JPH0650720B2 - Pattern data transfer method for electron beam exposure apparatus - Google Patents
Pattern data transfer method for electron beam exposure apparatusInfo
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- JPH0650720B2 JPH0650720B2 JP59266022A JP26602284A JPH0650720B2 JP H0650720 B2 JPH0650720 B2 JP H0650720B2 JP 59266022 A JP59266022 A JP 59266022A JP 26602284 A JP26602284 A JP 26602284A JP H0650720 B2 JPH0650720 B2 JP H0650720B2
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- pattern data
- electron beam
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、パターン・データを電子計算機から電子ビー
ム露光装置のパターン描画器に転送する電子ビーム露光
装置のパターン・データ転送方法に関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a pattern data transfer method for an electron beam exposure apparatus, which transfers pattern data from an electronic computer to a pattern writer of an electron beam exposure apparatus. .
第４図は従来の電子ビーム露光装置のパターン・データ
転送方式を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a pattern data transfer system of a conventional electron beam exposure apparatus.
電子ビーム露光装置では、一般にパターン・データが電
子計算機のメモリからパターン描画器内の所定のレジス
タに転送され、しかる後そのパターン・データに従って
例えばウエーハ上に電子ビームが照射されパターン描画
される。In an electron beam exposure apparatus, generally, pattern data is transferred from a memory of an electronic computer to a predetermined register in a pattern drawing device, and then, for example, an electron beam is irradiated on a wafer according to the pattern data to draw a pattern.
電子ビーム露光装置において描画されるべきパターン・
データは、位置や大きさ、形状、角度、露光条件などの
情報を所定の順序で並べた複数のデータから構成されて
いる。例えば第４図(a)に示すような矩形のパターン24
では、第４図(b)に示すように原点データx1,y1、大きさ
を表すデータx2,y2、露光条件α、また、台形のパター
ン25では、原点データx1,y1、台形条件β1，β2といっ
た数ワードのデータによる構成となっている。このパタ
ーン・データが先に述べたように電子計算機のメモリか
らビーム露光装置のパターン描画器内の各レジスタに転
送されるためには、各データに対し転送先レジスタのア
ドレスをも同時に付加して転送することが必要である。
そこで従来は、第４図(b)に示すように格納アドレス26
をデータ27と並列に転送したり、第４図(c)に示すよう
にアドレスとデータを交互にして直列に転送したりする
方式が採用されていた。The pattern to be drawn in the electron beam exposure system
The data is composed of a plurality of data in which information such as position, size, shape, angle, and exposure condition are arranged in a predetermined order. For example, a rectangular pattern 24 as shown in FIG.
Then, as shown in FIG. 4 (b), the origin data x 1 , y 1 , the size data x 2 , y 2 , the exposure condition α, and the trapezoidal pattern 25, the origin data x 1 , y 1 , Trapezoidal conditions β 1 and β 2 are composed of several words of data. As described above, in order to transfer the pattern data from the memory of the electronic computer to each register in the pattern drawing device of the beam exposure apparatus, the address of the transfer destination register is also added to each data at the same time. It is necessary to transfer.
Therefore, conventionally, as shown in FIG.
Has been adopted in parallel with the data 27, or as shown in FIG. 4 (c), the addresses and data are alternately transferred in series.
しかしながら、上述した従来のパターン・データの転送
方式では、各データとそのアドレスとを並列に転送する
と転送ラインが多くなり、また、直列に転送すると時間
がかかるというようにそれぞれ問題があった。また、先
に述べたようにパターン・データを電子計算機のメモリ
に記憶しておく場合には、それぞれのデータに対応する
固有の格納アドレスも記憶しておくため記憶容量が増大
するという問題があった。However, in the above-described conventional pattern data transfer method, there are problems in that each data and its address are transferred in parallel to increase the number of transfer lines, and serial transfer is time consuming. Further, as described above, when the pattern data is stored in the memory of the electronic computer, there is a problem that the storage capacity increases because the unique storage address corresponding to each data is also stored. It was
本発明は、上記の問題を解決するものであって、個々の
データに対応して固有の格納アドレスを転送しなくても
よい電子ビーム露光装置のパターン・データ転送方法を
提供することを目的とするものである。An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a pattern data transfer method for an electron beam exposure apparatus that does not need to transfer a unique storage address corresponding to individual data. To do.
