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JPH0680559B2 - Semiconductor memory device - Google Patents
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JPH0680559B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH0680559B2
JPH0680559B2 JP2762185A JP2762185A JPH0680559B2 JP H0680559 B2 JPH0680559 B2 JP H0680559B2 JP 2762185 A JP2762185 A JP 2762185A JP 2762185 A JP2762185 A JP 2762185A JP H0680559 B2 JPH0680559 B2 JP H0680559B2
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potential
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potential point
level
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正之 山下
英晴 豊本
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Mitsubishi Electric Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は半導体記憶装置に係り、特にこの半導体記憶
装置に於るメモリトランジスタに接続されたセンスアン
プの特性向上に関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to improving the characteristics of a sense amplifier connected to a memory transistor in this semiconductor memory device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

この種、メモリトランジスタに接続されたセンスアンプ
はこのメモリトランジスタに記憶されている“1",“0"
内容を素早く検知し、この検知した“1",“0"の内容を
HレベルとLレベルの電位として明確に区別して出力す
ることが要求されているものである。この様な要求を実
現するものとして第2図に示す様なものが知られている
ものであり、図に於いて(1)はソースが接地されゲー
トがXアドレス線(x)に接続されたNチヤネル型FAMO
S(Floating gate Avalanche injection MOS)から
なるメモリトランジスタで、ゲートにHレベルの電圧が
印加されると、記憶内容が“1"であれば導通、“0"であ
れば非導通状態となるものである。(2)はゲートが第
1のYアドレス線(Y1)に接続されドレインが第1電位
点(3)に接続されたエンハンスメント型のNチヤネル
型MOSFETからなる第1Yアドレス用トランジスタ(2a)
と、ゲートが第2のYアドレス線(Y2)に接続されソー
スが上記メモリトランジスタ(1)のドレインに接続さ
れドレインが上記第1Yアドレス用トランジスタ(2a)の
ソースに接続されたエンハンスメント型のNチヤネル型
MOSFETからなる第2Yアドレス用トランジスタ(2b)とか
らなるYアドレス用トランジスタで、上記メモリトラン
ジスタ(1)とでメモリ部(4)を構成しているもので
ある。(5)はゲートが上記第1電位点(3)に接続さ
れ、ソースが接地されたエンハンスメント型の第1Nチヤ
ネル型MOSFET、(6)はゲートがセンスアンプ作動時に
Lレベルとなるセンスアンプ制御信号(8)に接続さ
れ、ソースが記憶読み出し時5〔V〕となる電源Vccに
接続され、ドレインが上記第1Nチヤネル型MOSFET(5)
のドレインに接続されたエンハンスメント型の第1Pチヤ
ネル型MOSFETからなる負荷素子で、上記第1Nチヤネル型
MOSFET(5)とで検知回路(7)を構成しているもので
ある。(7a)(7b)はこの検知回路(7)の入力端及び
出力端、(9)はゲートが上記検知回路(7)の出力端
(7b)に接続され、ソースが上記第1電位点(3)に接
続されたエンハンスメント型の第2Nチヤネル型MOSFET、
(10)はドレインがこの第2Nチヤネル型MOSFET(9)の
ドレインに接続され、ゲートが上記センスアンプ制御信
号(8)に接続され、ソースが電源Vccに接続されたエ
ンハンスメント型の第2Pチヤネル型MOSFET、(11)はゲ
ートが上記検知回路(7)の出力端(7b)に接続され、
ソースが上記第1電位点(3)に接続され、ドレインが
出力線(12)に接続されたエンハンスメント型の第3Nチ
ヤネル型MOSFETからなる出力制御トランジスタ、(13)
はソースが5〔V〕の電源Vccに接続され、ゲートがセ
ンスアンプ制御信号(8)に接続され、ドレインが出力
制御トランジスタ(11)のドレインに接続されたエンハ
ンスメント型の第3Pチヤネル型MOSFETからなる負荷素子
で、上記出力制御トランジスタ(11)とで出力回路(1
4)を構成しているものである。なお、上記検知回路
(7)及び出力回路(14)及び第2Nチヤネル型MOSFET
(9)並びに第2Pチヤネル型MOSFET(10)とによりセン
スアンプを構成しているものである。また、このセンス
アンプ(15)の第1電位点(3)には一つのメモリ部
(4)のみを接続したものを示したが複数のメモリ部が
接続されるものである。
This kind, the sense amplifier connected to the memory transistor is "1", "0" stored in this memory transistor
It is required to detect the contents quickly and clearly distinguish and output the detected contents of "1" and "0" as H level and L level potentials. A device shown in FIG. 2 is known as a device that fulfills such requirements. In FIG. 2, (1) has a source grounded and a gate connected to an X address line (x). N channel type FAMO
It is a memory transistor composed of S (Floating gate Avalanche injection MOS), and when H level voltage is applied to the gate, it becomes conductive if the stored content is "1", and becomes non-conductive if the stored content is "0". is there. (2) is a first Y-address transistor (2a) consisting of an enhancement-type N-channel MOSFET whose gate is connected to the first Y-address line (Y1) and whose drain is connected to the first potential point (3).
An enhancement type N having a gate connected to the second Y address line (Y2), a source connected to the drain of the memory transistor (1) and a drain connected to the source of the first Y address transistor (2a). Channel type
A Y address transistor composed of a second Y address transistor (2b) composed of a MOSFET, which constitutes the memory section (4) together with the memory transistor (1). (5) is an enhancement-type first N-channel MOSFET whose gate is connected to the first potential point (3) and whose source is grounded. (6) is a sense amplifier control signal whose gate is at L level when the sense amplifier operates. The source is connected to (8), the source is connected to the power source Vcc which becomes 5 [V] at the time of memory reading, and the drain is the first N-channel MOSFET (5).
A load element consisting of an enhancement type 1st P-channel MOSFET connected to the drain of
The detection circuit (7) is composed of the MOSFET (5). (7a) and (7b) are input terminals and output terminals of the detection circuit (7), and (9) has a gate connected to the output terminal (7b) of the detection circuit (7) and a source connected to the first potential point ( Enhancement type second N-channel MOSFET connected to 3),
(10) is an enhancement type second P-channel type whose drain is connected to the drain of the second N-channel MOSFET (9), the gate is connected to the sense amplifier control signal (8), and the source is connected to the power supply Vcc. The gate of the MOSFET (11) is connected to the output terminal (7b) of the detection circuit (7),
An output control transistor comprising an enhancement type third N-channel MOSFET having a source connected to the first potential point (3) and a drain connected to the output line (12), (13).
Is an enhancement-type third P-channel MOSFET whose source is connected to the power supply Vcc of 5 [V], whose gate is connected to the sense amplifier control signal (8), and whose drain is connected to the drain of the output control transistor (11). It is a load element consisting of the output control transistor (11) and the output circuit (1
This is what constitutes 4). The detection circuit (7), the output circuit (14), and the second N-channel MOSFET
(9) and the second P-channel MOSFET (10) constitute a sense amplifier. Further, although only one memory section (4) is connected to the first potential point (3) of the sense amplifier (15), a plurality of memory sections are connected.

