than 0.8, the cured product of the epoxy resin composition may have poor electrical properties and mechanical properties. Three
If it is more than the above range, the viscosity of the epoxy resin composition is too low, so that voids and the like are likely to occur when the epoxy resin composition is molded, and the releasability may be deteriorated.

更に、本発明においては上記したフェノール樹脂系硬化
剤とエポキシ樹脂との反応を促進させる目的で硬化促進
剤を使用することが好ましい。硬化促進剤としては、一
般にエポキシ化合物の硬化に用いられている種々のもの
を使用することができ、これにはイミダゾール、2−、
メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2,4
−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミ
ダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデ
シルイミダゾール、1−ビニル−2−メチルイミダゾー
ル、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダ
ゾール、2−フェニルイミダゾール。2−フェニル−4
−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリエチ
ルアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
ミン、ジエチルアミノプロピルアミン、N−アミノエチ
ルピペラジン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘ
キシル)メタン、メタキシリレンアミン、メンタンジア
ミン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,
8,10−テトラオキサスピロ(5.5)ウンデカン、
1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7など
のアミン系化合物、あるいはトリエチルアミンとBF
とからなる錯化合物、トリフェニルフォスフィン等のオ
ルガノフォスフィン化合物、アミン系化合物と無水トリ
メリット酸等の酸無水物とのアダクト物などが例示され
る。
Further, in the present invention, it is preferable to use a curing accelerator for the purpose of accelerating the reaction between the above-mentioned phenol resin type curing agent and the epoxy resin. As the curing accelerator, various compounds generally used for curing an epoxy compound can be used. Examples of the curing accelerator include imidazole, 2-,
Methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2,4
-Dimethyl imidazole, 2-ethyl-4-methyl imidazole, 2-undecyl imidazole, 2-heptadecyl imidazole, 1-vinyl-2-methyl imidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethyl imidazole, 2-phenyl imidazole . 2-phenyl-4
-Imidazoles such as methylimidazole, triethylamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diethylaminopropylamine, N-aminoethylpiperazine, bis (4-amino-3-methylcyclohexyl) methane, metaxylyleneamine, menthanediamine, 3,9 -Bis (3-aminopropyl) -2,4
8,10-tetraoxaspiro (5.5) undecane,
Amine-based compounds such as 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7, or triethylamine and BF 3
Examples thereof include complex compounds consisting of and, organophosphine compounds such as triphenylphosphine, and adducts of amine compounds and acid anhydrides such as trimellitic anhydride.

硬化促進剤の使用量は特に制限されないが、通常の使用
量でよい。
The amount of the curing accelerator used is not particularly limited, but a usual amount may be used.

これらの硬化促進剤はその使用にあたっては必ずしも1
種類のみの使用に限定されるものではなく、それら硬化
促進剤が有する硬化促進性能などに応じて2種類以上を
併用してもよい。
These curing accelerators are not always available in 1
The use is not limited to only one type, and two or more types may be used in combination depending on the curing acceleration performance of the curing accelerator.

