JPH0677089B2 - High birefringence single mode glass optical waveguide - Google Patents
High birefringence single mode glass optical waveguideInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、導波形光部品の構成に必要な単一モードガラ
ス光導波路、更に詳しくは、高複屈折性の単一モードガ
ラス光導波路に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a single-mode glass optical waveguide required for the construction of a waveguide type optical component, and more particularly to a high birefringence single-mode glass optical waveguide. It is a thing.
平面基板上に作製される単一モードガラス光導波路、特
に石英系ガラス単一モード光導波路は、そのコア部断面
寸法を通常使用されている単一モード光ファイバに合わ
せて5〜10μm程度に設定することができるため、光フ
ァイバとの整合性に優れた実用的な導波形光部品の実現
手段として期待されている。Single-mode glass optical waveguides manufactured on flat substrates, especially silica-based glass single-mode optical waveguides, have their core cross-sectional dimensions set to about 5 to 10 μm in accordance with commonly used single-mode optical fibers. Therefore, it is expected as a practical means for realizing a waveguide-type optical component having excellent compatibility with an optical fiber.
光伝播損失の小さい高品質の石英系ガラス単一モード光
導波路は、石英ガラス基板上あるいは結晶シリコン基板
上に、SiCl4,TiCl4等のガラス形成原料ガスの火炎加水
分解反応によるガラス膜堆積技術と、反応性イオンエッ
チングによるガラス膜加工技術との組み合わせにより作
製できることが知られている(河内正夫:「石英系光導
波路の微細加工」応用物理学会光学懇話会微小光学研究
グループ機関誌,1986,4/vol.No.2、pp.33−38)。High-quality silica glass single-mode optical waveguide with low light propagation loss is a glass film deposition technology by flame hydrolysis reaction of glass forming raw material gas such as SiCl 4 , TiCl 4 on quartz glass substrate or crystalline silicon substrate. It is known that it can be produced by a combination of the above and a glass film processing technology by reactive ion etching (Masao Kawauchi: “Microfabrication of silica-based optical waveguide” Journal of Japan Society of Applied Physics, Micro Optics Research Group, 1986, 4 / vol.No.2, pp.33-38).
石英ガラス基板上に作製された石英系ガラス単一モード
光導波路は、石英ガラス基板より受ける弱い引張り応力
に起因する弱い複屈折性を呈している。通常、複屈折値
Bは10-5のオーダーである。シリコン基板上に作製され
た石英系ガラス単一モード光導波路は、シリコン基板と
の熱膨張係数差に起因する圧縮応力を受けており、比較
的強い複屈折性を示す。この場合の複屈折値Bは10-4の
オーダーであり、最大4×10-4程度である。The silica glass single mode optical waveguide fabricated on the silica glass substrate exhibits weak birefringence due to the weak tensile stress received from the silica glass substrate. Usually, the birefringence value B is of the order of 10 -5 . The silica glass single mode optical waveguide fabricated on the silicon substrate is subjected to compressive stress due to the difference in coefficient of thermal expansion from the silicon substrate, and exhibits relatively strong birefringence. Birefringence value B in this case is of the order of 10-4, the maximum 4 × 10 about -4.
光導波路の複屈折性は、導波形光部品の偏波特性等の性
能を支配する重要因子の一つであり、光導波路の応用目
的に応じて種々の複屈折値を選べることが望まれている
が、従来の石英ガラス基板上あるいはシリコン基板上の
石英系ガラス単一モード光導波路では、5×10-4を越え
る大きな複屈折値を実現することが困難であった。The birefringence of the optical waveguide is one of the important factors that control the performance such as the polarization characteristics of the waveguide type optical component, and it is desirable to select various birefringence values according to the application purpose of the optical waveguide. However, it has been difficult to realize a large birefringence value exceeding 5 × 10 −4 with a conventional silica glass single mode optical waveguide on a silica glass substrate or a silicon substrate.
