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JPH0652356B2 - Electrochromic device with transparent electrode as extraction part - Google Patents
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JPH0652356B2 - Electrochromic device with transparent electrode as extraction part - Google Patents

Electrochromic device with transparent electrode as extraction part

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JPH0652356B2
JPH0652356B2 JP7805385A JP7805385A JPH0652356B2 JP H0652356 B2 JPH0652356 B2 JP H0652356B2 JP 7805385 A JP7805385 A JP 7805385A JP 7805385 A JP7805385 A JP 7805385A JP H0652356 B2 JPH0652356 B2 JP H0652356B2
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layer
thin film
ecd
extraction
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Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は新規なエレクトロクロミック素子(以下、「エ
レクトロクロミック」をECと略称し、EC素子をEC
Dと略称する)に関する。
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a novel electrochromic device (hereinafter, “electrochromic” is abbreviated as “EC”, and an EC device is referred to as “EC”).
Abbreviated as D).

(発明の背景) ECDは、一般には少なくとも一方が透明な一対の電極
層とそれらの間にサンドイッチされたEC層からなる。
このECDは、乾電池から得られる程度の大きさの電圧
を一対の電極間に印加すると発色し、逆の電圧を印加す
ると消色して元の無色透明に戻る。そのためECDは表
示装置特に日の字型のセブンセグメントを用いた数字表
示装置、透過又は反射光量の制御装置、その他に利用す
べく盛んに研究されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION ECDs generally consist of a pair of electrode layers, at least one of which is transparent, and an EC layer sandwiched therebetween.
This ECD develops color when a voltage as large as that obtained from a dry cell is applied between a pair of electrodes, and disappears when a reverse voltage is applied and returns to the original colorless and transparent. Therefore, the ECD has been actively researched for use in display devices, particularly numeric display devices using a letter-shaped seven segment, a control device for the amount of transmitted or reflected light, and the like.

EC材料例えばWO3が発色するには、電子(e-)とカチ
オン(X)の同時注入が必要とされ、発色・消色に伴
う反応式は次のように信じられている。
In order for EC material such as WO 3 to develop color, simultaneous injection of electrons (e ) and cations (X + ) is required, and the reaction formulas associated with color development and decolorization are believed to be as follows.

消色状態:WO+ne+nX ↑↓ 発色状態:XnWO そして、カチオン(X)としては、イオン半径の小さ
く移動の容易なHやLiが主として利用されてい
る。カチオン(X)は常時カチオンである必要はな
く、電圧が印加され電場が形成されたときカチオンが生
じればよいので、特にHの場合には水がカチオン供給
源として使用される。水は極く微量で充分であるらし
く、ECDを大気中にさらしたときに大気中から自然に
層内に侵入する程度の水分でしばしば間に合う。
Decolored state: WO 3 + ne + nX + ↑ ↓ Colored state: XnWO 3 And, as the cation (X + ), H + and Li + having a small ionic radius and easy to move are mainly used. The cation (X + ) does not have to be a cation at all times, and cations may be generated when a voltage is applied and an electric field is formed. Therefore, in the case of H + , water is used as a cation supply source. A very small amount of water seems to be sufficient, and when the ECD is exposed to the atmosphere, it is often sufficient that the water naturally enters the layer from the atmosphere.

しかしながら、単にWO層を一対の電極で挾んで電圧
を印加して発色させても、容易に消色することが出来な
い。何故ならば、消色しようとして逆電圧を印加しても
陰極に接した電極側から電子(e)が流入してくるの
で、もしHがあれば、 WO+ne+nH→HnWO の反応が起こって発色するからである。
However, even if the WO 3 layer is sandwiched between a pair of electrodes and a voltage is applied to develop a color, the color cannot be easily erased. Because electrons (e ) flow in from the electrode side in contact with the cathode even if a reverse voltage is applied in an attempt to erase the color, so if H + exists, WO 3 + ne + nH + → HnWO 3 This is because the reaction occurs and color develops.

