JPH0657705B2 - N−チエニルクロロアセトアミド類の製造方法 - Google Patents
N−チエニルクロロアセトアミド類の製造方法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- PPFXCJSQMOMKTA-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-thiophen-2-ylacetamide Chemical class ClCC(=O)NC1=CC=CS1 PPFXCJSQMOMKTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 66
- -1 1-methoxy-prop-2-yl Chemical group 0.000 claims description 15
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 4
- FCSKOFQQCWLGMV-UHFFFAOYSA-N 5-{5-[2-chloro-4-(4,5-dihydro-1,3-oxazol-2-yl)phenoxy]pentyl}-3-methylisoxazole Chemical compound O1N=C(C)C=C1CCCCCOC1=CC=C(C=2OCCN=2)C=C1Cl FCSKOFQQCWLGMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 abstract description 3
- DSXFPRKPFJRPIB-UHFFFAOYSA-N thiolan-3-one Chemical compound O=C1CCSC1 DSXFPRKPFJRPIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 abstract 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 5
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 5
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- DWOXXMGPEQVGNI-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-3-thiaadipic acid Natural products OC(=O)C(C)CCC(C)C(O)=O DWOXXMGPEQVGNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YFXYLSSOKGLAKG-UHFFFAOYSA-N 3-(1-carboxyethylsulfanyl)-2-methylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CSC(C)C(O)=O YFXYLSSOKGLAKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical class Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VGCXGMAHQTYDJK-UHFFFAOYSA-N Chloroacetyl chloride Chemical compound ClCC(Cl)=O VGCXGMAHQTYDJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DUYAAUVXQSMXQP-UHFFFAOYSA-N ethanethioic S-acid Chemical compound CC(S)=O DUYAAUVXQSMXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MKTFWDHZGUUGQZ-UHFFFAOYSA-N n-(1-methoxypropan-2-yl)-2,4-dimethylthiophen-3-amine Chemical compound COCC(C)NC=1C(C)=CSC=1C MKTFWDHZGUUGQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HOMIEGBJQNRINM-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthiolan-3-one Chemical compound CC1CSC(C)C1=O HOMIEGBJQNRINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZFIDRVFTQKLIZ-UHFFFAOYSA-N CNC1=CSC(N(C)C(C)COC)=C1 Chemical compound CNC1=CSC(N(C)C(C)COC)=C1 KZFIDRVFTQKLIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- PVFSDGKDKFSOTB-UHFFFAOYSA-K iron(3+);triacetate Chemical compound [Fe+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O PVFSDGKDKFSOTB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 2
- QQQNAFPVWXPNMM-UHFFFAOYSA-N 1-iminothiolane Chemical compound N=S1CCCC1 QQQNAFPVWXPNMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXMXETCTWNXSFG-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-amine Chemical compound COCC(C)N NXMXETCTWNXSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCZOZNJILSPDMQ-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylthiolan-3-one Chemical compound CC1CC(=O)C(C)S1 NCZOZNJILSPDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCQCHGYLTSGIGX-GHXANHINSA-N 4-[[(3ar,5ar,5br,7ar,9s,11ar,11br,13as)-5a,5b,8,8,11a-pentamethyl-3a-[(5-methylpyridine-3-carbonyl)amino]-2-oxo-1-propan-2-yl-4,5,6,7,7a,9,10,11,11b,12,13,13a-dodecahydro-3h-cyclopenta[a]chrysen-9-yl]oxy]-2,2-dimethyl-4-oxobutanoic acid Chemical class N([C@@]12CC[C@@]3(C)[C@]4(C)CC[C@H]5C(C)(C)[C@@H](OC(=O)CC(C)(C)C(O)=O)CC[C@]5(C)[C@H]4CC[C@@H]3C1=C(C(C2)=O)C(C)C)C(=O)C1=CN=CC(C)=C1 QCQCHGYLTSGIGX-GHXANHINSA-N 0.000 description 1
- 238000006845 Michael addition reaction Methods 0.000 description 1
- GCKSGIVJKHZTRY-UHFFFAOYSA-N S1C(=CC=C1)CC(=O)O.C(C)(=O)O Chemical compound S1C(=CC=C1)CC(=O)O.C(C)(=O)O GCKSGIVJKHZTRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000021 acetate salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- VXIVSQZSERGHQP-UHFFFAOYSA-N chloroacetamide Chemical class NC(=O)CCl VXIVSQZSERGHQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000002363 herbicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
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- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
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- C07D333/30—Hetero atoms other than halogen
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- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
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- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
- C07D333/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の分野および概要〕 この発明は、新規テトラヒドロ−3−チエニリデンイミ
ン類、その製造法、およびN−チエニルクロロアセトア
ミド類の製造における上記イミン類の使用に関するもの
である。
ン類、その製造法、およびN−チエニルクロロアセトア
ミド類の製造における上記イミン類の使用に関するもの
である。
さらに詳細には、この発明は、式(I) 〔式中、RはC1−4アルコキシC2−4アルキル(こ
こで、C1−4アルコキシ基はRが結合するN原子から
少なくとも2個のC原子により隔てられている)、R2
およびR4は、それぞれ独立してCH3またはC
2H5、R5はHまたはCH3を意味する〕 で示される新規テトラヒドロチオフエンイミン類を提供
するものである。
こで、C1−4アルコキシ基はRが結合するN原子から
少なくとも2個のC原子により隔てられている)、R2
およびR4は、それぞれ独立してCH3またはC
2H5、R5はHまたはCH3を意味する〕 で示される新規テトラヒドロチオフエンイミン類を提供
するものである。
式(I)で示される化合物は、容易に脱水素されて式(II) 〔式中、R、R2、R4およびR5は前記の意味〕を生
じ得ることが判明した。
じ得ることが判明した。
式(II)で示される化合物は、式(III) 〔式中、R、R2、R4およびR5は前記の意味〕で示
される化合物を製造するための中間体として知られてい
る。
される化合物を製造するための中間体として知られてい
る。
式(III)で示される化合物は除草剤として知られてい
る。
る。
化合物(II)および(III)は、英国特許公開第21145
66A号に記載されている。この特許は式(III)の化合
物について数種の製造法を開示しているが、その記載方
法、および他の文献記載方法は、何れも容易に入手し得
る原料物質から出発して式(III)の化合物を製造し得る
ものではない。
66A号に記載されている。この特許は式(III)の化合
物について数種の製造法を開示しているが、その記載方
法、および他の文献記載方法は、何れも容易に入手し得
る原料物質から出発して式(III)の化合物を製造し得る
ものではない。
この発明は、式(III)で示される化合物の極めて好都合
な製造法を提供するものである。
な製造法を提供するものである。
この発明の1つの態様は、式(I)の化合物の脱水素によ
る、式(II)の化合物の製造法である。
る、式(II)の化合物の製造法である。
上記脱水素は、接触的に、または酸素による酸化、また
は硫黄、スルフリルクロリドおよびチオニルクロリドの
ような酸化剤による酸化によつて行なうことができる。
接触的にまたは酸化剤としてチオニルクロリドを用いて
行なうのが好ましい。特にチオニルクロリドは式(I)の
化合物の脱水素に驚くほど好適であることが判明した。
は硫黄、スルフリルクロリドおよびチオニルクロリドの
ような酸化剤による酸化によつて行なうことができる。
接触的にまたは酸化剤としてチオニルクロリドを用いて
行なうのが好ましい。特にチオニルクロリドは式(I)の
化合物の脱水素に驚くほど好適であることが判明した。
式(I)の化合物の接触的脱水素は、脱水素触媒の存在下
に行なうことができる。この発明の脱水素反応に用いる
のに適した公知の脱水素触媒の例は、PtまたはPdのよう
な貴金属、またはCr2O3のような他の金属、またはCuOの
ような他の金属と上記のものの混合物である。接触脱水
素は、この種の反応について公知の条件下に行なうこと
ができる。例えば触媒がPtの場合、炭素のような担体上
に微細に分布する(例えば5%Pt/C)のが好適である。
脱水素反応は、加熱下、好ましくは180℃以上の温
度、例えば220℃またはそれ以上の温度、および不活
性ガス雰囲気中、例えばN2ブランケツト中で行なうの
が適当である。
に行なうことができる。この発明の脱水素反応に用いる
のに適した公知の脱水素触媒の例は、PtまたはPdのよう
な貴金属、またはCr2O3のような他の金属、またはCuOの
ような他の金属と上記のものの混合物である。接触脱水
素は、この種の反応について公知の条件下に行なうこと
ができる。例えば触媒がPtの場合、炭素のような担体上
に微細に分布する(例えば5%Pt/C)のが好適である。
脱水素反応は、加熱下、好ましくは180℃以上の温
度、例えば220℃またはそれ以上の温度、および不活
性ガス雰囲気中、例えばN2ブランケツト中で行なうの
が適当である。
式(I)の化合物は、室温以下でさえも、酸素と反応して
中間生成物を生じ、これが、通常約100℃またはそれ以
上の温度における加熱により、分解して式(II)の化合物
となる。この変換は、適当な溶媒、例えば沸騰トルエン
のような芳香族溶媒中分解点以上で酸化することによ
り、1工程で行なうのが好適である。
中間生成物を生じ、これが、通常約100℃またはそれ以
上の温度における加熱により、分解して式(II)の化合物
となる。この変換は、適当な溶媒、例えば沸騰トルエン
のような芳香族溶媒中分解点以上で酸化することによ
り、1工程で行なうのが好適である。
酸化剤を使用する場合、酸化工程は反応条件下で不活性
な溶媒中で行なうのが好適である。適当な溶媒の例は、
CH2C2のような塩素化炭化水素およびトルエンまたは
シクロヘキサンのような炭化水素である。酸化剤が硫黄
の場合、酸化反応は加熱下に行なうのが好適である。酸
化剤がスルフリルクロリドまたはチオニルクロリドの場
合、反応温度は−30℃〜+80℃の範囲、例えば室温
(約20℃〜30℃)が好適である。
な溶媒中で行なうのが好適である。適当な溶媒の例は、
CH2C2のような塩素化炭化水素およびトルエンまたは
シクロヘキサンのような炭化水素である。酸化剤が硫黄
の場合、酸化反応は加熱下に行なうのが好適である。酸
化剤がスルフリルクロリドまたはチオニルクロリドの場
合、反応温度は−30℃〜+80℃の範囲、例えば室温
(約20℃〜30℃)が好適である。
チオニルクロリドが、この反応で酸化剤として用いるの
に驚くほど好ましい。反応は穏和な条件下に行なわれ、
望ましくない副反応(例えば塩素化、それ以上の酸化
等)は見られない。
に驚くほど好ましい。反応は穏和な条件下に行なわれ、
望ましくない副反応(例えば塩素化、それ以上の酸化
等)は見られない。
こうして得られた式(II)の化合物は、N−クロロアセチ
ル化により式(III)の化合物に変換される。N−クロロ
アセチル化は、対応するアミンからクロロアセトアミド
類を製造する公知方法、例えば英国特許公開21145
66A号記載の条件下に行なうことができる。
ル化により式(III)の化合物に変換される。N−クロロ
アセチル化は、対応するアミンからクロロアセトアミド
類を製造する公知方法、例えば英国特許公開21145
66A号記載の条件下に行なうことができる。
式(I)の化合物をスルフリルクロリドまたはチオニルク
ロリドで酸化する場合、式(II)の化合物は塩酸付加塩の
形で得られる。この塩酸塩は、反応混合物から予じめ単
離することなく、塩基の不存在下にクロロアセチルクロ
リドと反応させることができ、式(III)の化合物を実際
上定量的に生成する。
ロリドで酸化する場合、式(II)の化合物は塩酸付加塩の
形で得られる。この塩酸塩は、反応混合物から予じめ単
離することなく、塩基の不存在下にクロロアセチルクロ
リドと反応させることができ、式(III)の化合物を実際
上定量的に生成する。
式(I)の化合物は、式(IV) 〔式中、R2、R4およびR5は前記の意味〕 で示される対応テトラヒドロチオフエン−3−オンか
ら、式(V) H2N−R (V) 〔式中、Rは前記の意味〕 で示されるアミンとの反応により容易に得られる。
ら、式(V) H2N−R (V) 〔式中、Rは前記の意味〕 で示されるアミンとの反応により容易に得られる。
この縮合反応は、シクロヘキサンまたはトルエンのよう
な反応条件下で不活性り溶媒中で行なうのが好適であ
る。この反応は、還流温度のような加熱下で行なうのが
好ましい。反応生成物は、例えば水トラツプまたは例え
ば5Åのような適当なモレキユラーシーブにより乾燥す
るのが適当である。これは、冷却器、例えば水流冷却器
を用い、凝縮物をモレキユラーシーブのカラムに導くこ
とにより連続的に行なうことができ、カラムは空気中の
酸素を排除するためにN2で保護しておくのが好まし
い。
な反応条件下で不活性り溶媒中で行なうのが好適であ
る。この反応は、還流温度のような加熱下で行なうのが
好ましい。反応生成物は、例えば水トラツプまたは例え
ば5Åのような適当なモレキユラーシーブにより乾燥す
るのが適当である。これは、冷却器、例えば水流冷却器
を用い、凝縮物をモレキユラーシーブのカラムに導くこ
とにより連続的に行なうことができ、カラムは空気中の
酸素を排除するためにN2で保護しておくのが好まし
い。
上述した式(IV)の化合物から式(I)および(II)の化合物
を得る式(III)の化合物製造の反応経路は、同一の反応
容器中で行なうことができる。換言すると、式(I)およ
び(II)の化合物は好収率で得られ、次工程の反応に用い
るために反応容器から取出す必要がない。
を得る式(III)の化合物製造の反応経路は、同一の反応
容器中で行なうことができる。換言すると、式(I)およ
び(II)の化合物は好収率で得られ、次工程の反応に用い
るために反応容器から取出す必要がない。
式(IV)の化合物は新規である。この化合物は、式(VI) HOCO-CH(R2)-S-CH(R5)-CH(R4)COOH (VI) 〔式中、R2、R4およびR5は前記の意味〕 で示される化合物の閉環により容易に得られる。
この閉環は、ルチカ閉環反応またはその変法の条件下に
行なうことができる。
行なうことができる。
閉環は加熱下に行なうのが好適である。Ba(OH)2、MnC
O3、Fe末、Fe、Co(II)もしくはNi(II)の酢酸塩、無水酢
酸/Licまたは例えばトリアルキルアミンのような第
3級アミンの如き縮合剤を存在させると、反応を促進さ
せることができる。Fe末、またはFe、Co(II)もしくはNi
(II)の酢酸塩を縮合剤として用いるのが特に有利であ
る。
O3、Fe末、Fe、Co(II)もしくはNi(II)の酢酸塩、無水酢
酸/Licまたは例えばトリアルキルアミンのような第
3級アミンの如き縮合剤を存在させると、反応を促進さ
せることができる。Fe末、またはFe、Co(II)もしくはNi
(II)の酢酸塩を縮合剤として用いるのが特に有利であ
る。
ここにいうFeの酢酸塩の語は、Fe(酢酸)2およびFe(O
H)2(酢酸)のようなFe(II)およびFe(III)酢酸塩化合物
を包含するものとする。
H)2(酢酸)のようなFe(II)およびFe(III)酢酸塩化合物
を包含するものとする。
式(VI)の化合物も新規である。この化合物は、式(VII) HO-CO-CH(R2)-SH (VII) 〔式中、R2は前記の意味〕 で示される化合物を式(VIII) R5−CH=C(R4)−COOH (VIII) 〔式中、R4およびR5は前記の意味〕 で示される化合物に付加することにより、容易に入手で
きる化合物から製造することができる。
きる化合物から製造することができる。
式(VIII)の化合物に対する式(VII)の化合物の付加は、
ミカエル付加またはその変法の条件下に行なうことがで
きる。付加は加熱下に行なうのが好適である。式(VII)
の化合物は、例えば塩の形(カルボキシレート)、例え
ばカルボン酸ナトリウムのようなアルカリ金属塩の形で
用いることができる。しかし、式(VII)の化合物は遊離
酸の形で用いることもでき、その場合付加は第3級アミ
ン、例えばトリ(n−ブチル)アミンのようなトリアル
キルアミン、またはFe、Co(II)もしくはNi(II)の酢酸塩
の存在下に行なうのが好適である。後者の変法は溶媒の
不存在下に行なうことができ、反応は高収率で迅速に進
み、未反応原料を回収することが可能で、式(VI)の化合
物を閉環して式(IV)の化合物とする際にその単離を必要
としない。
ミカエル付加またはその変法の条件下に行なうことがで
きる。付加は加熱下に行なうのが好適である。式(VII)
の化合物は、例えば塩の形(カルボキシレート)、例え
ばカルボン酸ナトリウムのようなアルカリ金属塩の形で
用いることができる。しかし、式(VII)の化合物は遊離
酸の形で用いることもでき、その場合付加は第3級アミ
ン、例えばトリ(n−ブチル)アミンのようなトリアル
キルアミン、またはFe、Co(II)もしくはNi(II)の酢酸塩
の存在下に行なうのが好適である。後者の変法は溶媒の
不存在下に行なうことができ、反応は高収率で迅速に進
み、未反応原料を回収することが可能で、式(VI)の化合
物を閉環して式(IV)の化合物とする際にその単離を必要
としない。
好ましいR2はCH3である。好ましいR4はCH3で
ある。好ましいR5はHである。好ましいRはCH(CH3)C
H2OCH3、CH2CH2-O-nC3H7またはCH2CH2-O-iC3H7であり、
さらに好ましいのはCH(CH3)-CH2-OCH3である。
ある。好ましいR5はHである。好ましいRはCH(CH3)C
H2OCH3、CH2CH2-O-nC3H7またはCH2CH2-O-iC3H7であり、
さらに好ましいのはCH(CH3)-CH2-OCH3である。
以下、この発明の実施例を示す。温度はセ氏である。
実施例1 N−(1−メトキシ−2−プロピル)−2,4−ジメチル
テトラヒドロ−3−チエニリデンイミン。
テトラヒドロ−3−チエニリデンイミン。
反応フラスコに温度計、水流冷却器およびモレキユラー
シーブ(5Å)31gを充填したカラムを付設する。
シーブ(5Å)31gを充填したカラムを付設する。
反応フラスコに、2,4−ジメチルテトラヒドロチオフエ
ン−3−オン0.2モル、1−メトキシ−2−アミノプロ
パン0.225モルおよびシクロヘキサン50mの混合物
を仕込む。反応フラスコに、沸騰する反応混合物の凝縮
物がモレキユラーシーブを連続的に通るように、温度
計、水流冷却器およびモレキユラーシーブ(5Å)31
gを充填したカラムをつなぐ。空気中の酸素を排除する
ため、装置をN2で保護する。
ン−3−オン0.2モル、1−メトキシ−2−アミノプロ
パン0.225モルおよびシクロヘキサン50mの混合物
を仕込む。反応フラスコに、沸騰する反応混合物の凝縮
物がモレキユラーシーブを連続的に通るように、温度
計、水流冷却器およびモレキユラーシーブ(5Å)31
gを充填したカラムをつなぐ。空気中の酸素を排除する
ため、装置をN2で保護する。
反応混合物を9時間煮沸する。次いで、標記化合物を0.
5トル、沸点範囲65−80°で真空蒸留する。
5トル、沸点範囲65−80°で真空蒸留する。
実施例2 N−(1−メトキシ−2−プロピル)−2,4−ジメチル
−3−アミノチオフエン。
−3−アミノチオフエン。
チオニルクロリド0.1モルをトルエン20mに溶か
し、攪拌、10−20°に冷却下、N−(1−メトキシ
−2−プロピル)−2,4−ジメチルテトラヒドロ−3−
チエニリデンイミン0.1モルの80m溶液に滴下す
る。
し、攪拌、10−20°に冷却下、N−(1−メトキシ
−2−プロピル)−2,4−ジメチルテトラヒドロ−3−
チエニリデンイミン0.1モルの80m溶液に滴下す
る。
反応混合物を1時間攪拌し、濃水酸化ナトリウム溶液で
アルカリ性にする。水層を分離し、有機層を水洗、乾燥
し、トルエンを減圧留去する。残留物を0.2トルで蒸留
し、bp70−72°の標記化合物を得る。
アルカリ性にする。水層を分離し、有機層を水洗、乾燥
し、トルエンを減圧留去する。残留物を0.2トルで蒸留
し、bp70−72°の標記化合物を得る。
実施例3 N−(1−メトキシ−2−プロピル)−2,4−ジメチル
アミノチオフエン。
アミノチオフエン。
N−(1−メトキシ−2−プロピル)−2,4−ジメチル
テトラヒドロ−3−チエニリデンイミン0.01モルを、沸
騰トルエン(2m)中の硫黄末0.013モルに、(還流
下)5分間に滴下する。混合物を還流下さらに5分間攪
拌し、粗製物を0.5トル、150−170°でバルブ
(bulb)管中で蒸留し、標記化合物を透明な留出物
として得る。
テトラヒドロ−3−チエニリデンイミン0.01モルを、沸
騰トルエン(2m)中の硫黄末0.013モルに、(還流
下)5分間に滴下する。混合物を還流下さらに5分間攪
拌し、粗製物を0.5トル、150−170°でバルブ
(bulb)管中で蒸留し、標記化合物を透明な留出物
として得る。
実施例4 N−(1−メトキシ−2−プロピル)−2,4−ジメチル
アミノチオフエン。
アミノチオフエン。
N−(1−メトキシ−2−プロピル)−2,4−ジメチル
テトラヒドロ−3−チエニリデンイミン0.1モルを、5
%pt/炭素2gと、窒素雰囲気下200°で11時間
加熱する。触媒を去し、液を0.1トルで蒸留する。
標記化合物を沸点範囲68−71°で得る。
テトラヒドロ−3−チエニリデンイミン0.1モルを、5
%pt/炭素2gと、窒素雰囲気下200°で11時間
加熱する。触媒を去し、液を0.1トルで蒸留する。
標記化合物を沸点範囲68−71°で得る。
実施例5 N−(2,4−ジメチル−3−チエニル)−N−(1−メ
トキシ−2−プロピル)クロロアセトアミド a)式(II)の化合物の塩の使用 トルエン5mに入れたチオニルクロリド0.02モルを、
N−(1−メトキシ−2−プロピル)−2,4−ジメチル
テトラヒドロ−3−チエニリデンイミン0.02モルのトル
エン10m溶液に、20°で40分間に滴下する。反
応混合物を2時間攪拌すると、N−(1−メトキシ−2
−プロピル)−2,4−ジメチル−3−アミノチオフエン
の塩酸塩が得られる。次いで、クロロアセチルクロリド
0.02モルのトルエン5m溶液を加える。混合物を1時
間加熱還流するとHCが揮散する。標記化合物は、シ
クロヘキサン/酢酸エチル(8:2)でシリカゲル・カ
ラムクロマトグラフイーに付すことにより、bp148
−150°/0.03トルで得られる。
トキシ−2−プロピル)クロロアセトアミド a)式(II)の化合物の塩の使用 トルエン5mに入れたチオニルクロリド0.02モルを、
N−(1−メトキシ−2−プロピル)−2,4−ジメチル
テトラヒドロ−3−チエニリデンイミン0.02モルのトル
エン10m溶液に、20°で40分間に滴下する。反
応混合物を2時間攪拌すると、N−(1−メトキシ−2
−プロピル)−2,4−ジメチル−3−アミノチオフエン
の塩酸塩が得られる。次いで、クロロアセチルクロリド
0.02モルのトルエン5m溶液を加える。混合物を1時
間加熱還流するとHCが揮散する。標記化合物は、シ
クロヘキサン/酢酸エチル(8:2)でシリカゲル・カ
ラムクロマトグラフイーに付すことにより、bp148
−150°/0.03トルで得られる。
b)式(II)の化合物の塩基の使用 N−(1−メチル−2−メトキシエチル)−2,4−ジメ
チル−3−アミノチオフエン315g(1.58モル)のCH
2C21500m液およびK2CO3240g(1.75モル)のH
2O溶液250mに、室温で激しく攪拌しながら、ク
ロロアセチルクロリド200g(1.77モル)を滴下す
る。室温で半時間反応後、有機層を分離、水洗(2×2
00m)、Na2SO4乾燥および蒸発濃縮する。
チル−3−アミノチオフエン315g(1.58モル)のCH
2C21500m液およびK2CO3240g(1.75モル)のH
2O溶液250mに、室温で激しく攪拌しながら、ク
ロロアセチルクロリド200g(1.77モル)を滴下す
る。室温で半時間反応後、有機層を分離、水洗(2×2
00m)、Na2SO4乾燥および蒸発濃縮する。
標記化合物は、ヘキサン/ジエチルエーテル(85:1
5)でシリカゲル・カラムクロマトグラフイーに付すこ
とにより得られる。Rf=0.3(シリカゲル、ジエチル
エーテル/ヘキサン=2:1)、bp148−150°
/0.03トル。
5)でシリカゲル・カラムクロマトグラフイーに付すこ
とにより得られる。Rf=0.3(シリカゲル、ジエチル
エーテル/ヘキサン=2:1)、bp148−150°
/0.03トル。
実施例6 2,4−ジメチルテトラヒドロチオフエン−3−オン(2,5
−ジメチル−3−チアアジピン酸の閉環。
−ジメチル−3−チアアジピン酸の閉環。
a)Fe末による 2,5−ジメチル−3−チアアジピン酸100部を、鉄粉
7.5部と180−220°に加熱する。得られた蒸留物
をCH2C2に溶かし、飽和NaHCO3水溶液で洗浄し、Na2S
O4で乾燥する。標記化合物は、2トル、39−40℃で
留出する。
7.5部と180−220°に加熱する。得られた蒸留物
をCH2C2に溶かし、飽和NaHCO3水溶液で洗浄し、Na2S
O4で乾燥する。標記化合物は、2トル、39−40℃で
留出する。
b)Ba(OH)2による 2,5−ジメチル−3−チアアジピン酸0.94モルおよびBa
(OH)210gを、蒸留フラスコ中230−250°で攪
拌下に24時間加熱する。留出物をジエチルエーテルで
抽出し、エーテル溶液を乾燥(MgSO4)し、2トル、bp
39−40℃で減圧蒸留する。
(OH)210gを、蒸留フラスコ中230−250°で攪
拌下に24時間加熱する。留出物をジエチルエーテルで
抽出し、エーテル溶液を乾燥(MgSO4)し、2トル、bp
39−40℃で減圧蒸留する。
c)無水酢酸による 2,5−ジメチル−3−チアアジピン酸0.5モル、無水酢酸
300mおよびLiC4gを、120°で6時間加熱
する。粗製混合物を氷に注ぎ、濃H2SO410cm3を加え
る。混合物を一夜攪拌し、氷片で冷却下濃NaOH溶液でア
ルカリ性にし、ジエチルエーテルで数回抽出する。エー
テル層を水洗、MgSO4乾燥、蒸発濃縮する。残渣をビグ
ルー管で蒸留し、20トル、bp81−88°の標記化
合物を得る。
300mおよびLiC4gを、120°で6時間加熱
する。粗製混合物を氷に注ぎ、濃H2SO410cm3を加え
る。混合物を一夜攪拌し、氷片で冷却下濃NaOH溶液でア
ルカリ性にし、ジエチルエーテルで数回抽出する。エー
テル層を水洗、MgSO4乾燥、蒸発濃縮する。残渣をビグ
ルー管で蒸留し、20トル、bp81−88°の標記化
合物を得る。
実施例7 2,5−ジメチル−3−チアアジピン酸。
NaOH320g(8モル)の水1300m溶液に、チオ
ール酢酸424g(4モル)を15分間に加える。発熱
反応(35°)の鎮静後、メタクリル酸344g(4モ
ル)を加え、反応混合物を80°で18時間攪拌する。
ール酢酸424g(4モル)を15分間に加える。発熱
反応(35°)の鎮静後、メタクリル酸344g(4モ
ル)を加え、反応混合物を80°で18時間攪拌する。
混合物を50°に冷却し、氷3kgと濃CH750mの
混合物に注ぎ、CH2C21000mで4回抽出する。
CH2C2抽出液をNa2SO4で乾燥し、有機層をロータリー
フラツシユ蒸発で濃縮して、標記化合物をmp78−80
°の無色結晶として得る。
混合物に注ぎ、CH2C21000mで4回抽出する。
CH2C2抽出液をNa2SO4で乾燥し、有機層をロータリー
フラツシユ蒸発で濃縮して、標記化合物をmp78−80
°の無色結晶として得る。
実施例8 2,5−ジメチルテトラヒドロチオフエン−3−オン。
a)第3級アミンによる チオール酢酸0.2モルおよびメタクリル酸0.2モルの混合
物に、トリブチルアミン0.2モルを滴下すると、反応温
度が60°に上昇する。次いで、反応混合物を150−
160°に1時間加熱した後210−220°に加熱す
る。この条件下で、標記化合物、水およびトリブチルア
ミンの混合物が150−170°以上で留出し、これを
酢酸エチルに溶かし、水で希釈し、10%HCで中和す
る。有機層を2N−NaOHで抽出し、中性になるまで
洗浄し、乾燥、蒸発濃縮する。残渣を15トルで蒸留し、
bp範囲70−73°で標記化合物を得る。
物に、トリブチルアミン0.2モルを滴下すると、反応温
度が60°に上昇する。次いで、反応混合物を150−
160°に1時間加熱した後210−220°に加熱す
る。この条件下で、標記化合物、水およびトリブチルア
ミンの混合物が150−170°以上で留出し、これを
酢酸エチルに溶かし、水で希釈し、10%HCで中和す
る。有機層を2N−NaOHで抽出し、中性になるまで
洗浄し、乾燥、蒸発濃縮する。残渣を15トルで蒸留し、
bp範囲70−73°で標記化合物を得る。
b)Fe(II)酢酸塩による チオール酢酸85.9g、メタクリル酸70.0gおよび酢酸鉄
0.8gの混合物を攪拌し150−160°に1時間加熱
する。さらに酢酸鉄0.8gを加え、温度を200−21
0℃に2時間上昇させて、留出物103.9gを得る。これ
をシクロヘキサン200mに溶かし、水酸化ナトリウ
ムでアルカリ性にし、分液漏斗で分液する。水層をシク
ロヘキサン100mで抽出する。有機層を合わせ、水
洗、MgSO4乾燥および15トルで濃縮して標記化合物を
得る。
0.8gの混合物を攪拌し150−160°に1時間加熱
する。さらに酢酸鉄0.8gを加え、温度を200−21
0℃に2時間上昇させて、留出物103.9gを得る。これ
をシクロヘキサン200mに溶かし、水酸化ナトリウ
ムでアルカリ性にし、分液漏斗で分液する。水層をシク
ロヘキサン100mで抽出する。有機層を合わせ、水
洗、MgSO4乾燥および15トルで濃縮して標記化合物を
得る。
水層を塩酸で酸性にし、メチレンクロリドで抽出する。
抽出液を水洗、MgSO4乾燥および15トルで濃縮して、
メタクリル酸とチオール酢酸の2:1混合物を得る。
抽出液を水洗、MgSO4乾燥および15トルで濃縮して、
メタクリル酸とチオール酢酸の2:1混合物を得る。
実施例9 N−(1−メトキシ−2−プロピル)−2,4−ジメチル
−3−アミノチオフエン。
−3−アミノチオフエン。
N−(1−メトキシ−2−プロピル)−2,4−ジメチル
テトラヒドロ−3−チエニリデンイミン2g(0.01モ
ル)の4塩化炭素3g溶液を、酸素雰囲気中室温で1時
間攪拌する。酸素200mが消費される。溶液のNM
Rスペクトルは芳香族プロトンのシグナルを示さない。
生成物をバルブ管中0.2トル、気温150−180°で
蒸留して標記化合物を得る。
テトラヒドロ−3−チエニリデンイミン2g(0.01モ
ル)の4塩化炭素3g溶液を、酸素雰囲気中室温で1時
間攪拌する。酸素200mが消費される。溶液のNM
Rスペクトルは芳香族プロトンのシグナルを示さない。
生成物をバルブ管中0.2トル、気温150−180°で
蒸留して標記化合物を得る。
Claims (7)
- 【請求項1】式(I) 〔式中、RはC1-4アルコキシC2-4アルキル(ここで、
C1-4アルコキシ基はRが結合するN原子から少なくと
も2個のC原子により隔てられている)、R2およびR4
はそれぞれ独立してCH3またはC2H5、R5はHまたは
CH3を意味する〕 で示される化合物を製造するにあたり、式(IV) 〔式中、R2、R4およびR5は前記の意味〕 で示される化合物と式V H2N−R V 〔式中、Rは前記の前味〕 で示される化合物を反応させることを特徴とする方法。 - 【請求項2】式(I) 〔式中、RはC1-4アルコキシC2-4アルキル(ここで、
C1-4アルコキシ基はRが結合するN原子から少なくと
も2個のC原子により隔てられている)、R2およびR4
はそれぞれ独立してCH3またはC2H5、R5はHまたは
CH3を意味する〕 で示される化合物を製造するにあたり、式(IV) HO−CO−CH(R2)−S−CH(R5)−CH(R
4)COOH VI 〔式中、R2、R4およびR5は前記の意味〕 で示される化合物を閉環し、得られた式(IV) 〔式中、R2、R4およびR5は前記の意味〕 で示される化合物と式V H2N−R V 〔式中、Rは前記の意味〕 で示される化合物を反応させることを特徴とする方法。 - 【請求項3】式(I) 〔式中、RはC1-4アルコキシC2-4アルキル(ここで、
C1-4アルコキシ基はRが結合するN原子から少なくと
も2個のC原子により隔てられている)、R2およびR4
はそれぞれ独立してCH3またはC2H5、R5はHまたは
CH3を意味する〕で示される化合物を製造するにあた
り、式(VII) HO−CO−CH(R2)SH VII 〔式中、R2は前記の意味〕 で示される化合物を式(VIII) R5−CH=C(R4)COOH VIII 〔式中、R4およびR5は前記の意味〕 で示される化合物へ付加し、得られた式(VI) HO−CO−CH(R2)−S−CH(R5)−CH(R
4)COOH VI 〔式中、R2、4およびR5は前記の意味〕 で示される化合物を閉環し、得られた式(IV) 〔式中、R2、4およびR5は前記の意味〕 で示される化合物と式V H2N−R V 〔式中、Rは前記の意味〕 で示される化合物を反応させることを特徴とする方法。 - 【請求項4】化合物VIの閉環を第3級アミンまたはF
e、Ni(II)またはCo(II)の存在下で行う、請求項2
記載の方法。 - 【請求項5】化合物VIIの化合物VIIIへの付加および化
合物VIの閉環を第3級アミンまたはFe、Ni(II)また
はCo(II)の存在下で行う、請求項3記載の方法。 - 【請求項6】式(I) 〔式中、RはC1-4アルコキシC2-4アルキル(ここで、
C1-4アルコキシ基はRが結合するN原子から少なくと
も2個のC原子により隔てられている)、R2およびR4
はそれぞれ独立してCH3またはC2H5、R5はHまたは
CH3を意味する〕 で示される化合物。 - 【請求項7】Rが1−メトキシ−プロパ−2−イル、R
2がCH3、R4がCH3およびR5が水素である、請求項
6記載の化合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH6760/83A CH657129A5 (en) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | Process for preparing N-thienylchloroacetamides |
| EP85810348A EP0210320B1 (en) | 1983-12-20 | 1985-07-29 | Process for the preparation of n-thienyl-chloroacetamides |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6239584A JPS6239584A (ja) | 1987-02-20 |
| JPH0657705B2 true JPH0657705B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=25700133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60178461A Expired - Lifetime JPH0657705B2 (ja) | 1983-12-20 | 1985-08-12 | N−チエニルクロロアセトアミド類の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0210320B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0657705B2 (ja) |
| AT (1) | ATE43340T1 (ja) |
| CH (1) | CH657129A5 (ja) |
| DE (1) | DE3570433D1 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8714005D0 (en) * | 1987-06-16 | 1987-07-22 | Sandoz Ltd | Organic compounds |
| EP0298542B1 (en) * | 1987-07-07 | 1990-12-12 | Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. | Process for preparing thiophene derivatives |
| ATE132865T1 (de) * | 1988-04-22 | 1996-01-15 | Byk Gulden Lomberg Chem Fab | 3-anilino-2-hydroxycarbonyl-4-thiophenessigsäur n |
| EP0338493B1 (de) * | 1988-04-22 | 1996-10-16 | Byk Gulden Lomberg Chemische Fabrik GmbH | Tetrahydro-4-phenylimino-3-thiophenessigsäuren |
| DE10307751A1 (de) | 2003-02-14 | 2004-08-26 | Basf Ag | Neue kristalline Modifikation des Anhydrates von Boscalid |
| CN102014629B (zh) | 2008-04-29 | 2016-02-10 | 巴斯夫欧洲公司 | 除草剂混合物 |
| IL319231A (en) | 2022-09-07 | 2025-04-01 | Adama Agan Ltd | Process for preparing dimethanamide |
| CN119264101A (zh) | 2023-07-05 | 2025-01-07 | 安道麦阿甘有限公司 | 用于制备噻吩酮的方法 |
| CN119371299A (zh) | 2023-07-25 | 2025-01-28 | 安道麦阿甘有限公司 | 用于制备β-羟基酮的方法 |
| CN119371398A (zh) | 2023-07-25 | 2025-01-28 | 安道麦阿甘有限公司 | 用于制备噻吩酮的新路线 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH227975A (de) * | 1942-05-05 | 1943-07-31 | Hoffmann La Roche | Verfahren zur Darstellung von Thiophan-3-on. |
| US4411925A (en) * | 1980-01-21 | 1983-10-25 | Pfizer Inc. | Branched amides of L-aspartyl-d-amino acid dipeptides |
| GB2122185A (en) * | 1982-06-24 | 1984-01-11 | Kodak Ltd | Process for the preparation of alkyl-3-oxotetrahydrothiophene- carboxylates |
| DE3318775A1 (de) * | 1983-05-24 | 1984-11-29 | Cassella Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von tetrahydro-thiophen-3-on |
-
1983
- 1983-12-20 CH CH6760/83A patent/CH657129A5/de not_active IP Right Cessation
-
1985
- 1985-07-29 DE DE8585810348T patent/DE3570433D1/de not_active Expired
- 1985-07-29 EP EP85810348A patent/EP0210320B1/en not_active Expired
- 1985-07-29 AT AT85810348T patent/ATE43340T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-08-12 JP JP60178461A patent/JPH0657705B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CH657129A5 (en) | 1986-08-15 |
| DE3570433D1 (en) | 1989-06-29 |
| ATE43340T1 (de) | 1989-06-15 |
| JPS6239584A (ja) | 1987-02-20 |
| EP0210320B1 (en) | 1989-05-24 |
| EP0210320A1 (en) | 1987-02-04 |
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