この様に構成された半導体記憶装置は記憶読み出し状態
に於てまずセンスアンプ制御信号(8)がLレベルとな
つて第1及び第2Pチヤネル型MOSFET(6)(10)及び負
荷素子(13)を導通状態とするものである。
In the semiconductor memory device configured as described above, when the sense amplifier control signal (8) becomes L level in the memory read state, the first and second P channel type MOSFETs (6) (10) and the load element (13) are first set. Is to be in a conducting state.

この状態に於て、メモリトランジスタ(1)を選択して
メモリトランジスタ(1)に書き込まれている記憶を読
み出す場合には記憶読み出し信号をメモリトランジスタ
(1)に印加するXアドレス線(X)及びYアドレス線
(Y1)(Y2)が全てHレベルとなるものであり、メモリ
トランジスタ(1)が選択されずメモリトランジスタ
(1)に書き込まれている記憶が読み出されない場合に
はXアドレス線(x)及びアドレス線(Y1)(Y2)の少
なくとも1つ以上がLレベルとなるものである。従つて
選択されたメモリトランジスタ(1)の記憶内容が“0"
で常に非導通である場合には第1電位点(3)からYア
ドレス用トランジスタ(2)及びメモリトランジスタ
(1)を経て接地部分に流れる電流はなく、出力制御ト
ランジスタ(11)は完全な非導通状態となるから出力線
(12)の電位は第3図の傾線(16)に示すように5
〔V〕の電源Vccに近い約4.9〔V〕程度のHレベルとな
る。ところで、上記した様に選択されたメモリトランジ
スタ(1)の記憶内容が“0"で常に非導通である場合に
出力制御トランジスタ(11)が完全な非導通状態となる
のは以下の動作によるものである。例えば第1電位点
(3)の電位が初期状態で0〔V〕の接地電位のLレベ
ルであるとすると、これによつて第1Nチヤネル型MOSFET
(5)は完全な非導通状態となり一方第1Pチヤネル型MO
SFET(6)は導通状態となつているからNチヤネル型MO
SFET(9)及び出力制御トランジスタ(11)のゲートに
は5〔V〕の電源Vccに近いHレベルが印加され、第2N
チヤネル型MOSFET(9)及び出力制御トランジスタ(1
1)は導通し、これによつて第1電位点(3)の電位が
上昇する。第1電位点(3)の電位が上昇すると第1Nチ
ヤネル型MOSFET(5)が導通し電流が流れる様になるか
ら第2Nチヤネル型MOSFET(9)及び出力制御トランジス
タ(11)のゲートに印加される電位は5〔V〕の電源Vc
cより低い第1Pチヤネル型MOSFET(6)と第1Nチヤネル
型MOSFET(5)との電流増幅率の比による電位となり、
一方これら第2Nチヤネル型MOSFET(9)及び出力制御ト
ランジスタ(11)のソースに印加される第1電位点
(3)の電位は上記の様に0〔V〕の接地電位より高く
なつているから、ゲート・ソース間の電位差はMOSFETを
導通させるための電位差より小さくなり、第2Nチヤネル
型MOSFET(9)及び出力制御トランジスタ(11)は非導
通状態となるものである。
In this state, when the memory transistor (1) is selected and the memory written in the memory transistor (1) is read out, an X address line (X) for applying a memory read signal to the memory transistor (1) and When the Y address lines (Y1) and (Y2) are all at the H level and the memory transistor (1) is not selected and the memory written in the memory transistor (1) cannot be read, the X address line ( x) and at least one of the address lines (Y1) and (Y2) are at L level. Therefore, the memory content of the selected memory transistor (1) is "0".
If it is always non-conducting, there is no current flowing from the first potential point (3) to the ground portion through the Y address transistor (2) and the memory transistor (1), and the output control transistor (11) is completely non-conductive. Since it becomes conductive, the potential of the output line (12) is 5 as shown by the slant line (16) in FIG.
The H level is about 4.9 [V], which is close to the power source Vcc of [V]. By the way, when the memory content of the selected memory transistor (1) is "0" and it is always non-conductive, the output control transistor (11) becomes completely non-conductive due to the following operation. Is. For example, assuming that the potential of the first potential point (3) is the L level of the ground potential of 0 [V] in the initial state, the first N-channel MOSFET
(5) is completely non-conductive while the 1st P channel type MO
Since the SFET (6) is in the conductive state, N channel type MO
The H level close to the power source Vcc of 5 [V] is applied to the gates of the SFET (9) and the output control transistor (11), and the second N
Channel type MOSFET (9) and output control transistor (1
1) becomes conductive, which causes the potential at the first potential point (3) to rise. When the potential of the first potential point (3) rises, the first N-channel MOSFET (5) becomes conductive and the current starts to flow, so it is applied to the gates of the second N-channel MOSFET (9) and the output control transistor (11). The potential is 5 [V] power supply Vc
It becomes a potential that is lower than c by the ratio of the current amplification factors of the first P-channel MOSFET (6) and the first N-channel MOSFET (5),
On the other hand, the potential of the first potential point (3) applied to the sources of the second N-channel MOSFET (9) and the output control transistor (11) is higher than the ground potential of 0 [V] as described above. , The potential difference between the gate and the source becomes smaller than the potential difference for making the MOSFET conductive, and the second N-channel MOSFET (9) and the output control transistor (11) become non-conductive.