そのために本発明は、パターン・データをパターンの種
類毎に所定の順序のデータの並びで構成して電子計算機
のメモリからパターン描画器へ転送する電子ビーム露光
装置のパターン・データ転送方法であって、各パターン
の種類毎の固有の格納アドレスを記憶したアドレス記憶
手段と該アドレス記憶手段の読み出しアドレスを識別符
号に基づいて生成する読み出しアドレス生成手段とを受
信側のパターン描画器に備え、各パターン・データの先
頭にパターンの種類毎の識別符号を付加して転送するこ
とにより、受信側で読み出しアドレス生成手段によりア
ドレス記憶手段の読み出しアドレスの上位桁を識別符号
から生成すると共に下位桁を識別符号に続くデータの計
数値から生成し、該読み出しアドレスによりアドレス記
憶手段からパターンの種類毎の固有の格納アドレスを読
み出してパターン・データを格納することを特徴とする
ものである。To this end, the present invention provides a pattern data transfer method for an electron beam exposure apparatus, in which pattern data is arranged in a predetermined sequence of data for each pattern type and transferred from a memory of an electronic computer to a pattern drawing device. The pattern drawing unit on the receiving side is provided with an address storage unit that stores a unique storage address for each type of each pattern and a read address generation unit that generates a read address of the address storage unit based on an identification code. By adding an identification code for each type of pattern to the beginning of the data and transferring it, the receiving side generates the upper digit of the read address of the address storage means from the identification code and the lower digit of the read address generation means by the receiving side. Is generated from the count value of the data following, and the read address is used to output the pattern from the address storage means. It is characterized in storing the read out pattern data a unique storage address for each type of.
本発明の電子ビーム露光装置のパターン・データ転送方
法では、各パターン・データの種類毎の固有の格納アド
レスを記憶したアドレス記憶手段を備えるため、パター
ン・データを構成する個々のデータに対応して固有の格
納アドレスを転送しなくても、各パターン・データの先
頭に識別符号を付加したパターン・データの転送によ
り、識別符号をキーとして個々のデータに対応した固有
の格納アドレスを読み出すことができる。従って、この
アドレス記憶手段から読み出した格納アドレスを個々の
データに付加することによって、各パターン・データを
パターン描画器内の所定のアドレスに格納することがで
きる。According to the pattern data transfer method of the electron beam exposure apparatus of the present invention, since it is provided with the address storage means for storing a unique storage address for each type of pattern data, it corresponds to each data constituting the pattern data. Even if the unique storage address is not transferred, by transferring the pattern data with the identification code added to the beginning of each pattern data, the unique storage address corresponding to each data can be read using the identification code as a key. . Therefore, each pattern data can be stored at a predetermined address in the pattern drawing device by adding the storage address read from the address storage means to the individual data.
以下、実施例を図面を参照しつつ説明する。 Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.
第１図は本発明の１実施例を説明するための図であり、
電子ビーム露光装置のパターン描画器内走査部の構成例
を示し、第２図は本発明のパターン・データ転送方法に
よる転送例を示す図、第３図はアドレスＲＯＭの内容の
例を示す図である。図において、１はＣＰＵ（中央演算
処理装置）、２はデータ・レジスタ、３はデコーダ、４
はアドレス・カウンタ、５はエンドビット・チェック回
路、６はアドレスＲＯＭ、７と８はディレイ回路、９と
10はナンド回路、11はオア回路、12と13はインバータ、
21はエンドビット、22は読み出しアドレス、23は格納ア
ドレスをそれぞれ示している。FIG. 1 is a diagram for explaining one embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a diagram showing an example of the structure of the scanning unit in the pattern drawing device of the electron beam exposure apparatus, FIG. 2 is a diagram showing an example of transfer by the pattern data transfer method of the present invention, and FIG. is there. In the figure, 1 is a CPU (central processing unit), 2 is a data register, 3 is a decoder, 4
Is an address counter, 5 is an end bit check circuit, 6 is an address ROM, 7 and 8 are delay circuits, and 9 are
10 is a NAND circuit, 11 is an OR circuit, 12 and 13 are inverters,
Reference numeral 21 is an end bit, 22 is a read address, and 23 is a storage address.
本発明の電子ビーム露光装置のパターン・データ転送方
式では、パターン・データの種類又は形態毎に固有の識
別符号を先頭に付加したパターン・データが電子計算機
とパターン描画器との間で転送される。In the pattern data transfer method of the electron beam exposure apparatus of the present invention, pattern data having a unique identification code added to the head for each type or form of pattern data is transferred between the electronic computer and the pattern drawing device. .