そのため、S.K.Debらは、WO層と一方の電極
との間に絶縁層例えばSiO2,MgFを設けたEC
Dを提案した(特公昭52−46098)。この絶縁層は、
本発明者の研究によれば、電子の移動はできないが、H
やOHのようなイオンの移動は自由であり、このH
やOHイオンが電気を運び(この意味で絶縁層と呼
ぶのは誤りでイオン導電層と呼ぶのが正しい)、OH
イオンが陽極との界面で OH→1/2H2O+1/4O2↑+e の反応式に従って反応し、電子を陽極側に放出している
ものと思われる。
Therefore, S. K. Deb et al., An EC in which an insulating layer such as SiO 2 or MgF 2 is provided between the WO 3 layer and one electrode.
Proposed D (Japanese Patent Publication No. 52-46098). This insulating layer is
According to the research by the present inventor, electrons cannot move, but H
+ And OH - the movement of ions such as a free, this H
+ And OH ions carry electricity (in this sense, it is incorrect to call it an insulating layer and it is correct to call it an ion conductive layer), and OH
It is considered that the ions react at the interface with the anode according to the reaction formula of OH → 1 / 2H 2 O + 1 / 4O 2 ↑ + e and emit electrons to the anode side.

つまり発色時には、 陰極側:WO3+ne+nH+→HnWO3 陽極側:nOH-→n/2H2O+n/4O2↑+ne という反応が推定され、消色時には、 陽極側:HnWO3→WO3+ne+nH+ 陰極側:nH2O+ne→nOH-+n/2H2↑ という反応が生じているものと推定されている。In other words, during color development, the cathode side is WO 3 + ne + nH + → HnWO 3 Anode side: nOH → n / 2H 2 O + n / 4O 2 ↑ + ne Reaction is presumed, and when decoloring, the anode side: HnWO 3 → WO 3 + ne + nH + cathode side: nH 2 O + ne → nOH + n / 2H 2 ↑ It is estimated that the reaction occurs.

これらの式からも明らかであるが、現実にもS.K.D
ebらのECDは、発色・消色の駆動により水が消費さ
れるので大気中から速やかに水が供給されないと発色し
なくなり、また駆動に伴ってOやHガスが放出され
るので層間剥離を生じるという欠点がある。
As is clear from these equations, in reality, S. K. D
In ECD of eb et al., water is consumed by driving for coloring and decoloring, so if water is not rapidly supplied from the atmosphere, color does not develop, and O 2 and H 2 gas are released along with driving, so that the interlayer There is a drawback that peeling occurs.

そのため、Y.Takahashiらは、イオン導電層と電極層
との間に酸化発色性EC層を設けたECDを提案した
(特開昭56−4679)。このECDは酸化発色性EC層
として例えば水酸化イリジウムを使用したもので、WO
の発色時に陽極側で主として 無色透明:Ir(OH)m+n(OH) ↓ 着色:Ir(OH)p・qHO+rHO+S
(e) と反応し、WOの消色時には陰極側で主として Ir(OH)p・qHO+rHO+S
(e) ↓ Ir(OH)m+n(OH) と反応するものと推定されている。従って、水が再生さ
れるので消費されてなくなることがなく、また駆動に伴
ってOやHガスが放出されることもない。
Therefore, Y. Takahashi et al. Proposed an ECD in which an oxidative coloring EC layer is provided between an ionic conductive layer and an electrode layer (JP-A-56-4679). This ECD uses, for example, iridium hydroxide as an oxidation coloring EC layer.
At the time of color development of 3 , mainly on the anode side, colorless and transparent: Ir (OH) m + n (OH ) ↓ Coloring: Ir (OH) p · qH 2 O + rH 2 O + S
It reacts with (e ), and when WO 3 is decolored, Ir (OH) p · qH 2 O + rH 2 O + S is mainly formed on the cathode side.
(E ) ↓ Ir (OH) m + n (OH ) It is presumed that it reacts with. Therefore, since the water is regenerated, the water is not consumed and is not consumed, and the O 2 and H 2 gases are not released along with the driving.

そのほか、EC層とリチウム固体電解質層とを組み合わ
せたもの、EC層とプロトン含有又はプロトン放出性固
体ないし半固体樹脂層とを組み合わせたものもある。
In addition, there are a combination of an EC layer and a lithium solid electrolyte layer, and a combination of an EC layer and a proton-containing or proton-releasing solid or semi-solid resin layer.

いずれにせよ、ECDの信頼性,耐久性の点からECD
を封止することが必要である。特に水をプロトン供給源
とするECDにあっては、水を逃がさないようにする意
味から封止することが必要である。封止には一般にエポ
キシ樹脂、その他の樹脂が使用される。
In any case, from the viewpoint of reliability and durability of ECD, ECD
Need to be sealed. Particularly in the case of an ECD that uses water as a proton supply source, it is necessary to seal it in order to prevent water from escaping. Epoxy resin and other resins are generally used for sealing.

ところでECDを封止した場合、一対の電極層に駆動電
源を供給しなければならないところから、各々一部(取
出し部という)を封止領域から露出しており、そこに外
部からの配線をボンディングする。
By the way, when the ECD is sealed, since driving power must be supplied to the pair of electrode layers, a part (called a take-out portion) of each is exposed from the sealing region, and wiring from the outside is bonded thereto. To do.

しかしながら、ECDの電極層として、金属薄膜例えば
Al薄膜を用いて封止されたECDは、露出している取
出し部が耐温水テストの結果、比較的短時間で基板から
剥離してしまう問題があることが判明した。
However, the ECD sealed with a metal thin film, for example, an Al thin film, as an electrode layer of the ECD has a problem that the exposed extraction portion is separated from the substrate in a relatively short time as a result of the hot water resistance test. It has been found.

(発明の目的) 従って、本発明の目的は、封止されたECDに於いて、
封止領域から露出した「金属薄膜からなる取出し部」が
耐温水性に劣り、比較的短時間で基板から剥離してしま
うという問題を解決することにある。
(Object of the Invention) Therefore, an object of the present invention is to provide a sealed ECD,
An object is to solve the problem that the “extraction part made of a metal thin film” exposed from the sealing region has poor hot water resistance and is peeled off from the substrate in a relatively short time.

(発明の概要) 本発明者は、実験の結果、透明電極として一般に使用さ
れている導電性酸化物透明薄膜例えばSnO2,In
3,ITO(SnOとInとの混合物)が、
耐温水性に優れていることを知り、この透明電極を金属
薄膜電極層の取出し電極とし、その一部を新たな取出し
部として封止領域外に露出させることを着想し、本発明
を成すに至った。
(Summary of the Invention) As a result of experiments, the present inventor has found that a conductive oxide transparent thin film that is commonly used as a transparent electrode, such as SnO 2 or In 2, is used.
O 3 , ITO (a mixture of SnO 2 and In 2 O 3 )
Knowing that it is excellent in hot water resistance, this transparent electrode was used as the extraction electrode of the metal thin film electrode layer, and it was conceived to expose a part of it to the outside of the sealing region as a new extraction part, and to form the present invention. I arrived.

従って、本発明は、一方が金属薄膜(A)、他方が導電
性酸化物透明薄膜(B)からなる一対の電極層(A),
(B)及びエレクトロクロミック層(F)の少なくとも3
要件からなるエレクトロクロミック素子に於いて、 前記金属薄膜(A)の取出し部を封止領域内で導電性酸
化物薄膜からなる取出し電極(C)の一端と接続させ、
他端を前記封止領域外に露出させたことを特徴とするエ
レクトロクロミック素子を提供する。
Therefore, the present invention provides a pair of electrode layers (A), one of which is a metal thin film (A) and the other of which is a conductive oxide transparent thin film (B).
At least 3 of (B) and electrochromic layer (F)
In the electrochromic device consisting of the requirements, the extraction part of the metal thin film (A) is connected to one end of the extraction electrode (C) composed of a conductive oxide thin film in the sealing region,
An electrochromic device having the other end exposed outside the sealing region.

本発明に於いて使用される導電性酸化物透明薄膜からな
る取出し電極(C)としては、前述の如くSnO2,In
3,ITO等が挙げられる。これらの電極(C)は、
ガラス,プラスチック,セラミクス等の基板上に一般に
は、真空蒸着,反応性蒸着,イオンプレーテイング,反
応性イオンプレーテイング,スパッタリング等の真空薄
膜形成技術で作られる。場合によっては、厚膜法(有機
金属化合物例えば金属アルコラートまたはそのオリゴマ
ーの溶液を塗布し、焼成して被膜を形成する)で形成し
てもよい。
The extraction electrode (C) made of a transparent conductive oxide thin film used in the present invention includes SnO 2 , In as described above.
2 O 3 , ITO, etc. may be mentioned. These electrodes (C)
Generally, it is formed on a substrate such as glass, plastic or ceramics by a vacuum thin film forming technique such as vacuum deposition, reactive deposition, ion plating, reactive ion plating or sputtering. In some cases, it may be formed by a thick film method (application of a solution of an organometallic compound such as a metal alcoholate or an oligomer thereof and baking to form a film).

電極(C)の厚さとしては、低抗にもよるが、一般には
0.01〜0.5μmである。
The thickness of the electrode (C) depends on the resistance, but in general
It is 0.01 to 0.5 μm.

透明電極層(B)も、取出し電極(C)と同様に作られ
る。電極層(B)及び電極(C)は、外部からの配線を考
えると、同一基板上に設けることが好ましい。
The transparent electrode layer (B) is also made in the same manner as the extraction electrode (C). The electrode layer (B) and the electrode (C) are preferably provided on the same substrate in consideration of wiring from the outside.

従って、工程数を減少させる意味から、電極(B),
(C)を同時に形成して、単に両者が短絡しないように
パターニングすることが好ましい。
Therefore, in order to reduce the number of steps, the electrode (B),
It is preferable to form (C) at the same time and simply perform patterning so that both may not be short-circuited.

もう一方の電極層(A)の金属薄膜としては、例えば、
Al,Ag,Ni,Pt,Au,Pd,Cr,Ir,R
u,Rhなどが使用される。電極(A)の膜厚は特に限
定されるものではないが、8×10-5〜10-1mm位が適当で
ある。電極(A)は一般には、真空蒸着,反応性蒸着,
イオンプレーテイング,反応性イオンプレーテイング,
スパッタリング等の真空薄膜形成技術で形成される。
As the metal thin film of the other electrode layer (A), for example,
Al, Ag, Ni, Pt, Au, Pd, Cr, Ir, R
u, Rh, etc. are used. Although the film thickness of the electrode (A) is not particularly limited, it is suitable to be about 8 × 10 -5 to 10 -1 mm. Electrode (A) is generally vacuum deposited, reactive deposited,
Ion plating, reactive ion plating,
It is formed by a vacuum thin film forming technique such as sputtering.

EC層としては主として還元発色性EC層が使用され
る。この還元発色性EC層には既に知られているように
非晶質WO又はMoOが使用される。これらのEC
層は真空薄膜形成技術により、一般に0.01〜数μmの厚
さに形成される。
A reduction coloring EC layer is mainly used as the EC layer. As already known, amorphous WO 3 or MoO 3 is used for this reduction color-developing EC layer. These EC
The layer is generally formed by a vacuum thin film forming technique to a thickness of 0.01 to several μm.

場合によって、設けてもよいイオン導電層は、電子に対
して絶縁体であるが、プロトン(H)及びヒドロキシ
イオン(OH)に対しては良導体である。これは、本
発明のECDにメモリ性即ち発色させた後、電圧印加を
止めても、発色状態が保持される性質をもたせるため
に、必要に応じて設けられるもので、その具体的材料と
しては次のものが例示される。
In some cases, the ion conductive layer that may be provided is an insulator for electrons but a good conductor for protons (H + ) and hydroxy ions (OH ). This is provided as necessary in order to give the ECD of the present invention a memory property, that is, a property that the colored state is maintained even after the voltage application is stopped after the color is developed. The following is exemplified.

