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JPH0671133B2 - Method for forming solder layer on printed wiring board - Google Patents
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JPH0671133B2 - Method for forming solder layer on printed wiring board - Google Patents

Method for forming solder layer on printed wiring board

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JPH0671133B2
JPH0671133B2 JP63020021A JP2002188A JPH0671133B2 JP H0671133 B2 JPH0671133 B2 JP H0671133B2 JP 63020021 A JP63020021 A JP 63020021A JP 2002188 A JP2002188 A JP 2002188A JP H0671133 B2 JPH0671133 B2 JP H0671133B2
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plating
resist
conductor circuit
chemical plating
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直裕 野村
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Ibiden Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、プリント配線板に形成した導体回路に対し
て、表面実装部品等の電子部品を実装する場合に使用さ
れる半田層の形成方法に関するものである。
The present invention relates to a method for forming a solder layer used when mounting an electronic component such as a surface mount component on a conductor circuit formed on a printed wiring board. It is about.

(従来の技術) 表面実装部品等の電子部品を、プリント配線板に形成し
た導体回路上に実装する場合、この導体回路の所定箇所
表面に形成した半田層が利用される。この半田層は、そ
の上に電子部品の接続端子を載置して、そのまま加熱溶
融させることにより、電子部品の実装を非常に簡単に行
えるようにするものである。
(Prior Art) When an electronic component such as a surface mount component is mounted on a conductor circuit formed on a printed wiring board, a solder layer formed on the surface of a predetermined portion of the conductor circuit is used. This solder layer makes it possible to mount the electronic component very easily by mounting the connection terminal of the electronic component on the solder layer and heating and melting it.

従来、この種の半田層を形成する方法としては、次の二
つの方法が代表的なものである。
Conventionally, the following two methods are typical as methods for forming this type of solder layer.

第一の方法は、第5図の(イ)〜(ハ)にて示すよう
に、まず基板上に形成した導体回路に対して、半田層の
必要な箇所を除いてソルダーレジストを形成する
(イ)。その後、露出している導体回路に対して、半田
ペーストを印刷する(ロ)。このように印刷した半田ペ
ーストを加熱して、所定の表面形状とする(ハ)。な
お、半田ペーストの印刷に代えて、プリント配線板を溶
融半田中に浸漬する方法も採用される。
In the first method, as shown in (a) to (c) of FIG. 5, first, a solder resist is formed on a conductor circuit formed on a substrate except a necessary portion of a solder layer ( I). Then, solder paste is printed on the exposed conductor circuit (b). The solder paste printed in this way is heated to form a predetermined surface shape (C). Instead of printing the solder paste, a method of immersing the printed wiring board in the molten solder is also used.

また、第二の方法は、第6図及び第7図に示すように、
基板上の導体回路と電気的に一体のメッキ用リードを使
用するものである。すなわち、この方法は半田によるメ
ッキを行って、所定箇所に半田層を形成するのである
が、そのためには導体回路の所定箇所に通電するため、
導体回路と電気的に一体のメッキ用リードを形成しなけ
ればならないのである。具体的には、基板上に導体回路
を形成するに先立って、第6図に示すように、半田層を
形成すべき導体回路全てについてメッキ用リードに接続
するように導体パターンを配設し、これに従って各導体
回路(パッドである場合が多い)が第6図に示したよう
に形成されるのである。そして、第7図に示したよう
に、半田層を形成すべき箇所のみを露出すべく、メッキ
レジストを形成し、メッキ用リードの電流供給部分から
電気を供給しながら半田メッキを行うのである。この半
田メッキの完了後、メッキレジストを除去して一般に銅
によって形成されている導体回路を露出させ、この導体
回路を形成している銅と半田の選択エッチングにより、
あるいは外形加工によって、所定のリードカットを行う
のである。なお、メッキ用リードは製品には全く不要な
部分であるので、所定の処理の後、第6図の点線で示し
た箇所にて外形加工を行なうことによりカットされる。
The second method is as shown in FIGS. 6 and 7,
It uses a plating lead electrically integrated with the conductor circuit on the substrate. That is, in this method, plating with solder is performed to form a solder layer at a predetermined location, but for that purpose, a predetermined location of the conductor circuit is energized.
It is necessary to form the plating lead electrically integrated with the conductor circuit. Specifically, prior to forming the conductor circuit on the substrate, as shown in FIG. 6, a conductor pattern is arranged so as to be connected to the plating leads for all the conductor circuits on which the solder layer is to be formed, Accordingly, each conductor circuit (often a pad) is formed as shown in FIG. Then, as shown in FIG. 7, a plating resist is formed so as to expose only the portion where the solder layer is to be formed, and solder plating is performed while supplying electricity from the current supply portion of the plating lead. After completion of this solder plating, the plating resist is removed to expose the conductor circuit generally formed of copper, and the selective etching of copper and solder forming this conductor circuit is performed.
Alternatively, a predetermined lead cut is performed by external processing. Since the lead for plating is a completely unnecessary part in the product, it is cut by performing an outer shape process at a position shown by a dotted line in FIG. 6 after a predetermined process.

ところで、近年プリント配線板において、それがどのよ
うな形式のものであっても、電子部品自体の高密度化に
伴って、その上に形成される導体回路も高密度化する必
要が生じてきている。このことは半田層が形成されるよ
うなプリント配線板においても例外ではなく、各導体回
路間の間隔は増々小さくなってきているのが実状であ
る。このような実状の下で半田層を形成しようとすると
き、上記した二つの方法にはそれぞれ解決されなければ
ならない問題が含まれていることになる。
By the way, in recent years, it has become necessary to densify a conductor circuit formed on a printed wiring board, regardless of the type of the printed wiring board, as the electronic components themselves are densified. There is. This is not an exception even in a printed wiring board in which a solder layer is formed, and in reality, the distance between the conductor circuits is becoming smaller and smaller. When attempting to form a solder layer under such an actual condition, the above two methods include problems that must be solved respectively.

第一の従来の方法において生ずる問題は、高密度化され
た導体回路に対する半田層の形成を正確に行うことが困
難になることである。すなわち、半田ペーストを使用す
る第5図に示した代表例の場合にあっては、半田ペース
トを印刷するに際して各導体回路とソルダーレジスト間
に存在する空間部分に、第5図の(ロ)に示したよう
に、気泡が残留することになる場合が多い。このように
気泡が残留していると、第5図の(ハ)に示したよう
に、半田ペーストを加熱した場合に半田が空間部分内に
入り込み、導体回路上の半田の量が少なくなって電子部
品を実装する場合に半田の量が不足することになり勝ち
である。これを避けるために、半田ペーストの量を多く
すると、メッキレジストを挟んで左右に位置している半
田ペーストが印刷時あるいは溶融時に互いに接触してし
まうことにもなり得る。このことは、導体回路が高密度
になればなる程顕著となるのである。
The problem that occurs in the first conventional method is that it is difficult to accurately form a solder layer on a densified conductor circuit. That is, in the case of the representative example shown in FIG. 5 in which the solder paste is used, in the space portion existing between each conductor circuit and the solder resist when the solder paste is printed, as shown in (b) of FIG. As shown, air bubbles are often left behind. If air bubbles remain in this way, as shown in FIG. 5C, when the solder paste is heated, the solder enters the space and the amount of solder on the conductor circuit decreases. When mounting electronic parts, the amount of solder tends to be insufficient, which is prone to occur. If the amount of the solder paste is increased in order to avoid this, the solder pastes located on the left and right with the plating resist in between may contact each other during printing or melting. This becomes more remarkable as the density of the conductor circuit becomes higher.

第二の従来の方法において生ずる問題は、メッキ用リー
ドを導体パターンで形成しなければならず、しかも各パ
ッドとメッキ用リードとを別の導体パターンで接続して
おかなければならないことから、導体回路の形成が非常
に制限されるということである。すなわち、この第二の
方法を採用しようとすると、導体回路の十分な高密度化
を達成することが困難となるのである。
The problem that occurs in the second conventional method is that the plating lead must be formed with a conductor pattern, and that each pad and the plating lead must be connected with different conductor patterns. The formation of circuits is very limited. That is, if the second method is adopted, it is difficult to achieve a sufficient density of the conductor circuit.

(発明が解決しようとする課題) そこで、本発明の発明者は、上記従来の方法では、部品
実装を行う場合に必要な半田層を形成する場合に、導体
回路の高密度化を十分達成することができないというこ
とに着目して鋭意研究を重ねてきたのである。
(Problems to be Solved by the Invention) Therefore, the inventor of the present invention sufficiently achieves a high density of the conductor circuit in the above-described conventional method when the solder layer necessary for mounting components is formed. I have been devoting myself to the research that I cannot do it.

その結果、メッキレジストを形成する前に化学メッキを
全面に施し、この化学メッキをメッキ用リードとするこ
とにより、従来方法で採用されていた導体パターンによ
るメッキ用リードを不要とする方法が良い結果を生むこ
とを新規に知見し、本発明を完成したのである。
As a result, a good result is that chemical plating is applied to the entire surface before forming the plating resist, and this chemical plating is used as a plating lead, which eliminates the need for a plating lead with a conductor pattern that has been adopted in the conventional method. The present invention has been completed by newly discovering that

本発明は以上のような経緯に基づいてなされたもので、
その目的とするところは、電子部品を実装するに際して
使用される半田層を、プリント配線板上の導体回路の高
密度化に悪影響を及ぼすことなく、確実かつ容易に形成
することのできる方法を提供することにある。
The present invention has been made based on the above circumstances,
The purpose is to provide a method capable of reliably and easily forming a solder layer used for mounting an electronic component without adversely affecting the high density of a conductor circuit on a printed wiring board. To do.

(課題を解決するための手段及び作用) 以上述べた課題を解決するために、本発明が採った手段
は、実施例に対応する第1図〜第4図を参照して説明す
ると次の通りである。すなわち、「プリント配線板(1
0)上の導体回路(12)に対して、部品を実装する半田
層(16)を次の(a)〜(f)の各工程を経て形成する
方法。
(Means and Actions for Solving the Problems) In order to solve the problems described above, the means adopted by the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4 corresponding to the embodiments. Is. That is, "printed wiring board (1
0) A method of forming a solder layer (16) for mounting a component on the conductor circuit (12) above through the following steps (a) to (f).

(a)基板(11)上に形成した導体回路(12)間及び導
体回路(12)の必要部分にソルダーレジスト(13)形成
して、導体回路(12)の半田層(16)が形成されるべき
部分のみを露出させる工程; (b)ソルダーレジスト(13)の表面、及びこのソルダ
ーレジスト(13)間から露出している導体回路(12)の
表面に化学メッキ(14)を施す工程; (c)化学メッキ(14)が施されたソルダーレジスト
(13)上にメッキレジスト(15)を形成する工程; (d)、(b)工程で形成した化学メッキ(14)層をメ
ッキ用リードとして、メッキレジスト(15)から露出し
ている化学メッキ(14)層の表面に電解半田メッキを行
う工程; (e)、(c)工程で形成したメッキレジスト(15)を
除去する工程; (f)、(e)工程によって露出した化学メッキ(14)
層を除去する工程」 である。
(A) A solder resist (13) is formed between the conductor circuits (12) formed on the substrate (11) and in a necessary portion of the conductor circuit (12) to form a solder layer (16) of the conductor circuit (12). A step of exposing only the portion to be exposed; (b) a step of subjecting the surface of the solder resist (13) and the surface of the conductor circuit (12) exposed between the solder resist (13) to a chemical plating (14); (C) A step of forming a plating resist (15) on the solder resist (13) which has been subjected to the chemical plating (14); the chemical plating (14) layer formed in the steps (d) and (b) is a lead for plating. As a step of performing electrolytic solder plating on the surface of the chemical plating (14) layer exposed from the plating resist (15); a step of removing the plating resist (15) formed in steps (e) and (c); Chemical plating (14) exposed in steps f) and (e)
The step of removing the layer ".

次に、この手段の各工程について、その注意点を加味し
ながら詳述する。
Next, each step of this means will be described in detail with consideration for the points.

まず、基板(11)上に導体回路(12)を形成するのであ
るが、これらの導体回路(12)の内には第2図の図示右
側に示した導体回路(12)のように、単独に独立してい
るものが存在していてもよい。つまり、最終製品におい
て独立している導体回路(12)については、最初から独
立した状態で形成しておいてもよいのである。
First, the conductor circuit (12) is formed on the substrate (11). Among these conductor circuits (12), the conductor circuit (12) shown on the right side of FIG. There may be independent ones. That is, the independent conductor circuit (12) in the final product may be formed in an independent state from the beginning.

(a)以上のように基板(11)上に各導体回路(12)を
形成した後に、その上に、後述の半田層、すなわちメッ
キ半田(16)を形成すべき部分を露出させるようにし
て、ソルダーレジスト(13)を形成するのである。この
ソルダーレジスト(13)の表面は次の工程における化学
メッキ(14)の付着を良好にするために、粗化すること
が望ましい。また、このソルダーレジスト(13)の厚み
は、これらの間にメッキ半田(16)を形成し、このメッ
キ半田(16)が溶融によって他の場所に流れ出ないよう
にするために、導体回路(12)よりも厚くするのが望ま
しい。
(A) After each conductor circuit (12) is formed on the substrate (11) as described above, a solder layer described later, that is, a portion where a plated solder (16) is to be formed is exposed on the conductor circuit (12). , The solder resist (13) is formed. The surface of the solder resist (13) is preferably roughened in order to improve the adhesion of the chemical plating (14) in the next step. In addition, the thickness of the solder resist (13) is such that the plated solder (16) is formed between them so that the plated solder (16) does not flow out to another place due to melting. ) Is preferable.

(b)工程にあっては、各導体回路(12)及びソルダー
レジスト(13)の表面に化学メッキ(14)を形成するの
である。この化学メッキ(14)としては主として銅を材
料とするものが採用され、その厚さは、0.3μm〜30μ
m程度とするのがよく、中でも3μm〜30μmの厚さに
するのが好ましが、その理由について以下に詳述する。
In the step (b), the chemical plating (14) is formed on the surface of each conductor circuit (12) and the solder resist (13). As the chemical plating (14), a material mainly made of copper is adopted, and its thickness is 0.3 μm to 30 μm.
The thickness is preferably about m, and it is particularly preferable that the thickness is 3 μm to 30 μm. The reason will be described in detail below.

まず、この化学メッキ(14)は、後の工程(d)で、こ
れに通電してメッキ半田(16)を形成するための所謂メ
ッキ用リードとするものであるから、0.3μmよりも薄
くすると、その通電時の抵抗が大きくなってメッキ半田
(16)の形成を良好な条件で行なうことが困難となるか
らである。
First, the chemical plating (14) is a so-called plating lead for forming a plating solder (16) by energizing the chemical plating (14) in the subsequent step (d). This is because the resistance during energization becomes large and it becomes difficult to form the plated solder (16) under favorable conditions.

また、この方法で製造されたプリント配線板(第1図
(f)参照)に電子部品を実装する際には前述の如くメ
ッキ半田(16)を溶融させるが、この工程(b)におい
てメッキ用リードとなる化学メッキ(14)の材料として
銅を使用した場合、銅はメッキ半田(16)の溶融時にメ
ッキ半田(16)内にある程度拡散するものである。従っ
て、この化学メッキ(14)が例えば0.3μm〜3μmと
薄い場合には、最終的に形成されたメッキ半田(16)を
溶融した後において、第3図に示すようにソルダーレジ
スト(13)側に形成してあった化学メッキ(14)の殆ど
がメッキ半田(16)内に拡散して残らない状態となる。
このため、メッキ半田(16)を溶融した場合には、その
直下に位置する導体回路(12)に対してのみこの溶融し
たメッキ半田(16)は付着することになる。
Also, when mounting electronic components on a printed wiring board manufactured by this method (see FIG. 1 (f)), the plating solder (16) is melted as described above. When copper is used as the material of the chemical plating (14) to be the lead, the copper diffuses to some extent in the plating solder (16) when the plating solder (16) is melted. Therefore, when the chemical plating (14) is thin, for example, 0.3 μm to 3 μm, after the finally formed plating solder (16) is melted, as shown in FIG. 3, the solder resist (13) side is formed. Almost all of the chemical plating (14) formed on the surface is diffused and does not remain in the plated solder (16).
Therefore, when the plated solder (16) is melted, the molten plated solder (16) adheres only to the conductor circuit (12) located immediately below.

これに対して、化学メッキ(14)が3μm以上の厚さを
有している場合には、この化学メッキ(14)はメッキ半
田(16)内に全て拡散するのではなく、その一部が第4
図に示すようにソルダーレジスト(13)側に残留するこ
とになる。このため、メッキ半田(16)を溶融した時に
は、このメッキ半田(16)はその直下の導体回路(12)
に対しては勿論、ソルダーレジスト(13)側の化学メッ
キ(14)に対してもその表面張力により付着することに
なる。
On the other hand, when the chemical plating (14) has a thickness of 3 μm or more, the chemical plating (14) does not entirely diffuse into the plating solder (16) but a part of the chemical plating (14) diffuses. Fourth
As shown in the figure, it remains on the solder resist (13) side. For this reason, when the plating solder (16) is melted, the plating solder (16) is directly below the conductor circuit (12).
Of course, due to the surface tension of the solder resist (13), it also adheres to the chemical plating (14).

このことは、メッキ半田(16)によって一旦接続した電
子部品をこのメッキ半田(16)を再溶融させて交換する
場合に大きな差となる。すなわち、化学メッキ(14)の
厚さが薄い場合には、再溶融したメッキ半田(16)の殆
どが、取り外される電子部品の端子側に付着して、導体
回路(12)上には殆ど残らないが、化学メッキ(14)の
厚さが厚い場合には、化学メッキ(14)とメッキ半田
(16)との接触面積が大きいため、再溶融したメッキ半
田(16)は導体回路(12)上側に多く残るので、別の新
しい電子部品の実装は十分なメッキ半田(16)が残留し
ているため確実に行なうことができるのである。
This is a big difference when the electronic component once connected by the plating solder (16) is replaced by remelting the plating solder (16). That is, when the thickness of the chemical plating (14) is thin, most of the remelted plating solder (16) adheres to the terminal side of the electronic component to be removed and almost remains on the conductor circuit (12). However, when the thickness of the chemical plating (14) is large, the contact area between the chemical plating (14) and the plating solder (16) is large, so that the remelted plating solder (16) is a conductor circuit (12). Since much remains on the upper side, another new electronic component can be reliably mounted because there is sufficient plated solder (16) remaining.

以上のことから、この工程(b)で行う化学メッキ(1
4)の厚さは0.3μm〜30μmとするのがよいが、電子部
品の交換ということを考慮すると、その厚さは3μm〜
30μmとしておくのがより好ましいのである。この場
合、前記化学メッキ(14)をメッキ用リードとして、化
学メッキ成分と同じ金属層を電解メッキにより形成し、
前記厚みを調整することも可能である。
From the above, the chemical plating (1
The thickness of 4) should be 0.3 μm to 30 μm, but considering the exchange of electronic parts, the thickness should be 3 μm to 30 μm.
It is more preferable to set it to 30 μm. In this case, the chemical plating (14) is used as a plating lead, and the same metal layer as the chemical plating component is formed by electrolytic plating,
It is also possible to adjust the thickness.

(c)前述したように形成した化学メッキ(14)上に、
ソルダーレジスト(13)から露出している各導体回路
(12)上以外の部分にメッキレジスト(15)を形成す
る。つまり、化学メッキ(14)が施されたソルダーレジ
スト(13)上にメッキレジスト(15)を形成するのであ
る。勿論、このメッキレジスト(15)は、必要以外の部
分にメッキを施さないようにするものであり、メッキ半
田(16)に対してレジストとなり得るものが使用され
る。また、このメッキレジスト(15)としては、シート
状に形成した感光性のものを使用して、所望箇所を露光
して現像することにより形成される。
(C) On the chemical plating (14) formed as described above,
A plating resist (15) is formed on a portion other than on each conductor circuit (12) exposed from the solder resist (13). That is, the plating resist (15) is formed on the solder resist (13) which has been subjected to the chemical plating (14). As a matter of course, the plating resist (15) is intended to prevent plating of an unnecessary portion, and a resist that can serve as a resist for the plating solder (16) is used. Further, as the plating resist (15), a sheet-shaped photosensitive material is used, and it is formed by exposing and developing a desired portion.

なお、このようにメッキレジスト(15)を形成した場合
に、その表面をみれば、メッキ半田(16)を形成すべき
とろこには化学メッキ(14)が露出しており、それ以外
はメッキレジスト(15)によって覆われている。また、
露出している部分の各化学メッキ(14)はそれ自体が全
面に残存しているから、これらの各化学メッキ(14)は
電気的に接続された状態にある。
When the plating resist (15) is formed in this manner, the surface of the plating resist (15) reveals the chemical plating (14) on the scale where the plating solder (16) should be formed. Covered by resist (15). Also,
Since each exposed chemical plating (14) itself remains on the entire surface, each chemical plating (14) is in an electrically connected state.

(d)そして、以上のような状態にある化学メッキ(1
4)を使用して、すなわち、第8図にも示すように、化
学メッキ(14)をメッキ用リードとしてメッキ用電流供
給部分より電力を供給して、メッキレジスト(15)間に
露出している化学メッキ(14)上に半田メッキ(16)を
施すのである。つまり、電解半田メッキ法により露出し
ている化学メッキ(14)上にメッキ半田(16)を形成す
るのである。このメッキ半田(16)は、電解半田メッキ
の条件、例えば電流密度・メッキ時間を設定することに
より、所望の半田量を有する半田層として形成すること
ができるのである。
(D) And the chemical plating (1
4), that is, as shown in FIG. 8, the chemical plating (14) is used as a plating lead to supply power from the plating current supply portion to expose between the plating resists (15). The solder plating (16) is applied on the existing chemical plating (14). That is, the plated solder (16) is formed on the exposed chemical plating (14) by the electrolytic solder plating method. The plated solder (16) can be formed as a solder layer having a desired amount of solder by setting the electrolytic solder plating conditions, for example, the current density and the plating time.

(e)メッキ半田(16)の形成が完了すれば、メッキレ
ジスト(15)は不要物となるからこれを除去する。この
メッキレジスト(15)の除去は、一般の剥膜液を使用す
れば十分である。これにより、メッキ半田(16)が形成
された部分以外では化学メッキ(14)が露出するのであ
る。
(E) When the formation of the plated solder (16) is completed, the plating resist (15) becomes unnecessary and is removed. It is sufficient to remove the plating resist (15) by using a general stripping solution. As a result, the chemical plating (14) is exposed except the portion where the plated solder (16) is formed.

(f)最後に、ソルダーレジスト(13)上にて露出して
いる化学メッキ(14)を、エッチングにより除去する。
この化学メッキ(14)の除去は、例えば塩化アンモン水
溶液等のような銅と半田との選択エッチングを行なえる
エッチング液によって行なわれる。
(F) Finally, the chemical plating (14) exposed on the solder resist (13) is removed by etching.
The removal of the chemical plating (14) is performed with an etching solution such as an ammonium chloride aqueous solution which can selectively etch copper and solder.

以上のようにして、メッキ半田(16)が所定箇所に露出
しているとともに、その他の部分はソルダーレジスト
(13)によって保護がなされたプリント配線板(10)と
なるのである。
As described above, the printed solder board (16) is exposed at a predetermined portion, and the other portions become the printed wiring board (10) protected by the solder resist (13).

(実施例) 次に本発明に係る方法を、具体的実施例によって説明す
る。
(Example) Next, the method according to the present invention will be described with reference to specific examples.

まず、ガラス・エポキシ複合体を基板(11)とする片面
銅張積層板に、エッチングレジストをラミネートして、
これを露光・現像後、塩化第二銅溶液により表面の銅箔
をエッチングして所望箇所の銅箔を残すことにより、各
導体回路(12)を形成する。
First, an etching resist is laminated on a single-sided copper clad laminate using the glass / epoxy composite as the substrate (11),
After this is exposed and developed, the copper foil on the surface is etched with a cupric chloride solution to leave the copper foil at a desired position, thereby forming each conductor circuit (12).

次いで、各導体回路(12)上にメッキ半田(16)を形成
すべき部分以外の部分に、ソルダーレジスト(13)とな
るソルダーレジストインクを印刷する。そしてこのソル
ダーレジストインクを熱硬化させて、ソルダーレジスト
(13)を形成するのである(第1図の(a))。
Next, a solder resist ink which will be a solder resist (13) is printed on a portion other than the portion where the plated solder (16) is to be formed on each conductor circuit (12). Then, the solder resist ink is thermally cured to form a solder resist (13) ((a) in FIG. 1).

以上のように形成した各導体回路(12)及びソルダーレ
ジスト(13)上に、化学メッキ(14)を形成する(第1
図の(b))。本実施例にあっては、この化学メッキ
(14)は銅である。
Chemical plating (14) is formed on each conductor circuit (12) and solder resist (13) formed as described above (first).
(B) of the figure). In this embodiment, the chemical plating (14) is copper.

そして、メッキ半田(16)を形成すべき部分を露出させ
る状態となるように、メッキレジスト(15)を形成する
(第1図の(c))。
Then, the plating resist (15) is formed so as to expose the portion where the plated solder (16) is to be formed ((c) in FIG. 1).

以上のようにした基板(11)上の化学メッキ(14)に対
して通電しながら、電解半田メッキを行い、所望箇所に
メッキ半田(16)を形成する(第1図の(d)及び第8
図)。
Electrolytic solder plating is performed while energizing the chemical plating (14) on the substrate (11) as described above to form plating solder (16) at desired locations (see (d) of FIG. 8
Figure).

その後不要となったメッキレジスト(15)を除去して
(第1図の(e))、更に表面に露出している化学メッ
キ(14)をエッチング除去する(第1図の(f))ので
ある。
After that, the unnecessary plating resist (15) is removed ((e) in FIG. 1) and the chemical plating (14) exposed on the surface is removed by etching ((f) in FIG. 1). is there.

(発明の効果) 以上詳述した通り、本発明にあっては、プリント配線板
(10)上の導体回路(12)に対して、部品を実装する半
田層(16)を、 (a)基板(11)上に形成した導体回路(12)間及び導
体回路(12)の必要部分にソルダーレジスト(13)を形
成して、導体回路(12)の半田層(16)が形成されるべ
き部分のみを露出させる工程; (b)ソルダーレジスト(13)の表面、及びこのソルダ
ーレジスト(13)間から露出している導体回路(12)の
表面に化学メッキ(14)を施す工程; (c)化学メッキ(14)が施されたソルダーレジスト
(13)上にメッキレジスト(15)を形成する工程; (d)、(b)工程で形成した化学メッキ(14)層をメ
ッキ用リードとして、メッキレジスト(15)から露出し
ている化学メッキ(14)層の表面に電解半田メッキを行
う工程; (e)、(c)工程で形成したメッキレジスト(15)を
除去する工程; (f)、(e)工程によって露出した化学メッキ(14)
層を除去する工程」 の各工程を経て形成するようにしたので、メッキレジス
トを形成する前に化学メッキを全面に施し、この化学メ
ッキをメッキ用リードとすることにより、従来方法で採
用されていた導体パターンによるメッキ用リードが不要
となり、導体回路の配置設計を自由に行うことが可能と
なるのである。
(Effects of the Invention) As described in detail above, in the present invention, the solder layer (16) for mounting a component is provided on the conductor circuit (12) on the printed wiring board (10), A portion where a solder layer (16) of the conductor circuit (12) is to be formed by forming a solder resist (13) between the conductor circuits (12) formed on (11) and in a necessary portion of the conductor circuit (12). (B) a step of chemical plating (14) on the surface of the solder resist (13) and on the surface of the conductor circuit (12) exposed between the solder resist (13); The step of forming the plating resist (15) on the solder resist (13) which has been subjected to the chemical plating (14); plating using the chemical plating (14) layer formed in the steps (d) and (b) as a plating lead. The surface of the chemical plating (14) layer exposed from the resist (15) is electrolytically soldered. Step of removing the plating resist (15) formed in steps (e) and (c); Chemical plating (14) exposed in steps (f) and (e)
Since it was formed through each step of `` layer removal step '', chemical plating is applied to the entire surface before forming the plating resist, and this chemical plating is used as a lead for plating, which is used in the conventional method. The need for the plating lead by the conductor pattern is eliminated, and the layout of the conductor circuit can be freely designed.

従って、本発明によれば、電子部品を実装するに際して
使用される半田層を、プリント配線板上の導体回路の高
密度化に悪影響を及ぼすことなく、確実かつ容易に形成
することのできる方法を提供することができるのであ
る。
Therefore, according to the present invention, there is provided a method capable of reliably and easily forming a solder layer used for mounting an electronic component without adversely affecting the high density of the conductor circuit on the printed wiring board. Can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図の(a)〜(f)のそれぞれは本発明に係る方法
を段階をおって示した部分拡大断面図、第2図は基板上
に予め形成されるべき各導体回路の態様を示す部分拡大
平面図、第3図はソルダーレジスト上に形成される化学
メッキが比較的薄い場合であって、形成されたメッキ半
田を溶融した場合の状態を示す部分拡大断面図、第4図
は第3図に対応した図であって、ソルダーレジスト上に
形成される化学メッキが比較的厚い場合の部分拡大断面
図である。 第5図〜第7図は従来の方法を示すものであって、第5
図の(イ)〜(ハ)は従来の半田層を形成する第一の方
法を工程順に示した部分拡大断面図、第6図は基板上に
予め形成されるべき各導体回路の態様を示す部分拡大平
面図、第7図は第6図に示したものにソルダーレジスト
を形成した場合の拡大平面図である。 第8図は第1図の(d)の状態の平面図である。 符号の説明 10……プリント配線板、11……基板、12……導体回路、 13……ソルダーレジスト、14……化学メッキ、 15……メッキレジスト、16……メッキ半田(半田層)
Each of (a) to (f) of FIG. 1 is a partially enlarged sectional view showing the method according to the present invention step by step, and FIG. 2 shows an aspect of each conductor circuit to be preformed on a substrate. FIG. 3 is a partially enlarged plan view, FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state where the chemical plating formed on the solder resist is relatively thin, and the formed plating solder is melted, and FIG. It is a figure corresponding to FIG. 3, and is a partial expanded sectional view when the chemical plating formed on a solder resist is comparatively thick. FIGS. 5 to 7 show a conventional method.
(A) to (C) of the drawing are partially enlarged cross-sectional views showing the first method of forming a conventional solder layer in the order of steps, and FIG. 6 shows the mode of each conductor circuit to be preformed on a substrate. FIG. 7 is a partially enlarged plan view, and FIG. 7 is an enlarged plan view when a solder resist is formed on the one shown in FIG. FIG. 8 is a plan view of the state of FIG. Explanation of code 10 …… Printed wiring board, 11 …… Board, 12 …… Conductor circuit, 13 …… Solder resist, 14 …… Chemical plating, 15 …… Plating resist, 16 …… Plating solder (solder layer)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プリント配線板上の導体回路に対して、部
品を実装する半田層を次の(a)〜(f)の各工程を経
て形成するプリント配線板における半田層の形成方法。 (a)基板上に形成した導体回路間及び導体回路の必要
部分にソルダーレジストを形成して、前記導体回路の半
田層が形成されるべき部分のみを露出させる工程; (b)ソルダーレジストの表面、及びこのソルダーレジ
スト間から露出している導体回路の表面に化学メッキを
施す工程; (c)化学メッキが施されたソルダーレジスト上にメッ
キレジストを形成する工程; (d)前記(b)工程で形成した化学メッキ層をメッキ
用リードとして、前記メッキレジストから露出している
化学メッキ層の表面に電解半田メッキを行う工程; (e)前記(c)工程で形成したメッキレジストを除去
する工程; (f)前記(e)工程によって露出した前記化学メッキ
層を除去する工程。
1. A method for forming a solder layer in a printed wiring board, wherein a solder layer for mounting a component is formed on a conductor circuit on the printed wiring board through the following steps (a) to (f). (A) A step of forming a solder resist between the conductor circuits formed on the substrate and in a necessary portion of the conductor circuit to expose only a portion of the conductor circuit where a solder layer is to be formed; (b) Surface of the solder resist And a step of chemically plating the surface of the conductor circuit exposed between the solder resists; (c) a step of forming a plating resist on the chemically plated solder resists; (d) the step (b) A step of performing electrolytic solder plating on the surface of the chemical plating layer exposed from the plating resist by using the chemical plating layer formed in step (a) as a plating lead; (e) a step of removing the plating resist formed in the step (c) (F) a step of removing the chemical plating layer exposed in the step (e).
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