第１図において、パターン・データは、ＣＰＵ（中央演
算処理装置）１からパターン描画器走査部にパターン・
データ・ラインを使ってセット信号とともに転送され
る。データ・レジスタ２は、セット信号の制御の下でパ
ターン・データ・ラインを使ってＣＰＵ１から転送され
てきたパターン・データを一時格納するものであり、デ
コーダ３は、データ・レジスタ２に格納された内容が識
別符号がデータかを判定するものである。アドレスＲＯ
Ｍ６は、パターン・データの種類又は形態毎の各データ
に対する固有の格納アドレスをエンドビットと並べて順
に記憶したものであり、アドレス・カウンタ４により読
み出しアドレスが生成され、パターン・データを格納す
べきパターン描画器の各レジスタに対する固有の格納ア
ドレスが読み出される。なお、エンドビットでは、パタ
ーン・データを構成する最後のデータに対応した固有の
格納アドレスに付加されたビットが「１」とされ、他の
ビットは「０」とされる。アドレス・カウンタ４は、ア
ドレスＲＯＭ６の読み出しアドレスを発生するものであ
り、上位ビットと下位ビットとに分かれている。そし
て、上位ビットのロード・クロック端子LCには、デコー
サ３がデータ・レジスタ２に格納された内容を識別符号
と判定したこと及びセット信号がオンにされたことをナ
ンド条件とするナンド回路９の出力が供給され、データ
・レジスタ２の内容がセットされる。また下位ビットの
クリア端子CRには、上記ナンド回路９の反転出力とエン
ドビット・チェック回路５の出力が供給され、カウンタ
・アップ端子CUには、デコーダ３がデータ・レジスタ２
に格納された内容をデータと判定したこと（識別符号と
判定した出力をインバータ12により反転した出力）及び
セット信号がオンにされたことをナンド条件とするナン
ド回路10の出力が供給される。従って下位ビットは、パ
ターン・データ・ラインを通してＣＰＵ１からデータが
転送されてくるとセット信号によってカウンタ・アップ
され、アドレスＲＯＭ６のエンドビットがオンの時、又
は上位ビットに識別符号をロードする時にクリアされ
る。In FIG. 1, pattern data is transferred from the CPU (central processing unit) 1 to the pattern drawing unit scanning unit.
It is transferred with the set signal using the data line. The data register 2 temporarily stores the pattern data transferred from the CPU 1 using the pattern data line under the control of the set signal, and the decoder 3 is stored in the data register 2. The content is for determining whether the identification code is data. Address RO
M6 is a pattern storage area in which a unique storage address for each data of each type or form of pattern data is stored in order along with end bits, and a read address is generated by the address counter 4 and the pattern data is to be stored. The unique storage address for each register of the painter is read. In the end bit, the bit added to the unique storage address corresponding to the last data forming the pattern data is "1", and the other bits are "0". The address counter 4 generates a read address of the address ROM 6 and is divided into upper bits and lower bits. Then, the load clock terminal LC of the high-order bit of the NAND circuit 9 which has the NAND condition that the decoder 3 determines that the content stored in the data register 2 is the identification code and that the set signal is turned on. The output is provided and the contents of data register 2 are set. Further, the inverted output of the NAND circuit 9 and the output of the end bit check circuit 5 are supplied to the clear terminal CR of the lower bit, and the decoder 3 is connected to the data register 2 at the counter up terminal CU.
The output of the NAND circuit 10 is supplied with the NAND condition that the contents stored in the data are determined to be data (the output determined to be the identification code is inverted by the inverter 12) and the set signal is turned on. Therefore, the lower bit is counted up by the set signal when data is transferred from the CPU 1 through the pattern data line, and is cleared when the end bit of the address ROM 6 is on or when the identification code is loaded in the upper bit. It
ＣＰＵ１から転送されてくるパターン・データの例を示
したのが第２図である。この第２図に示すように例えば
データx1,y1,x2,y2,αで構成されるパターン・データ
に対して、その識別符号Ａが先頭に付加される。同様に
データx1,y1,β1，β2で構成されるパターン・データ
に対して、その識別符号Ｂが先頭に付加される。このパ
ターン・データがＣＰＵ１から転送される場合、まず、
セット信号により識別符号がデータ・レジスタ２に格納
されると、デコーダ３の出力は、識別符号の判定に対応
して論理「１」となる。この状態においてセット信号が
オンになったことによりディレイ回路７の出力も論理
「１」になると、ナンド回路９を通してアドレス・カウ
ンタ４の上位ビットにロード・クロックが供給され、デ
ータ・レジスタ２に格納されていた識別符号がセットさ
れるとともに下位ビットがクリアされる。続いて、デー
タが転送されてくると、今度はナンド回路10の出力によ
ってアドレス・カウンタ４の下位ビットがカウント・ア
ップされる。その結果、アドレス・カウンタ４から第３
図に示すようなアドレスＲＯＭの読み出しアドレス22が
出力される。このアドレスＲＯＭの読み出しアドレス22
に対応して、アドレスＲＯＭ６にはパターン描画器のレ
ジスタの格納アドレス23が記憶されている。従って、ア
ドレスＲＯＭ６からこの格納アドレス23が読み出されて
データに付加してパターン描画器へ送出され、データが
格納される。そしてエンドビット21が「１」のワードで
一連のパターン・データを終了する。すなわちこのエン
ドビット21をエンドビット・チェック回路５が検出する
とアドレス・カウンタ４の下位ビットはクリアされる。
従って、この時点では上位ビットが変わらず下位ビット
のみクリアされるので、同じ識別符号のパターン・デー
タが連続する場合には、識別符号を省略してもよい。FIG. 2 shows an example of pattern data transferred from the CPU 1. As shown in FIG. 2, for example, the identification code A is added to the head of pattern data composed of data x 1 , y 1 , x 2 , y 2 , α. Similarly, the identification code B is added to the head of the pattern data composed of the data x 1 , y 1 , β 1 , β 2 . When this pattern data is transferred from the CPU 1, first,
When the identification code is stored in the data register 2 by the set signal, the output of the decoder 3 becomes a logic "1" corresponding to the determination of the identification code. When the output of the delay circuit 7 becomes logic "1" because the set signal is turned on in this state, the load clock is supplied to the upper bit of the address counter 4 through the NAND circuit 9 and stored in the data register 2. The identification code that has been set is set and the lower bits are cleared. Then, when data is transferred, the lower bits of the address counter 4 are counted up by the output of the NAND circuit 10 this time. As a result, the address counters 4 to 3
The read address 22 of the address ROM as shown in the figure is output. Read address of this address ROM 22
Corresponding to, the storage address 23 of the register of the pattern drawing device is stored in the address ROM 6. Therefore, the storage address 23 is read from the address ROM 6, added to the data, sent to the pattern drawing device, and the data is stored. Then, the series of pattern data is ended by the word in which the end bit 21 is "1". That is, when the end bit check circuit 5 detects the end bit 21, the lower bit of the address counter 4 is cleared.
Therefore, at this point, the upper bits are not changed and only the lower bits are cleared. Therefore, when the pattern data having the same identification code continues, the identification code may be omitted.
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、アド
レスＲＯＭに予めパターン・データの種類又は形態毎の
各データに対する固有の格納アドレスを記憶しておき、
パターン・データの先頭に付加される識別符号により次
に続くデータの格納アドレスをアドレスＲＯＭから読み
出し、その格納アドレスに従ってパターン描画器の各レ
ジスタにデータをセットするので、識別符号だけで個々
のデータのアドレスを転送しなくてもよい。さらには、
同一のパターン・データの種類の場合は、毎回のパター
ン・データの転送毎に識別符号を転送しなくてもよく、
転送スピードの向上を図ることができる。また、ＣＰＵ
などの転送側でもアドレス用として余分な記憶領域を確
保することも不要となり、メモリの節約、有効利用を図
ることができる。アドレスＲＯＭを使用するため、その
内容やエンドビットの位置を変えることによって、パタ
ーン・データの構成を任意に変えることができ、パター
ン・データの構成変更にも柔軟に対応することができ
る。As is apparent from the above description, according to the present invention, the address ROM stores in advance a unique storage address for each data for each type or form of pattern data,
The storage address of the next data is read from the address ROM by the identification code added to the beginning of the pattern data, and the data is set in each register of the pattern drawing device in accordance with the storage address. The address does not have to be transferred. Moreover,
In the case of the same pattern data type, it is not necessary to transfer the identification code each time the pattern data is transferred,
The transfer speed can be improved. Also, CPU
It is not necessary to secure an extra storage area for an address even on the transfer side such as, so that the memory can be saved and effectively used. Since the address ROM is used, the configuration of the pattern data can be arbitrarily changed by changing the content or the position of the end bit, and the configuration change of the pattern data can be flexibly dealt with.