無機誘電体薄膜例えば酸化タンタル(Ta2O5),酸化
ニオブ(Nb2O5),酸化ジルコニウム(ZrO2),酸化チ
タン(TiO2)酸化ハフニウム(HfO2),酸化イツトリウ
ム(Y2O3)酸化ランタン(La2O3),酸化珪素(SiO2
フッ化マグネシウム,リン酸ジルコニウムあるいはこれ
らの混合物質(これらの物質は、電子に対して絶縁体で
あるが、プロトン(H)及びヒドロキシイオン(OH
)に対しては良導体である。)全固体タイプのECD
特に薄膜タイプのECDは、厚さを極めて薄くでき、し
かも液もれの心配がない利点があり、その場合にはイオ
ン導電層として、この無機誘電体を選ぶことが好まし
い; 塩化ナトリウム,塩化カリウム,臭化ナトリウム,臭
化カリウム,Na3Zr2Si2PO12,Na1+xZrSixP3−xO12,Na
5YSi4O12,RbAg4I5等の固体電解質; 水又はプロトン供給源含有合成樹脂、例えばメタクリ
ル酸β−ヒドロキシエチルと2−アクリルアミド−2−
メチルプロパンスルホン酸との共重合体,含水メタクリ
ル酸メチル共重合体のような含水ビニル重合体,含水ポ
リエステルなど; 電解液、例えば硫酸,塩酸,リン酸,酢酸,酪酸,し
ゅう酸のような酸またはその水溶液,水酸化ナトリウ
ム,水酸化カリウムのようなアルカリの水溶液,塩化ナ
トリウム,塩化リチウム,塩化カリウム,硫酸リチウム
のような固体強電解質の水溶液; 半固体ゲル電解質、例えば電解質水溶液をゲル化剤例
えばポリビニルアルコール,CMC,寒天,ゼラチン等
でゲル化させたもの; などが挙げられる。
Inorganic dielectric thin film such as tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), hafnium oxide (HfO 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3). ) Lanthanum oxide (La 2 O 3 ), Silicon oxide (SiO 2 )
Magnesium fluoride, zirconium phosphate, or a mixture thereof (these substances are insulators against electrons, but protons (H + ) and hydroxy ions (OH
- ) Is a good conductor. ) All solid type ECD
In particular, the thin film type ECD has the advantage that the thickness can be made extremely thin and there is no fear of liquid leakage. In that case, it is preferable to select this inorganic dielectric material as the ion conductive layer; sodium chloride, potassium chloride. , Sodium bromide, potassium bromide, Na 3 Zr 2 Si 2 PO 12 , Na 1 + xZrSixP 3 −xO 12 , Na
Solid electrolytes such as 5 YSi 4 O 12 and RbAg 4 I 5 ; synthetic resins containing water or a proton source, such as β-hydroxyethyl methacrylate and 2-acrylamido-2-
Copolymers with methylpropanesulfonic acid, hydrous vinyl polymers such as hydrous methyl methacrylate copolymers, hydrous polyesters, etc .; electrolytes, such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid, butyric acid, oxalic acid Or an aqueous solution thereof, an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, an aqueous solution of a solid strong electrolyte such as sodium chloride, lithium chloride, potassium chloride or lithium sulfate; a semi-solid gel electrolyte, for example, an aqueous electrolyte solution as a gelling agent. Examples thereof include those gelled with polyvinyl alcohol, CMC, agar, gelatin and the like.

従って、イオン導電層は、真空薄膜形成技術,厚膜法,
封入,注入,塗布、その他の手段で形成され、厚さは材
料によって0.01μm〜1mm位まで様々となる。
Therefore, the ion conductive layer is formed by vacuum thin film forming technology, thick film method,
It is formed by encapsulation, injection, coating, and other means, and its thickness varies from 0.01 μm to 1 mm depending on the material.

更に場合により、酸化発色性EC層ないし可逆的電解酸
化性層ないし触媒層を使用してもよく、それには例えば
酸化ないし水酸化イリジウム、同じくニッケル、同じく
クロム、同じくバナジウム、同じくルテニウム、同じく
ロジウムなどがあげられる。これらの物質は他の透明な
イオン導電体層又は透明電極中に分散されていても良
い。
If desired, an oxidatively coloring EC layer or a reversible electrolytically oxidizable layer or a catalyst layer may be used, for example, iridium oxide or hydroxide, nickel, chromium, vanadium, ruthenium, rhodium, etc. Can be given. These substances may be dispersed in another transparent ionic conductor layer or transparent electrode.

以下、実施例により本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.

(実施例) 第1図は、実施例のECDの断面図であり、このECD
の製造工程を第2A図(平面図)及び第2B図(第2A
図のA視断面端面図)に示す。
(Embodiment) FIG. 1 is a sectional view of an ECD of the embodiment.
2A (plan view) and 2B (2A)
(A sectional view taken along the line A in the figure).

(1)ガラス基板(S)上にITO膜を形成し、次にホトエ
ッチングによりパターニングして、電極層(B)及び取
出し電極(C)を形成した(第2A図(1)及び第2B図
(1)参照)。尚、ホトエッチングに代えて、最初からマ
スタ蒸着してパターニングしてもよい。
(1) An ITO film was formed on a glass substrate (S) and then patterned by photo-etching to form an electrode layer (B) and an extraction electrode (C) (Figs. 2A (1) and 2B).
(See (1)). Instead of photo etching, master vapor deposition may be performed from the beginning and patterning may be performed.

(2)次に酸化イリジウム一酸化スズ混合層(D)、酸化タ
ンタル層(E)及び酸化タングステン層(F)を順に積層
した(第2A図(2)及び第2B図(2)参照)。
(2) Next, an iridium tin oxide monoxide mixed layer (D), a tantalum oxide layer (E) and a tungsten oxide layer (F) were sequentially laminated (see FIGS. 2A (2) and 2B (2)).

(3)その上にAl電極(A)を形成した(第2A図(3)及
び第2B図(3)参照)。この場合、Al電極(A)の一部
が既に形成された取出し電極(C)の一端と接触するよ
うにする。
(3) An Al electrode (A) was formed thereon (see FIGS. 2A (3) and 2B (3)). In this case, a part of the Al electrode (A) is brought into contact with one end of the extraction electrode (C) already formed.

(4)最後に取出し電極(C)の外縁に当る一部及び電極
(B)の外縁に当る一部を除いてエポキシ樹脂(R)で封
止すると同時に、エポキシ樹脂の上に基板ガラス(S)
より小さめの保護ガラス板(G)を接着させることによ
りECDを作製した(第1図参照)。
(4) Finally, except for the part that touches the outer edge of the extraction electrode (C) and the part that touches the outer edge of the electrode (B), seal with epoxy resin (R), and at the same time, cover the glass substrate (S )
An ECD was prepared by bonding a smaller protective glass plate (G) (see FIG. 1).

尚、各層ないし各膜の製造方法及び製造条件を次の第1
表に示す。
In addition, the manufacturing method and manufacturing conditions of each layer or each film are as follows.
Shown in the table.

こうして作製したECDは、封止領域(R)外に露出し
ているのは、ITO電極(C)の一部及びITO電極
(B)の一部であり、そこにそれぞれ外部配線
(L),(L)をボンディングして、駆動電源(S
u)から着色電圧(+1.35V)を印加すると、基板
(S)側から入射させた波長633mmの光(L)に対し反
射率が15%に減少し(1秒後)、この反射率は電圧印
加を止めても、しばらく保たれた。今度は消色電圧(−
1.35V)を印加すると、同じく反射率は65%に回復し
た(1秒後)。
ECD thus produced is the exposed to the sealing region (R) outside a part of the part and the ITO electrodes of the ITO electrode (C) (B), there are external wiring (L A) , by bonding the (L B), the driving power source (S
When a coloring voltage (+ 1.35V) is applied from u), the reflectance is reduced to 15% (after 1 second) for the light (L) with a wavelength of 633 mm that is incident from the substrate (S) side, and this reflectance is Even if the voltage application was stopped, it was maintained for a while. This time the erasing voltage (-
When 1.35 V) was applied, the reflectance also recovered to 65% (after 1 second).

このECDを70℃の温水中に100時間浸漬したが、
電極(B),(C)は基板(S)から剥離せず、ほぼ同様
の性能を示した。
This ECD was immersed in warm water at 70 ° C for 100 hours,
The electrodes (B) and (C) did not peel off from the substrate (S) and showed almost the same performance.

(比較例) 実施例1と同様にしてガラス基板(S)上にITO膜を形成
し、ホトエッチングによりパターニングして、電極層
(B)のみを形成した。
(Comparative Example) An ITO film was formed on the glass substrate (S) in the same manner as in Example 1 and patterned by photoetching to form only the electrode layer (B).

以下、実施例1と同様にして、(D),(E),(F) 層を順に積層し、最後にAl電極(A)を蒸着し、Al
電極(A)の一部及び電極(B)の一部を除いてエポキシ
樹脂(R)で封止すると共に保護ガラス板を接着した。
得られたECDの電極(A),(B)の露出部分に外部配
線をボンディングし(第4図参照)、着・消色電圧を印
加して駆動を行なうと、実施例1のECDとほぼ同等の
性能を示した。
Hereinafter, in the same manner as in Example 1, (D), (E), (F) Layers are laminated in order, and finally Al electrode (A) is evaporated to form Al
Except for a part of the electrode (A) and a part of the electrode (B), the electrode was sealed with an epoxy resin (R) and a protective glass plate was adhered.
When external wiring is bonded to the exposed portions of the electrodes (A) and (B) of the obtained ECD (see FIG. 4) and driving is performed by applying a coloring / decoloring voltage, it is almost the same as the ECD of Example 1. It showed equivalent performance.