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的
は、上記従来の難点を解決した高複屈折性の単一モード
ガラス光導波路とその応用光部品を提供することにあ
る。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a high birefringence single mode glass optical waveguide and an applied optical component thereof, which solve the above-mentioned conventional problems.
本発明は、石英系ガラス単一モード光導波路用の基板と
して、熱膨張係数αが、おおむね5×10-6/℃を越える
基板を用いることを主要な特徴とする。このような基板
上に高温条件下で形成される光導波路には、室温状態に
て強大な圧縮応力が作用する。強大な圧縮応力に対応し
て光導波路は、5×10-4を越える高複屈折性を呈する。
ちなみに、従来用いられていた石英ガラス基板の熱膨張
係数は、α0.5×10-6/℃、シリコン基板ではα4
×10-6/℃程度であり、石英系ガラス光導波路(α1
×10-6/℃)との熱膨張係数差が小さく、強力な応力誘
起複屈折を発生させることができない。The main feature of the present invention is to use a substrate having a coefficient of thermal expansion α of more than 5 × 10 −6 / ° C. as a substrate for a silica-based glass single mode optical waveguide. A strong compressive stress acts on the optical waveguide formed on such a substrate under high temperature conditions at room temperature. The optical waveguide exhibits a high birefringence exceeding 5 × 10 −4 in response to a large compressive stress.
By the way, the coefficient of thermal expansion of conventionally used quartz glass substrate is α 0.5 × 10 -6 / ° C, and that of silicon substrate is α 4
× 10 -6 / ℃, silica glass optical waveguide (α1
(× 10 −6 / ° C.), the difference in thermal expansion coefficient is small, and strong stress-induced birefringence cannot be generated.
上記の本発明の要件を満たす基板としては、酸化ジルコ
ニウム(ZrO2)すなわち、ジルコニア基板を挙げること
ができる。酸化ジルコニウムはα10.6×10-6/℃とい
う大きな熱膨張係数を有しているとともに耐熱性にも優
れており、後述するように、高品質の高複屈折性単一モ
ードガラス光導波路として優れている。Examples of the substrate satisfying the above requirements of the present invention include zirconium oxide (ZrO 2 ), that is, a zirconia substrate. Zirconium oxide has a large coefficient of thermal expansion of α10.6 × 10 -6 / ° C and excellent heat resistance, and as described later, it is used as a high-quality, highly birefringent single-mode glass optical waveguide. Are better.
以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
〔実施例1〕 第1図は本発明の第一の実施例を説明する図であって、
石英系ガラス単一モード光導波路(埋込形)の断面構造
説明図である。図中、符号1は、酸化ジルコニウム基
板、2は石英系ガラスコア部、3はコア部2を埋め込む
ようにとり囲む石英系ガラスクラッド層である。コア部
2には屈折率制御用ドーパントとしてTiO2が微量添加さ
れており、コア・クラッド間の比屈折率差Δは0.25%に
調節されている。コア部2の断面寸法は8μm、クラッ
ド層3の厚みは50μm程度である。使用した酸化ジルコ
ニウム基板1は、京セラ株式会社製No.Z−201であり、
厚さは2mmであり、その上面は平坦になるようあらかじ
め研磨されている。Example 1 FIG. 1 is a diagram for explaining a first example of the present invention,
It is a section structure explanatory view of a silica glass single mode optical waveguide (embedding type). In the figure, reference numeral 1 is a zirconium oxide substrate, 2 is a silica-based glass core portion, and 3 is a silica-based glass clad layer surrounding the core portion 2 so as to be embedded therein. A small amount of TiO 2 is added to the core portion 2 as a refractive index control dopant, and the relative refractive index difference Δ between the core and the cladding is adjusted to 0.25%. The cross-sectional dimension of the core portion 2 is 8 μm, and the thickness of the cladding layer 3 is about 50 μm. The zirconium oxide substrate 1 used is No. Z-201, manufactured by Kyocera Corporation,
It has a thickness of 2 mm and its upper surface is pre-polished to be flat.