次いで、本発明組成物に配合する無機質充填剤として
は、通常、この種のエポキシ樹脂組成物に使用される無
機質充填剤を用いることができ、例えばシリカ,アルミ
ナ,マイカ,クレー,カオリン,ガラスビーズ,ガラス
繊維,亜鉛華,三酸化アンチモン,炭酸カルシウム,水
酸化アルミニウム,BeO,AlN,ボロンナイトライ
ド,酸化チタン,炭化ケイ素,酸化鉄等が挙げられる。
これらの無機質充填剤の中では、特にシリカ粉末,三酸
化アンチモン,高純度アルミナ,ガラス繊維が好まし
く、また粉状充填剤は平均粒子径0.01〜30μmのもの
が好ましい。上述した無機質充填剤はその1種を単独で
使用でき、また2種以上を併用するようにしてもよい
が、その配合量は上記エポキシ樹脂と硬化剤との合計量
100部に対し200〜900部、特に200〜750
部の範囲で使用することが好ましい。無機質充填剤の使
用量が多すぎると分散が困難となるばかりか、耐湿性、
接着性等の物性において不利になる場合がある。
Then, as the inorganic filler to be added to the composition of the present invention, the inorganic filler used in this kind of epoxy resin composition can be usually used, for example, silica, alumina, mica, clay, kaolin, glass beads. , Glass fiber, zinc white, antimony trioxide, calcium carbonate, aluminum hydroxide, BeO, AlN, boron nitride, titanium oxide, silicon carbide, iron oxide and the like.
Among these inorganic fillers, silica powder, antimony trioxide, high-purity alumina, and glass fiber are particularly preferable, and the powdery filler preferably has an average particle diameter of 0.01 to 30 μm. The above-mentioned inorganic fillers can be used alone or in combination of two or more, but the blending amount thereof is 200 to 900 with respect to 100 parts of the total amount of the epoxy resin and the curing agent. Parts, especially 200-750
It is preferred to use within the range of parts. If the amount of the inorganic filler used is too large, it will be difficult to disperse, and moisture resistance,
It may be disadvantageous in terms of adhesiveness and other physical properties.

本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物は、上述のよ
うなエポキシ樹脂と硬化剤と無機質充填剤とを必須成分
とし、更には硬化促進剤を必要により配合し得るもので
あるが、本発明においては、これら成分と共に、離型剤
としてシリコーン変性エポキシ樹脂又はフェノール樹脂
と高級脂肪酸、高級アルコール、高級脂肪酸エステル又
はこれらの誘導体との溶融反応生成物を使用するもので
あり、この溶融反応生成物は、上述したように従来の離
型剤と異なり、エポキシ樹脂との相溶性が良く、一部熱
硬化するため、離型剤として上記反応生成物を配合する
ことにより、エポキシ樹脂組成物の接着性、耐湿性、捺
印性を損なうことなく、離型性を向上させることができ
るものである。
The epoxy resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention contains the above-mentioned epoxy resin, curing agent and inorganic filler as essential components, and may further contain a curing accelerator if necessary. In the above, a melt reaction product of a silicone-modified epoxy resin or phenol resin and a higher fatty acid, a higher alcohol, a higher fatty acid ester or a derivative thereof together with these components is used. As described above, unlike the conventional mold release agent, it has good compatibility with the epoxy resin and partially heat-cures. Therefore, by blending the above reaction product as the mold release agent, the epoxy resin composition is bonded. The mold releasability can be improved without impairing the property, the moisture resistance, and the imprintability.

ここで、シリコーン変性エポキシ樹脂及びシリコーン変
性フェノール樹脂としては、特にアルケニル基含有エポ
キシ樹脂又はアルケニル基含有フェノール樹脂と下記式
(I) (但し、式中Rは置換又は非置換の1価の炭化水素基、
aは0.01〜0.1、bは1.8〜2.2、1.81<a+b<2.3であ
り、また1分子中のケイ素原子数は20〜400の整数
であり、ケイ素原子に直接結合する水素原子数は1〜5
の整数である。) で示されるオルガノポリシロキサンとを付加反応させる
ことにより得られる共重合体を使用することが好まし
い。
Here, as the silicone-modified epoxy resin and the silicone-modified phenol resin, particularly, an alkenyl group-containing epoxy resin or an alkenyl group-containing phenol resin and the following formula (I) (In the formula, R is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group,
a is 0.01 to 0.1, b is 1.8 to 2.2, 1.81 <a + b <2.3, the number of silicon atoms in one molecule is an integer of 20 to 400, and the number of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms is 1 to 5
Is an integer. It is preferable to use a copolymer obtained by addition-reacting with the organopolysiloxane represented by

