JPH0655737B2 - イミダゾール誘導体 - Google Patents
イミダゾール誘導体Info
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- JPH0655737B2 JPH0655737B2 JP13872393A JP13872393A JPH0655737B2 JP H0655737 B2 JPH0655737 B2 JP H0655737B2 JP 13872393 A JP13872393 A JP 13872393A JP 13872393 A JP13872393 A JP 13872393A JP H0655737 B2 JPH0655737 B2 JP H0655737B2
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Description
またはその塩に関する。
の胃酸分泌があげられている。この胃酸はヒスタミン、
アセチルコリン、ガストリンなどの刺激により胃壁細胞
から分泌されることが知られており、これら刺激物質と
拮抗して胃酸分泌を抑制する薬剤として、コリン受容体
遮断剤(例えば、アトロピン)、ヒスタミンH2 受容体
拮抗剤(例えば、シメチジン)などが臨床的に使用され
ている。〔メディシナ(Medicina)、第23
巻、第4号、560〜565頁(1986年)〕また、
最近胃酸の濃縮・分泌に関与するH+ /K+ ATPアー
ゼの酵素活性を阻害して胃酸分泌を抑制するベンズイミ
ダゾール系化合物(例えば、オメプラゾール)も見出さ
れてきている(特開昭54−141783号)。
ロピン中毒など毒性が強く、またヒスタミンH2 受容体
拮抗剤である例えばシメチジンについては抗アンドロゲ
ン作用、プロラクチン放出刺激作用などの副作用が知ら
れている。
分泌抑制作用を有する医薬化合物の合成中間体として有
用な新規イミダゾール誘導体またはその塩を提供するも
のである。
ル基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、
ニトロ基、アミノ基、低級アルカノイルアミノ基、N−
低級アルキル−N−低級アルカノイルアミノ基、モノ−
またはジ−低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルオ
キシ基、シアニド基、トリハロゲノ低級アルキル基、ト
リハロゲノ低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基
及び水酸基から選ばれる1つまたは2つの基で置換され
ていてもよい2−、3−または4−ピリジル基;環Bは
ニトロ基、アミノ基、モノ−またはジ−低級アルキルア
ミノ基、低級アルカノイルアミノ基、フェニルアミノ
基、シクロアルキルアミノ基、N−(トリ低級アルキル
フェニル)スルホニルアミノ基、N−低級アルキル−N
−(トリ低級アルキルフェニル)スルホニルアミノ基、
N−低級アルキル−N−フェニルアミノ基、ジ(低級ア
ルキル)アミノ低級アルキリデンアミノ基、ジ低級アル
キルアミノ低級アルキル基、N−低級アルキル−N−低
級アルカノイルアミノ基、低級アルコキシ基、アリール
カルボニルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ
基、ホルミルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミ
ノ基、フタルイミド基及び含窒素5〜6員環複素単環式
基から選ばれる基で置換されているフェニル基を表し、
R1 及びR 2はともに水素原子であるかまたは互いに末
端で結合して式−(CH2 )q −で示される基を形成
し、nは0、1または2、qは3または4を表す。)で
示されるイミダゾール誘導体またはその塩に関する。
えば、一般式(II)に於いて環Aがハロゲン原子(例
えば、塩素原子、臭素原子)、低級アルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基)、低級アルコキシ基(例え
ば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基)、フ
ェニル低級アルコキシ基(例えば、ベンジルオキシ
基)、ニトロ基、アミノ基、低級アルカノイルアミノ基
(例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ
基)、N−低級アルキル−N−低級アルカノイルアミノ
基(例えば、N−メチル−N−アセチルアミノ基)、モ
ノ−又はジ−低級アルキルアミノ基(例えば、メチルア
ミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基)、低級アルカノイルオキシ基(例えば、アセ
チルオキシ基)、シアニド基、トリハロゲノ低級アルキ
ル基(例えば、トリフルオロメチル基)、トリハロゲノ
低級アルコキシ基(例えば、2,2,2−トリフルオロ
エトキシ基)、低級アルケニルオキシ基(例えば、アリ
ルオキシ基)及び水酸基から選ばれる1つまたは2つの
基で置換されていてもよい2−、3−または4−ピリジ
ル基;環Bがニトロ基、アミノ基、モノ−またはジ−低
級アルキルアミノ基(例えば、メチルアミノ基、エチル
アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプ
ロピルアミノ基)、低級アルカノイルアミノ基(例え
ば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基)、フェ
ニルアミノ基、シクロアルキルアミノ基(例えば、シク
ロヘキシルアミノ基)、N−(トリ低級アルキルフェニ
ル)スルホニルアミノ基(例えば、(2,4,6−トリ
メチルフェニル)スルホニルアミノ基)、N−低級アル
キル−N−(トリ低級アルキルフェニル)スルホニルア
ミノ基(例えば、N−メチル−N−(2,4,6−トリ
メチルフェニル)スルホニルアミノ基)、N−低級アル
キル−N−フェニルアミノ基(例えばN−メチル−N−
フェニルアミノ基、N−エチル−N−フェニルアミノ
基)、ジ(低級アルキル)アミノ低級アルキリデンアミ
ノ基(例えば、ジメチルアミノメチリデンアミノ基)、
ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基(例えば、ジメチ
ルアミノメチル基、ジエチルアミノメチル基)、N−低
級アルキル−N−低級アルカノイルアミノ基(例えば、
N−メチル−N−アセチルアミノ基)、低級アルコキシ
基(例えば、メトキシ基、エトキシ基)、アリールカル
ボニルアミノ基(例えば、ベンゾイルアミノ基)、低級
アルキルスルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニ
ルアミノ基)、ホルミルアミノ基、低級アルコキシカル
ボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノ
基、エトキシカルボニルアミノ基)、フタルイミド基及
び含窒素5〜6員環複素単環式基(例えば、モルホリノ
基、イミダゾリル基、ピロリル基、ピロリジニル基及び
ピペリジル基)から選ばれる基で置換されているフェニ
ル基であり、R1 及びR2 はともに水素原子であるかま
たは互いに末端で結合して低級アルキレン基(例えば、
トリメチレン基、テトラメチレン基)を形成し、nは
0、1または2である化合物があげられる。
(II)に於いて環Aがハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、ニ
トロ基、アミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級ア
ルカノイルオキシ基、シアニド基、トリハロゲノ低級ア
ルキル基、トリハロゲノ低級アルコキシ基、低級アルケ
ニルオキシ基及び水酸基から選ばれる1つまたは2つの
基で置換されていてもよい2−、3−または4−ピリジ
ル基;環Bがアミノ基、モノ−またはジ−低級アルキル
アミノ基、低級アルカノイルアミノ基、シクロアルキル
アミノ基、N−低級アルキル−N−フェニルアミノ基、
ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、N−低級アルキ
ル−N−低級アルカノイルアミノ基、低級アルコキシ
基、アリールカルボニルアミノ基、低級アルキルスルホ
ニルアミノ基、ホルミルアミノ基、低級アルコキシカル
ボニルアミノ基及び含窒素5〜6員環複素単環式基から
選ばれる基で置換されているフェニル基であり、R1 及
びR2 はともに水素原子であるか又は互いに末端で結合
して低級アルキレン基を形成し、nは0、1または2で
ある化合物があげられる。
I)において環AがC1-4 アルキル基、C1-4 アルコキ
シ基及びフェニル基置換C1-2 アルコキシ基から選ばれ
る1つもしくは2つの基で置換されていてもよい2−も
しくは4−ピリジル基;環BがジC1-4 アルキル基置換
アミノ基、C1-4 アルカノイルアミノ基、モルホリノ
基、ピペリジノ基及びピロリル基から選ばれる基で置換
されているフェニル基であり、R1 及びR2 はともに水
素原子であるかまたは互いに末端で結合してトリメチレ
ン基を形成し、nが0、1または2である化合物があ
る。
ができ、かかる塩としては、例えば、塩酸塩、臭化水素
酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩の如き無機酸付
加塩;ギ酸塩、シュウ酸塩、メタンスルホン酸塩、グル
クロン酸塩の如き有機酸付加塩等をあげることができ
る。
同一意味を有する。)で示されるメルカプトイミダゾー
ル化合物またはその塩と一般式(IV)
記と同一意味を有する。)で示されるトルエン化合物ま
たはその塩とを反応させて製することができる。
内、R1 及びR2 が式−(CH2 )q −(qは前記と同
一意味を有する。)で示される基を形成する化合物は一
般式(V)
して式−(CH2 )q −で示される基を形成し、環A、
環B、q及びnは前記と同一意味を有する。)で示され
るイミダゾール誘導体またはその塩を脱水反応に付して
製することもできる。
またはその塩とトルエン化合物(IV)またはその塩と
の反応は適当な溶媒中、脱酸剤の存在下または非存在下
で実施することができる。トルエン化合物(IV)の反
応性残基Xとしては、メルカプト基と反応してC−S結
合を形成しうる基であればいずれの基をも用いることが
でき、かかる反応性残基としては例えばハロゲン原子、
アルキルスルホニルオキシ基(例えば、メチルスルホニ
ルオキシ基)、アリールスルホニルオキシ基(例えば、
トルエンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキ
シ基)を好適に用いることができる。トルエン化合物
(IV)がベンゼン環上にアミノ基、置換アミノ基等を
有するときは有機酸・無機酸との付加塩として、またメ
ルカプトイミダゾール化合物(III)は無機酸付加
塩、有機酸付加塩、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属
塩、第4級アンモニウム塩等の塩として反応に供するこ
ともできる。反応溶媒としては、低級アルカノール、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水及びこ
れらの混合溶媒等の慣用の溶媒をいずれも好適に用いる
ことができる。また、脱酸剤としては水酸化アルカリ金
属、水酸化アルカリ土類金属、炭酸アルカリ金属、炭酸
水素アルカリ金属、アルカリ金属アルコキシド、アルカ
リ金属アミド、フッ化アルカリ金属、水素化アルカリ金
属などの無機塩基;ピリジン、トリ低級アルキルアミ
ン、低級アルキルリチウム、水酸化第4級アンモニウム
(水酸化テトラn−ブチルアンモニウムなど)の有機塩
基を用いることができる。反応は室温乃至加熱下に実施
するのが好ましい。
応は適当な溶媒中、脱水剤の存在下で実施することがで
きる。脱水剤としてはギ酸、トリフルオロ酢酸、p−ト
ルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸またはカンファ
ースルホン酸の如き有機酸、塩酸、硫酸の如き無機酸あ
るいは三臭化リン、三塩化リン、オキシ塩化リン等のハ
ロゲン化剤とピリジン、トリエチルアミン等の塩基の組
合せ等を用いることができる。イミダゾール誘導体
(V)の塩としては、無機酸付加塩、有機酸付加塩等を
適宜用いることができる。本反応は室温〜加熱下で実施
するのが好ましい。
B上の置換基は、所望により、適宜相互変換可能であ
り、例えば、環A及び/または環B上にアミノ基を有す
る化合物(II)は、対応するニトロ基置換体(II)
を常法で還元するかまたは対応するN−フタルイミドも
しくはN−トリ低級アルキルフェニルスルホニルアミド
基置換体(II)を加水分解して製することもできる。
更に環A及び/または環B上のアミノ基が低級アルカノ
イル基、低級アルキルスルホニル基、ホルミル基、低級
アルキル基、アリールカルボニル基、低級アルコキシカ
ルボニル基及び(置換フェニル)スルホニル基等1〜2
個の基で置換された化合物(II)は、対応するアミノ
基、N−アルキルアミノ基もしくはN−アシルアミノ基
置換体(II)を慣用の手段でさらにアシル化、アルキ
ル化して製することもできる。
ゾール誘導体(V)の脱水生成物を含む)を酸化させる
ことにより一般式(I)
記号は前記と同一意味を有する。)で示される化合物を
製造することができる。
酸分泌抑制作用を有し及び/または優れたH+ /K+ A
TPアーゼに対する酵素活性阻害作用を有するため、ヒ
スタミンH2 受容体拮抗剤に見られるような副作用のな
い抗潰瘍剤(例えば、胃潰瘍、十二指腸潰瘍等の消化器
潰瘍の治療・予防)として有用な医薬化合物である。
に対する抑制効果を調べた場合、1−(2−ピリジル)
−2−〔2−(1−ピロリル)ベンジルスルフィニル〕
イミダゾール、1−(3−メチル−2−ピリジル)−2
−〔2−(ジメチルアミノ)ベンジルスルフィニル〕イ
ミダゾール及び1,4,5,6−テトラヒドロ−1−
(2−ピリジル)−2−(2−ジエチルアミノベンジル
スルフィニル)シクロペンタ〔d〕イミダゾールは30
mg/kgの経口投与で胃酸分泌を非投与群に比して7
0%以上抑制することができる。また、豚の胃底部粘膜
から調製したH+ /K+ ATPアーゼに対する酵素活性
阻害作用を調べた場合、1,4,5,6−テトラヒドロ
−1−(2−ピリジル)−2−(2−ジエチルアミノベ
ンジルスルフィニル)シクロペンタ〔d〕イミダゾール
のIC50(50%阻害濃度)は約10μMであり、1−
(2−ピリジル)−2−〔2−(シクロヘキシルアミ
ノ)ベンジルスルフィニル〕イミダゾール、1−(4−
メトキシ−6−メチル−2−ピリジル)−2−〔2−
(ジエチルアミノ)ベンジルスルフィニル〕イミダゾー
ルのIC50は10μM以下であった。
しもH+ /K+ ATPアーゼに対する酵素活性阻害作用
によらずに優れた胃酸分泌抑制作用を示すものが含ま
れ、オメプラゾール等の既存のH+ /K+ ATPアーゼ
阻害剤とは異なった作用機序による抗潰瘍剤として優れ
た特性を発揮する。
して行うことができる。
香酸、過安息香酸、過酢酸などの過酸;次亜塩素酸アル
カリ金属塩、亜塩素酸アルカリ金属塩、過ヨウ素酸アル
カリ金属塩、過ヨウ素酸テトラn−ブチルアンモニウ
ム、t−ブチルヒドロペルオキシド、ヨードオキシベン
ゼン等の慣用の酸化剤を好適に用いることができる。反
応溶媒としては例えば、低級アルカノール、塩化メチレ
ン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
水及びこれらの混合物を適宜用いることができる。反応
は室温乃至冷却下に実施するのが好ましく、化合物(I
I)に対して酸化剤を1当量または小過剰用いればスル
フィニル型(m=1)の、また2当量以上用いればスル
ホニル型(m=2)の各イミダゾール誘導体(I)を得
ることができる。
ちR1 およびR2 がともに水素原子である化合物は、一
般式(VI)
する。)で示されるピリジン化合物と一般式(VII)
または硫黄原子を表す。)で示されるイソ(チオ)シア
ネート化合物とを適当な溶媒中で反応させ、得られた
(チオ)ウレア化合物に有機もしくは無機酸を作用させ
て閉環させ、Zが酸素原子である場合にはさらに硫化剤
で処理して製することができる。
とR2 が互いに末端で結合して式−(CH2 )q −(q
は前記と同一意味を有する。)で示される基を形成する
化合物は、2−アミノシクロヘキサノンまたは2−アミ
ノシクロペンタノンと一般式(VIII)
する。)で示される化合物とをトリエチルアミンの存在
下縮合させた後、化合物(V)の脱水反応と同様に反応
させて製することができる。
クロヘキサノンまたは2−アミノシクロペンタノンと化
合物(VIII)とをトリエチルアミンの存在下縮合さ
せ、ついでトルエン化合物(IV)と反応させて製する
ことができる。
3.0gをエタノール50mlに溶解し、氷冷下、2N
−水酸化ナトリウム水溶液16.9mlを加える。これ
に、m−ジメチルアミノベンジルクロリド塩酸塩3.8
4gを加えて室温で2時間撹拌する。溶媒を留去した
後、残査に水を加えて酢酸エチルで抽出する。抽出液を
水洗、乾燥後、溶媒を留去する。残査を酢酸エチル及び
n−ヘキサン混液から再結晶することにより、1−(2
−ピリジル)−2−(3−ジメチルアミノベンジルチ
オ)イミダゾール3.95gを得る。
り、下記第1〜4表記載化合物を得る。
り、下記第5表記載化合物を得る。
り、下記第6〜8表記載化合物を得る。
り、下記第9〜10表記載化合物を得る。
り、下記第11表記載化合物を得る。
り、下記第12表記載化合物を得る。
4,5,6,6a−ヘキサヒドロ−6a−ヒドロキシ−
1−(2−ピリジル)シクロペンタ〔d〕イミダゾール
7.53gを触媒量のp−トルエンスルホン酸とともに
トルエン200ml中で1時間加熱還流する。溶媒を留
去し、残査に水を加えて炭酸水素ナトリウム水溶液で中
和後、クロロホルム抽出する。抽出液を乾燥後、溶媒を
留去することにより1,4,5,6−テトラヒドロ−2
−(2−ジメチルアミノベンジルチオ)−1−(2−ピ
リジル)−シクロペンタ〔d〕イミダゾール3.94g
を得る。
から再結晶) 実施例67〜69 対応原料化合物を実施例66と同様に処理することによ
り、下記第13表記載化合物を得る。
ゾールと2−(2,4,6−トリメチルフェニル)スル
ホニルアミノベンジルクロリドとを実施例1と同様に処
理することにより、1−(2−ピリジル)−2−〔2−
(2,4,6−トリメチルフェニル)スルホニルアミノ
ベンジルチオ〕イミダゾールを得る。
ら再結晶) (2) 本品2g、アニソール2.5ml及びメタンス
ルホン酸15mlの混合物を室温で20時間撹拌する。
反応後、水に注加し、酢酸エチルで抽出する。
媒を留去することにより1−(2−ピリジル)−2−
(2−アミノベンジルチオ)イミダゾール1.1gを油
状物として得る。
オ)イミダゾール4.8g、無水酢酸5ml及びピリジ
ン50mlの混合物を室温で16時間撹拌する。
させ、ろ取することにより1−(2−ピリジル)−2−
(2−アセチルアミノベンジルチオ)イミダゾール4.
31gを得る。
ら再結晶) 実施例72 (1) 60%水素化ナトリウム100mgをジメチル
ホルムアミド2mlに懸濁させ、これに氷冷下で1−
(2−ピリジル)−2−〔2−(2,4,6−トリメチ
ルフェニル)スルホニルアミノベンジルチオ〕イミダゾ
ール1gのジメチルホルムアミド2ml溶液を加える。
室温で30分間撹拌した後、ヨウ化メチル320mgを
加え2時間撹拌する。反応液を水にあけ、遊離する油状
物を酢酸エチル抽出する。乾燥後、溶媒を留去し、残査
をシリカゲルカラムクロマト(溶媒;n−ヘキサン:酢
酸エチル=3:2)で精製することにより1−(2−ピ
リジル)−2−{2−〔N−メチル−N−(2,4,6
−トリメチルフェニル)スルホニルアミノ〕ベンジルチ
オ}イミダゾール0.76gを得る。
ら再結晶) (2) 本品を実施例70−(2)と同様に処理するこ
とにより1−(2−ピリジル)−2−(2−メチルアミ
ノベンジルチオ)イミダゾールを油状物として得る。
SCH2),5.20(br,1H,NH) 実施例73 1−(2−ピリジル)−2−(2−アセチルアミノベン
ジルチオ)イミダゾールを実施例72−(1)と同様に
処理することにより1−(2−ピリジル)−2−〔2−
(N−メチル−N−アセチルアミノ)ベンジルチオ〕イ
ミダゾールを油状物として得る。
4.39(s,2H,SCH2) 実施例74 (1) 2−(2−フタルイミドベンジルチオ)−1,
3a,4,5,6,6a−ヘキサヒドロ−6a−ヒドロ
キシ−1−(2−ピリジル)シクロペンタ〔d〕イミダ
ゾールを実施例66と同様に処理することにより、1,
4,5,6−テトラヒドロ−1−(2−ピリジル)−2
−(2−フタルイミドベンジルチオ)シクロペンタ
〔d〕イミダゾールを得る。
−酢酸エチルから再結晶) (2) 本品1.80g、抱水ヒドラジン0.22g及
びメタノール100mlの混合物を5時間加熱還流す
る。冷却後、溶媒を留去し、残査に塩化メチレンを加え
て不溶物をろ去する。ろ液を水洗、乾燥後溶媒を留去す
る。残査の結晶を酢酸エチル−n−ヘキサン混液から再
結晶することにより1,4,5,6−テトラヒドロ−1
−(2−ピリジル)−2−(2−アミノベンジルチオ)
シクロペンタ〔d〕イミダゾール1.06gを淡黄色板
状晶として得る。
の塩化メチレン20ml溶液に氷冷下、塩化アセチル
0.27gの塩化メチレン5ml溶液を滴下する。1時
間後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、ついで
水で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去する。残査の結晶をク
ロロホルム−酢酸エチル混液から再結晶することにより
1,4,5,6−テトラヒドロ−1−(2−ピリジル)
−2−(2−アセチルアミノベンジルチオ)シクロペン
タ〔d〕イミダゾール0.83gを得る。
ゾールと2−フタルイミドベンジルクロリドとを実施例
1と同様に処理することにより1−(4−ピリジル)−
2−(2−フタルイミドベンジルチオ)イミダゾールを
得る。 M.p.145〜147℃(エタノールから再
結晶) (2) 本品を実施例74−(2)と同様に処理するこ
とにより1−(4−ピリジル)−2−(2−アミノベン
ジルチオ)イミダゾールを油状物として得る。
とにより1−(4−ピリジル)−2−(2−アセチルア
ミノベンジルチオ)イミダゾールを得る。
n−ヘキサンから再結晶) 実施例76 (1) 1−(2−ピリジルメチル)−2−メルカプト
イミダゾールと2−フタルイミドベンジルクロリドとを
実施例1と同様に処理することにより1−(2−ピリジ
ルメチル)−2−(2−フタルイミドベンジルチオ)イ
ミダゾールを得る。
結晶) (2) 本品を実施例74−(2)と同様に処理するこ
とにより1−(2−ピリジルメチル)−2−(2−アミ
ノベンジルチオ)イミダゾールを油状物として得る。
5.10(s,2H,NCH2) 実施例77 o−(N−メチル−N−フェニルアミノ)ベンジルアル
コール4.33gのテトラヒドロフラン50ml溶液に
−60℃でn−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1
5%)14.3mlを加える。20分間反応後、トリエ
チルアミン2.67gを加え、p−トルエンスルホニル
クロリド5.03gのテトラヒドロフラン20ml溶液
を滴下する。−20℃で1時間反応後、更に、トリエチ
ルアミン5.0gを加え、次いで1−(2−ピリジル)
−2−メルカプトイミダゾール3.59gを加える。室
温で2時間反応後、酢酸エチルを加え、水洗、乾燥後、
溶媒を留去する。残査をシリカゲルカラムクロマト(溶
媒;酢酸エチル:クロロホルム=1:9)で精製するこ
とにより、1−(2−ピリジル)−2−〔2−(N−メ
チル−N−フェニルアミノ)ベンジルチオ〕イミダゾー
ル4.55gを得る。
再結晶) 実施例78〜83 対応原料化合物を実施例77と同様に処理することによ
り、下記第14表記載化合物を得る。
チルアミノ)ベンジルチオ〕イミダゾール19.6gを
濃塩酸−70%エタノール(1:5)の混液400ml
に溶解する。該溶液に80℃にて塩化第一スズ・2水和
物82.7gの水100ml溶液を滴下し、同温にて1
時間撹拌後、水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性と
し、不溶物をろ去する。ろ液を酢酸エチルで抽出し、水
洗、乾燥後溶媒を留去する。残査をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー〔溶媒:クロロホルム−メタノール
(30:1)〕で精製し、エーテルで結晶化した後結晶
をろ取することにより、1−(5−アミノ−2−ピリジ
ル)−2−〔2−(ジメチルアミノ)ベンジルチオ〕イ
ミダゾール6.27gを得る。 M.p. 134〜138℃ 実施例85 (1) 1−(5−ニトロ−2−ピリジル)−2−メル
カプトイミダゾールと2−モルホリノベンジルクロリド
とを実施例1と同様に処理することにより、1−(5−
ニトロ−2−ピリジル)−2−(2−モルホリノベンジ
ルチオ)イミダゾールを得る。
ム−n−ヘキサンから再結晶) (2) 本品7.95gを酢酸120mlに溶解し、1
0%パラジウム−炭素2.5gを加えて常温常圧下接触
還元する。反応後、触媒をろ去し、溶媒を留去する。残
査に水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し
て析出する結晶をろ取し、クロロホルム−n−ヘキサン
混液から再結晶することにより1−(5−アミノ−2−
ピリジル)−2−(2−モルホリノベンジルチオ)イミ
ダゾール5.92gを得る。
リノベンジルチオ)イミダゾールを実施例74−(3)
と同様に処理することにより、1−(5−アセチルアミ
ノ−2−ピリジル)−2−(2−モルホリノベンジルチ
オ)イミダゾールを得る。
ンから再結晶) 実施例87〜90 (1) 対応原料化合物を実施例1と同様に処理するこ
とにより、下記第15表記載化合物を得る。
−(2)と同様に処理することにより、下記第16表記
載化合物を得る。
(3)と同様に処理することにより、下記第17表記載
化合物を得る。
ルチオ)イミダゾールを実施例74−(3)と同様に処
理することにより、1−(2−ピリジルメチル)−2−
(2−アセチルアミノベンジルチオ)イミダゾールを得
る。
H2),5.10(s,2H,NCH2) 実施例92 1−(5−アミノ−2−ピリジル)−2−〔2−(ジメ
チルアミノ)ベンジルチオ〕イミダゾール0.98g、
トリエチルアミン1ml及び塩化メチレン30mlの混
合物に氷冷下、アセチルクロリド0.26mlを滴下す
る。該混合物を同温にて2時間撹拌後、水及び飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥後溶媒を留去す
る。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶
媒:クロロホルム−メタノール(30:1)で精製し、
イソプロピルエーテルで結晶化した後結晶をろ取するこ
とにより、1−(5−アセチルアミノ−2−ピリジル)
−2−〔2−(ジメチルアミノ)ベンジルチオ〕イミダ
ゾール0.82gを得る。
0分間加温する。この溶液を氷冷し、1−(4,6−ジ
メチル−2−ピリジル)−2−(2−アミノベンジルチ
オ)イミダゾール1.07gのギ酸4ml溶液を加え、
室温で1時間撹拌する。反応後、溶媒を留去し、残査に
水を加え、炭酸カリウムでアルカリ性とする。酢酸エチ
ルで抽出し、抽出液を乾燥後溶媒を留去する。残査をシ
リカゲルカラムクロマト(溶媒;酢酸エチル:n−ヘキ
サン=1:1)で精製する。得られた粗結晶を酢酸エチ
ル−n−ヘキサン混液から再結晶することにより1−
(4,6−ジメチル−2−ピリジル)−2−(2−ホル
ミルアミノベンジルチオ)イミダゾール0.64gを得
る。
オ)イミダゾール1.2gの塩化メチレン10ml溶液
に炭酸カリウム1.7gの水溶液10mlを加え、激し
く撹拌しながら塩化ベンゾイル0.65gを滴下する。
室温で1時間反応後、有機層を分取し、水洗、乾燥後溶
媒を留去する。得られた粗結晶をイソプロピルアルコー
ル−イソプロピルエーテル混液から再結晶することによ
り1−(2−ピリジル)−2−(2−ベンゾイルアミノ
ベンジルチオ)イミダゾール1.55gを得る。
り、下記第18表記載化合物を得る。
メチルアミノベンジルチオ)イミダゾール2.94g及
びトリエチルアミン3.76mlの塩化メチレン100
ml溶液に氷冷下で塩化アセチル0.96mlを滴下す
る。2時間後、反応液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。
残査をシリカゲルカラムクロマト(溶媒;クロロホル
ム:アセトン=30:1)で精製後、酢酸エチル−n−
ヘキサン混液から再結晶することにより1−(3−アセ
トキシ−2−ピリジル)−2−(2−ジメチルアミノベ
ンジルチオ)イミダゾール2.08gを無色針状晶とし
て得る。
ルホリノベンジルチオ)イミダゾールを実施例97と同
様に処理して1−(3−アセトキシ−2−ピリジル)−
2−(2−モルホリノベンジルチオ)イミダゾールを得
る。
から再結晶) 実施例99 1−(4,6−ジメチル−2−ピリジル)−2−(2−
アミノベンジルチオ)イミダゾール1.09g及びトリ
エチルアミン0.5mlの塩化メチレン10ml溶液に
氷冷下でメタンスルホニルクロリド0.48gを加え
る。1時間後、反応液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。
残査をシリカゲルカラムクロマト(溶媒;クロロホル
ム:酢酸エチル=10:1)で精製後、酢酸エチル−n
−ヘキサン混液から再結晶することにより1−(4,6
−ジメチル−2−ピリジル)−2−(2−メタンスルホ
ニルアミノベンジルチオ)イミダゾール1.0gを無色
針状晶として得る。
メチルアミノベンジルチオ)イミダゾール3.26gを
ジメチルホルムアミド100mlに溶解し、これに60
%水素化ナトリウム0.48gを添加する。20分間室
温で撹拌後臭化イソプロピル1.3mlを滴下し、室温
で17時間撹拌する。反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチル
抽出し、抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を留去する。残査
を酢酸エチル−n−ヘキサン混液から再結晶することに
より1−(3−イソプロポキシ−2−ピリジル)−2−
(2−ジメチルアミノベンジルチオ)イミダゾール2.
47gを得る。
より、下記第19表記載化合物を得る。
ミダゾールと2−フタルイミドベンジルブロミドとを実
施例1と同様に処理することにより、1−(3−メチル
−2−ピリジル)−2−(2−フタルイミドベンジルチ
オ)イミダゾールを得る。
(3−メチル−2−ピリジル)シクロペンタ〔d〕イミ
ダゾールと2−フタルイミドベンジルブロミドとを実施
例1と同様に処理することにより、1、4、5、6−テ
トラヒドロ−2−(2−フタルイミドベンジルチオ)−
1−(3−メチル−2−ピリジル)シクロペンタ〔d〕
イミダゾールを得る。
トキシエチルイソチオシアネート7gをトルエン中還流
する。溶媒を留去し、残査を酢酸エチル−n−ヘキサン
混液から再結晶してN−(2,2−ジエトキシエチル)
−N’−(2−ピリジル)チオウレア9gを得る。
酢酸溶液を還流後溶媒を留去する。残査を水に溶解し、
炭酸水素ナトリウムを加え、析出晶をろ取して1−(2
−ピリジル)−2−メルカプトイミダゾール4.91g
を得る。
ルアルコール−イソプロピルエーテル−n−ヘキサンか
ら再結晶) 参考例2〜25 対応原料化合物を参考例1−(1)及び(2)と同様に
処理することにより、下記第20〜23表記載化合物を
得る。
ヒドロフラン懸濁液にo−ジメチルカルバモイル安息香
酸57.96gのテトラヒドロフラン溶液を滴下する。
室温で反応後、三フッ化ホウ素エーテラート170.3
gを滴下し、還流する。冷後、蓚酸54gの水−メタノ
ール混液を加え、更に還流する。反応液を濃縮し、アル
カリ性条件下酢酸エチル抽出する。抽出液から溶媒を留
去し、残査を減圧蒸溜してo−ジメチルアミノメチルベ
ンジルアルコール19.04gを得る。
ル2.89gを滴下する。室温で反応後反応液をエーテ
ルで希釈し、析出晶をろ取して、o−ジメチルアミノメ
チルベンジルクロリド塩酸塩3.78gを得る。
ラヒドロフラン溶液に−60℃でn−ブチルリチウムの
n−ヘキサン溶液32.2ml、ついでヨウ化メチル
4.42gのテトラヒドロフラン溶液を加えて室温で反
応させる。反応後、水を加え、塩酸酸性下酢酸エチル抽
出し、抽出液から溶媒を留去してN−メチル−N−フェ
ニルアントラニル酸5.06gを得る。
ヒドロフラン懸濁液に、氷冷下、N−メチル−N−フェ
ニルアントラニル酸5.06gのテトラヒドロフラン溶
液を滴下する。室温で反応後、氷冷し、水及び飽和硫酸
ナトリウム水溶液を加えて不溶物をろ去する。ろ液から
溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムで精製してo−
N−メチル−N−フェニルアミノベンジルアルコール
4.33gを得る。
H3),4.56(d,2H,J=6Hz,CH2O) 参考例28 水素化リチウムアルミニウム2.4gのエーテル懸濁液
に氷冷下、o−(1−ピロリル)安息香酸エチル9gの
エーテル溶液を滴下し、反応させる。氷冷下、水及び硫
酸ナトリウム水溶液を加えて不溶物をろ去後、溶媒を留
去し、残査を減圧蒸留して下記第24表記載化合物を得
る。
リジルイソチオシアネート二量体6.21g及びトルエ
ン100mlの混合物を加熱撹拌する。内温を50℃に
下げ、トリエチルアミン4.61gを滴下したのちさら
に反応を続ける。反応液に水を加え、酢酸エチル抽出す
る。抽出液を飽和食塩水で洗浄、乾燥後、溶媒を留去す
ることによりN−(2−ピリジル)−N’−(2−オキ
ソシクロヘキシル)チオウレア8.2gを得る。
に処理することにより2−メルカプト−1,3a,4,
5,6,6a−ヘキサヒドロ−6a−ヒドロキシ−1−
(2−ピリジル)シクロペンタ〔d〕イミダゾールを得
る。
シル)チオウレアを実施例66と同様に処理することに
より2−メルカプト−1−(2−ピリジル)−4,5,
6,7−テトラヒドロベンズイミダゾールを得る。
から再結晶) 参考例32〜36 2−メルカプト−1,3a,4,5,6,6a−ヘキサ
ヒドロ−6a−ヒドロキシ−1−(2−ピリジル)シク
ロペンタ〔d〕イミダゾールと対応原料化合物とを実施
例1と同様に処理することにより、下記第25表記載化
合物を得る。
ダゾール9.8gを水素化ナトリウムの存在下加熱して
o−イミダゾリル安息香酸エチル23gを得る。
ミダゾリルベンジルアルコール3.4gを得る。
(2)と同様に処理してo−イミダゾリルベンジルクロ
リド塩酸塩3.3gを得る。
エーテルから再結晶) 参考例38 1−(2−ピリジル)−2−(3−ジメチルアミノベン
ジルチオ)イミダゾール3.73gの塩化メチレン10
0ml溶液をアルゴン気流下−40℃に冷却する。該溶
液に80%メタクロロ過安息香酸5.32gを少量ずつ
添加する。同温にて1時間撹拌する。反応液を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥後溶媒を留去す
る。残査をメタノールから再結晶することにより、1−
(2−ピリジル)−2−(3−ジメチルアミノベンジル
スルフィニル)イミダゾール1.48gを得る。
することにより、下記第26〜29表記載化合物を得
る。
理することにより、下記第30表記載化合物を得る。
理することにより、下記第31〜33表記載化合物を得
る。
理することにより、下記第34〜35表記載化合物を得
る。
理することにより、下記第36表記載化合物を得る。
理することにより、下記第37表記載化合物を得る。
アミノベンジルチオ)−1−(2−ピリジル)−シクロ
ペンタ〔d〕イミダゾールを参考例38と同様に処理す
ることにより、1,4,5,6−テトラヒドロ−2−
(2−ジメチルアミノベンジルスルフィニル)−1−
(2−ピリジル)−シクロペンタ〔d〕イミダゾールを
得る。
サンから再結晶) 参考例104〜106 実施例67〜69で得た生成物を参考例38と同様に処
理することにより、下記第38表記載化合物を得る。
オ)イミダゾールを参考例38と同様に処理することに
より、1−(2−ピリジル)−2−(2−アミノベンジ
ルスルフィニル)イミダゾールを得る。
アルコールから再結晶) 参考例108 1−(2−ピリジル)−2−(2−アセチルアミノベン
ジルチオ)イミダゾールを参考例38と同様に処理する
ことにより、1−(2−ピリジル)−2−(2−アセチ
ルアミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
アルコールから再結晶) 参考例109 1−(2−ピリジル)−2−(2−メチルアミノベンジ
ルチオ)イミダゾールを参考例38と同様に処理するこ
とにより、1−(2−ピリジル)−2−(2−メチルア
ミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
ら再結晶) 参考例110 1−(2−ピリジル)−2−〔2−(N−メチル−N−
アセチルアミノ)ベンジルチオ〕イミダゾールを参考例
38と同様に処理することにより、1−(2−ピリジ
ル)−2−〔2−(N−メチル−N−アセチルアミノ)
ベンジルスルフィニル〕イミダゾールを得る。
−イソプロピルエーテルから再結晶) 参考例111 1,4,5,6−テトラヒドロ−1−(2−ピリジル)
−2−(2−アセチルアミノベンジルチオ)シクロペン
タ〔d〕イミダゾールを参考例38と同様に処理するこ
とにより1,4,5,6−テトラヒドロ−1−(2−ピ
リジル)−2−(2−アセチルアミノベンジルスルフィ
ニル)シクロペンタ〔d〕イミダゾールを得る。
チル−n−ヘキサンから再結晶) 参考例112 1−(4−ピリジル)−2−(2−アセチルアミノベン
ジルチオ)イミダゾールを参考例38と同様に処理する
ことにより1−(4−ピリジル)−2−(2−アセチル
アミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
アルコール−イソプロピルエーテルから再結晶) 参考例113 1−(2−ピリジルメチル)−2−(2−アミノベンジ
ルチオ)イミダゾールを参考例38と同様に処理するこ
とにより、1−(2−ピリジルメチル)−2−(2−ア
ミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
H2),5.29(ABq,2H,NCH2) 参考例114 1−(2−ピリジル)−2−(N−メチル−N−フェニ
ルアミノベンジルチオ)イミダゾールを参考例38と同
様に処理することにより、1−(2−ピリジル)−2−
〔2−(N−メチル−N−フェニルアミノ)ベンジルス
ルフィニル〕イミダゾールを得る。
アルコール−n−ヘキサンから再結晶) 参考例115〜120 実施例78〜83で得た生成物を参考例38と同様に処
理することにより、下記第39表記載化合物を得る。
チルアミノ)ベンジルチオ〕イミダゾールを参考例38
と同様に処理することにより、1−(5−アミノ−2−
ピリジル)−2−〔2−(ジメチルアミノ)ベンジルス
ルフィニル〕イミダゾールを得る。
−エーテルから再結晶) 参考例122 1−(5−アミノ−2−ピリジル)−2−〔2−(ジメ
チルアミノ)ベンジルチオ〕イミダゾールを参考例38
と同様に処理することにより、1−(5−アミノ−2−
ピリジル)−2−(2−モルホリノベンジルスルフィニ
ル)イミダゾールを得る。
ロホルム−n−ヘキサンから再結晶) 参考例123 1−(5−アセチルアミノ−2−ピリジル)−2−(2
−モリホリノベンジルチオ)イミダゾールを参考例38
と同様に処理することにより、1−(5−アセチルアミ
ノ−2−ピリジル)−2−(2−モルホリノベンジルス
ルフィニル)イミダゾールを得る。
ロホルム−n−ヘキサンから再結晶) 参考例124〜127 実施例87〜90で得た生成物を参考例38と同様に処
理することにより、下記第40表記載化合物を得る。
ミノベンジルチオ)イミダゾールを参考例38と同様に
処理することにより、1−(2−ピリジルメチル)−2
−(2−アセチルアミノベンジルスルフィニル)イミダ
ゾールを得る。
n−ヘキサンから再結晶) 参考例129 1−(5−アセチルアミノ−2−ピリジル)−2−〔2
−(ジメチルアミノ)ベンジルチオ〕イミダゾールを参
考例38と同様に処理することにより、1−(5−アセ
チルアミノ−2−ピリジル)−2−〔2−(ジメチルア
ミノ)ベンジルスルフィニル〕イミダゾールを得る。
−エーテルから再結晶) 参考例130 1−(4,6−ジメチル−2−ピリジル)−2−(2−
ホルミルアミノベンジルチオ)イミダゾールを参考例3
8と同様に処理することにより、1−(4,6−ジメチ
ル−2−ピリジル)−2−(2−ホルミルアミノベンジ
ルスルフィニル)イミダゾールを得る。
メチレン−n−ヘキサンから再結晶) 参考例131 1−(2−ピリジル)−2−(2−ベンゾイルアミノベ
ンジルチオ)イミダゾールを参考例38と同様に処理す
ることにより、1−(2−ピリジル)−2−(2−ベン
ゾイルアミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得
る。
ら再結晶) 参考例132〜133 実施例95〜96で得た生成物を参考例38と同様に処
理することにより、下記第41表記載化合物を得る。
メチルアミノベンジルチオ)イミダゾールを参考例38
と同様に処理することにより、1−(3−アセトキシ−
2−ピリジル)−2−(2−ジメチルアミノベンジルス
ルフィニル)イミダゾールを油状物として得る。
H3)2),4.77(ABq,2H,SCH2) IR(Nujol,cm -1):1770,1045 参考例135 1−(3−アセトキシ−2−ピリジル)−2−(2−モ
ルホリノベンジルチオ)イミダゾールを参考例38と同
様に処理することにより、1−(3−アセトキシ−2−
ピリジル)−2−(2−モルホリノベンジルスルフィニ
ル)イミダゾールを得る。
n−ヘキサン混液から再結晶) 参考例136 1−(4,6−ジメチル−2−ピリジル)−2−(2−
メタンスルホニルアミノベンジルチオ)イミダゾールを
参考例38 と同様に処理することにより、1−(4,
6−ジメチル−2−ピリジル)−2−(2−メタンスル
ホニルアミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得
る。
−n−ヘキサン混液から再結晶) 参考例137 1−(3−イソプロポキシ−2−ピリジル)−2−(2
−ジメチルアミノベンジルチオ)イミダゾールを参考例
38と同様に処理することにより、1−(3−イソプロ
ポキシ−2−ピリジル)−2−(2−ジメチルアミノベ
ンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
(s,6H,N(CH3)2),4.81(ABq,2H,SCH2) 参考例138〜139 実施例101〜102で得た生成物を参考例38と同様
に処理することにより、下記第42表記載化合物を得
る。
ジルチオ)イミダゾール1.5gのクロロホルム100
ml溶液に氷冷下、80%メタクロロ過安息香酸3.4
2gを加える。該混合物を1時間撹拌後、亜二チオン酸
ナトリウム8.36gを加え、室温に放置する。2時間
後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗
浄し、乾燥後溶媒を留去する。残査をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー〔溶媒:クロロホルム−メタノール
(40:1)〕で精製後、クロロホルム及びイソプロピ
ルエーテルの混液から再結晶することにより、1−(4
−ピリジル)−2−〔2−(ジメチルアミノ)ベンジル
スルホニル〕イミダゾール0.91gを得る。
フタルイミドベンジルチオ)イミダゾールを参考例38
と同様に処理することにより、1−(3−メチル−2−
ピリジル)−2−(2−フタルイミドベンジルスルフィ
ニル)イミダゾールを得る。
から再結晶) (2)本品を実施例74−(2)と同様に処理すること
により、1−(3−メチル−2−ピリジル)−2−(2
−アミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
酸エチルから再結晶) 参考例142 (1)2−アミノ−3−メチルピリジン2.16g、重
炭酸ナトリウム4.40g、エーテル100ml、水5
0mlの混合物を氷冷下に激しく撹拌しながら、チオホ
スゲン2.60gのエーテル10ml溶液を滴下する。
30分間反応後、有機層を分取し、水洗、乾燥後、溶媒
を留去する。得られた残査をクロロホルムに溶解し、こ
れに2−アミノシクロペンタノン塩酸塩2.84gを加
える。反応液にトリエチルアミン4mlを滴下後、室温
で3時間撹拌する。反応後、反応液を水洗、乾燥後、溶
媒を留去する。得られた残査をイソプロパノールから再
結晶することにより、2−メルカプト−1、3a、4、
5、6、6a−ヘキサヒドロ−6a−ヒドロキシ−1−
(3−メチル−2−ピリジル)シクロペンタ〔d〕イミ
ダゾール3.88gを得る。
1、4、5、6−テトラヒドロ−2−メルカプト−1−
(3−メチル−2−ピリジル)シクロペンタ〔d〕イミ
ダゾールを得る。
から再結晶) 参考例143 (1)1、4、5、6−テトラヒドロ−2−(2−フタ
ルイミドベンジルチオ)−1−(3−メチル−2−ピリ
ジル)シクロペンタ〔d〕イミダゾールを参考例38と
同様に処理することにより、1、4、5、6−テトラヒ
ドロ−2−(2−フタルイミドベンジルスルフィニル)
−1−(3−メチル−2−ピリジル)シクロペンタ
〔d〕イミダゾールを得る。
により、1、4、5、6−テトラヒドロ−2−(2−ア
ミノベンジルスルフィニル)−1−(3−メチル−2−
ピリジル)シクロペンタ〔d〕イミダゾールを得る。
用を有する医薬化合物(I)を製造する際に、合成中間
体として化合物(II)を用いることにより、効率よく
化合物(I)を得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式(II) 【化1】 (但し、環Aはハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、ニトロ基、ア
ミノ基、低級アルカノイルアミノ基、N−低級アルキル
−N−低級アルカノイルアミノ基、モノ−またはジ−低
級アルキルアミノ基、低級アルカノイルオキシ基、シア
ニド基、トリハロゲノ低級アルキル基、トリハロゲノ低
級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基及び水酸基か
ら選ばれる1つまたは2つの基で置換されていてもよい
2−、3−または4−ピリジル基;環Bはニトロ基、ア
ミノ基、モノ−またはジ−低級アルキルアミノ基、低級
アルカノイルアミノ基、フェニルアミノ基、シクロアル
キルアミノ基、N−(トリ低級アルキルフェニル)スル
ホニルアミノ基、N−低級アルキル−N−(トリ低級ア
ルキルフェニル)スルホニルアミノ基、N−低級アルキ
ル−N−フェニルアミノ基、ジ(低級アルキル)アミノ
低級アルキリデンアミノ基、ジ低級アルキルアミノ低級
アルキル基、N−低級アルキル−N−低級アルカノイル
アミノ基、低級アルコキシ基、アリールカルボニルアミ
ノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ホルミルアミ
ノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、フタルイミ
ド基及び含窒素5〜6員環複素単環式基から選ばれる基
で置換されているフェニル基を表し、R1 及びR 2はと
もに水素原子であるかまたは互いに末端で結合して式−
(CH2 )q −で示される基を形成し、nは0、1また
は2、qは3または4を表す。)で示されるイミダゾー
ル誘導体またはその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13872393A JPH0655737B2 (ja) | 1986-12-02 | 1993-06-10 | イミダゾール誘導体 |
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-287512 | 1986-02-12 | ||
| JP28751286 | 1986-12-02 | ||
| JP62-80475 | 1987-03-31 | ||
| JP8047587 | 1987-03-31 | ||
| JP62-215813 | 1987-08-27 | ||
| JP21581387 | 1987-08-28 | ||
| JP13872393A JPH0655737B2 (ja) | 1986-12-02 | 1993-06-10 | イミダゾール誘導体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62298783A Division JPH064623B2 (ja) | 1986-12-02 | 1987-11-26 | イミダゾール誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625226A JPH0625226A (ja) | 1994-02-01 |
| JPH0655737B2 true JPH0655737B2 (ja) | 1994-07-27 |
Family
ID=27466438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13872393A Expired - Lifetime JPH0655737B2 (ja) | 1986-12-02 | 1993-06-10 | イミダゾール誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0655737B2 (ja) |
-
1993
- 1993-06-10 JP JP13872393A patent/JPH0655737B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0625226A (ja) | 1994-02-01 |
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