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JPH0654744B2 - Manufacturing method of bismuth substituted magnetic garnet - Google Patents
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JPH0654744B2 - Manufacturing method of bismuth substituted magnetic garnet - Google Patents

Manufacturing method of bismuth substituted magnetic garnet

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JPH0654744B2
JPH0654744B2 JP27557484A JP27557484A JPH0654744B2 JP H0654744 B2 JPH0654744 B2 JP H0654744B2 JP 27557484 A JP27557484 A JP 27557484A JP 27557484 A JP27557484 A JP 27557484A JP H0654744 B2 JPH0654744 B2 JP H0654744B2
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light
garnet
light absorption
substituted magnetic
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば光アイソレータに適用する磁性ガーネ
ット、特に 0.8μmの波長帯( 0.8μmの波長帯とは
0.8μmの波長を中心とする0.75〜0.85μm程度の波長
範囲を一般に指称するものであり、本明細書においても
この波長範囲を指称するものとする)に関して光吸収を
小さくしたビスマス(Bi)置換の磁性ガーネットとその
製法に係わる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to, for example, a magnetic garnet applied to an optical isolator, and particularly to a 0.8 μm wavelength band (0.8 μm wavelength band
A wavelength range of about 0.75 to 0.85 μm centering on a wavelength of 0.8 μm is generally referred to, and this specification also refers to this wavelength range.) Bismuth (Bi) substitution with reduced light absorption Magnetic garnet and its manufacturing method.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

例えば光ディスク、光磁気ディスク等における情報の記
録或いは(及び)読み出しをはじめとして、各種用途に
半導体レーザーの利用が広まっている。
For example, semiconductor lasers are widely used for various purposes including recording and / or reading of information on optical disks and magneto-optical disks.

ところが、このように半導体レーザーを用いる場合、こ
れに戻り光があるとモードホッピングノイズが生じるな
どの不都合があることから、できるだけ、半導体レーザ
ーから発振した光が、再び半導体レーザーに戻ることが
ないように、この戻り光を遮断する光アイソレータの必
要性が高まっている。
However, when a semiconductor laser is used in this way, there is a disadvantage such as mode hopping noise when there is return light, so that the light emitted from the semiconductor laser should not return to the semiconductor laser as much as possible. In addition, there is an increasing need for an optical isolator that blocks this return light.

この光アイソレータは、第1図にその概略的構成を示す
ように、ファラデー回転素子(1)を挾んで偏光子(2)と検
光子(3)とが配置されて成る。ファラデー回転素子(1)
は、マグネット(4)によって光軸方向に磁場が与えられ
て、光源(5)例えば半導体レーザーから偏光子(2)を通じ
て入射する直線偏光をその偏光面が45゜回転するように
なされる。検光子(3)はこのファラデー回転素子(1)によ
って45゜回転した偏光を通過することができるようにそ
の軸方向が選ばれていて、これを通過した光が被照射面
に照射するようになされている。そして、この場合被照
射面(6)からの反射光、すなわち戻り光がある場合、こ
の戻り光は、再び検光子(3)を通過してファラデー回転
素子(1)を通過し、この時再び45゜回転されて偏光子(2)
に向う。したがって、この偏光子(2)に向う戻り光は順
方向の入射光に対してその偏光面が90゜回転しているこ
とになり、この偏光子(2)を通過することができず、光
源(4)に向うことができない。このように光アイソレー
タによれば、一方向すなわち順方向に関しては、光透過
性を有するがこれとは逆の方向に関しては遮断効果を奏
することができる。
This optical isolator comprises a Faraday rotator element (1) and a polarizer (2) and an analyzer (3), as shown in the schematic structure of FIG. Faraday rotator (1)
The magnetic field is applied by the magnet (4) in the optical axis direction so that the plane of polarization of the linearly polarized light incident from the light source (5) such as a semiconductor laser through the polarizer (2) is rotated by 45 °. The axial direction of the analyzer (3) is selected so that the Faraday rotator (1) can pass the polarized light rotated by 45 ° so that the light passing therethrough irradiates the illuminated surface. Has been done. Then, in this case, when there is reflected light from the irradiated surface (6), that is, return light, this return light again passes through the analyzer (3) and the Faraday rotation element (1), and again at this time. Rotated 45 ° Polarizer (2)
Head to. Therefore, the returning light toward the polarizer (2) has its polarization plane rotated by 90 ° with respect to the incident light in the forward direction, and cannot pass through the polarizer (2). I can't go to (4). As described above, the optical isolator has a light transmitting property in one direction, that is, the forward direction, but has a blocking effect in the opposite direction.