ここで、アルケニル基含有エポキシ樹脂又はフェノール
樹脂としては、アルケニル基含有するフェノール樹脂を
エピクロロヒドリンによりエポキシ化したり、従来公知
のエポキシ樹脂又はフェノール樹脂に2−アリルフェノ
ールなどを部分的に反応させたりすることなどにより得
ることができるが、好適には下記式〜で示されるア
ルケニル基含有ノボラック型エポキシ樹脂又はフェノー
ル樹脂が用いられる。
Here, as the alkenyl group-containing epoxy resin or phenol resin, the alkenyl group-containing phenol resin is epoxidized with epichlorohydrin, or a conventionally known epoxy resin or phenol resin is partially reacted with 2-allylphenol or the like. It is possible to obtain the alkenyl group-containing novolac type epoxy resin or phenol resin represented by the following formulas (1) to (3).

(但し、上記〜式中、p,qは通常1≦p≦20,
1≦q≦10の整数である。) 他方、上記式(I)で示されるオルガノポリシロキサン
としては、1分子中に少なくとも1個の をもつものであればよいが、特に両末端ハイドロジエン
メチルポリシロキサン、両末端ハイドロジエンメチルフ
ェニルポリシロキサン、両末端ハイドロジエンメチル・
(2−トリメトキシシリルエチル)ポリシロキサンが好
適である。
(However, in the above formulas, p and q are usually 1 ≦ p ≦ 20,
It is an integer of 1 ≦ q ≦ 10. ) On the other hand, as the organopolysiloxane represented by the above formula (I), at least one It is sufficient to have both ends hydrogendiene methyl polysiloxane, both ends hydrogenene methylphenyl polysiloxane, both ends hydrogenene methyl.
(2-Trimethoxysilylethyl) polysiloxane is preferred.

また、上記(I)式のオルガノポリシロキサンの重合度
は通常20〜400、好ましくは30〜200の範囲で
ある。
The degree of polymerization of the above-mentioned organopolysiloxane of formula (I) is usually in the range of 20 to 400, preferably 30 to 200.

本発明の共重合体は、上記アルケニル基含有エポキシ樹
脂又はフェノール樹脂と式(I)の をもつオルガノポリシロキサンとを従来公知の付加触
媒、例えば塩化白金酸のような白金系触媒の存在下で加
熱反応させることによって得ることができる。
The copolymer of the present invention comprises the above-mentioned alkenyl group-containing epoxy resin or phenol resin and the compound of the formula (I) It can be obtained by heating and reacting with an organopolysiloxane having ## STR3 ## in the presence of a conventionally known addition catalyst, for example, a platinum-based catalyst such as chloroplatinic acid.

上記共重合体として具体的には、特開昭58−2141
7号及び同62−84147号公報に記載の共重合体、
特に下記式(1),(2)で示される化合物が好適に用いられ
る。
Specific examples of the above copolymer include JP-A-58-2141.
7 and the copolymers described in JP-A-62-84147,
Particularly, compounds represented by the following formulas (1) and (2) are preferably used.

(但し、l,m,nは、20≦l≦400,1≦m≦1
0,1≦n≦20,Rは水素原子,メチル基又はエチル
基である) また、高級脂肪酸、高級アルコール、高級脂肪酸エステ
ル及びこれらの誘導体としては、炭素数が10以上、好
ましくは20以上のものを単独で又は2種以上を混合し
て使用する。
(However, l, m, and n are 20 ≦ l ≦ 400, 1 ≦ m ≦ 1
0,1 ≦ n ≦ 20, R is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group) Further, the higher fatty acid, the higher alcohol, the higher fatty acid ester and their derivatives have a carbon number of 10 or more, preferably 20 or more. These may be used alone or in admixture of two or more.

この場合、炭素数10以上の高級脂肪酸としては、下記
(但し、Rは炭素数25〜32のアルキル基を示す。) で示されるヘキストワッカー社製の高級脂肪酸が好適に
使用し得、具体的にはワックスS(酸価135〜16
5)、ワックスLP(酸価115〜130)、ワックス
SW(酸価115〜130)等を用いることができるほ
か、CH3(CH2)14COOH(パルミチン酸)、CH3(CH2)16COOH
(ステアリン酸)、CH3(CH2)7CH=CH(CH2)7COOH(オレ
イン酸)、CH3(CH2)20COOH(ベヘニン酸)等を使用する
こともできる。
In this case, as the higher fatty acid having 10 or more carbon atoms, the following formula is used. (However, R represents an alkyl group having 25 to 32 carbon atoms.) The higher fatty acid manufactured by Hoechst Wacker Co., Ltd., can be preferably used, and specifically, wax S (acid value 135 to 16).
5), wax LP (acid value 115 to 130), wax SW (acid value 115 to 130) and the like can be used, as well as CH 3 (CH 2 ) 14 COOH (palmitic acid), CH 3 (CH 2 ) 16 COOH
(Stearic acid), CH 3 (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 COOH ( oleic acid), CH 3 (CH 2) may be used 20 COOH (behenic acid) and the like.

また、炭素数10以上の高級アルコールとしては、例え
ばラウリルアルコール、ミリスチルアルコール等を挙げ
ることができる。
Examples of higher alcohols having 10 or more carbon atoms include lauryl alcohol and myristyl alcohol.

更に、炭素数10以上の高級脂肪酸エステルとしては、
例えば前記パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、
ベヘニン酸等の高級脂肪酸と低級アルコールとのエステ
ル、グリセリンとのエステル等が挙げられ、これら樹脂
酸、アルコール、エステルの誘導体としては酸アミド、
酸クロライド、グリセライド(油脂)等が挙げられる。
Further, as the higher fatty acid ester having 10 or more carbon atoms,
For example, palmitic acid, stearic acid, oleic acid,
Examples thereof include esters of higher fatty acids such as behenic acid and lower alcohols, esters of glycerin, etc., and acid amides as derivatives of these resin acids, alcohols and esters,
Examples thereof include acid chloride and glyceride (oil and fat).

ここで、上記アルケニル基含有エポキシ樹脂又はフェノ
ール樹脂と(I)式のオルガノポリシロキサンとの付加
反応により得られる共重合体(以下、(A)成分と称す)
と、炭素数10以上の高級脂肪酸、高級アルコール、高
級脂肪酸エステル又はこれらの誘導体(以下、(B)成分
と称す)との配合割合は、重合比で(A)(B)=1〜0.0
5、特に0.5〜0.05であることが好ましい。(A)/
(B)比が0.05より小さいと、(A)成分の共重合体配合
量が少なく、(A)成分と(B)成分との溶融反応生成物が十
分にその性能を発揮し得ないものとなる場合があり、こ
の反応生成物を離型剤としてエポキシ樹脂組成物に配合
すると、成形時に離型剤は分離気化して半導体装置のリ
ード面にエポキシ樹脂が到達する前に付着し、リードシ
ール性が悪くなると共に、エポキシ樹脂硬化物面に多く
の離型剤が付着して捺印性が低下する場合がある。ま
た、(A)/(B)比が1より大きいと、(A)成分の共重合体配
合量が多くなり、エポキシ樹脂組成物の硬化物表面が一
般に市販されている捺印剤では捺印できなくなる場合が
ある。
Here, a copolymer obtained by the addition reaction of the above-mentioned alkenyl group-containing epoxy resin or phenol resin and the organopolysiloxane of formula (I) (hereinafter referred to as component (A))
And a higher fatty acid having 10 or more carbon atoms, a higher alcohol, a higher fatty acid ester or a derivative thereof (hereinafter, referred to as a component (B)) in a polymerization ratio of (A) (B) = 1 to 0. 0
5, especially 0.5 to 0.05 is preferable. (A) /
If the ratio (B) is less than 0.05, the amount of the copolymer of the component (A) is small, and the molten reaction product of the component (A) and the component (B) cannot exhibit its performance sufficiently. In some cases, when this reaction product is blended with the epoxy resin composition as a mold release agent, the mold release agent is vaporized during molding and adheres before the epoxy resin reaches the lead surface of the semiconductor device, The lead sealability may be deteriorated, and a large amount of the release agent may adhere to the surface of the cured epoxy resin to reduce the imprintability. Further, if the (A) / (B) ratio is greater than 1, the amount of the copolymer of the component (A) compounded increases, and the surface of the cured product of the epoxy resin composition cannot be imprinted with a commercially available imprinting agent. There are cases.

なお、上記(A)成分と(B)成分との溶融反応は、(A)成分
の共重合体及び(B)成分の高級脂肪酸等の種類に応じた
種々の方法で行なうことができるが、反応温度100〜
250℃で1〜5時間反応させ、溶融反応生成物の10
0℃における溶融粘度を0.4〜20ポイズとすること
が好ましい。
The melt reaction between the component (A) and the component (B) can be carried out by various methods depending on the type of the copolymer of the component (A) and the higher fatty acid of the component (B). Reaction temperature 100 ~
The reaction is performed at 250 ° C. for 1 to 5 hours to give 10
The melt viscosity at 0 ° C. is preferably 0.4 to 20 poise.

上記溶融反応生成物の配合量は、エポキシ樹脂と硬化剤
との合計量100部に対して0.2〜15部、特に0.
5〜10部とすることが好ましく、配合量が0.2部よ
り少ないと成形時において硬化物の金型からの離型性が
悪くなる場合があり、15部より多いと成形品の表面へ
の滲み出しや半導体素子のリードシール性が不良になる
などの現象が生じる場合がある。
The melting reaction product is blended in an amount of 0.2 to 15 parts, particularly 0.1 to 100 parts, based on 100 parts of the total amount of epoxy resin and curing agent.
It is preferably 5 to 10 parts, and if the blending amount is less than 0.2 part, the releasability of the cured product from the mold may deteriorate at the time of molding, and if it is more than 15 parts, the surface of the molded product may be deteriorated. There are cases in which phenomena such as bleeding out of the semiconductor and poor lead sealability of the semiconductor element occur.

なお、本発明においては、離型剤としては上記溶融反応
生成物に加えて、本発明の硬化を損なわない範囲で従来
より公知のその他の離型剤を併用しても何ら差支えな
い。
In the present invention, as the release agent, in addition to the above-mentioned melt reaction product, other release agents conventionally known in the art may be used in combination as long as the curing of the present invention is not impaired.

本発明の組成物には、更に必要により各種の添加剤を添
加することができる。例えば、有機ゴム系やシリコーン
系の可撓性付与剤、カーボンブラック、コバルトブル
ー、ベンガラ等の顔料、酸化アンチモン、ハロゲン化合
物等の難燃化剤、表面処理剤(γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシラン等)、エポキシシラン、ビニルシラ
ン、ほう素化合物、アルキルチタネート等のカップリン
グ剤、老化防止剤、その他の添加剤の1種又は2種以上
を配合することができる。
If desired, various additives can be added to the composition of the present invention. For example, organic rubber-based or silicone-based flexibility-imparting agents, pigments such as carbon black, cobalt blue and red iron oxide, antimony oxide, flame retardants such as halogen compounds, surface treatment agents (γ-glycidoxypropyltrimethoxy). Orchid), epoxy silane, vinyl silane, boron compound, coupling agent such as alkyl titanate, antiaging agent, and one or more kinds of other additives.

なお、本発明のエポキシ樹脂組成物は、その製造に際
し、上述した成分の所定量を均一に攪拌、混合し、予め
70〜95℃に加熱してあるニーダー、ロール、エクス
トルーダーなどで混練、冷却し、粉砕するなどの方法で
得ることができる。ここで、成分の配合順序に特に制限
はない。
In addition, the epoxy resin composition of the present invention, in the production thereof, uniformly stirs and mixes predetermined amounts of the above-mentioned components, and kneads and cools with a kneader, roll, extruder or the like which is heated to 70 to 95 ° C. It can be obtained by a method such as crushing and crushing. Here, there is no particular limitation on the order of mixing the components.

上述したように、本発明のエポキシ樹脂組成物はIC、
LSI、トランジスタ、サイリスタ、ダイオード等の半
導体装置の封止用に使用するものであり、プリント回路
板の製造などにも有効に使用できる。
As described above, the epoxy resin composition of the present invention is an IC,
It is used for sealing semiconductor devices such as LSIs, transistors, thyristors, and diodes, and can be effectively used for manufacturing printed circuit boards.

ここで、半導体装置の封止を行なう場合は、従来より採
用されている成形法、例えばトランスファー成形、イン
ジェクション成形、注型法などを採用して行なうことが
できる。この場合、エポキシ樹脂組成物の成形温度は1
50〜180℃、ポストキュアーは150〜180℃で
2〜16時間行なうことが好ましい。
Here, the semiconductor device can be sealed by a conventionally used molding method such as transfer molding, injection molding, or casting method. In this case, the molding temperature of the epoxy resin composition is 1
The post-cure is preferably performed at 50 to 180 ° C. and 150 to 180 ° C. for 2 to 16 hours.

発明の効果 以上説明したように、本発明のエポキシ樹脂組成物は、
離型剤として特定の溶融反応生成物を配合したことによ
り、離型性が良好な上、接着性及び耐湿性が著しく向上
し、しかも接着性及び耐湿性が高温高湿雰囲気下におい
ても良好であり、外観や捺印性にも優れた硬化物を与え
る。それ故、本発明組成物は、半導体装置封止材として
使用した場合において高温高湿の条件下においても非常
に信頼性の高いものである。
As described above, the epoxy resin composition of the present invention,
By incorporating a specific melt reaction product as a release agent, the release property is good, and the adhesiveness and moisture resistance are significantly improved, and the adhesiveness and moisture resistance are good even in a high temperature and high humidity atmosphere. Yes, it gives a cured product with excellent appearance and imprintability. Therefore, the composition of the present invention, when used as a semiconductor device encapsulant, is highly reliable even under conditions of high temperature and high humidity.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
Hereinafter, the present invention will be specifically described by showing Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

なお、実施例と比較例を示すのに先立ち、実施例及び比
較例中にて使用した高級脂肪酸と有機ケイ素化合物から
合成された溶融反応生成物の合成例を示す。
In addition, prior to showing the examples and the comparative examples, a synthesis example of a melt reaction product synthesized from the higher fatty acid and the organosilicon compound used in the examples and the comparative examples will be shown.

〔合成例〕[Synthesis example]

下記の構造式を有するシリコーン変性エポキシ樹脂又は
フェノール樹脂にセロチン酸ミリシル(C25H51COOC30H
61,融点85℃,酸価2.9〜9.7,ヨウ素価14,
ケン化価79〜87)を加えて混合し、第1表に示す反
応温度及び時間で溶融反応させた後、反応物を冷却して
固形の溶融反応生成物A〜Eを得た。なお、得られた反
応生成物の溶融粘度(100℃)をB型粘度計で測定し
た結果を第1表に併記する。
A silicone-modified epoxy resin or phenolic resin having the following structural formula is added to myricyl cerotate (C 25 H 51 COOC 30 H
61 , melting point 85 ° C., acid value 2.9 to 9.7, iodine value 14,
Saponification numbers 79 to 87) were added and mixed, and melt reaction was carried out at the reaction temperature and time shown in Table 1. Then, the reaction product was cooled to obtain solid melt reaction products A to E. The melt viscosity (100 ° C.) of the obtained reaction product was measured with a B-type viscometer and the results are shown in Table 1.

また、比較のため、上記シリコーン変性エポキシ樹脂又
はフェノール樹脂にカプリル酸(C8H16O2,融点16
℃,沸点239℃,比重0.908)を加えて混合し、
第2表に示す反応温度及び時間で溶融反応させた後、反
応物を冷却して固形の反応生成物F〜Iを得た。なお、
得られた反応生成物の溶融粘度(100℃)をB型粘度
計で測定した結果を第2表に併記する。
For comparison, the above silicone-modified epoxy resin or phenolic resin is mixed with caprylic acid (C 8 H 16 O 2 , melting point 16).
℃, boiling point 239 ℃, specific gravity 0.908) are added and mixed,
After performing the melt reaction at the reaction temperature and time shown in Table 2, the reaction product was cooled to obtain solid reaction products FI. In addition,
The melt viscosity (100 ° C.) of the obtained reaction product is measured by a B-type viscometer, and the results are shown in Table 2.

〔実施例1〜7,比較例1〜6〕 第3表に示す組成のエポキシ樹脂組成物を調製し、各組
成物について以下の諸試験を行なった。結果を第3表に
併記する。
[Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 6] Epoxy resin compositions having the compositions shown in Table 3 were prepared, and the following tests were performed on each composition. The results are also shown in Table 3.

(イ)接着性テスト 第1,2図に示すように6×11×0.25mmの2枚の
テストピース1,1の先端を互に2mm離間させて対向さ
せ、テストピース1,1の対向部を37×14×4mmに
樹脂2で被覆し、180℃,2分で樹脂封止を行ない、
180℃,4時間アフターキュアーを行なって成形品3
を得た。この成形品を用いて下記の接着性を調べた。
(A) Adhesion test As shown in FIGS. 1 and 2, the tips of two test pieces 1 and 1 of 6 × 11 × 0.25 mm are opposed to each other with a distance of 2 mm from each other, and the test pieces 1 and 1 are opposed to each other. The part is covered with resin 2 at 37 × 14 × 4 mm, and the resin is sealed at 180 ° C. for 2 minutes.
Molded product 3 after after-curing at 180 ℃ for 4 hours
Got The following adhesiveness was investigated using this molded product.

接着性I 上記の成形品のテストピース1,1を互に反対方向に引
っ張り、接着力(kg)を測定した。
Adhesiveness I The test pieces 1 and 1 of the above-mentioned molded product were pulled in mutually opposite directions, and the adhesive force (kg) was measured.

接着性II 上記の成形品3をプレッシャークッカー(121℃,
2.1atm)に100時間放置した後、接着性Iの場合
と同様にして引っ張り、接着力(kg)を測定した。
Adhesiveness II The above-mentioned molded article 3 was prepared by pressure cooker (121 ° C,
After standing at 2.1 atm) for 100 hours, the adhesive strength (kg) was measured by pulling in the same manner as in the adhesiveness I.

(ロ)Al配線腐食テスト Al配線(膜厚1μ,線幅5μ)を施したSiチップを
14PIN DIPにマウントしたテストフレームを1
80℃、2分で成形封止し、180℃で4時間アフター
キュアを行なって成形品を得た。
(B) Al wiring corrosion test An Al wiring (film thickness 1μ, line width 5μ) Si chip mounted on a 14PIN DIP was used as a test frame.
It was molded and sealed at 80 ° C. for 2 minutes, and after-cured at 180 ° C. for 4 hours to obtain a molded product.

Al配線腐食率I 上記の成形品をプレッシャークッカー(121℃,2.
1atm)に放置し、2000時間後の断線率(%)を測
定した。
Al wiring corrosion rate I The above molded product was pressure cooker (121 ° C, 2.
It was left to stand at 1 atm) and the breaking rate (%) was measured after 2000 hours.

Al配線腐食率II 上記の成形品を216℃の半田浴に10秒間浸漬後、プ
レッシャークッカー(121℃,2.1atm)に放置
し、1000時間後の断線率(%)を測定した。
Al Wiring Corrosion Rate II The above-mentioned molded product was immersed in a solder bath at 216 ° C. for 10 seconds and then left in a pressure cooker (121 ° C., 2.1 atm), and the disconnection rate (%) after 1000 hours was measured.

(ハ)離型性テスト エポキシ樹脂組成物をトランスファー成形機で成形した
際の成形品の金型からの離れ易さによって離型性の良
好、不良を判定した。
(C) Releasability test Good releasability was determined based on the ease of release of the molded product from the mold when the epoxy resin composition was molded by a transfer molding machine.

(ニ)捺印性テスト 10φ×3mmのテストピース6枚を成形条件180℃,
2分,成形圧力70kg/cm2で成形し、更に180℃,4
時間アフターキュアした成形物に捺印剤〔(株)馬場印
房社製のボンマークC,MARKEM7224,726
1〕で印字した後、捺印剤をキュアーし、MIL−ST
D−883C(Notice−4,Method2015−6Resist
ance to solvents)法で試験し、捺印性を評価した。
(D) Imprintability test Six test pieces of 10φ x 3 mm were molded under the molding conditions of 180 ° C.
Mold for 2 minutes at a molding pressure of 70 kg / cm 2 and then at 180 ° C for 4
Stamping agent [Bonmark C, Markem 7224, 726 manufactured by Baba Inbo Co., Ltd.
After printing with 1], the marking agent is cured and MIL-ST
D-883C (Notice-4, Method2015-6Resist
ance to solvents) method to evaluate the imprintability.

注:EOCH−1020−70: 日本化薬(株)製のオルソクレゾールノボラック型樹脂 TD:2093: 大日本インキ(株)製のフェノールノボラック樹脂 YDB−340: 東都化成製の臭素化エポキシ樹脂 KBM−403: γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ シラン(信越化学(株)製) 第3表の結果より、本発明に係るシリコーン変性エポキ
シ樹脂又はフェノール樹脂と高級脂肪酸との溶融反応生
成物を離型剤として配合したエポキシ樹脂組成物の硬化
物は、接着性、耐湿性、離型性及び捺印性が良好で、し
かも高温高湿雰囲気下においても優れた接着性、耐湿性
を有することが確認された。
Note: EOCH-1020-70: Orthocresol novolac type resin manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. TD: 2093: Phenol novolac resin manufactured by Dainippon Ink and Chemicals YDB-340: Brominated epoxy resin manufactured by Tohto Kasei KBM-403: γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) From the results in Table 3, the molten reaction product of the silicone-modified epoxy resin or phenol resin according to the present invention and the higher fatty acid was separated. It was confirmed that the cured product of the epoxy resin composition blended as a mold has good adhesiveness, moisture resistance, releasability and imprintability, and also has excellent adhesiveness and moisture resistance even in a high temperature and high humidity atmosphere. Was done.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は接着性テストに使用するエポキシ樹脂組成物で
封止したテストピースの成形品の平面図であり、第2図
はその断面図である。 1…テストピース,2…封止樹脂、 3…成形品。
FIG. 1 is a plan view of a molded product of a test piece sealed with an epoxy resin composition used for an adhesion test, and FIG. 2 is a sectional view thereof. 1 ... Test piece, 2 ... Sealing resin, 3 ... Molded product.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/29 23/31 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI technical display location H01L 23/29 23/31

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】エポキシ樹脂と硬化剤と無機質充填剤とを
含有してなるエポキシ樹脂組成物に、シリコーン変性エ
ポキシ樹脂又はシリコーン変性フェノール樹脂と炭素数
10以上の高級脂肪酸、高級アルコール、高級脂肪酸エ
ステル又はこれらの誘導体とを溶融反応させることによ
り得られる溶融反応生成物を配合することを特徴とする
エポキシ樹脂組成物。
1. An epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler, and a silicone-modified epoxy resin or silicone-modified phenol resin and a higher fatty acid having 10 or more carbon atoms, a higher alcohol, or a higher fatty acid ester. Alternatively, an epoxy resin composition comprising a melt reaction product obtained by performing a melt reaction with these derivatives.
【請求項2】請求項1記載のエポキシ樹脂組成物を硬化
することにより得られた硬化物。
2. A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 1.
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