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JPH0675972B2 - Pattern drawing device - Google Patents
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JPH0675972B2 - Pattern drawing device - Google Patents

Pattern drawing device

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JPH0675972B2
JPH0675972B2 JP61144614A JP14461486A JPH0675972B2 JP H0675972 B2 JPH0675972 B2 JP H0675972B2 JP 61144614 A JP61144614 A JP 61144614A JP 14461486 A JP14461486 A JP 14461486A JP H0675972 B2 JPH0675972 B2 JP H0675972B2
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roll
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substrate
cassette
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Abstract

PURPOSE:To describe onto a plurality of photosensitive substrates efficiently, to enable loading and unloading easily and to enable transfer to the next process smoothly, by performing the pattern description while employing a roll substrate cassette containing a description roll substrate wound into a roll film, thereby eliminating the necessity of prealignment for every description. CONSTITUTION:An unexposed description roll substrate 11 formed into a roll film is stored in a roll substrate cassette 12, then said roll substrate cassette 12 is mounted on a unidimensionally movable stage 13. Simultaneously with the motion of said stage 13, the description roll substrate 11 is raster scanned by means of a light spot so as to describe a pattern. When one frame pattern is described, one frame of the description roll substrate 11 is taken up by means of a take-up means 31. Since the prealignment work is required only one time for a single roll substrate cassete 12, the description can be performed quite efficiently.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、光スポットをラスター走査により2次元的に
走査して2次元パターンを描画するパターン描画装置、
特にフレキシブル基板やアートワークフィルム基板の直
接描画に好適なパターン描画装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Object of the Invention (Industrial field of application) The present invention relates to a pattern drawing apparatus for two-dimensionally scanning a light spot by raster scanning to draw a two-dimensional pattern,
Particularly, the present invention relates to a pattern drawing apparatus suitable for direct drawing on a flexible substrate or an artwork film substrate.

(従来の技術) 従来、レーザビームの走査と変調とにより、プリント基
板用アートワークフィルム等の精密パターンを描画する
装置として、第3図に示すようなパターン描画装置が知
られている。レーザー光源1から出たレーザビームが光
変調器2によって強度変調され、ビームエキスパンダ3
によってビーム幅が拡大された後、回転するポリゴンミ
ラー4により反射、偏向され、fθレンズ5により集束
されて反射鏡6を介して、極めて小さい光スポットとな
り、一次元移動ステージ7に載置されたシート状の感光
基板8上に投射される。その投射される光スポットは、
光変調器2の作用によって明滅しながらx方向に直線走
査される。
(Prior Art) Conventionally, a pattern drawing device as shown in FIG. 3 is known as a device for drawing a precise pattern on an artwork film for a printed circuit board by scanning and modulating a laser beam. The laser beam emitted from the laser light source 1 is intensity-modulated by the optical modulator 2, and the beam expander 3
After the beam width is expanded by, it is reflected and deflected by the rotating polygon mirror 4, focused by the fθ lens 5 and becomes an extremely small light spot through the reflecting mirror 6, and is placed on the one-dimensional moving stage 7. It is projected onto the sheet-shaped photosensitive substrate 8. The projected light spot is
Linear scanning is performed in the x direction while blinking by the action of the light modulator 2.

その感光基板8は、送りねじ9および駆動モータMによ
って、光スポットによる主走査方向xと直角なy方向に
架台10上を一次元移動するステージ7上に真空吸着等に
よって固定されている。従って、レーザ光束による極め
て小さい光スポットによって感光基板8はx方向に主走
査され、ステージ7の移動によってy方向に副走査され
て、2次元のパターンがその感光基板8上に描画され
る。
The photosensitive substrate 8 is fixed by a vacuum screw or the like by a feed screw 9 and a drive motor M onto a stage 7 which is one-dimensionally moved on a pedestal 10 in the y direction perpendicular to the main scanning direction x by the light spot. Therefore, the photosensitive substrate 8 is main-scanned in the x direction by an extremely small light spot by the laser light flux, and is sub-scanned in the y-direction by the movement of the stage 7, so that a two-dimensional pattern is drawn on the photosensitive substrate 8.

(発明が解決しようとする問題点) 上記のような構成の従来公知のパターン描画装置におい
ては、ステージ7上に載置される感光基板8はシート状
であって、一枚の感光基板8の描画が終了すると、その
感光基板8をステージから取り除き、あらためて別の未
感光の感光基板と交換される。ところが、その交換の際
には、反射鏡6が感光基板8上に設けられているため、
ステージ7を第3図中で右方へ大きく移動して、感光基
板8を反射鏡6の直下から引き出した後に交換しなけれ
ばならない。しかも、交換する毎に、未感光基板を再び
ステージ7に対して位置および方向の粗い位置合わせ
(プリアライメント)をする必要が有り、複数の感光基
板に描画するときは多くの時間を必要とし、非能率的な
ものとなる問題点が有った。
(Problems to be Solved by the Invention) In the heretofore known pattern drawing apparatus having the above-described configuration, the photosensitive substrate 8 placed on the stage 7 has a sheet shape, and one photosensitive substrate 8 When the drawing is completed, the photosensitive substrate 8 is removed from the stage and replaced with another unexposed photosensitive substrate. However, at the time of replacement, since the reflecting mirror 6 is provided on the photosensitive substrate 8,
The stage 7 must be largely moved to the right in FIG. 3, the photosensitive substrate 8 must be pulled out from directly below the reflecting mirror 6, and then replaced. Moreover, it is necessary to perform rough alignment (pre-alignment) of the position and direction of the unexposed substrate with respect to the stage 7 again each time it is exchanged, and it takes a lot of time when drawing on a plurality of exposed substrates, There was a problem that was inefficient.

本発明は、上記従来装置の問題点を解決し、複数の感光
基板を能率的に描画し、しかも、簡単にローディングと
アンローディングとが可能で、次工程にスムーズに移管
することができるパターン描画装置を提供することを目
的とする。
The present invention solves the problems of the above-described conventional apparatus, efficiently draws a plurality of photosensitive substrates, and allows easy loading and unloading, and a pattern drawing that can be smoothly transferred to the next process. The purpose is to provide a device.

〔発明の構成〕[Structure of Invention]

(問題点を解決するための手段) 上記の目的を達成するために本発明においては、ロール
フィルム状に巻かれて形成された未感光の描画用ロール
基板(11)を収納し且つ大きい描画用アパーチヤを有す
るロール基板カセット(12)と、そのロール基板カセッ
ト(12)を着脱可能に支持して一次元移動可能ステージ
(13)と、このステージ(13)に載置された前記のロー
ル基板カセット(12)内の描画用ロール基板(11)をラ
スタ走査する光スポットを投射するための光スポット投
射光学系(15〜21)と描画された描画用ロール基板を一
駒づつ巻き取る巻取り手段(31)とを設けて、パターン
を連続して描画可能に構成することを技術的要点とする
ものである。
(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, in the present invention, an unexposed drawing roll substrate (11) formed by being rolled into a roll film is housed and a large drawing is carried out. A roll substrate cassette (12) having an aperture, a one-dimensionally movable stage (13) that detachably supports the roll substrate cassette (12), and the roll substrate cassette mounted on the stage (13). A light spot projection optical system (15 to 21) for projecting a light spot for raster-scanning the drawing roll substrate (11) in (12) and a winding means for winding the drawn drawing roll substrate one by one. (31) is provided, and it is a technical point that the pattern can be continuously drawn.

(作 用) 複数のパターンが連続して描画できるように、ロールフ
ィルム状に形成された未感光の描画用ロール基板(11)
をロール基板カセット(12)に収納し、そのロール基板
カセット(12)を一次元移動するステージ(13)上に載
置し、ステージ(13)を移動させると同時に、光スポッ
ト投射光学系(15〜21)によって投射される光スポット
で描画用ロール基板(11)をラスタ走査してパターンを
描画する。描画用ロール基板カセット(12)の描画用ア
パーチヤ(12B)を通して一駒分のパターンが描画され
たならば、巻取り手段(31)で、その一駒分の描画用ロ
ール基板(11)を巻き取り、再び、ステージ(13)を移
動しつつ、光スポットで描画用ロール基板(11)の未感
光面をラスタ走査して、パターンを繰返して描画する。
描画用ロール基板(11)全部が描画されたならばロール
基板カセット(12)をステージ(13)から取りはずして
別のロール基板(12)と交換してステージ(13)上に載
置する。上記のようにして、複数のパターンが連続して
描画用ロール基板(11)上に描画される。その際、プリ
アライメント作業はロール基板カセット(12)1個につ
き1回だけ行えばよいから、極めて能率的に描画を行う
ことができる。また、ステージ(13)から取りはずされ
たロール基板カセット(12)は、そのまま、次の処理工
程に搬送できるから、搬送にも有利である。
(Work) An unexposed drawing roll substrate (11) formed in a roll film so that multiple patterns can be drawn continuously.
Are housed in a roll substrate cassette (12), the roll substrate cassette (12) is placed on a stage (13) which moves one-dimensionally, and the stage (13) is moved, and at the same time, an optical spot projection optical system (15). To 21), the drawing roll substrate (11) is raster-scanned by a light spot projected to draw a pattern. When a pattern for one frame is drawn through the drawing aperture (12B) of the drawing roll substrate cassette (12), the drawing roll substrate (11) is wound by the winding means (31). Then, while moving the stage (13) again, the unexposed surface of the drawing roll substrate (11) is raster-scanned by the light spot, and the pattern is repeatedly drawn.
When the whole drawing roll substrate (11) has been drawn, the roll substrate cassette (12) is removed from the stage (13), replaced with another roll substrate (12), and placed on the stage (13). As described above, a plurality of patterns are continuously drawn on the drawing roll substrate (11). At this time, since the pre-alignment work only needs to be performed once for each roll substrate cassette (12), the drawing can be performed extremely efficiently. Further, the roll substrate cassette (12) removed from the stage (13) can be transported to the next processing step as it is, which is also advantageous for transportation.

(実施例) 次に、本発明の実施例を添付の図面に基づいて詳しくは
説明する。
(Example) Next, the Example of this invention is described in detail based on an accompanying drawing.

第1図は、本発明の実施例を示すパターン描画装置の斜
視図で、第2図は本発明の要部をなす第1図中のロール
基板カセットとステージ部との構成を示すy方向の際断
面図である。
FIG. 1 is a perspective view of a pattern drawing apparatus showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a view in the y direction showing a configuration of a roll substrate cassette and a stage portion in FIG. 1 which is an essential part of the present invention. FIG.

ドライフィルムをラミネートし、あるいは液状レジスト
を塗布してロールフィルム状に巻き取られて形成された
感光基板またはアートワーク用フィルム(以下、単に
「ロール基板」と称する。)11を内部に収納するロール
基板カセット12は、後で詳しく述べられる一次元移動ス
テージ(以下単に「ステージ」と称する。)13に第1図
および第2図に示すように載置されている。また、ステ
ージ13を移動可能に支持する架台14上は、レーザ光源15
が設けられ、レーザ光源15から出たレーザ光束は、プリ
ズム16Aにて上方へ転向され、光変調器(例えば超音波
光変調器)17、プリズム16Bおよびビームエキスパンダ1
8を介して定速回転するポリゴンミラー19に投射され
る。光変調器17によって変調されて明滅し且つポリゴン
ミラー19にて反射・偏向されたレーザ光束は、fθレン
ズ20によって集光され、x方向に長いミラー21にて下方
へ転向されて、ロール基板11上に明滅する微小光スポッ
トとして垂直に投射される。この光スポットは、ポリゴ
ンミラー19の回転に応じてロール基板11をx方向に等速
にて走査する。なお、レーザ光源15からミラー21までの
光学系をもって光スポット投射光学系が構成される。
A roll containing a photosensitive substrate or an artwork film (hereinafter simply referred to as "roll substrate") 11 formed by laminating a dry film or applying a liquid resist and winding the roll film into a roll film. The substrate cassette 12 is mounted on a one-dimensional moving stage (hereinafter simply referred to as “stage”) 13 which will be described in detail later, as shown in FIGS. 1 and 2. In addition, a laser light source 15 is provided on a pedestal 14 that movably supports the stage 13.
Is provided, the laser light flux emitted from the laser light source 15 is turned upward by the prism 16A, and the light modulator (for example, an ultrasonic light modulator) 17, the prism 16B, and the beam expander 1 are provided.
It is projected via 8 onto a polygon mirror 19 that rotates at a constant speed. The laser light flux which is modulated by the light modulator 17, blinks, and is reflected / deflected by the polygon mirror 19 is condensed by the fθ lens 20 and is deflected downward by the mirror 21 which is long in the x direction, so that the roll substrate 11 is formed. It is projected vertically as a small light spot that blinks on top. This light spot scans the roll substrate 11 in the x direction at a constant speed according to the rotation of the polygon mirror 19. An optical system from the laser light source 15 to the mirror 21 constitutes a light spot projection optical system.

一方、ステージ13は、第2図に示すように大別して、架
台14上をy方向に移動可能なステージ本体22と、ステー
ジ本体22上に回転可能に支持されたθ回転テーブル23
と、θ回転テーブル23上に昇降可能に支持されたロール
基板台24と、ロール基板台24の上方に位置してステージ
本体22に固設された上板25とから構成されている。
On the other hand, as shown in FIG. 2, the stage 13 is roughly classified into a stage main body 22 that is movable on a pedestal 14 in the y direction, and a θ rotary table 23 rotatably supported on the stage main body 22.
And a roll substrate table 24 supported on the θ-rotating table 23 so as to be able to move up and down, and an upper plate 25 fixed above the roll substrate table 24 and fixed to the stage body 22.

ステージ本体23は、架台14上に回転可能に設けられた送
りねじ26を駆動モータ27で回転することにより、y方向
に一次元移動するように構成されている。θ回転テーブ
ル23は、ステージ本体22に設けられた図示されないモー
タによって水平面内で微動回転される。また、θ回転テ
ーブル23とロール基板台24との間には、例えばピストン
リングとエアシリンダのようなアクチュエータ28と、ロ
ール基板台24を上下に案内する昇降ガイド29とが設けら
れ、これにより、ロール基板台25は光スポットの投射光
軸方向に上下微動可能である。なお、ロール基板台24の
上面は、光スポットの投射光軸に垂直で且つステージ本
体22の移動方向(y方向)に平行するように形成されて
いる。
The stage body 23 is configured to move one-dimensionally in the y direction by rotating a feed screw 26 rotatably provided on the pedestal 14 with a drive motor 27. The θ rotation table 23 is finely rotated in a horizontal plane by a motor (not shown) provided on the stage body 22. Further, between the θ rotation table 23 and the roll substrate table 24, an actuator 28 such as a piston ring and an air cylinder, and an elevating guide 29 for guiding the roll substrate table 24 up and down are provided. The roll substrate table 25 can be finely moved up and down in the projection optical axis direction of the light spot. The upper surface of the roll substrate base 24 is formed so as to be perpendicular to the projection optical axis of the light spot and parallel to the moving direction (y direction) of the stage body 22.

ロール基板台24の上面外周には、ロール基板カセット12
を着脱可能に支持する段差部24aが設けられ、その段差
部24aに、ロール基板カセット12の裏側に形成された開
口12Aが嵌合することにより、ロール基板カセット12は
ロール基板台24上に位置および方向が規正されて載置さ
れる。また、ロール基板カセット12がロール基板台24に
載置されると、ロール基板台24の上面24bは、ロール基
板カセット12内のロール基板11の裏面に接触し、ロール
基板11を真空吸着することにより、ロール基板11の平面
度を良好に保つように構成されている。
On the outer periphery of the upper surface of the roll board stand 24, the roll board cassette 12
Is provided with a stepped portion 24a that detachably supports the roll substrate cassette 12 on the roll substrate table 24 by fitting the opening 12A formed on the back side of the roll substrate cassette 12 into the stepped portion 24a. And the direction is regulated and it is placed. Further, when the roll substrate cassette 12 is placed on the roll substrate table 24, the upper surface 24b of the roll substrate table 24 contacts the back surface of the roll substrate 11 in the roll substrate cassette 12 and vacuum-chuck the roll substrate 11. Thus, the flatness of the roll substrate 11 is kept good.

ロール基板カセット12の表面(第2図中で上面)には、
描画アパーチヤ12Bが設けられ、さらにその描画アパー
チヤ12Bの上方に位置する上板25に下面に突設された少
なくとも3個の位置決めピン30がそれぞれ貫通する逃げ
孔12Cが設けられている。また、ロール基板カセット12
の巻取り側には、ロール基板11を巻き取るための巻取り
用モータ31が設けられ、そのモータ31の駆動により一定
量(一駒分)づつロール基板11が描画アパーチヤ12Bを
通過するように構成されており、一回に描画できる一駒
分の大きさは、その描画アパーチヤ12Bによって定めら
れる。また、ロール基板11がロール基板台24と共に上昇
して位置決めピン30の下端面に接することにより、ロー
ル基板11の感光面(上面)は、fθレンズ20の焦点面と
一致し、その感光面上にfθレンズ20によって投射され
た光スポットが結像されるように構成されている。な
お、上板25は、ステージ本体22に設けられた支柱22A
(第1図参照)によって支持され、ミラー21を介して投
射されるレーザ光が通過する窓25Aを有し、位置決めピ
ン30は、その窓25Aの外周枠部分に植設されている。
On the surface of the roll substrate cassette 12 (upper surface in FIG. 2),
A drawing aperture 12B is provided, and an upper plate 25 located above the drawing aperture 12B is provided with an escape hole 12C through which at least three positioning pins 30 projecting from the lower surface pass. In addition, the roll board cassette 12
A take-up motor 31 for taking up the roll substrate 11 is provided on the take-up side of the so that the roll substrate 11 passes through the drawing aperture 12B by a fixed amount (for one frame) by the drive of the motor 31. The size of one frame that can be drawn at a time is determined by the drawing aperture 12B. Further, the roll substrate 11 rises together with the roll substrate stand 24 and comes into contact with the lower end surface of the positioning pin 30, so that the photosensitive surface (upper surface) of the roll substrate 11 coincides with the focal plane of the fθ lens 20, and on the photosensitive surface. The light spot projected by the fθ lens 20 is formed into an image. The upper plate 25 is a support post 22A provided on the stage body 22.
It has a window 25A supported by (see FIG. 1) and through which laser light projected through the mirror 21 passes, and the positioning pin 30 is planted in the outer peripheral frame portion of the window 25A.

第1図および第2図に示すパターン描画装置は上記の如
く構成されているので、アクチュエータ28を作動させて
ロール基板台24を最下位置まで下降させた後、未感光の
ロール基板11が収納されたロール基板カセット12をロー
ル基板台24上に載置する。この場合、ロール基板カセッ
ト12の裏面開口12Aをロール基板台24の段差部24aに嵌合
させると、ロール基板11はロール基板台24の上面24bに
接触し、真空吸着によってその上面24bに固定される。
次に、θ回転テーブル23を微動回転して、ロール基板カ
セット12の描画アパーチヤ12Bの長手方向をステージ本
体22の移動方向(y方向)と一致させるプリアライメン
トを行う。このロール基板11のプリアライメントが完了
したならば、アクチュエータ28を作動させてロール基板
台24を上昇させ、上板25に植設された位置決めピン30の
下端にロール基板を接触させ、ロール基板11の上面(感
光面)をfθレンズ26の焦点面に一致させる。次に、ポ
リゴンミラー19を回転させつつ、駆動モータ27を回転し
てステージ13をy方向に送り、fθレンズ20を介して投
射されるレーザ光束の光スポットによってロール基板11
をラスター走査し、光変調器17によって明滅変調される
レーザ光束によって所定パターンの描画を行なう。ロー
ル基板カセット12のロール基板アパーチヤ12Bに対応す
る一駒分の描画が終了すると、そのロール基板アパーチ
ヤ12Bの第1図中で左端が光スポット投射位置近傍に達
し、また、光スポットは光変調器17によって消滅され
る。
Since the pattern drawing apparatus shown in FIGS. 1 and 2 is configured as described above, the actuator 28 is operated to lower the roll substrate stand 24 to the lowermost position, and then the unexposed roll substrate 11 is stored. The roll substrate cassette 12 thus prepared is placed on the roll substrate table 24. In this case, when the rear surface opening 12A of the roll substrate cassette 12 is fitted into the step portion 24a of the roll substrate table 24, the roll substrate 11 contacts the upper surface 24b of the roll substrate table 24 and is fixed to the upper surface 24b by vacuum suction. It
Next, the θ rotation table 23 is finely rotated to perform pre-alignment in which the longitudinal direction of the drawing aperture 12B of the roll substrate cassette 12 matches the moving direction (y direction) of the stage body 22. When the pre-alignment of the roll substrate 11 is completed, the actuator 28 is operated to raise the roll substrate stand 24, and the roll substrate is brought into contact with the lower ends of the positioning pins 30 planted in the upper plate 25. The upper surface (photosensitive surface) of is aligned with the focal plane of the fθ lens 26. Next, while rotating the polygon mirror 19, the drive motor 27 is rotated to feed the stage 13 in the y direction, and the roll substrate 11 is driven by the light spot of the laser light flux projected via the fθ lens 20.
Is raster-scanned, and a predetermined pattern is drawn by the laser light flux that is blink-modulated by the light modulator 17. When the drawing of one frame corresponding to the roll substrate aperture 12B of the roll substrate cassette 12 is completed, the left end of the roll substrate aperture 12B in FIG. 1 reaches the vicinity of the light spot projection position, and the light spot is the optical modulator. Extinguished by 17.

上記の一駒の描画が終了すると、アクチュエータ28を作
動させてロール基板台24をわずかに下降させると同時
に、ロール基板11の真空吸着を解除し、巻き上げモータ
31を駆動させて、ロール基板11を一駒分だけ巻き上げ
る。さらに、再びロール基板11は真空吸着され、上板25
の位置決めピン30に接触するまでロール基板台24と共に
上昇し、2駒目のパターン描画が行われる。この場合、
ロール基板カセット12をステージ13と共にy方向とは逆
方向に移動して第1図の位置まで復帰させ、再び前回と
同様に描画を行ってもよいが、その戻り方向でも光スポ
ットでラスタ走査することにより、2駒目のパターン描
画を行うことができる。いずれの場合においても、既に
ロール基板11のプリアライメントは完了し、巻き上げに
よる方向の狂いは、極めて僅かであるので、再びプリア
ライメントを行うことなく描画することができる。
When the drawing of one frame is completed, the actuator 28 is operated to slightly lower the roll board base 24, at the same time, the vacuum suction of the roll board 11 is released, and the winding motor is wound.
31 is driven to wind the roll substrate 11 by one frame. Further, the roll substrate 11 is again vacuum-adsorbed, and the upper plate 25
The second substrate is raised together with the roll substrate stand 24 until it comes into contact with the positioning pins 30, and the pattern drawing of the second frame is performed. in this case,
The roll substrate cassette 12 may be moved together with the stage 13 in the direction opposite to the y direction to return to the position shown in FIG. 1, and drawing may be performed again as in the previous time, but raster scanning is also performed with the light spot in the returning direction. As a result, the pattern drawing of the second frame can be performed. In either case, the pre-alignment of the roll substrate 11 has already been completed, and the deviation in the direction due to winding is extremely small, so that drawing can be performed without performing pre-alignment again.

上記のようにして、全フィルムの駒数の描画を終了した
ならば、ステージ13を第2図において左方へ移動してロ
ール基板カセット12をミラー21の下部から引き出した
後、ロール基板台24と共にロール基板カセット12を最下
位置まで下降させる。次に、ロール基板11の真空吸着を
解除し、ロール基板カセット12をロール基板台24から取
りはずし、別のロール基板カセット12と交換して描画が
行われる。
When the drawing of the number of frames of all films is completed as described above, the stage 13 is moved to the left in FIG. 2 to pull out the roll substrate cassette 12 from the lower part of the mirror 21, and then the roll substrate stand 24 At the same time, the roll board cassette 12 is lowered to the lowest position. Next, the vacuum suction of the roll substrate 11 is released, the roll substrate cassette 12 is removed from the roll substrate stand 24, and the roll substrate cassette 12 is replaced with another roll substrate cassette 12 for drawing.

なお、上記の実施例においては、描画用ロール基板11の
巻取り手段として、巻取り用モータ31をロール基板カセ
ット12に直接設けたが、ロール基板台24に巻取り用モー
タを設け、ロール基板カセット12を、ロール基板台24に
載置したときに、ロール基板カセット12の巻取り軸がそ
の巻取りモータにカップリングを介して結合するように
構成してもよい。また、描画用ロール基板11の厚さが一
様で、常に一定の厚さの描画用ロール基板のみを用いる
場合には、ロール基板台24を昇降させるアクチュエータ
28と、上板25とは不用となり、ロール基板台24をθ回転
テーブル23上に直接固定するように構成してもよい。
In the above embodiment, the winding motor 31 was provided directly on the roll substrate cassette 12 as the winding means for the drawing roll substrate 11, but the winding substrate 31 is provided with the winding motor. When the cassette 12 is placed on the roll substrate table 24, the winding shaft of the roll substrate cassette 12 may be coupled to the winding motor via a coupling. Further, when the drawing roll substrate 11 has a uniform thickness and only the drawing roll substrate having a constant thickness is always used, an actuator for moving the roll substrate table 24 up and down is used.
28 and the upper plate 25 are unnecessary, and the roll substrate base 24 may be directly fixed on the θ rotary table 23.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上の如く本発明によれば、ロールフィルム状に巻かれ
た描画用ロール基板が収納されたロール基板カセットを
用いてパターン描画を行うようにしたから、プリアライ
メントを一描画毎に行う必要が無いから、作業時間を短
縮でき、カセット毎の搬送が可能であるから、多数のパ
ターン描画の自動化、無人化が可能となる。
As described above, according to the present invention, since the pattern drawing is performed using the roll substrate cassette in which the drawing roll substrate wound in the form of a roll film is stored, it is not necessary to perform the pre-alignment for each drawing. Therefore, the work time can be shortened, and the cassettes can be transported, so that it is possible to automate a large number of patterns and to unmanned.

なお、一描画毎に描画用感光基板を交換する必要が無い
から、ステージの往動ばかりでなく復動の際にも描画可
能であるから、極めて能率的に描画することができる利
点がある。
Since it is not necessary to replace the drawing photosensitive substrate for each drawing, it is possible to draw not only when the stage moves forward but also when the stage moves backward. Therefore, there is an advantage that drawing can be performed very efficiently.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の実施例を示す斜視図、第2図は第1図
に示す実施例の要部を構成するロール基板カセットとそ
のロール基板カセットを支持するステージ部とのy方向
の縦断面図、第3図は従来装置の概略構成を示す斜視図
である。 (主要部分の符号の説明) 11……描画用ロール基板、12……ロール基板カセット、
13……ステージ、14……架台 15……レーザ光源(光スポット投射光学系) 16A、16B……プリズム(光スポット投射光学系) 17……光変調器(光スポット投射光学系) 18……ビームエキスパンダ(光スポット投射光学系) 19……ポリゴンミラー(光スポット投射光学系) 20……fθレンズ(光スポット投射光学系) 21……ミラー(光スポット投射光学系) 31……巻取り用モータ(巻取り手段)
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a longitudinal cross-section in the y direction of a roll substrate cassette and a stage portion supporting the roll substrate cassette constituting the essential part of the embodiment shown in FIG. FIG. 3 is a perspective view showing a schematic configuration of a conventional device. (Explanation of symbols for main parts) 11 …… Roll substrate for drawing, 12 …… Roll substrate cassette,
13 …… Stage, 14 …… Stand 15 …… Laser light source (optical spot projection optical system) 16A, 16B …… Prism (optical spot projection optical system) 17 …… Optical modulator (optical spot projection optical system) 18 …… Beam expander (optical spot projection optical system) 19 …… Polygon mirror (optical spot projection optical system) 20 …… fθ lens (optical spot projection optical system) 21 …… Mirror (optical spot projection optical system) 31 …… Winding Motor (winding means)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 8403−2C B41J 3/00 F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location 8403-2C B41J 3/00 F

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ロールフィルム状に巻かれて形成された未
感光の描画用ロール基板を収納し且つ大きい描画用アパ
ーチヤを有するロール基板カセットと、該ロール基板カ
セットを着脱可能に支持して一次元移動可能なステージ
と、該ステージに載置された前記ロール基板カセット内
の前記ロール基板をラスタ走査する光スポットを投射す
るための光スポット投射光学系と、描画された描画用ロ
ール基板を一駒づつ巻き取る巻取り手段とを有すること
を特徴とするパターン描画装置。
1. A roll substrate cassette that accommodates an unexposed drawing roll substrate formed by being wound into a roll film and has a large drawing aperture, and a one-dimensional support for detachably supporting the roll substrate cassette. A movable stage, a light spot projection optical system for projecting a light spot for raster-scanning the roll substrate in the roll substrate cassette mounted on the stage, and a drawn drawing roll substrate A pattern drawing device comprising: a winding unit that winds each one.
【請求項2】前記ステージは、一次元移動可能なステー
ジ本体(22)と、該ステージ本体(22)に回転可能に支
持されたθ回転テーブル(23)と、前記ロール基板カセ
ット(12)を着脱可能に支持すると共に前記ロール基板
(11)を真空吸着可能なロール基板台(24)と、該ロー
ル基板台を前記θ回転テーブル(23)上に昇降可能に移
動させるアクチュエータ(28)とを含むことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のパターン描画装置。
2. The stage comprises a stage main body (22) capable of one-dimensional movement, a θ rotation table (23) rotatably supported by the stage main body (22), and the roll substrate cassette (12). A roll substrate table (24) which is detachably supported and capable of vacuum-sucking the roll substrate (11), and an actuator (28) which moves the roll substrate table up and down on the θ rotary table (23). The pattern drawing device according to claim 1, wherein the pattern drawing device comprises:
【請求項3】前記巻取り手段は、前記ロール基板カセッ
ト(12)に設けられた巻取り用モータ(31)であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の
パターン描画装置。
3. The pattern according to claim 1 or 2, wherein the winding means is a winding motor (31) provided in the roll substrate cassette (12). Drawing device.
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