このように光アイソレータは、逆方向の光を遮断する機
能を有するものであるが、順方向の光損失を小さくする
上でファラデー回転素子自体の光透過率はできるだけ大
きいことが望まれる。この光透過率を大きくするには、
ファラデー回転素子の厚さtは、できるだけ小さいこと
が望まれるが、この厚さtは、所要の回転角、上述の例
では45゜の回転角を得るために、或る厚さを必要とす
る。
As described above, the optical isolator has a function of blocking light in the reverse direction, but in order to reduce the light loss in the forward direction, it is desired that the Faraday rotator itself has as high a light transmittance as possible. To increase this light transmittance,
The thickness t of the Faraday rotator is desired to be as small as possible, but this thickness t requires a certain thickness in order to obtain the required angle of rotation, in the example above 45 °. .

45゜回転する間の順方向損失L(dB)は、 (但し、αは光吸収係数、Fはファラデー回転能)で与
えられるので、Lを小さくするには、光吸収係数αが小
さいものが必要となる。
The forward loss L (dB) during 45 ° rotation is (However, α is given by the light absorption coefficient and F is the Faraday rotation ability.) Therefore, in order to make L small, one having a small light absorption coefficient α is required.

この光吸収係数αは、波長に依存するものであり、 1.3
μm波長帯で代表されるような長波長帯については、 Y
IG(イットリウム・鉄・ガーネット)によるファラデー
回転素子によって可成り満足するものが得られている。
This light absorption coefficient α depends on the wavelength and is 1.3
For long wavelength bands such as the μm wavelength band, Y
The Faraday rotator made of IG (yttrium, iron, garnet) has been able to achieve satisfactory results.

ところが、上述したような光ディスク、或いは光磁気デ
ィスク等の光源としては、AlGaAs形半導体レーザーのよ
うな 0.8μm波長帯の半導体レーザーが用いられんとす
る方向にあり、この 0.8μm波長帯についてのファラデ
ー回転素子の開発が望まれている。
However, as a light source of the above-mentioned optical disc or magneto-optical disc, a semiconductor laser of 0.8 μm wavelength band such as AlGaAs type semiconductor laser is in the direction to be used, and the Faraday rotation about this 0.8 μm wavelength band is used. Development of elements is desired.

一方、このようなファラデー回転素子に用いる磁性ガー
ネット、すなわち希土類鉄ガーネットを育成する方法と
しては、液相エピタキシーによって結晶膜を得るという
方法、すなわち原料融液中に例えばGGG (ガドリニウム
・ガリウム・ガーネット)基板を浸漬し、この基板を引
上げることによってこの基板上に磁性ガーネット膜を育
成するという方法が量産性にすぐれているものである
が、この場合、この液相エピタキシーの融液には、フラ
ックスが添加される。このフラックスとしては、通常 P
bOが用いられる。ところが、このPbO をフラックスとし
て用いた場合、その育成された結晶膜中にPb2+の一部が
混入することは避けられないものであり、これによって
光の吸収損失を低めることが難しくなる。尚、 PbOフラ
ックスによる場合においても、その結晶膜の育成温度を
コントロールすることによって光吸収を下げることがで
きるという報告もなされている(ジャーナル オブ ア
プライド フィジックス(Journal of Applied Physic
s)Vol.45 P 2867〜2873 July 1974)ところであるが、
これについても、 0.8μm波長帯では有効なものではな
い。
On the other hand, as a method of growing a magnetic garnet used for such a Faraday rotation element, that is, a rare earth iron garnet, a method of obtaining a crystal film by liquid phase epitaxy, that is, GGG (gadolinium gallium garnet) in a raw material melt is used. The method of growing a magnetic garnet film on this substrate by dipping the substrate and pulling up this substrate is excellent in mass productivity.In this case, the melt of this liquid phase epitaxy contains flux Is added. This flux is usually P
bO is used. However, when this PbO 2 is used as a flux, it is unavoidable that a part of Pb 2+ is mixed in the grown crystal film, which makes it difficult to reduce light absorption loss. It has been reported that the light absorption can be lowered by controlling the growth temperature of the crystal film even in the case of using PbO flux (Journal of Applied Physic.
s) Vol.45 P 2867 ~ 2873 July 1974) By the way,
Again, this is not effective in the 0.8 μm wavelength band.

そこでPb2+が混入することのないように、Bi2O3のみを
フラックスとする融液を用いて液相エピタキシーによっ
てBi置換の磁性ガーネット膜、すなわち希土類の一部を
Biで置換した磁性ガーネット膜を育成することが考えら
れる(ジャーナル オブ エレクトロ ケミカル ソサ
イアテイ(Journal of Electrochemical Society)Vol.
123 P 1248〜1249 1976)。
Therefore, in order to prevent Pb 2+ from being mixed in, a Bi-substituted magnetic garnet film, that is, a part of the rare earth element, was prepared by liquid phase epitaxy using a melt containing only Bi 2 O 3 as a flux.
It is possible to grow a magnetic garnet film substituted with Bi (Journal of Electrochemical Society) Vol.
123 P 1248 to 1249 1976).

ところが、実際上、このような方法によってBi置換の磁
性ガーネットを育成しても、光吸収の低下は充分得られ
ない。これは、本来Bi置換の磁性ガーネットの組成は、
例えば (T▲m3+ 2.3▼B▲i3+ 0.7▼)(F▲e3+ 4.0▼G▲a3+
1.0▼)O12 …(2) であるべきものが、実際には、 T▲m3+ 2.3▼B▲i3+ 0.7▼F▲e3+ 4.0-2 δ▼G▲a3+ 1.0
▼▲O2- 12- δ▼…(3) で示されるような酸素空席の発生によって2価のFeイオ
ンが発生してこれにより光吸収が生じるものと思われ
る。
However, in reality, even if the Bi-substituted magnetic garnet is grown by such a method, the light absorption cannot be sufficiently reduced. This is because the composition of Bi-substituted magnetic garnet is
For example (T ▲ m 3+ 2.3 ▼ B ▲ i 3+ 0.7 ▼) (F ▲ e 3+ 4.0 ▼ G ▲ a 3+
1.0 ▼) O 12 … (2) is actually T ▲ m 3+ 2.3 ▼ B ▲ i 3+ 0.7 ▼ F ▲ e 3+ 4.0-2 δ ▼ G ▲ a 3+ 1.0
▼ ▲ O 2- 12- δ ▼ ... (3) 2 -valent Fe ions by the generation of oxygen vacancies as shown by the thereby is believed that light absorption occurs occurred.

尚、液相エピタキシーによって磁気異方性を有するガー
ネット膜を得る方法として、フラックスにCaCOを添加
したものの報告(マティリアル リサーチ ブルテン
(Material Research Bulltein) VOl.11,PP337〜346
,1976)があるが、この場合、そのフラックスはBi2O
単独のものではなく、Bi2Oと共に、CeO2/ K2O,或い
はSiO2/Na2O等が添加されるものであり、しかも光吸収
についての究明はなされていない。
In addition, as a method for obtaining a garnet film having magnetic anisotropy by liquid phase epitaxy, it was reported that CaCO 3 was added to the flux (Material Research Bulltein VOL.11, PP337-346).
, 1976), but in this case, the flux is Bi 2 O 3
CeO 2 / K 2 O, SiO 2 / Na 2 O, or the like is added together with Bi 2 O 3 , not alone, and the light absorption has not been investigated.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

前述したように従来方法によって得られるBi置換磁性ガ
ーネットによっても、 0.8μm波長帯に関して光吸収が
充分小さいものが得られていないことに問題点がある。
As described above, there is a problem that the Bi-substituted magnetic garnet obtained by the conventional method has not obtained sufficiently small light absorption in the 0.8 μm wavelength band.

本発明は、このような問題点を解消するものであり、
0.8μm波長帯において高い透過率を有し、例えば光デ
ィスク、光磁気ディスクの記録・再生装置において、こ
の光源として 0.8μm波長帯の半導体レーザーを用いた
場合の戻り光防止の光アイソレータのファラデー回転素
子として用いて好適ならしめたBi置換磁性ガーネットと
その製法を提供するものである。
The present invention is to eliminate such problems,
A Faraday rotator element of an optical isolator that has a high transmittance in the 0.8 μm wavelength band and prevents a returning light when a semiconductor laser in the 0.8 μm wavelength band is used as a light source in a recording / reproducing apparatus for an optical disk, a magneto-optical disk, etc. The present invention provides a Bi-substituted magnetic garnet suitable for use as the above and a method for producing the same.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明においては、Bi2Oとガーネット構成元素のみか
らなる融液を用いて液相エピタキシャル成長によって形
成されたビスマス置換磁性ガーネットにおいて、 なる組成を有するBi置換磁性ガーネットを構成するもの
である。そして、そのxを、 0.5≦x≦2.0に選定し、
yを、0≦y≦2に選定し、2δを、 0.8μm波長帯の
光吸収が極小となる値を中心にその±15%の範囲に選定
するものである。
In the present invention, in a bismuth-substituted magnetic garnet formed by liquid phase epitaxial growth using a melt composed of Bi 2 O 3 and garnet constituent elements only, And a Bi-substituted magnetic garnet having the following composition. Then, select x such that 0.5 ≦ x ≦ 2.0,
y is selected in the range of 0 ≦ y ≦ 2, and 2δ is selected in the range of ± 15% around the value at which the light absorption in the 0.8 μm wavelength band is minimum.

また、本発明においては、上述したビスマス置換磁性ガ
ーネットを育成するに、光吸収の小さいガーネット基板
上にBi2Oとガーネット構成元素のみよりなる融液から
液相エピタキシャル成長によって磁性ガーネットを育成
するものであり、この液相エピタキシャル成長にあたっ
て、融液中にIIA族元素イオン例えばCa,Be のいずれか
1種以上をその含有量が 0.8μm波長帯で極小の光吸収
を与える量の近傍の量となるように添加する。
In the present invention, in order to grow the above-mentioned bismuth-substituted magnetic garnet, a magnetic garnet is grown on a garnet substrate having small light absorption by liquid phase epitaxial growth from a melt composed of Bi 2 O 3 and garnet constituent elements only. Therefore, in this liquid phase epitaxial growth, the content of one or more IIA group element ions such as Ca and Be in the melt is close to the amount that gives the minimum light absorption in the 0.8 μm wavelength band. So add.

このようにして本発明においては、最終的に例えば、 T▲m3+ 2.3-2 δ▼B▲i3+ 0.7▼C▲a2+ 2 δ▼F▲e3+ 4.0
▼G▲a3+ 1.0▼▲O12- δ▼…(4) のBi置換磁性ガーネットを得る。
Thus, in the present invention, finally, for example, T ▲ m 3+ 2.3-2 δ ▼ B ▲ i 3+ 0.7 ▼ C ▲ a 2+ 2 δ ▼ F ▲ e 3+ 4.0
▼ G ▲ a 3+ 1.0 ▼ ▲ O 12- δ ▼ ... (4) Bi-substituted magnetic garnet is obtained.

〔作用〕[Action]

本発明によれば、例えば上記(4)式でみられるように、F
e2+が存在しないBi置換磁性ガーネットを構成するもの
であり、このようにすることによってFe2+の存在による
0.8μm波長帯における光吸収の増加を回避できる。
According to the present invention, for example, as seen in the above equation (4), F
constitutes a Bi-substituted magnetic garnet e 2+ is absent, due to the presence of Fe 2+ by such
It is possible to avoid an increase in light absorption in the 0.8 μm wavelength band.

〔実施例〕〔Example〕

実施例1 GGG基板上に液相エピタキシャル成長によってBi置換の
磁性ガーネット膜を育成した。この場合、用いた融液
は、 の融液にCaCOを、TmとCaの偏折係数が同じであると仮
定したときの育成膜の組成が Tm2.3-2 δBi0.7Ca2 δ(Fe Ga)O12 となるように添加した。この場合育成された結晶膜の厚
さは、40〜50μmとした。この厚さは初期における GGG
基板の重量との重量変化による測定によって算出した。
そして、その組成において、2δを夫々 0.005,0.02
5,0.05,0.06,0.07,0.08,0.12に変えて夫々結晶膜、す
なわちBi置換の結晶膜を夫々成長させた。これら各組成
の結晶膜について夫々ゼーベック効果によって電気抵抗
率ρを測定した結果を第2図に示す。これにより2δ=
0.07で抵抗ρは極大を示し、これを境にその電導型がn
型からp型に移行していることがわかった。これは、x
=0.07のとき、Fe2+イオンがCa2+イオンに置換されて、
電気補償組成になったと考えられる。また、第3図は、
波長λ=0.81μmに対する各組成の吸収係数αを測定し
た結果を示し、この吸収係数αは、x=0.07のとき、60
cm-1の極小値を示すものであることがわかる。これは、
電荷補償組成では、Fe2+が存在しないためFe2+による光
吸収がなくなって吸収係数αが低下するものと思われる
(ジャーナル オブ アブライド フィジックス(Jour
nal of Applied Physics)Vol. 41 P 1211〜1217,197
0)。尚、2δが0.07より充分大となるとき、p型とな
って電気抵抗率ρが下がり、吸収係数も増大するが、こ
れは過剰なCa2+イオンよりFe4+が生じたためと考えられ
る。これよりすれば2δ=0.07±0.01、すなわちCa2+
0.06〜0.08モル/f.u(分子式当り)が低吸収係数を得
ることのできる望ましい範囲と言える。
Example 1 A Bi-substituted magnetic garnet film was grown on a GGG substrate by liquid phase epitaxial growth. In this case, the melt used is The composition of the grown film was Tm 2.3-2 δ Bi 0.7 Ca 2 δ (Fe Ga) 5 O 12 when CaCO 3 was added to the melt and the deviation coefficient between Tm and Ca was assumed to be the same. Was added. In this case, the grown crystal film has a thickness of 40 to 50 μm. This thickness is the initial GGG
It was calculated by measuring the weight change of the substrate.
Then, in that composition, 2δ is 0.005 and 0.02 respectively.
Crystal films, that is, Bi-substituted crystal films were grown, respectively, by changing to 5, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08, 0.12. FIG. 2 shows the results of measuring the electrical resistivity ρ by the Seebeck effect for the crystal films of each of these compositions. This gives 2δ =
The resistance ρ shows a maximum at 0.07, and the conductivity type is n
It was found that the type was changed to the p-type. This is x
= 0.07, Fe 2+ ion is replaced by Ca 2+ ion,
It is considered that the composition became electrical compensation. Moreover, FIG.
The results of measuring the absorption coefficient α of each composition with respect to the wavelength λ = 0.81 μm are shown. The absorption coefficient α is 60 when x = 0.07.
It can be seen that it shows the minimum value of cm -1 . this is,
In the charge compensation composition, the absorption coefficient gone light absorption by Fe 2+ for Fe 2+ is absent α is expected to decrease (Journal of Aburaido Physics (Jour
nal of Applied Physics) Vol. 41 P 1211 ~ 1217,197
0). When 2δ is sufficiently larger than 0.07, it becomes p-type and the electrical resistivity ρ decreases, and the absorption coefficient also increases, which is presumably because Fe 4+ is generated from excess Ca 2+ ions. From this, 2δ = 0.07 ± 0.01, that is, Ca 2+
It can be said that 0.06 to 0.08 mol / fu (per molecular formula) is a desirable range in which a low absorption coefficient can be obtained.

また、上述の実施例1についての現象は、Bi2O3のみを
フラックスとした希土類鉄ガーネットについて共通する
ことであり、したがって希土類としてTmに代えて他の希
土類を用い、Feと置換するGaに代えて他の3価のAlを使
用する場合においてもCa2+の添加によって同様の効果が
期待できる。この場合、一般にCa2+の偏折係数は融液の
組成によって変るので、吸収係数の極小を与えるCa2+
は実施例1の場合と相違してくると考えられるが、Ca2+
量の選定によって必ず極小は得られるものであり、この
極小を与えるCa2+量の前後±15%のCa2+を添加すれば、
光吸収に顕著な減少を得られることができることが確認
された。
In addition, the phenomenon of the above-described Example 1 is common to the rare earth iron garnet using only Bi 2 O 3 as the flux, and therefore, other rare earths are used as rare earths instead of Tm, and Ga that replaces Fe is used. Even when other trivalent Al is used instead, the same effect can be expected by adding Ca 2+ . In this case, since the deviation coefficient of Ca 2+ generally varies depending on the composition of the melt, the amount of Ca 2+ that gives the minimum absorption coefficient is considered to be different from that in Example 1, but Ca 2+
A minimum is always obtained by selecting the amount, and if Ca 2+ of ± 15% before and after the amount of Ca 2+ that gives this minimum is added,
It was confirmed that a significant reduction in light absorption could be obtained.

比較例 GGG基板上に下記組成の融液を用いて液相エピタキシー
を行って結晶膜の育成を行った。
Comparative Example Liquid phase epitaxy was performed on a GGG substrate using a melt having the following composition to grow a crystal film.

このとき膜厚は46.6μmであり、波長λ=0.81μmにお
ける光吸収係数αは 300cm-1、電気抵抗率ρは1.39×10
Ω・cm、ゼーベック効果で測定した導電性式はn型で
あった。このような高い光吸収と低い抵抗率は、酸素空
席によるFe2+イオンが発生していることによると思われ
る。
At this time, the film thickness was 46.6 μm, the light absorption coefficient α was 300 cm −1 , and the electrical resistivity ρ was 1.39 × 10 at the wavelength λ = 0.81 μm.
The conductivity type measured by the Seebeck effect was 5 Ω · cm and was n-type. Such high light absorption and low resistivity are considered to be due to generation of Fe 2+ ions due to oxygen vacancy.

実施例2 下記組成の融液によって GGG基板の両面に各面における
膜厚が96μmの結晶膜を育成して後、これを直径6mmに
打ち抜き第1図で説明したファラデー回転素子(1)を作
製した。
Example 2 A crystal film having a thickness of 96 μm on each side was grown on both sides of a GGG substrate by a melt having the following composition, and then punched out to a diameter of 6 mm to produce the Faraday rotator (1) described in FIG. did.

このときのフラデー回転角は45゜、ファラデー回転能F
は0.23゜/μm、光吸収係数αは59cm-1であった。この
ファラデー回転素子(1)を用いて第1図で説明した光ア
イソレータを構成したところ順方向の光吸収損は5dB,
アイソレーション(消光比)は34dBとなった。尚、ファ
ラデー回転能Fが更に大なる育成膜を形成することによ
って更に厚さtの減少化がはかられるので、順方向の
1.8μm波長帯の光の損失を、より小とすることができ
る。
At this time, the Frayday rotation angle is 45 °, and the Faraday rotation capability is F.
Was 0.23 ° / μm, and the light absorption coefficient α was 59 cm −1 . Using the Faraday rotator (1) to construct the optical isolator explained in Fig. 1, the optical absorption loss in the forward direction is 5 dB,
The isolation (extinction ratio) was 34 dB. In addition, since the thickness t can be further reduced by forming a grown film having a larger Faraday rotation capability F, the forward direction
The loss of light in the 1.8 μm wavelength band can be made smaller.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

上述したように本発明によれば、 0.8μm波長帯に対し
て光吸収の小さいBi置換磁性ガーネットを得るとができ
るので、これを例えば光アイソレータのファラデー回転
素子として用いることによって 0.8μm波長帯の半導体
レーザーを用いる場合において戻り光はこれを阻止して
半導体レーザーにおいて安定な動作をなさしめ、順方向
の光に関しては高い透過率、すなわち低光損失とするこ
とができるので、光ディスク、光磁気ディスク等の各種
情報の記録・再生光源系に用いることができ、実用上の
利益は大である。
As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a Bi-substituted magnetic garnet having a small light absorption in the 0.8 μm wavelength band. Therefore, by using this as a Faraday rotator element of an optical isolator, for example, When a semiconductor laser is used, the returned light is blocked and a stable operation is performed in the semiconductor laser, and a high transmittance for forward light, that is, a low optical loss can be achieved. It can be used as a recording / reproducing light source system for various kinds of information such as, and has a great practical advantage.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明によるBi置換磁性ガーネットを適用し得
る光アイソレータの構成図、第2図及び第3図は本発明
の説明に供する抵抗率ρ及び光吸収係数αの測定曲線図
である。 (1)はファラデー回転素子、(2)は偏光子、(3)は検光
子、(4)はマグネット、(5)は光源、(6)は被照射面であ
る。
FIG. 1 is a block diagram of an optical isolator to which the Bi-substituted magnetic garnet according to the present invention can be applied, and FIGS. 2 and 3 are measurement curve diagrams of the resistivity ρ and the optical absorption coefficient α used for explaining the present invention. (1) is a Faraday rotation element, (2) is a polarizer, (3) is an analyzer, (4) is a magnet, (5) is a light source, and (6) is a surface to be illuminated.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 敏郎 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (56)参考文献 特開 昭56−22699(JP,A) 特開 昭57−50407(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Toshiro Yamada 6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo, Sony Corporation (56) References JP-A-56-22699 (JP, A) JP-A-SHO 57-50407 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】Bi2Oと磁性ガーネット構成元素のみから
なる融液を用い、 液相エピタキシャル成長によって なる組成を有し、上記xは、0.5 ≦x≦2.0 に選定さ
れ、上記yは0≦y≦2に選定され、上記2δは0.8 μ
m波長帯の光吸収が極小となる値を中心にその±15%の
範囲に選定したビスマス置換磁性ガーネットを得ること
を特徴とするビスマス置換磁性ガーネットの製法。
1. A liquid phase epitaxial growth method using a melt composed only of Bi 2 O 3 and a magnetic garnet constituent element. And x is 0.5 ≦ x ≦ 2.0, y is 0 ≦ y ≦ 2, and 2δ is 0.8 μ.
A method for producing a bismuth-substituted magnetic garnet, which comprises obtaining a bismuth-substituted magnetic garnet selected within a range of ± 15% around a value at which the light absorption in the m wavelength band is minimal.
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