次に選択されたメモリトランジスタの記憶内容が“1"で
ある場合について記憶内容の読み出しについて説明す
る。この場合にはメモリトランジスタ(1)及びYアド
レス用トランジスタ(2)が導通状態となつているた
め、第1電位点(3)の電位は0〔V〕の接地電位に近
いLレベルとなり、この電位が第1Nチヤネル型MOSFET
(5)のゲートに印加され、第1Nチヤネル型MOSFET
(5)は非導通状態となるから、第2Nチヤネル型MOSFET
(9)及び出力制御トランジスタ(11)のゲートには電
源電圧に近いHレベルの電圧が印加され、第2Nチヤネル
型MOSFET(9)及び出力制御トランジスタ(11)は導通
状態となる。その結果、第1電位点(3)の電位は第2N
チヤネル型MOSFET(9)及び第2Pチヤネル型MOSFET(1
0)及び負荷素子(13)及び出力制御トランジスタ(1
1)並びにメモリトランジスタ(1)及びYアドレス用
トランジスタ(2)の電流増幅率の比による電位とな
る。この電位により、第1Nチヤネル型MOSFET(5)はか
なり導通度の低い状態で導通し、検知回路(7)の出力
電位は低下するものの出力制御トランジスタ(11)及び
第2Nチヤネル型MOSFET(9)を導通させるに充分な電位
となつているので、出力制御トランジスタ(11)及び第
2Nチヤネル型MOSFET(9)は導通状態を維持されている
ものである。この従来例のものにおいては、この状態の
時の出力線の電位は1.8Vであつた。
Next, the reading of the memory content when the memory content of the selected memory transistor is "1" will be described. In this case, since the memory transistor (1) and the Y address transistor (2) are in a conductive state, the potential of the first potential point (3) becomes L level close to the ground potential of 0 [V]. Potential is the 1st N-channel MOSFET
Applied to the gate of (5), the first N-channel MOSFET
Since (5) is non-conducting, the second N-channel MOSFET
An H-level voltage close to the power supply voltage is applied to the gates of (9) and the output control transistor (11), so that the second N-channel MOSFET (9) and the output control transistor (11) become conductive. As a result, the potential at the first potential point (3) is the second N
Channel type MOSFET (9) and second P channel type MOSFET (1
0), load element (13), and output control transistor (1
1) The electric potential is obtained by the ratio of the current amplification factors of the memory transistor (1) and the Y address transistor (2). Due to this potential, the first N-channel MOSFET (5) conducts in a state of low conductivity, and the output potential of the detection circuit (7) decreases, but the output control transistor (11) and the second N-channel MOSFET (9). Since the potential is sufficient to conduct the current, the output control transistor (11) and the first
The 2N channel type MOSFET (9) is maintained in the conductive state. In this conventional example, the potential of the output line in this state was 1.8V.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

上記のような従来の半導体記憶装置に於ては記憶読み出
し状態に於て選択されたメモリトランジスタ(1)に記
憶されている“0"“1"の内容を電位のHレベルとLレベ
ルによつて明示する出力線(12)のレベルの電位が約1.
8〔V〕程度であり、Hレベルの電位約4.9〔V〕との電
位差が小さいため、ノイズ等が発生した場合、Hレベル
とLレベルの区別が無くなり、選択されたメモリトラン
ジスタ(1)に記憶されている“0"“1"の内容を出力線
(12)に明示できなくなるという問題点があつた。
In the conventional semiconductor memory device as described above, the contents of "0" and "1" stored in the selected memory transistor (1) in the memory read state are changed depending on the H level and L level of the potential. The potential at the level of the output line (12) is about 1.
Since it is about 8 [V] and the potential difference with the H level potential of about 4.9 [V] is small, when noise or the like occurs, the H level and the L level are not distinguished and the selected memory transistor (1) is There was a problem that the stored contents of "0" and "1" could not be clearly shown on the output line (12).

この発明は上記の問題点に鑑みてなされたもので、ノイ
ズ等が発生してもメモリトランジスタに記憶されている
“0"“1"の内容を出力線に正確に明示する信頼性に富ん
だ半導体記憶装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and is highly reliable in accurately indicating the contents of "0" and "1" stored in the memory transistor on the output line even if noise or the like occurs. An object is to obtain a semiconductor memory device.

[問題点を解決するための手段] この発明に係る半導体記憶装置は、接地電位点と第1電
位点との間に接続されるメモリトランジスタ、 電源電位点と出力端との間に接続され、制御電極に2値
レベルを有するセンスアンプ制御信号を受け、このセン
スアンプ制御信号の一方のレベルを受けると非導通状態
となり、他方のレベルを受けると導通して負荷素子とな
るPチャネル型MOSトランジスタおよび上記出力端と接
地電位点との間に接続され、制御電極が第1電位点に接
続されたNチャネル型MOSトランジスタを有する検知回
路と、この検知回路の出力端に制御電極が接続され、第
1電位点と出力線の間に接続されたNチャネル型MOSト
ランジスタからなる出力制御トランジスタおよび出力線
と電源電位点との間に接続された負荷素子および第1電
位点と接地電位点との間に接続され、制御電極が出力制
御トランジスタの制御電極に接続されたNチャネル型MO
Sトランジスタからなるレベルシフトトランジスタを有
する出力回路とを有するセンスアンプを備えたものであ
る。
[Means for Solving Problems] A semiconductor memory device according to the present invention includes a memory transistor connected between a ground potential point and a first potential point, and a memory transistor connected between a power supply potential point and an output terminal. A P-channel MOS transistor that receives a sense amplifier control signal having a binary level at its control electrode, becomes non-conductive when receiving one level of this sense amplifier control signal, and becomes conductive when it receives the other level and becomes a load element. And a detection circuit having an N-channel MOS transistor connected between the output end and the ground potential point and having a control electrode connected to the first potential point; and a control electrode connected to the output end of the detection circuit, An output control transistor formed of an N-channel MOS transistor connected between the first potential point and the output line, a load element connected between the output line and the power supply potential point, and the first Is connected between the position point and the ground potential point, N-channel type MO a control electrode connected to the control electrode of the output control transistor
And a sense amplifier having an output circuit having a level shift transistor composed of an S transistor.

[作用] この発明においては、第1電位点と接地電位点との間に
メモリトランジスタと並列に設けられたレベルシフトト
ランジスタが、メモリトランジスタが導通状態の時にお
ける第1電位点と接地電位点との間の合成抵抗値を低下
せしめる如く導通して、出力線に出力されるLレベルの
電位を導通状態におけるメモリトランジスタのみによる
場合の出力線に出力されるLレベルの電位より低くさせ
るものである。
[Operation] In the present invention, the level shift transistor provided in parallel with the memory transistor between the first potential point and the ground potential point functions as the first potential point and the ground potential point when the memory transistor is in the conductive state. Conducting so as to reduce the combined resistance value between the two, the L level potential output to the output line is made lower than the L level potential output to the output line when only the memory transistor in the conductive state is used. .

また、センス動作をしなくてもよいとき、つまり第1電
位点と接地電位点とがメモリトランジスタを介しては導
通していないとき、センスアンプ制御信号を一方のレベ
ルとすることで、このセンスアンプ制御信号を制御電極
に受ける検知回路におけるPチャネル型MOSトランジス
タが非導通状態となり、このとき第1電位点の電位は検
知回路におけるNチャネル型MOSトランジスタを導通さ
せるレベルとなっているので検知回路が出力端にほぼ接
地電位の信号を出力し、この信号を制御電極に受ける出
力回路における出力制御トランジスタが非導通状態にな
り、この出力回路の電源電位点から負荷素子、出力制御
トランジスタおよびレベルシフトトランジスタを介し接
地電位点に流れる電流がなくなる。さらに、第1電位点
からレベルシフトトランジスタを介して接地電位点へ電
流が僅かながらに流れてこの第1電位点の電位が低下し
ても検知回路における出力端と電源電位点とは非導通と
なっているので、再び出力端の電位が上昇することはな
く、出力制御トランジスタは非導通状態のままとなり、
電源電位点から負荷素子、出力制御トランジスタおよび
レベルシフトトランジスタを介し接地電位点に電流が流
れない。
Further, when it is not necessary to perform the sensing operation, that is, when the first potential point and the ground potential point are not electrically connected through the memory transistor, the sense amplifier control signal is set to one level to make this sense operation. The P-channel type MOS transistor in the detection circuit which receives the amplifier control signal at the control electrode becomes non-conductive, and at this time, the potential of the first potential point is at a level at which the N-channel type MOS transistor in the detection circuit becomes conductive. Outputs a signal at approximately the ground potential to the output terminal, and the output control transistor in the output circuit that receives this signal at the control electrode becomes non-conductive, and the load element, output control transistor, and level shift start from the power supply potential point of this output circuit. There is no current flowing through the transistor to the ground potential point. Further, even if the current slightly flows from the first potential point to the ground potential point via the level shift transistor and the potential at the first potential point drops, the output end of the detection circuit and the power supply potential point are not electrically connected. Therefore, the potential of the output terminal does not rise again, and the output control transistor remains non-conductive.
No current flows from the power supply potential point to the ground potential point via the load element, the output control transistor and the level shift transistor.

さらに、センスアンプ制御信号を他方のレベルにし、こ
のセンスアンプを動作させるとき、このセンスアンプ制
御信号を制御電極に受ける検知回路におけるPチャネル
型MOSトランジスタは導通状態となり、単に負荷として
機能するため、出力端に出力される電位は検知回路にお
けるこのPチャネル型MOSトランジスタと出力端と接地
電位点との間に接続されたNチャネル型MOSトランジス
タとの抵抗分割による電位となり、第1電位点の電位の
高低(メモリセルの非導通、導通)に応じて接地電位と
電源電位との間でフルスイングしない。このように出力
端の電位をフルスイングしないように振幅制限している
ので、検知回路の出力端にレベルシフトトランジスタが
付加されて検知回路が充放電する容量が大きくなって
も、充放電する電荷の量はフルスイングするよりも小さ
いので高速に出力制御トランジスタを動作させ、出力線
に出力されるメモリトランジスタを介して第1電位点と
接地電位点とが導通するときおよび非導通となるときに
対応した電位間の変位が高速に行われる。
Further, when the sense amplifier control signal is set to the other level and the sense amplifier is operated, the P-channel type MOS transistor in the detection circuit which receives the sense amplifier control signal at the control electrode becomes conductive and simply functions as a load. The potential output to the output end becomes the potential due to the resistance division between the P-channel MOS transistor in the detection circuit and the N-channel MOS transistor connected between the output end and the ground potential point, and the potential at the first potential point. A full swing does not occur between the ground potential and the power supply potential depending on the level of the memory cell (non-conduction or conduction of the memory cell). In this way, the amplitude of the potential at the output end is limited so that it does not fully swing.Therefore, even if the level shift transistor is added to the output end of the detection circuit and the capacity charged and discharged by the detection circuit increases, the charge and discharge charges are increased. Is smaller than a full swing, the output control transistor is operated at high speed, and when the first potential point and the ground potential point are conducted and non-conducted via the memory transistor output to the output line. The displacement between the corresponding potentials is performed at high speed.

[実施例] 第1図はこの発明の一実施例を示す半導体記憶装置の回
路図であり、図において(18)は制御電極であるゲート
と一方の入出力電極であるドレインとが各々出力制御ト
ランジスタ(11)のゲートとソースとに接続され、ソー
スが接地された1個のエンハンスメント型のNチヤネル
型MOSFETからなるレベルシフトトトランジスタで、この
レベルシフトトランジスタ(18)は選択されたメモリト
ランジスタ(1)の記憶内容が“0"で常に非導通である
場合には、前記従来例に於るメモリトランジスタ(1)
が導通状態の時の第1電位点(3)の電位より高い所定
電位Vを第1電位点(3)に供給し、選択されたメモリ
トランジスタ(1)の記憶内容が“1"で常に導通である
場合には、前記従来例に於るメモリトランジスタ(1)
が導通状態の時の第1電位点(3)の電位より低く、よ
つて所定電位Vよりも低い所定電位vを第1電位点
(3)に供給するためのものであり、上記出力制御トラ
ンジスタ(11)及び負荷素子(13)とともに出力回路
(19)を構成しているものである。
[Embodiment] FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor memory device showing an embodiment of the present invention. In the figure, (18) shows output control of a gate as a control electrode and a drain as one input / output electrode. The level shift transistor (18) is composed of one enhancement-type N-channel MOSFET connected to the gate and the source of the transistor (11) and the source of which is grounded. The level shift transistor (18) is a selected memory transistor ( When the memory content of 1) is "0" and is always non-conductive, the memory transistor (1) in the above-mentioned conventional example is used.
Is supplied to the first potential point (3) at a predetermined potential V higher than the potential of the first potential point (3) when the memory cell is in the conductive state, and the memory content of the selected memory transistor (1) is "1" and is always conductive. If it is, the memory transistor (1) in the conventional example
Is for supplying to the first potential point (3) a predetermined potential v that is lower than the potential of the first potential point (3) when V is in the conductive state, and thus lower than the predetermined potential V. The output circuit (19) is configured with the (11) and the load element (13).

この様に構成された半導体記憶装置は記憶読み出し状態
に於て、以下の様に動作するものである。
The semiconductor memory device configured as described above operates as follows in the memory read state.

まず、選択されたメモリトランジスタ(1)の記憶内容
が“0"である場合の記憶内容の読み出し動作を説明す
る。今、例えば第1電位点(3)の電位が初期状態で0
〔V〕の接地電位のLレベルであるとすると、これによ
つて第1Nチヤネル型MOSFET(5)は完全な非導通状態と
なり、一方、第1Pチヤネル型MOSFET(6)は導通状態と
なつているから第2Nチヤネル型MOSFET(9)及び出力制
御トランジスタ(11)並びにレベルシフトトランジスタ
(18)はゲートに電源Vcc例えば5vに近いHレベルが印
加されて導通する。導通すると第1電位点(3)の電位
がメモリトランジスタ(1)が非導通状態であるため、
第2Nチヤネル型MOSFET(9)及び第2Pチヤネル型MOSFET
(10)及び負荷素子(3)及び出力制御トランジスタ
(11)並びにレベルシフトトランジスタ(18)の電流増
幅率の比による電位すなわち、第1Nチヤネル型MOSFET
(5)を導通させる程度の電位まで上昇し、この電位に
よつて第1Nチヤネル型MOSFET(5)が導通する。その結
果、第2Nチヤネル型MOSFET(9)及び出力制御トランジ
スタ(11)並びにレベルシフトトランジスタ(18)はゲ
ートに第1Nチヤネル型MOSFET(5)と第1Pチヤネル型MO
SFET(6)との電流増幅率の比による電位すなわち5
〔V〕の電源Vccよりかなり低い電位、つまり、この電
位と上記第1電位点との電位の差が出力制御トランジス
タ(11)を導通させるためのゲート・ソース間電圧より
小さくなる電位となるため出力制御トランジスタ(11)
は非導通状態となる。この状態において、レベルシフト
トランジスタ(18)は検知回路(7)のかなり低い出力
電位により導通度の低い状態で導通し、第1電位点
(3)の電位を、第2Nチヤネル型MOSFET(9)及び出力
制御トランジスタ(11)が非導通状態であるため、さら
に下降させる。この第1電位点(3)の電位の下降に基
づき第1NチヤネルMOSFET(5)はかなり導通度の低い状
態で導通するものの、再び上記したと同様な動作が繰り
返され、最終的に第1電位点(3)の電位は前記従来例
に於るメモリトランジスタ(1)が導通状態の時の第1
電位点(3)の電位より高い所定電位V、この実施例の
ものにおいては1.35〔V〕となり、出力制御トランジス
タ(11)のゲートに印加される電位も所定電位、この実
施例においては2.2〔V〕となつて平衡状態に達するこ
とになる。その結果、出力制御トランジスタ(11)は実
質的に非導通状態と同様に機能し、この実施例において
は、出力線(2)の電位が第3図の傾線(16)に示すよ
うな5〔V〕の電源Vccに近い約4.9〔V〕のHレベルと
なつたものである。
First, the read operation of the stored content when the stored content of the selected memory transistor (1) is “0” will be described. Now, for example, the potential of the first potential point (3) is 0 in the initial state.
Assuming that the ground potential of [V] is at the L level, this causes the first N-channel MOSFET (5) to be completely non-conductive, while the first P-channel MOSFET (6) is conductive. Therefore, the second N-channel MOSFET (9), the output control transistor (11) and the level shift transistor (18) are turned on by applying an H level close to the power supply Vcc, eg, 5v, to their gates. When conducting, the potential of the first potential point (3) causes the memory transistor (1) to be in non-conducting state.
Second N-channel MOSFET (9) and second P-channel MOSFET
(10), the load element (3), the output control transistor (11), and the potential according to the ratio of the current amplification factors of the level shift transistor (18), that is, the first N-channel MOSFET.
The potential rises to such an extent that (5) is made conductive, and this potential makes the first N-channel MOSFET (5) conductive. As a result, the second N-channel MOSFET (9), the output control transistor (11) and the level shift transistor (18) have their gates at the first N-channel MOSFET (5) and the first P-channel MO.
Potential according to the ratio of current amplification factor with SFET (6), that is, 5
The potential is much lower than the power source Vcc of [V], that is, the potential difference between this potential and the first potential point becomes smaller than the gate-source voltage for conducting the output control transistor (11). Output control transistor (11)
Becomes non-conductive. In this state, the level shift transistor (18) conducts in a state of low conductivity due to a considerably low output potential of the detection circuit (7), and the potential of the first potential point (3) is changed to the second N-channel MOSFET (9). Since the output control transistor (11) and the output control transistor (11) are non-conductive, the voltage is further lowered. Although the first N-channel MOSFET (5) conducts in a state where the conductivity is considerably low based on the decrease in the potential of the first potential point (3), the same operation as described above is repeated again, and finally the first potential is reached. The potential at the point (3) is the first when the memory transistor (1) in the above-mentioned conventional example is in the conductive state.
A predetermined potential V higher than the potential of the potential point (3) is 1.35 [V] in this embodiment, and the potential applied to the gate of the output control transistor (11) is also a predetermined potential, 2.2 [V] in this embodiment. V] and an equilibrium state is reached. As a result, the output control transistor (11) functions substantially in the same non-conducting state, and in this embodiment, the potential of the output line (2) is 5 as shown by the slant line (16) in FIG. This is an H level of about 4.9 [V], which is close to the power supply Vcc of [V].

次に選択されたメモリトランジスタの記憶内容が“1"で
ある場合について記憶内容の読み出しについて説明す
る。この場合にはメモリトランジスタ(1)及びYアド
レス用トランジスタ(2)が導通状態となつているた
め、第1電位点(3)の電位は〔V〕の接地電位に近い
Lレベルとなり、この電位が第1Nチヤネル型MOSFET
(5)のゲートに印加され、第1Nチヤネル型MOSFET
(5)は非導通状態となるから、第2Nチヤネル型MOSFET
(9)及び出力制御トランジスタ(11)並びにレベルシ
フトトランジスタ(18)のゲートには電源電圧に近いH
レベルの電圧が印加され第2Nチヤネル型MOSFET(9)及
び出力制御トランジスタ(11)並びにレベルシフトトラ
ンジスタ(18)は導通状態となる。その結果、第1電位
点(3)の電位は第2Nチヤネル型MOSFET(9)及び第2P
チヤネル型MOSFET(10)及び負荷素子(13)及び出力制
御トランジスタ(11)及びレベルシフトトランジスタ
(18)並びにメモリトランジスタ(1)及びYアドレス
用トランジスタ(2)の電流増幅率の比による電位、す
なわち選択されたメモリトランジスタ(1)の記憶内容
が“0"で常に非導通である場合の第1電位点(3)の電
位よりも約0.05V小さく、更に前記従来例に於るメモリ
トランジスタ(1)が導通状態の時の第1電位点(3)
の電位よりも小さい所定電位v、この実施例においては
約1.30〔V〕となり、上記0.05〔V〕の電位の差がある
1.30〔V〕の電位が第1Nチヤネル型MOSFET(5)のゲー
トに印加されると出力制御トランジスタ(11)のゲート
に印加される電位は3〔V〕程度の電位となり出力制御
トランジスタ(11)はゲート・ソース間の電位差が1.7
〔V〕程度となり導通したままとなるものである。そし
て、この状態に於て出力線(12)の電位はメモリトラン
ジスタ(1)、Yアドレス用トランジスタ(2)、出力
制御トランジスタ(11)、並びにレベルシフトトランジ
スタ(18)の電流増幅率に対する負荷素子(13)の電流
増幅率の比よる電位となり、この電流増幅率の比はレベ
ルシフトトランジスタ(18)を設けたことにより変化し
て従来の半導体記憶装置に比べ負荷素子(13)側の電流
増幅率の比が小さくなる、すなわち、出力線(12)と接
地電位間の抵抗が小さくなるから出力線(12)の電位は
第3図の傾線(21)に示すように従来に比べ約0.2
〔V〕低い1.6〔V〕程度のLレベルとなるものであ
り、これによつてHレベルとLレベルの電位差が拡大さ
れ、ノイズマージンが大きくなるものである。
Next, the reading of the memory content when the memory content of the selected memory transistor is "1" will be described. In this case, since the memory transistor (1) and the Y address transistor (2) are in a conductive state, the potential of the first potential point (3) becomes an L level close to the ground potential of [V], and this potential Is the 1st N-channel MOSFET
Applied to the gate of (5), the first N-channel MOSFET
Since (5) is non-conducting, the second N-channel MOSFET
The gates of (9), the output control transistor (11) and the level shift transistor (18) have an H level close to the power supply voltage.
When the level voltage is applied, the second N-channel MOSFET (9), the output control transistor (11) and the level shift transistor (18) become conductive. As a result, the potential at the first potential point (3) is at the second N-channel MOSFET (9) and the second P-type.
The potential according to the ratio of the current amplification factors of the channel type MOSFET (10), the load element (13), the output control transistor (11), the level shift transistor (18), the memory transistor (1) and the Y address transistor (2), that is, It is about 0.05 V smaller than the potential of the first potential point (3) when the memory content of the selected memory transistor (1) is "0" and is always non-conductive, and further the memory transistor (1 ) Is the conductive state, the first potential point (3)
The predetermined potential v is smaller than the potential of the above, about 1.30 [V] in this embodiment, and there is a difference of the above potential of 0.05 [V].
When the potential of 1.30 [V] is applied to the gate of the first N-channel MOSFET (5), the potential applied to the gate of the output control transistor (11) becomes about 3 [V] and the output control transistor (11). Has a gate-source potential difference of 1.7
It becomes about [V] and remains conductive. In this state, the potential of the output line (12) is the load element for the current amplification factor of the memory transistor (1), the Y address transistor (2), the output control transistor (11) and the level shift transistor (18). It becomes a potential depending on the current amplification factor ratio of (13), and this current amplification factor ratio changes due to the provision of the level shift transistor (18), and the current amplification factor of the load element (13) side is larger than that of the conventional semiconductor memory device. Since the ratio of the ratios is small, that is, the resistance between the output line (12) and the ground potential is small, the potential of the output line (12) is about 0.2 compared with the conventional one as shown by the slant line (21) in FIG.
[V] is low and the L level is about 1.6 [V], whereby the potential difference between the H level and the L level is enlarged, and the noise margin is increased.

なお、上記実施例に於てメモリトランジスタ(1)をFA
MOSかるなるものとしたが、他のものでも良く、記憶さ
れた“0"“1"の内容に応じて導通または非導通のいずれ
か一方の状態となるものであれば良いものである。
In the above embodiment, the memory transistor (1) is FA
Although it is assumed to be a MOS transistor, any other MOS transistor may be used as long as it is in a conductive state or a non-conductive state depending on the stored contents of "0" and "1".

また、上記実施例に於ては、レベルシフトトランジスタ
(18)を1個だけ設けたがこれを複数個設けても良いも
のである。
Further, in the above embodiment, only one level shift transistor (18) is provided, but a plurality of level shift transistors (18) may be provided.

以上の説明に於ては、1個のセンスアンプ(15)に対し
メモリトランジスタ(1)が1個接続されたものについ
て説明したが、通常の半導体記憶装置に於いては1個の
センスアンプ(15)に対し複数のメモリトランジスタ
(1)が接続されるものが一般的であり、この様な場合
に於ても上記発明のもは同様の効果を有するものである
ことは言うまでもない。
In the above description, one memory transistor (1) is connected to one sense amplifier (15), but in a normal semiconductor memory device, one sense amplifier (15) is used. It is general that a plurality of memory transistors (1) are connected to 15), and it goes without saying that the invention described above also has the same effect in such a case.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように、この発明に係る半導体記憶装置によれ
ば、センスアンプにおいて第1電位地点と接地電位点と
の間にレベルシフトトランジスタを設けたことにより、
メモリトランジスタを介して第1電位点から接地電位点
に電流が流れたとき、このレベルシフトトランジスタも
導通してメモリトランジスタだけでなくレベルシフトト
ランジスタをも介して第1電位点から接地電位点に電流
が流れるので、出力線に出力される電位がメモリトラン
ジスタのみが導通するよりも低くなり、第1電位点から
メモリトランジスタを介して接地電位点に電流が流れる
ときおよび流れないときの出力線に現れる電位の電位差
が大きくなり、これによってノイズ等が発生しても出力
線に現れる電位を明確に第1電位点からメモリトランジ
スタを介して接地電位点に電流が流れるときおよび流れ
ないときに対応させることができ、半導体記憶装置の信
頼性が向上するという効果がある。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, by providing the level shift transistor between the first potential point and the ground potential point in the sense amplifier,
When a current flows from the first potential point to the ground potential point through the memory transistor, the level shift transistor also conducts and the current flows from the first potential point to the ground potential point not only through the memory transistor but also through the level shift transistor. , The potential output to the output line becomes lower than that when only the memory transistor conducts, and appears on the output line when the current flows from the first potential point to the ground potential point through the memory transistor and when the current does not flow. Even if noise or the like occurs due to a large potential difference, the potential appearing on the output line should be clearly dealt with when the current flows from the first potential point to the ground potential point via the memory transistor and when it does not flow. Therefore, there is an effect that the reliability of the semiconductor memory device is improved.

また、センスアンプにおける検知回路を電源電位点と出
力端との間に接続され、制御電極に2値レベルを有する
センスアンプ制御信号を受け、このセンスアンプ制御信
号の一方のレベルを受けると非導通状態となり、他方の
レベルを受けると導通して負荷素子となるセンスアンプ
制御信号を受けるPチャネル型MOSトランジスタと、出
力端と接地電位点との間に接続され、制御電極が第1電
位点に接続されたNチャネル型MOSトランジスタとを有
するものとしたことにより、センス動作の必要のないと
きはセンスアンプ制御信号を一方のレベルとすることで
検知回路の出力端にLレベルの信号を出力させ、出力回
路における出力制御トランジスタを非導通にし、電源電
位点から出力制御トランジスタおよびレベルシフトトラ
ンジスタを介して接地電位点に流れる電流を削減できる
という効果がある。
Further, the detection circuit in the sense amplifier is connected between the power supply potential point and the output terminal, the control electrode receives the sense amplifier control signal having a binary level, and is non-conductive when receiving one level of the sense amplifier control signal. And a P-channel MOS transistor that is conductive when it receives the other level and receives a sense amplifier control signal that serves as a load element, and is connected between the output end and the ground potential point, and the control electrode is at the first potential point. By having a connected N-channel type MOS transistor, the L level signal is output to the output terminal of the detection circuit by setting the sense amplifier control signal to one level when the sensing operation is not required. , Make the output control transistor in the output circuit non-conductive, and ground from the power supply potential point through the output control transistor and the level shift transistor. An advantageous effect of reducing the current flowing through the position point.

さらに、センスアンプにおける検知回路を上記のような
構成としたことにより検知回路の出力端から出力される
電位の振幅が小さくなるので、出力制御トランジスタお
よびレベルシフトトランジスタが高速で動作し、出力線
に出力されるデータが高速で変化するため、高速読み出
しができるという効果がある。
Furthermore, by configuring the detection circuit in the sense amplifier as described above, the amplitude of the potential output from the output end of the detection circuit becomes smaller, so the output control transistor and level shift transistor operate at high speed, and the output line Since the output data changes at high speed, there is an effect that high-speed reading can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の一実施例を示すEPROMのメモリ部と
センスアンプの回路図、第2図は従来の半導体記憶装置
を示すEPROMのメモリ部とセンスアンプの回路図、第3
図は従来の半導体記憶装置とこの発明の一実施例とに於
る出力線の電位と電源電圧との関係を示す特性図であ
る。 図に於て、(1)はメモリトランジスタ、(11)は出力
制御トランジスタ、(12)は出力線、(13)は負荷素
子、(18)はレベルシフトトランジスタ、(19)は出力
回路、(15)はセンスアンプである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示すもの
とする。
FIG. 1 is a circuit diagram of an EPROM memory unit and a sense amplifier showing an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram of an EPROM memory unit and a sense amplifier showing a conventional semiconductor memory device.
The figure is a characteristic diagram showing the relationship between the potential of the output line and the power supply voltage in the conventional semiconductor memory device and one embodiment of the present invention. In the figure, (1) is a memory transistor, (11) is an output control transistor, (12) is an output line, (13) is a load element, (18) is a level shift transistor, (19) is an output circuit, ( 15) is a sense amplifier. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】接地電位点と第1電位点との間に接続され
るメモリトランジスタ、 電源電位点と出力端との間に接続され、制御電極に2値
レベルを有するセンスアンプ制御信号を受け、このセン
スアンプ制御信号の一方のレベルを受けると非導通状態
となり、他方のレベルを受けると導通して負荷素子とな
るPチャネル型MOSトランジスタおよび上記出力端と接
地電位点との間に接続され、制御電極が上記第1電位点
に接続されたNチャネル型MOSトランジスタを有する検
知回路と、この検知回路の出力端に制御電極が接続さ
れ、上記第1電位点と出力線の間に接続されたNチャネ
ル型MOSトランジスタからなる出力制御トランジスタお
よび上記出力線と電源電位点との間に接続された負荷素
子および上記第1電位点と上記接地電位点との間に接続
され、制御電極が上記出力制御トランジスタの制御電極
に接続されたNチャネル型MOSトランジスタからなるレ
ベルシフトトランジスタを有する出力回路とを有するセ
ンスアンプを備える半導体記憶装置。
1. A memory transistor connected between a ground potential point and a first potential point, a memory transistor connected between a power supply potential point and an output terminal, and having a control electrode receiving a sense amplifier control signal having a binary level. When one of the levels of this sense amplifier control signal is received, it becomes non-conductive, and when it receives the other level, it becomes conductive and becomes a load element, and is connected between the output terminal and the ground potential point. A detection circuit having an N-channel type MOS transistor whose control electrode is connected to the first potential point, and a control electrode connected to the output terminal of the detection circuit, and connected between the first potential point and the output line. An output control transistor formed of an N-channel MOS transistor, a load element connected between the output line and a power supply potential point, and a load element connected between the first potential point and the ground potential point. And a sense amplifier having an output circuit having a level shift transistor whose control electrode is connected to the control electrode of the output control transistor and which is an N-channel MOS transistor.
【請求項2】出力回路の負荷素子は、制御電極にセンス
アンプ制御信号が印加されるエンハンスメント型のPチ
ャネル型MOSトランジスタであることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the load element of the output circuit is an enhancement type P-channel MOS transistor in which a sense amplifier control signal is applied to a control electrode. .
【請求項3】センスアンプは、制御電極が検知回路の出
力端に接続され、一方の入出力電極が第1電位点と接続
されたエンハンスメント型のNチャネル型MOSトランジ
スタと、このNチャネル型MOSトランジスタの他方の入
出力電極と電源との間に接続され、制御電極にセンスア
ンプ制御信号が印加されるPチャネル型MOSトランジス
タとを有するものであることを特徴とする特許請求の範
囲第2項記載の半導体記憶装置。
3. An enhancement-type N-channel MOS transistor having a control electrode connected to an output terminal of a detection circuit and one input / output electrode connected to a first potential point, and the N-channel MOS transistor. 3. A P-channel type MOS transistor, which is connected between the other input / output electrode of the transistor and the power supply and has a control electrode to which a sense amplifier control signal is applied. The semiconductor memory device described.
【請求項4】メモリトランジスタは、Nチャネル型FAMO
Sトランジスタであることを特徴とする特許請求の範囲
第1項ないし第3項のいずれかに記載の半導体記憶装
置。
4. A memory transistor is an N-channel FAMO.
4. A semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is an S transistor.
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