第１図は本発明の１実施例を説明するための図であり、
電子ビーム露光装置のパターン描画器内走査部の構成例
を示し、第２図は本発明のパターン・データ転送方法に
よる転送例を示す図、第３図はアドレスＲＯＭの内容の
例を示す図、第４図は従来の電子ビーム露光装置のパタ
ーン・データ転送方式を説明するための図である。 １…ＣＰＵ（中央演算処理装置）、２…データ・レジス
タ、３…デコーダ、４…アドレス・カウンタ、５…エン
ドビット・チェック回路、６…アドレスＲＯＭ、７と８
…ディレイ回路、９と10…ナンド回路、11…オア回路、
12と13…インバータ、21…エンドビット、22…読み出し
アドレス、23と26…格納アドレス、24と25…パターン、
27…データ。FIG. 1 is a diagram for explaining one embodiment of the present invention,
2 shows an example of the structure of the scanning unit in the pattern drawing device of the electron beam exposure apparatus, FIG. 2 shows an example of transfer by the pattern data transfer method of the present invention, and FIG. 3 shows an example of the contents of the address ROM, FIG. 4 is a diagram for explaining a pattern data transfer system of a conventional electron beam exposure apparatus. 1 ... CPU (central processing unit), 2 ... Data register, 3 ... Decoder, 4 ... Address counter, 5 ... End bit check circuit, 6 ... Address ROM, 7 and 8
… Delay circuit, 9 and 10… NAND circuit, 11… OR circuit,
12 and 13 ... Inverter, 21 ... End bit, 22 ... Read address, 23 and 26 ... Storage address, 24 and 25 ... Pattern,
27 ... data.
Claims (2)
定の順序のデータの並びで構成して電子計算機のメモリ
からパターン描画器へ転送する電子ビーム露光装置のパ
ターン・データ転送方法であって、各パターンの種類毎
の固有の格納アドレスを記憶したアドレス記憶手段と該
アドレス記憶手段の読み出しアドレスを識別符号に基づ
いて生成する読み出しアドレス生成手段とを受信側のパ
ターン描画器に備え、各パターン・データの先頭にパタ
ーンの種類毎の識別符号を付加して転送することによ
り、受信側で読み出しアドレス生成手段によりアドレス
記憶手段の読み出しアドレスの上位桁を識別符号から生
成すると共に下位桁を識別符号に続くデータの計数値か
ら生成し、該読み出しアドレスによりアドレス記憶手段
からパターンの種類毎の固有の格納アドレスを読み出し
てパターン・データを格納することを特徴とする電子ビ
ーム露光装置のパターン・データ転送方法。1. A pattern data transfer method for an electron beam exposure apparatus, wherein pattern data is arranged in a predetermined sequence of data for each pattern type and transferred from a memory of an electronic computer to a pattern drawing device. The pattern drawing unit on the receiving side is provided with an address storage unit that stores a unique storage address for each type of pattern and a read address generation unit that generates a read address of the address storage unit based on an identification code. By adding the identification code for each pattern type to the beginning of the data and transferring it, the receiving side generates the upper digit of the read address of the address storage means from the identification code and the lower digit to the identification code by the read address generating means on the receiving side. The type of pattern generated from the address storage means by the read address generated from the count value of the following data. Pattern data transfer method of an electron beam exposure apparatus characterized by storing the read out pattern data a unique storage address.
固有の格納アドレスにエンドビットを付加して記憶し、
該エンドビットにより少なくとも読み出しアドレスの下
位桁をクリアすることを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の電子ビーム露光装置のパターン・データ転送方
法。2. The address storage means stores an end bit added to a unique storage address for each pattern type,
The at least lower digit of the read address is cleared by the end bit.
7. A pattern data transfer method for an electron beam exposure apparatus according to the item.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59266022A JPH0650720B2 (en) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | Pattern data transfer method for electron beam exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59266022A JPH0650720B2 (en) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | Pattern data transfer method for electron beam exposure apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61144019A JPS61144019A (en) | 1986-07-01 |
| JPH0650720B2 true JPH0650720B2 (en) | 1994-06-29 |
Family
ID=17425291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59266022A Expired - Lifetime JPH0650720B2 (en) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | Pattern data transfer method for electron beam exposure apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0650720B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07105328B2 (en) * | 1986-11-26 | 1995-11-13 | 株式会社東芝 | Charged beam exposure device |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56138925A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-29 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Manufacture of semiconductor device |
-
1984
- 1984-12-17 JP JP59266022A patent/JPH0650720B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61144019A (en) | 1986-07-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |