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JPH065701B2 - Lead frame and method of manufacturing semiconductor device using the same - Google Patents
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JPH065701B2 - Lead frame and method of manufacturing semiconductor device using the same - Google Patents

Lead frame and method of manufacturing semiconductor device using the same

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JPH065701B2
JPH065701B2 JP59222185A JP22218584A JPH065701B2 JP H065701 B2 JPH065701 B2 JP H065701B2 JP 59222185 A JP59222185 A JP 59222185A JP 22218584 A JP22218584 A JP 22218584A JP H065701 B2 JPH065701 B2 JP H065701B2
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frame
lead
lead frame
leads
semiconductor device
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勝 吉田
禎一 楠崎
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
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Hitachi Ltd
Hitachi Tohbu Semiconductor Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明はリードフレームおよびそれを用いた半導体装置
の製造方法に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a lead frame and a method for manufacturing a semiconductor device using the same.

〔背景技術〕[Background technology]

レジンパッケージ型等の半導体装置は、その製造におい
てリードフレームと呼称されている部材が用いられてい
る。このリードフレームは、たとえば、株式会社プレス
ジャーナル発行「月刊Semiconductor W
orld」1984年5月号、昭和59年7月15日発
行、P111〜P115に記載されているように、銅や
鉄−ニッケル系合金等の薄い金属板をエッチングあるい
はプレスの打ち抜きによって形成され、チップに取付け
るタブおよびワイヤを接続するリード等のリードフレー
ムパターンを構成するパターンメンバーを有している。
また、チップやワイヤを取付ける前記タブやリードのボ
ンディング部分は、接続の信頼性向上等を図るために、
金、銀等がメッキされている。
A member called a lead frame is used in the manufacture of a resin package type semiconductor device. This lead frame is, for example, “Monthly Semiconductor W” published by Press Journal, Inc.
orld ”May 1984 issue, issued July 15, 1984, P111 to P115, as described in P111 to P115, formed by etching or punching a thin metal plate such as copper or iron-nickel alloy. It has a pattern member that constitutes a lead frame pattern such as a tab for attaching to a chip and a lead for connecting a wire.
In addition, the tabs and the bonding portions of the leads for mounting the chips and wires are designed to improve the reliability of the connection.
Gold, silver, etc. are plated.

ところで、前記リードフレームは金属の持つ導電性、優
れた加工性を利用して形成されているが、その半面、金
属であることによる不便さも派生せざるを得ない。たと
えば、そのうちの一例を挙げれば、特性選別等の作業の
能率化向上が図り難い。すなわち、リードフレームは導
電性の金属板から製造されているため、リードフレーム
に形成された各半導体装置は、相互に電気的に導通状態
となっていることから、リードフレームから分離しなけ
れば、それぞれの半導体装置の電気的な特性検査が行え
ない。したがって、特性検査およびこれに付随する選別
作業、マーキング作業等を単品化された半導体装置に対
して行う方法は、半導体装置の製造工数の軽減化による
製造コスト低減化を妨げる原因の一つとなっている。
By the way, the lead frame is formed by utilizing the conductivity and excellent workability of metal, but on the other hand, the inconvenience due to the metal is inevitable. For example, to give an example, it is difficult to improve the efficiency of work such as characteristic selection. That is, since the lead frame is manufactured from a conductive metal plate, the semiconductor devices formed on the lead frame are in an electrically conductive state with each other, and therefore, must be separated from the lead frame. The electrical characteristics of each semiconductor device cannot be inspected. Therefore, the method of performing the characteristic inspection and the attendant selection work, marking work, and the like on a single semiconductor device is one of the causes that hinder the reduction of the manufacturing cost due to the reduction of the manufacturing process of the semiconductor device. There is.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明の目的は半導体装置の製造工数の低減化が可能な
リードフレームを提供することによって安価な半導体装
置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an inexpensive semiconductor device by providing a lead frame capable of reducing the number of manufacturing steps of the semiconductor device.

本発明の他の目的は集積度の高い半導体装置を提供する
ことにある。
Another object of the present invention is to provide a highly integrated semiconductor device.

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel characteristics of the present invention are
It will be apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
The outline of a typical one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

すなわち、本発明においては、複数のパターンメンバー
で形成されるリードフレームは、絶縁体からなるプラス
チックの母材と、この母材の表面に部分的に被着された
導体層とからなっているため、一本のリードフレームに
それぞれ形成された半導体装置はリードフレームを分断
しなくとも、リードフレームに取付けられた状態で特性
検査が行える。この結果、特性検査作業の能率が向上す
るばかりでなく、特性検査結果に基づく品質等のグレー
ド等を表示するマーキング作業もリードフレームの状態
で行うことができ、半導体装置の製造工数の低減による
半導体装置の製造コストの軽減が達成できる。また、リ
ードフレームはその母材がプラスチックであることか
ら、半導体装置はリードフレームから容易に切断するこ
とができるため、ユーザー側で簡単に分離ができる。し
たがって、半導体装置はリードフレームに取付けられた
状態で出荷することもでき、出荷に付随する作業も容易
となる等の効果も得られる。
That is, in the present invention, the lead frame formed of the plurality of pattern members is composed of the plastic base material made of an insulator and the conductor layer partially adhered to the surface of the base material. The semiconductor device formed on each lead frame can be inspected for characteristics without being divided into lead frames. As a result, not only the efficiency of the characteristic inspection work is improved, but also the marking work for displaying the grade such as the quality based on the characteristic inspection result can be performed in the state of the lead frame, which reduces the number of manufacturing steps of the semiconductor device. It is possible to reduce the manufacturing cost of the device. Further, since the lead frame is made of plastic as a base material, the semiconductor device can be easily cut from the lead frame, so that the user can easily separate the semiconductor device. Therefore, the semiconductor device can be shipped while being attached to the lead frame, and the work accompanying shipping can be facilitated.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の一実施例によるレジンパッケージ型の
トランジスタの断面図、第2図は同じく平面図、第3図
は同じく一部の断面図、第4図は本発明のトランジスタ
の製造工程を示すフローチャート、第5図は本発明のト
ランジスタの製造に用いるリードフレームの一部を示す
平面図、第6図は同じくチップボンディングおよびワイ
ヤボンディングが施されたリードフレームの状態を示す
平面図、第7図は同じくレジンモールドが施されたリー
ドフレームの状態を示す平面図、第8図は同じく特性検
査が成されマーキングが施されたリードフレームの状態
を示す平面図である。
1 is a sectional view of a resin package type transistor according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the same, FIG. 3 is a partial sectional view of the same, and FIG. 4 is a manufacturing process of a transistor of the present invention. 5 is a plan view showing a part of a lead frame used for manufacturing the transistor of the present invention, and FIG. 6 is a plan view showing a state of the lead frame similarly subjected to chip bonding and wire bonding. FIG. 7 is a plan view showing a state of the lead frame similarly subjected to the resin molding, and FIG. 8 is a plan view showing a state of the lead frame similarly subjected to the characteristic inspection and marking.

この実施例のトランジスタは第1図および第2図に示す
ように、平行に延在する3本のリード1と、これらリー
ド1の同一端側を被うレジンからなるパッケージ2とか
らなっている。前記中央のリード1のパッケージ2内に
延在する内端は幅広のタブ3を形成し、その主面にはト
ランジスタ素子からなるチップ4が銀ペースト又はAu
−Si共晶等からなる接合材5を介して固定されてい
る。また、両側のリード1のパッケージ2内に延在する
内端も幅広となってワイヤボンディング用のパッド6を
形成している。そして、このパッド6と前記チップ4の
図示しない電極とは導電性のワイヤ7で接続されてい
る。これらリード1のパッケージ2内に位置する部分が
幅広となることは、チップボンディング、ワイヤボンデ
ィングがし易くなるとともに、リード1がパッケージ2
から抜けないようになり、リード1とパッケージ2との
密着性が損ない難くなる。
As shown in FIGS. 1 and 2, the transistor of this embodiment comprises three leads 1 extending in parallel and a package 2 made of a resin covering the leads 1 on the same end side. . A wide tab 3 is formed at an inner end of the central lead 1 extending into the package 2, and a chip 4 made of a transistor element is formed on the main surface thereof with a silver paste or Au.
It is fixed via a bonding material 5 made of —Si eutectic or the like. Further, the inner ends of the leads 1 on both sides extending into the package 2 are also widened to form the pads 6 for wire bonding. The pad 6 and an electrode (not shown) of the chip 4 are connected by a conductive wire 7. The widening of the portion of the lead 1 located in the package 2 facilitates chip bonding and wire bonding, and the lead 1 is packaged in the package 2.
It will not come off, and the adhesion between the lead 1 and the package 2 will not be damaged easily.

一方、前記リード1はいずれもプラスチックの母材8と
この母材8の表面に被着形成された導体層9とからなっ
ている。前記母材8を形成するプラスチックは特にレジ
ンの種類は限定はされないが、チップボンディング、ワ
イヤボンディング、モールド時に加わる300〜350
℃程度の温度で変形や劣化しないもの、機械強度が高い
ものが選ばれる。この実施例のトランジスタはパッケー
ジ2から突出するリード1の外端面を除く以外の表面は
導体層9によって被われている(第1図および第2図参
照)。
On the other hand, each of the leads 1 is composed of a plastic base material 8 and a conductor layer 9 adhered to the surface of the base material 8. The plastic forming the base material 8 is not particularly limited in the kind of resin, but 300 to 350 added during chip bonding, wire bonding and molding.
Those that are not deformed or deteriorated at a temperature of about ℃ and have high mechanical strength are selected. The surface of the transistor of this embodiment except the outer end surface of the lead 1 protruding from the package 2 is covered with a conductor layer 9 (see FIGS. 1 and 2).

つぎに、第4図〜第8図を参照しながら、トランジスタ
の製造方法について説明する。
Next, a method of manufacturing a transistor will be described with reference to FIGS.

トランジスタの製造に際して、最初にリードフレーム1
0が用意される。このリードフレーム10は数100μ
m〜数mmの厚さのプラスチックフィルムを第5図に示さ
れるように、パターニングすることによって形成され
る。パターニングはプレスによる打ち抜きによって行わ
れる。リードフレーム10は相互に平行に延びる第1の
枠11aと第2の枠11bと、これらの1対の枠11
a,11bを連結するタイバー12とを有している。ま
た、一方の枠11aの内側から3本のリード1が前記タ
イバー12に平行に延在している。これらリード1にあ
って、中央のリード1はその先端(内端)に幅広のタブ
3を有し、両側のリード1はその先端(内端)に幅広の
パッド6を有している。また、各リード1間およびリー
ド1とタイバー12とはダム13によって連結されてい
る。さらに前記第1と第2の枠11a,11bにはガイ
ド孔14が設けられている。このガイド孔14はリード
フレーム10の組立時の自動搬送時のガイドあるいは位
置決め用のガイドとして用いられる。
When manufacturing a transistor, first lead frame 1
0 is prepared. This lead frame 10 is several hundred μ
It is formed by patterning a plastic film having a thickness of m to several mm as shown in FIG. The patterning is performed by punching with a press. The lead frame 10 includes a first frame 11a and a second frame 11b extending in parallel with each other, and a pair of these frames 11a and 11b.
It has a tie bar 12 connecting a and 11b. Further, three leads 1 extend from the inside of one frame 11a in parallel with the tie bar 12. In these leads 1, the lead 1 at the center has a wide tab 3 at its tip (inner end), and the leads 1 on both sides have a wide pad 6 at its tip (inner end). Further, the leads 1 and the leads 1 and the tie bars 12 are connected by dams 13. Further, guide holes 14 are provided in the first and second frames 11a and 11b. The guide hole 14 is used as a guide for automatic conveyance during assembly of the lead frame 10 or a guide for positioning.

つぎに、このリードフレーム10は母材8の必要な表面
部分に導体層9がメッキされる。すなわち、メッキが必
要な部分は、チップボンディング、ワイヤボンディング
が行われる領域ならびにパッケージ2から突出しかつ実
装時に半田が付けられる領域である。メッキはディップ
式で数千Å〜数μmの厚さで付けられる。導体層9は、
特に限定はされないが、たとえば、下層がニッケル(N
i)で上層が銅(Cu)等となっている。なお、第5図
〜第8図において、メッキが施された領域は点々を施し
て示してある。
Next, the lead frame 10 is plated with a conductor layer 9 on a necessary surface portion of the base material 8. That is, the portions that need to be plated are the areas where chip bonding and wire bonding are performed, and the areas that project from the package 2 and that solder is attached during mounting. The plating is a dip method and is applied with a thickness of several thousand Å to several μm. The conductor layer 9 is
Although not particularly limited, for example, when the lower layer is nickel (N
In i), the upper layer is copper (Cu) or the like. In FIGS. 5 to 8, the plated areas are shown by dots.

つぎに、このようなリードフレーム10は、第6図で示
されるように、タブ3上にチップ4がボンディングされ
るとともに、このチップ4の図示しない電極と両側のリ
ード1の内端とはワイヤ7で接続される。
Next, in such a lead frame 10, as shown in FIG. 6, a chip 4 is bonded onto the tab 3, and the electrodes (not shown) of the chip 4 and the inner ends of the leads 1 on both sides are wired. Connected at 7.

その後、このリードフレーム10は、レジンモールドが
施され、第7図で示されるように、リード1の先端部分
は絶縁性のレジンからなるパッケージ2で被われる。
Thereafter, the lead frame 10 is resin-molded, and as shown in FIG. 7, the tip portion of the lead 1 is covered with the package 2 made of an insulating resin.

つぎに、このリードフレーム10は、第8図で示される
ように、各リード1間およびリード1とタイバー12と
を連結するダム13が切断除去される。この状態では、
各リード1はパッケージ2および導体層9が設けられて
いない第1の枠11aによって物理的に連結されている
が、前記パッケージ2は絶縁体であることと、リード1
を連結するダム13はその表面に導体層9を有していな
いことから、各リード1は電気的に相互に独立してい
る。したがって、この状態では、モールドされて形成さ
れた各トランジスタ15はリードフレーム10に連結さ
れている状態でも電気的な特性検査が可能となる。そこ
で、この状態で特性検査が実行される また、前記特性
検査結果に基づくグレード(等級)表示がリードフレー
ムの状態で行われる。
Next, in the lead frame 10, as shown in FIG. 8, the dams 13 that connect the leads 1 and the leads 1 and the tie bars 12 are cut and removed. In this state,
Each lead 1 is physically connected by the first frame 11a on which the package 2 and the conductor layer 9 are not provided. The package 2 is an insulator, and the lead 1
The lead 13 is electrically independent from each other because the dam 13 connecting the leads does not have the conductor layer 9 on its surface. Therefore, in this state, it is possible to inspect the electrical characteristics of each molded transistor 15 even when it is connected to the lead frame 10. Therefore, the characteristic inspection is executed in this state, and the grade (grade) display based on the characteristic inspection result is performed in the state of the lead frame.

この結果、パッケージ2の主面にマーク16が印刷され
る。実施例では、2A,2Bなる文字でグレードが表示
される。
As a result, the mark 16 is printed on the main surface of the package 2. In the embodiment, the grade is displayed by the letters 2A and 2B.

このようなトランジスタ15は、リードフレーム10に
取付けられた状態で出荷されても、リード1の主構成材
質がプラスチックであることから、簡単な機構の切断機
や挟み等でリード1がそれぞれの枠11a,11bから
切断分離できるため、ユーザーにあっても何等支障なく
使用できる。
Even if such a transistor 15 is shipped attached to the lead frame 10, since the main constituent material of the lead 1 is plastic, the lead 1 can be framed by a cutting machine or a sandwiching mechanism having a simple mechanism. Since it can be cut and separated from 11a and 11b, even a user can use it without any trouble.

一方、トランジスタ15を単体の製品として出荷する場
合は、リード1をそれぞれの枠11a,11bの近傍で
切断すれば、第1図で示されるようなトランジスタ15
を製造することができるので、トランジスタ15を単品
として出荷することができる。
On the other hand, when the transistor 15 is shipped as a single product, if the lead 1 is cut near the frames 11a and 11b, the transistor 15 as shown in FIG.
Therefore, the transistor 15 can be shipped as a single item.

〔効果〕〔effect〕

(1)本発明のトランジスタ15は、封止材質であるパッ
ケージ2およびリード1の主構成材質が共にプラスチッ
クであることから、両者間に熱応力が発生し難くなり、
リード1とパッケージ2との間の密着状態も常に良好に
維持でき、高い耐湿性を維持できるという効果が得られ
る。
(1) In the transistor 15 of the present invention, since the main constituent materials of the package 2 and the lead 1 which are sealing materials are both plastic, thermal stress is less likely to occur between them,
The close contact state between the lead 1 and the package 2 can always be maintained in good condition, and high moisture resistance can be maintained.

(2)上記(1)から、本発明のトランジスタ15はリード1
とパッケージ2の熱応力の発生が少ないことから、熱応
力によるワイヤ7の破断等が生じることもなく、信頼性
が向上するという効果が得られる。
(2) From the above (1), the transistor 15 of the present invention has the lead 1
Since the heat stress of the package 2 is small, the wire 7 is not broken due to the heat stress, and the reliability is improved.

(3)本発明のトランジスタ15は、リード1の主構成材
質が金属に比較して安価なプラスチックで形成されてい
ることと、リード1の表面の導体層9は製造コストが安
いメッキ法によって形成されていることから、その製造
コストが安価となるとい効果が得られる。
(3) In the transistor 15 of the present invention, the main constituent material of the lead 1 is formed of plastic which is cheaper than metal, and the conductor layer 9 on the surface of the lead 1 is formed by a plating method which is low in manufacturing cost. Therefore, the effect that the manufacturing cost becomes low can be obtained.

(4)本発明のリードフレーム10は主構成材質がプラス
チックであることから、その製造コストが安くなるとと
もに、金属のような市場変動による材料コストの変動が
少ないことから、製造コストが安定するという効果が得
られる。
(4) Since the lead frame 10 of the present invention is made of plastic as the main constituent material, the manufacturing cost thereof is low, and the fluctuation of the material cost due to the market fluctuation such as metal is small, so that the manufacturing cost is stable. The effect is obtained.

(5)本発明のリードフレーム10は、パターンメンバー
の一つであるダム13を切断除去すれば、各リード1は
相互に電気的に絶縁されるため、このリードフレーム1
0に製造された複数のトランジスタ15はリードフレー
ム10に支持された状態で電気的な特性検査が行えると
いう効果が得られる。
(5) In the lead frame 10 of the present invention, when the dam 13 which is one of the pattern members is cut and removed, the leads 1 are electrically insulated from each other.
It is possible to obtain the effect that the electrical characteristics can be inspected while the plurality of transistors 15 manufactured to 0 are supported by the lead frame 10.

(6)上記(5)から、本発明によれば、特性検査に基づくマ
ーキング作業もリードフレーム10の状態で行えるた
め、トランジスタの製造工数の低減化が達成できるとい
う効果が得られる。
(6) From the above (5), according to the present invention, the marking operation based on the characteristic inspection can be performed in the state of the lead frame 10, so that the effect of reducing the number of manufacturing steps of the transistor can be obtained.

(7)上記(5)および(6)から、本発明によれば、トランジ
スタ15の出荷はリードフレーム10に各トランジスタ
15が支持された状態で行っても、リード1の主構成材
質がプラスチックであることから、簡単な機構の切断機
等でリード1を枠11から切断分離できるため、ユーザ
ーにあっても何等支障なくトランジスタ15を使用でき
るという効果が得られる。
(7) From the above (5) and (6), according to the present invention, even if the transistors 15 are shipped while the transistors 15 are supported by the lead frame 10, the main constituent material of the lead 1 is plastic. Therefore, since the lead 1 can be cut and separated from the frame 11 by a cutting machine having a simple mechanism, the effect that even the user can use the transistor 15 without any trouble is obtained.

(8)上記(5)〜(7)から本発明のリードフレーム10を用
いてトランジスタ15を製造する場合、各工程および工
程内で常にワークはリードフレーム10の状態で取り扱
われるため、取り扱い性能が向上し製造工数の低減が達
成できるという効果が得られる。
(8) When the transistor 15 is manufactured by using the lead frame 10 of the present invention from the above (5) to (7), the workability is always handled in each process and in the process in the state of the lead frame 10. It is possible to obtain the effect that the number of manufacturing steps is improved and the number of manufacturing steps can be reduced.

(9)本発明のリードフレーム10は、プラスチックの母
材8とこの母材8の表面に部分的に設けられた導体層9
によって形成されていることから、その重量は軽い。し
たがって、リードフレーム10の輸送が容易でありかつ
輸送効率も高くできる。このため、リードフレーム10
の輸送コストの軽減も達成できるという効果が得られ
る。
(9) The lead frame 10 of the present invention comprises a plastic base material 8 and a conductor layer 9 partially provided on the surface of the base material 8.
Since it is formed by, its weight is light. Therefore, the lead frame 10 can be easily transported and the transportation efficiency can be improved. Therefore, the lead frame 10
The effect is that the transportation cost can be reduced.

(10)本発明のリードフレーム10は、常時はプラスチッ
クの母材8のまま保管して置き、使用時に母材8の表面
に導体層9をメッキするようにすれば、保管時の母材8
の酸化等の劣化が起きないため、従来の表面が酸化した
りするような金属のリードフレームに比較して勝るとい
う効果が得られる。
(10) The lead frame 10 of the present invention is always stored in the plastic base material 8 as it is, and the conductor layer 9 is plated on the surface of the base material 8 at the time of use.
Since no deterioration such as oxidization does not occur, it is more effective than the conventional metal lead frame in which the surface is oxidized.

(11)上記(1)〜(10)により、本発明によれば、低廉なリ
ードフレーム10を用いて少ない工数でトランジスタが
製造できることから、安価なトランジスタを提供するこ
とができるという相乗効果が得られる。
(11) Due to the above (1) to (10), according to the present invention, a transistor can be manufactured using the inexpensive lead frame 10 with a small number of steps, so that a synergistic effect of providing an inexpensive transistor can be obtained. To be

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない、たとえば、リードフレー
ム10は母材8の所定部分にメッキを行った後にパター
ニングすれば、母材8の表裏の導体層9は、第9図およ
び第11図に示されるように、相互に電気的に独立状態
となる。そこで、リードフレーム10の主面側および裏
面側にそれぞれチップ4を固定するとともに、このチッ
プ4の電極とこれに対応するリード1の内端とをワイヤ
7で接続し、リードフレーム10の表裏にそれぞれ独立
した半導体装置を製造するようにすれば、より高集積度
化が可能となる。この場合、製品となった半導体装置の
実装時、リード1を配線基板の挿入孔に挿入した場合、
配線基板の孔を形成する導体層部分がリード1の表裏の
導体層9を導通状態としてしまうことになることから、
導通状態となっては困る部分では、リード1の表裏面の
いずれか一方のみにワイヤ7を接続するようにすればよ
い。なお、リード1の表裏の半導体装置の特定のリード
1が電気的に導通状態となる必要がある場合には、第1
0図に示されるように、リード1の表裏面の両方にワイ
ヤ7を接続して置けば、実装によって導通状態となる。
第10図において、リード1の外端にハッチングが施さ
れたリード1はリード1の裏面にワイヤ7が接続された
ものを示す。さらに、この場合、リードフレーム10を
標準化した場合、リード1の総てにワイヤ7が接続され
るとは限らない。すなわち、必要なリード1のみにワイ
ヤボンディングを施せばよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. For example, if the lead frame 10 is patterned after plating a predetermined portion of the base material 8, the conductor layers 9 on the front and back surfaces of the base material 8 will be interconnected as shown in FIGS. 9 and 11. It becomes electrically independent. Therefore, the chips 4 are fixed to the main surface side and the back surface side of the lead frame 10, respectively, and the electrodes of the chip 4 and the corresponding inner ends of the leads 1 are connected by the wires 7, so that the lead frame 10 is provided on the front and back sides. If independent semiconductor devices are manufactured, higher integration can be achieved. In this case, when the lead 1 is inserted into the insertion hole of the wiring board at the time of mounting the product semiconductor device,
Since the conductor layer portion forming the hole of the wiring board brings the conductor layers 9 on the front and back sides of the lead 1 into a conductive state,
In a portion where it is difficult to establish a conductive state, the wire 7 may be connected to only one of the front and back surfaces of the lead 1. In addition, when it is necessary to electrically connect specific leads 1 of the semiconductor device on the front and back sides of the lead 1,
As shown in FIG. 0, if the wires 7 are placed on both the front and back surfaces of the lead 1, the leads 1 are brought into conduction by mounting.
In FIG. 10, a lead 1 having a hatched outer end of the lead 1 shows a lead 1 having a wire 7 connected to the back surface thereof. Further, in this case, when the lead frame 10 is standardized, the wires 7 are not always connected to all the leads 1. That is, it is only necessary to wire bond the required leads 1.

〔利用分野〕[Field of application]

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるトランジスタの製造
技術に適用した場合について説明したが、それに限定さ
れるものではなく、たとえば、IC等の半導体装置の製
造技術に適用できる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the manufacturing technology of a transistor, which is the field of application of the background, has been described, but the invention is not limited thereto and, for example, a semiconductor device such as an IC. Can be applied to the manufacturing technology of.

本発明は少なくとも電子部品等の製造技術に適用でき
る。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be applied to at least a manufacturing technique of electronic parts and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例によるレジンパッケージ型の
トランジスタの断面図、 第2図は同じく平面図、 第3図は同じく一部の断面図、 第4図は本発明のトランジスタの製造工程を示すフロー
チャート、 第5図は本発明のトランジスタの製造に用いるリードフ
レームの一部を示す平面図、 第6図は同じくチップボンディングおよびワイヤボンデ
ィングが施されたリードフレームの状態を示す平面図、 第7図は同じくレジンモールドが施されたリードフレー
ムの状態を示す平面図、 第8図は同じく特性検査が成されマーキングが施された
リードフレームの状態を示す平面図、 第9図は本発明の他の実施例による半導体装置の断面
図、 第10図は同じく概念的な半導体装置の平面図、 第11図は同じくリード1の断面図である。 1・・・リード、2・・・パッケージ、3・・・タブ、
4・・・チップ、5・・・接合材、6・・・パッド、7
・・・ワイヤ、8・・・母材、9・・・導体層、10・
・・リードフレーム、11a,11b・・・枠、12・
・・タイバー、13・・・ダム、14・・・ガイド孔、
15・・・トランジスタ、16・・・マーク。
1 is a sectional view of a resin package type transistor according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the same, FIG. 3 is a partial sectional view of the same, and FIG. 4 is a manufacturing process of a transistor of the present invention. 5 is a plan view showing a part of a lead frame used for manufacturing the transistor of the present invention, FIG. 6 is a plan view showing a state of the lead frame similarly subjected to chip bonding and wire bonding, FIG. FIG. 7 is a plan view showing a state of a lead frame similarly subjected to resin molding, FIG. 8 is a plan view showing a state of a lead frame similarly subjected to characteristic inspection and marking, and FIG. 9 is a plan view of the present invention. 10 is a sectional view of a semiconductor device according to another embodiment, FIG. 10 is a plan view of the same conceptual semiconductor device, and FIG. 11 is a sectional view of a lead 1. 1 ... Lead, 2 ... Package, 3 ... Tab,
4 ... Chip, 5 ... Bonding material, 6 ... Pad, 7
... Wire, 8 ... Base material, 9 ... Conductor layer, 10 ...
..Lead frames, 11a, 11b ... Frames, 12 ...
..Tie bars, 13 ... dams, 14 ... guide holes,
15 ... Transistor, 16 ... Mark.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−88752(JP,A) 特開 昭59−148354(JP,A) 特開 昭51−40869(JP,A) 特開 昭55−110060(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) Reference JP-A-57-88752 (JP, A) JP-A-59-148354 (JP, A) JP-A-51-40869 (JP, A) JP-A-55- 110060 (JP, A)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】相互に平行に延びる第1と第2の枠と、こ
れらの第1の枠と第2の枠とを接続するタイバーと、前
記第1の枠に一体となり前記第2の枠に向けて延びる複
数のリードとを有するリードフレームであって、前記リ
ードフレームは絶縁性プラスチックにより形成された母
材を有し、かつ前記第2の枠と前記タイバーと前記リー
ドとの前記母材にディップ法により被着形成された導体
層を有し、当該導体層が被着されていない前記第1の枠
の部分で前記リードの導体層相互を電気的に独立し得る
ようにしたことを特徴とするリードフレーム。
1. A first frame and a second frame extending in parallel to each other, a tie bar connecting the first frame and the second frame, and a second frame integrally formed with the first frame. A lead frame having a plurality of leads extending toward each other, the lead frame having a base material made of insulating plastic, and the base material of the second frame, the tie bar, and the lead. A conductor layer is formed by the dip method on the first frame, and the conductor layers of the lead can be electrically independent from each other in the portion of the first frame where the conductor layer is not adhered. Characteristic lead frame.
【請求項2】相互に平行に延びる第1と第2の枠と、こ
れらの第1の枠と第2の枠とを横方向に延びて接続する
タイバーと、前記第1の枠に一体となり前記第2の枠に
向けて延びる複数のリードと、前記枠に平行に延びて前
記リード相互および前記リードと前記タイバーとを接続
するダムとを有するリードフレームを絶縁性プラスチッ
クの母材により形成する工程と、 前記第1の枠を残して前記第2の枠と前記タイバーと前
記リードと前記タブの部分の前記母材にディップ法によ
り導体層を被着成形する工程と、 前記リードフレームにチップを固定して当該チップと前
記リードとをワイヤで接続するボンディング工程と、 前記リードの先端部と前記チップとをパッケージで覆う
モールド工程と、 前記ダムの部分をリードフレームから除去するダム切断
工程と、 前記チップの電気的な特性検査を前記チップが前記リー
ドフレームに取り付けられた状態で行う特性検査工程と
を有する半導体装置の製造方法。
2. A first frame and a second frame extending in parallel with each other, a tie bar connecting the first frame and the second frame extending in the lateral direction, and a tie bar integrally formed with the first frame. A lead frame having a plurality of leads extending toward the second frame and a dam extending in parallel to the frame and connecting the leads to each other and the leads and the tie bar is formed of a base material of an insulating plastic. A step of depositing a conductor layer on the base material of the second frame, the tie bar, the lead and the tab by leaving the first frame by a dip method, and a chip on the lead frame. Fixing step to connect the chip and the lead with a wire, a molding step of covering the tip of the lead and the chip with a package, and removing the dam portion from the lead frame. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a dam cutting step for performing a dam cutting; and a characteristic inspection step for conducting an electrical characteristic inspection of the chip in a state where the chip is attached to the lead frame.
【請求項3】リードフレームの表裏両面にそれぞれチッ
プを固定し、前記チップの電極とこれに対応するリード
とをワイヤで接続することを特徴とする特許請求の範囲
第2項記載の半導体装置の製造方法。
3. A semiconductor device according to claim 2, wherein the chips are fixed on both front and back surfaces of the lead frame, and the electrodes of the chips and the leads corresponding thereto are connected by wires. Production method.
【請求項4】リードの表裏どちらか一方にのみワイヤを
接続することを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の
半導体装置の製造方法。
4. A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 3, wherein the wire is connected to only one of the front and the back of the lead.
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