しかし、このECDを70℃の温水中に100時間浸漬
させると、封止領域(R)から露出していたAl電極
(A)は基板(S)から剥離すると共に、千切れてしま
い、外部電源からECDへの通電が不可能になってしま
った。
However, when this ECD was immersed in hot water at 70 ° C. for 100 hours, the Al electrode (A) exposed from the sealing region (R) was peeled off from the substrate (S) and was cut off, resulting in an external power supply. Power to the ECD has become impossible.

(発明の効果) 以上の通り、本発明によれば、金属薄膜電極を用いたE
CDに於いて、該電極に導電性酸化物透明薄膜からなる
取出し電極を取り付けて、該取出し電極の一部を除いて
全体を封止したので、金属薄膜電極が封止領域外に露出
しておらず、そのため、電極の取出し部が、耐温水テス
トの後、基板から剥離してしまうという問題が解決され
る。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, E using a metal thin film electrode is used.
In the CD, the extraction electrode made of a conductive oxide transparent thin film was attached to the electrode, and the entire extraction electrode was sealed except for a part thereof, so that the metal thin film electrode was exposed outside the sealing region. Therefore, the problem that the electrode lead-out portion is separated from the substrate after the hot water resistance test is solved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、本発明の実施例にかかるECDの断面図であ
る。 第2A図は、第1図のECDを製造する各工程に於ける
平面図であり、 第2B図は、第2A図のA視断面端面図である。 第3図は、第1図のECDに駆動系を配線した様子を示
す説明図である。 第4図は、従来のECDの断面図である。 〔主要部分の符号の説明〕 A……金属薄膜及びそれからなる電極層 B……導電性酸化物透明薄膜及びそれからなる電極層 C……取出し電極 F……EC層 R……エポキシ樹脂及び封止領域
FIG. 1 is a sectional view of an ECD according to an embodiment of the present invention. FIG. 2A is a plan view in each step of manufacturing the ECD of FIG. 1, and FIG. 2B is an end view taken along line A of FIG. 2A. FIG. 3 is an explanatory diagram showing a state in which a drive system is wired to the ECD of FIG. FIG. 4 is a sectional view of a conventional ECD. [Explanation of Signs of Main Parts] A ... Metal thin film and electrode layer made of it B ... Electroconductive transparent thin film and electrode layer made of it C ... Extracting electrode F ... EC layer R ... Epoxy resin and sealing region

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一方が金属薄膜(A)、他方が導電性酸化物
透明薄膜(B)からなる一対の電極層(A),(B)及びエレク
トロクロミック層(F)の少なくとも3要件からなるエレ
クトロクロミック素子に於いて、 前記金属薄膜(A)の取出し部を封止領域内で導電性酸化
物薄膜からなる取出し電極(C)の一端と接続させ、他端
を前記封止領域外に露出させたことを特徴とするエレク
トロクロミック素子。
1. A pair of electrode layers (A) and (B), one of which is a metal thin film (A) and the other of which is a transparent conductive oxide thin film (B), and at least three requirements of an electrochromic layer (F). In the electrochromic element, the extraction part of the metal thin film (A) is connected to one end of the extraction electrode (C) made of a conductive oxide thin film in the sealing region, and the other end is exposed outside the sealing region. Electrochromic device characterized by
【請求項2】前記電極層(B)及び取出し電極(C)を短絡さ
せることなく同一基板上に形成したことを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のエレクトロクロミック素子。
2. The electrochromic device according to claim 1, wherein the electrode layer (B) and the extraction electrode (C) are formed on the same substrate without short-circuiting.
【請求項3】前記電極層(B)及び取出し電極(C)を同一工
程で同時に形成したことを特徴とする特許請求の範囲第
2項記載のエレクトロミック素子。
3. The electro device according to claim 2, wherein the electrode layer (B) and the extraction electrode (C) are simultaneously formed in the same step.
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