第2図は、第1図に示した単一モード光導波路の作製工
程例説明図である。まず、(a)酸化ジルコニウム基板
1上に、SiCl4を原料ガスとする火炎加水分解反応によ
り、ガラス微粒子からなる下層クラッド多孔質ガラス層
21を堆積し、次の原料ガスとしてさらにTiCl4を加えて
コア多孔質ガラス層22を堆積する。(b)多孔質ガラス
層付の基板1を電気炉中で高温(約1300℃)に加熱し
て、脱泡,透明ガラス化し、下層クラッドガラス層21a
とコア層22aとする。この際、多孔質ガラス層は厚さ方
向に1/5〜1/10程度の寸法化になるまで収縮する。
(c)コア層22aの不要部分を反応性イオンエッチング
により除去し、リッジ状のコア部2を形成する。(d)
コア部2を覆うように上層クラッド多孔質ガラス層23を
再び火炎加水分解反応法により堆積する。(e)最後
に、再び電気炉中で高温に加熱して多孔質ガラス層23を
透明ガラス化し、下層クラッド層21aと合わせてクラッ
ド層3とする。以上の作製工程において、原料ガス中に
ガラス微粒子の軟化温度低減化の目的でPCl3,BCl3等の
ドーパントを微量添加しておくのが、透明ガラス化を容
易にする上で得策である。FIG. 2 is an explanatory view of an example of a manufacturing process of the single mode optical waveguide shown in FIG. First, (a) a lower clad porous glass layer made of glass fine particles on a zirconium oxide substrate 1 by a flame hydrolysis reaction using SiCl 4 as a source gas.
21 is deposited, and TiCl 4 is further added as the next source gas to deposit the core porous glass layer 22. (B) The substrate 1 with the porous glass layer is heated to a high temperature (about 1300 ° C.) in an electric furnace to defoam and become transparent vitrified, and the lower clad glass layer 21a.
And the core layer 22a. At this time, the porous glass layer shrinks in the thickness direction until it becomes about 1/5 to 1/10 in size.
(C) The unnecessary portion of the core layer 22a is removed by reactive ion etching to form the ridge-shaped core portion 2. (D)
The upper clad porous glass layer 23 is again deposited by the flame hydrolysis reaction method so as to cover the core portion 2. (E) Finally, in the electric furnace, the porous glass layer 23 is heated again to a high temperature to become a transparent glass, and the clad layer 3 is combined with the lower clad layer 21a. In the above manufacturing process, to the purpose PCl 3, BCl 3 or the like of the dopant softening temperature reduction of the glass particles in the raw material gas previously added trace is advisable in order to facilitate vitrification.
上記の工程により作製した単一モード光導波路の複屈折
値Bを光弾性光学手法により測定したところ、B9×
10-4となり、石英ガラス基板上やシリコン基板上に形成
された従来の光導波路に比べてはるかに大きく、酸化ジ
ルコニウム基板の効果が確認された。上記のB値から推
定すると、本実施例の光導波路には、約30kg/mm2という
大きな圧縮応力が作用していると考えられるが、光導波
路コア部およびクラッド層にひび割れの発生は皆無であ
った。これは石英系ガラスは、引っぱり強度が5kg/mm2
程度であるのに対し、圧縮強度は100kg/mm2程度と強
く、上記程度の圧縮応力には充分な耐性を持つためと推
察される。The birefringence value B of the single-mode optical waveguide manufactured by the above process was measured by a photoelastic optical method to find that B9 ×
It was 10 −4 , which was much larger than that of the conventional optical waveguide formed on the quartz glass substrate or the silicon substrate, and the effect of the zirconium oxide substrate was confirmed. Estimating from the above B value, it is considered that a large compressive stress of about 30 kg / mm 2 is acting on the optical waveguide of the present example, but no cracks are generated in the optical waveguide core portion and the clad layer. there were. This is quartz glass, which has a tensile strength of 5 kg / mm 2
However, the compressive strength is as strong as about 100 kg / mm 2 , which is presumed to have sufficient resistance to the above compressive stress.
なお、作製した光導波路の光伝播損失を測定したとこ
ろ、0.1dB/cm以下となり、種々の導波形光部品を構成す
るのに充分なほど低損失であった。The optical propagation loss of the produced optical waveguide was measured and found to be 0.1 dB / cm or less, which was low enough to form various waveguide type optical components.
ところで、光導波路の偏波特性を議論する上で重要なパ
ラメーターであるいわゆるビート長(偏光状態が伝搬に
伴って周期的に変化するその周期Lpは、複屈折値B、使
用光波長λと、関係式 Lp=λ/B により結ばれているので、本実施例の光導波路は波長λ
=1.3μmにてLp〜1.4mm程度の短いビート長を有するこ
とになる。これは、本発明の光導波路を用いると、mmオ
ーダーの短い素子長にて、偏波制御素子を構成できるこ
とを意味している。By the way, the so-called beat length (the period Lp in which the polarization state changes periodically with propagation), which is an important parameter in discussing the polarization characteristics of the optical waveguide, is defined by the birefringence value B and the used light wavelength λ. , Lp = λ / B, the optical waveguide of this embodiment has a wavelength λ
= 1.3 μm, it has a short beat length of about Lp to 1.4 mm. This means that by using the optical waveguide of the present invention, a polarization control element can be constructed with a short element length on the order of mm.
〔実施例2〕 第3図は、本発明の高複屈折性単一モード光導波路の一
応用例としての導波形光波長板の構造説明図であり、
(a)は平面図、(b)は線分AA′に沿っての断面図を
示す。図中、符号31は、コア部2の片側のクラッド層3
に、コア部2に沿って設けた溝である。酸化ジルコニウ
ム基板1から光導波路に作用している応力の一部が前記
溝31によって解放されるので、第3図(b)においてコ
ア部2を中心とする左右対称性がくずれ、複屈折主軸32
a,32bを応力解放溝31がないときの基板1に垂直,水平
な方向からそれぞれ角度θだけ傾けることができる。第
4図はコア部2を厚さ50μmのクラッド層3の中心位置
に配置した場合につき、主軸角θを溝距離Sの関数とし
て示したものである。第4図はいわゆる有限要素法によ
る応力分布計算により導出した。第4図には、溝31を設
けない場合の複屈折値B0〜9×10-4を基準とした規格化
複屈折値B/B0も示してある。Example 2 FIG. 3 is a structural explanatory view of a waveguide type optical wave plate as an application example of the high birefringence single mode optical waveguide of the present invention.
(A) is a plan view and (b) is a cross-sectional view taken along the line segment AA '. In the figure, reference numeral 31 is a cladding layer 3 on one side of the core portion 2.
The groove is provided along the core portion 2. Since a part of the stress acting on the optical waveguide from the zirconium oxide substrate 1 is released by the groove 31, the left-right symmetry about the core portion 2 is broken in FIG.
It is possible to incline a and 32b from the direction perpendicular and horizontal to the substrate 1 when there is no stress relief groove 31 by an angle θ. FIG. 4 shows the principal axis angle θ as a function of the groove distance S when the core portion 2 is arranged at the center position of the clad layer 3 having a thickness of 50 μm. FIG. 4 was derived by stress distribution calculation by the so-called finite element method. FIG. 4 also shows the normalized birefringence value B / B 0 based on the birefringence values B 0 to 9 × 10 −4 when the groove 31 is not provided.
第4図を参考にして、導波形1/2光波長板を次のように
設計し、製作した。まず、溝距離Sを、主軸角θが22.5
度になるように、S≒34μmとした。この時、B/B0≒0.
6であり、B≒5.4×10-4の傾いた主軸角の複屈折性を得
ることができる。溝31の長さlは、B・l=1/2・λと
なるように、すなわち、使用波長λ=1.3μmでl=1.2
mmとなるよう設定した。溝31の幅は、比較的任意に選ぶ
ことができ、本実施例では200μmに設定した。ここで
応力解放溝31は反応性イオンエッチングによりクラッド
層3の一部を除去することにより形成した。Referring to FIG. 4, a waveguide type 1/2 optical wave plate was designed and manufactured as follows. First, the groove distance S is set so that the main axis angle θ is 22.5.
S = 34 μm so as to obtain the desired frequency. At this time, B / B 0 ≈ 0.
6, and it is possible to obtain birefringence with a tilted principal axis angle of B≈5.4 × 10 −4 . The length l of the groove 31 is such that B · l = 1/2 · λ, that is, l = 1.2 at the used wavelength λ = 1.3 μm.
It was set to be mm. The width of the groove 31 can be selected relatively arbitrarily and is set to 200 μm in this embodiment. Here, the stress release groove 31 was formed by removing a part of the cladding layer 3 by reactive ion etching.
基板面に垂直な直線偏光(TM波)をコア部2に入射した
ところ、応力解放溝31形成部、すなわち1/2波長板部を
通過後、偏光面が2θすなわち45°回転することが確認
された。このように、本発明によれば、1mm程度の短い
所要長で光導波路の所望場所に波長板作用を付与するこ
とができる。When linearly polarized light (TM wave) perpendicular to the substrate surface was made incident on the core 2, it was confirmed that the polarization plane rotates 2θ, that is, 45 °, after passing through the stress relief groove 31 forming portion, that is, the half-wave plate portion. Was done. As described above, according to the present invention, it is possible to impart the wave plate function to a desired place of the optical waveguide with a required length as short as about 1 mm.
以上の実施例では、コア部の屈折率制御用ドーパントと
してTiO2を用いたが、光ファイバ作製時に多用されてい
るGeO2を用いることもできることは言うまでもない。In the above examples, TiO 2 was used as the dopant for controlling the refractive index of the core portion, but it is needless to say that GeO 2 which is often used when manufacturing an optical fiber can be used.
以上、二つの実施例で使用した酸化ジルコニウム基板は
京セラ株式会社製であったが、特に京セラ株式会社製に
限定されるものではない。低純度の基板には応々にして
アルカリ金属等の不純物が含まれており、基板上に作製
される光導波路の結晶化を招くので、できるだけ、高純
度な基板を使用することが大切である。As described above, the zirconium oxide substrates used in the two examples were manufactured by Kyocera Corporation, but are not particularly limited to those manufactured by Kyocera Corporation. It is important to use a high-purity substrate as much as possible because a low-purity substrate often contains impurities such as alkali metals, which causes crystallization of the optical waveguide fabricated on the substrate. .
また、大きな熱膨張係数を有するセラミック基板材料と
しては、前述の酸化ジルコニウム以外にも、アルミナAl
2O3(α8×10-6/℃)等があるが、本発明者らが鋭
意検討した結果によれば、アルミナ基板上では、石英系
ガラス導波路は作製途上で結晶化の障害をおこし、実用
に耐える製品は得られなかったことを付記する。ただ
し、アルミナ基板上に酸化ジルコニウム薄膜をコーティ
ングした複合基板を用いると結晶化を抑制できることを
指摘しておく。このような大きな熱膨張係数を有する複
合基板上の高複屈折性光導波路も本発明の範囲に含まれ
ることはもちろんである。上述した酸化物の他にも、炭
化物,窒化物,高融点金属等が基板材料としての可能性
をもつが、熱膨張係数の大きさの他に耐熱性,機械的特
性(ヤング率など)、石英系ガラス結晶化の有無等を考
慮して選択することが必要である。Further, as a ceramic substrate material having a large coefficient of thermal expansion, in addition to zirconium oxide described above, alumina Al
2 O 3 (α8 × 10 −6 / ° C.), etc., but according to the results of intensive investigations by the present inventors, on an alumina substrate, the silica glass waveguide causes an obstacle to crystallization during production. Note that no product that could be used practically was obtained. However, it should be pointed out that crystallization can be suppressed by using a composite substrate in which a zirconium oxide thin film is coated on an alumina substrate. It goes without saying that a high birefringence optical waveguide on a composite substrate having such a large coefficient of thermal expansion is also included in the scope of the present invention. In addition to the above-mentioned oxides, carbides, nitrides, refractory metals, and the like have potential as substrate materials. In addition to the large thermal expansion coefficient, heat resistance, mechanical properties (Young's modulus, etc.), It is necessary to select in consideration of the presence or absence of crystallization of quartz glass.
以上説明したように、本発明によれば、従来になく高複
屈折性の単一モード光導波路を提供することができるの
で、偏光特性が重要な役割を果たすコヒーレント光通信
用や光センサ用の導波形光部品、例えば、波長板,偏光
子,偏波分離素子等をコンパクトに構成するのにきわめ
て有効である。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a single mode optical waveguide having high birefringence, which is unprecedented. Therefore, for coherent optical communication or optical sensor in which polarization characteristics play an important role. It is extremely effective for compactly constructing a waveguide type optical component, for example, a wave plate, a polarizer, a polarization separation element and the like.
第1図は、本発明の一実施例として示した光導波路の断
面構造図、第2図(a)〜(e)は、本発明の光導波路
の作製工程図、第3図は本発明の他の実施例の構造説明
図、第4図は有限要素法による複屈折値予想図である。 1…酸化ジルコニウム基板、2…コア部、3…クラッド
層、21…下層クラッド多孔質層、22…コア多孔質層、23
…上クラッド多孔質層、21a…下層クラッド層、22a…コ
ア層、31…応力解放溝、32a,32b…複屈折主軸方向。FIG. 1 is a sectional structural view of an optical waveguide shown as an embodiment of the present invention, FIGS. 2 (a) to 2 (e) are manufacturing process diagrams of the optical waveguide of the present invention, and FIG. FIG. 4 is a structural explanatory view of another embodiment, and FIG. 4 is a birefringence value prediction diagram by the finite element method. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Zirconium oxide substrate, 2 ... Core part, 3 ... Clad layer, 21 ... Lower clad porous layer, 22 ... Core porous layer, 23
... upper clad porous layer, 21a ... lower clad layer, 22a ... core layer, 31 ... stress release groove, 32a, 32b ... birefringent principal axis direction.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 神宮寺 要 茨城県那珂郡東海村大字白方字白根162番 地 日本電信電話株式会社茨城電気通信研 究所内 (56)参考文献 特開 昭59−208509(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Kaname Jinguji Temple 162 Shirahane, Shirahoji, Tokai-mura, Naka-gun, Ibaraki Prefecture, Nippon Steel Telephone Corporation, Ibaraki Telecommunications Research Institute (56) Reference JP-A-59-208509 (JP, A)
Claims (1)
ラスクラッド層がこのクラッド層より屈折率の大きい石
英系ガラスコア部を内部に位置させて形成され、この基
板上に形成された石英系ガラス単一モード光導波路が前
記基板から圧縮応力を受けていることを特徴とする高複
屈折性単一モードガラス光導波路。1. A silica-based glass clad layer is formed on a flat zirconium oxide substrate with a silica-based glass core portion having a refractive index larger than that of the clad layer being located inside, and a silica-based glass formed on the substrate. A high birefringence single mode glass optical waveguide, wherein the single mode optical waveguide is subjected to compressive stress from the substrate.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP30599786A JPH0677089B2 (en) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | High birefringence single mode glass optical waveguide |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP30599786A JPH0677089B2 (en) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | High birefringence single mode glass optical waveguide |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63157107A JPS63157107A (en) | 1988-06-30 |
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Family Applications (1)
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| JP30599786A Expired - Lifetime JPH0677089B2 (en) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | High birefringence single mode glass optical waveguide |
Country Status (1)
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1986
- 1986-12-22 JP JP30599786A patent/JPH0677089B2/en not_active Expired - Lifetime
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |