JPH0680628B2 - Scanning exposure device - Google Patents
Scanning exposure deviceInfo
- Publication number
- JPH0680628B2 JPH0680628B2 JP59056626A JP5662684A JPH0680628B2 JP H0680628 B2 JPH0680628 B2 JP H0680628B2 JP 59056626 A JP59056626 A JP 59056626A JP 5662684 A JP5662684 A JP 5662684A JP H0680628 B2 JPH0680628 B2 JP H0680628B2
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- JP
- Japan
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- signal
- pattern
- bus
- generator
- exposure
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
- G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は走査形露光装置に関するものであり、特に低価
格で操作性，拡張性に優れた走査形露光装置に関するも
のである。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a scanning type exposure apparatus, and more particularly to a scanning type exposure apparatus which is low in price and excellent in operability and expandability.
従来例の構成とその問題点 近年、マイクロエレクトロニクス，マイクロオプティク
ス分野の研究が盛んに行われ、微細加工技術に関心が持
たれている。従来の微細加工では、光を利用したフォト
リソグラフィ技術が中心であったが、素子の集積化が進
むにつれて一本の線幅が光の波長以下つまり、サブミク
ロンの微細加工技術が要求され、電子ビームで直接描画
するという電子ビームリソグラフィ技術が主流になりつ
つある。LSI,超LSIのパターン形成用として利用されて
いる半導体用電子ビーム露光装置は、複雑なパターンを
精度よく描画し、位置合わせも正確に行なえるのである
が、非常に価格が高い。使用する用途に応じた必要最小
限の機能をもつ安価な簡易形の電子ビーム露光装置が開
発されている。これは、走査形電子顕微鏡（SEM）に、
インターフェースを通して制御装置としてコンピュータ
を接続したものである。これまで開発された簡易形の電
子ビーム露光装置は、テレビジョン受像機の表示管のよ
うに上から下、左から右へ一定の速度で走査し、そのと
きのビームのオン，オフで任意の図形を描くラスタスキ
ャン方式のものと、描きたい領域だけビームをオンして
走査するベクトルスキャン方式のものがある。前者のラ
スタスキャン方式のものは単純なメカニズムで任意の図
形を描くことができるが、ビームをオフしている領域で
も一定速度で走査しなければならず、又なめらかな曲線
を描くことはできない。一方、後者のベクトルスキャン
方式のものは、描きたい領域だけ走査するため短時間で
効率よくなめらかに描画することができる。Structure of Conventional Example and its Problems In recent years, researches in the fields of microelectronics and microoptics have been actively conducted, and there is an interest in fine processing technology. In conventional microfabrication, photolithography technology using light was the main focus, but as the integration of elements progressed, the line width of one line was less than the wavelength of light, that is, submicron microfabrication technology was required. The electron beam lithography technique of directly writing with a beam is becoming mainstream. The electron beam exposure apparatus for semiconductors used for pattern formation of LSIs and VLSIs is capable of accurately drawing complicated patterns and performing accurate alignment, but it is extremely expensive. An inexpensive and simple type electron beam exposure apparatus having a necessary minimum function according to the intended use has been developed. This is a scanning electron microscope (SEM)
A computer is connected as a control device through an interface. The simple type electron beam exposure system developed so far scans from top to bottom and left to right at a constant speed like a display tube of a television receiver, and the beam is turned on and off at that time. There are a raster scan type that draws a figure and a vector scan type that turns on the beam only in the area you want to draw. The former raster scan type can draw arbitrary figures by a simple mechanism, but it must scan at a constant speed even in a region where the beam is off, and it cannot draw a smooth curve. On the other hand, the latter vector scan method scans only an area to be drawn, so that smooth and efficient drawing can be performed in a short time.
しかし、従来のベクトルスキャン方式の電子ビーム露光
装置は、単独に直線や円は描くことができるが、その切
り換えは機械式であり、コンピュータでソフト的に制御
できない。さらに、他のパターンの信号を発生する描画
信号発生器の増設も容易ではなく、機能の拡張性に乏し
い。However, the conventional vector scan type electron beam exposure apparatus can draw a straight line or a circle independently, but the switching is mechanical and cannot be controlled by software by a computer. Further, it is not easy to add a drawing signal generator for generating signals of other patterns, and the expandability of the function is poor.
発明の目的 本発明はこのような従来の問題に鑑み、低価格な簡易形
の走査形露光装置で、描画効率に優れたベクトルスキャ
ン方式を採用しながら直線や円のみならず任意の曲線
を、コンピュータからプログラムにより自由に選んでな
めらかに描画でき、さらに必要に応じて所望の曲線の信
号発生器を容易に増設してデータ処理を簡単化すること
が可能な操作性．拡散性に優れた走査形露光装置を提供
することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION In view of such conventional problems, the present invention is a low-priced simple type scanning exposure apparatus, which adopts a vector scanning method excellent in drawing efficiency while not only a straight line or a circle but an arbitrary curve, Operability that allows you to freely select and draw smoothly with a program from a computer, and to easily add a signal generator with the desired curve to simplify data processing as needed. It is an object of the present invention to provide a scanning type exposure apparatus having excellent diffusivity.
発明の構成 本発明の走査形露光装置は、少なくとも、露光ビーム偏
向器とビームブランキング器を有する露光部と、複数の
描画信号発生器と制御信号判読器と描画ビーム制御器か
らなる描画信号発生部と、制御部から構成され、上記露
光部と上記描画信号発生部は描画パターン出力信号バス
で、上記描画信号発生部と上記制御部は制御信号バス及
び描画パターンデータバスで接続された走査形露光装置
であって、上記制御信号判読器は、上記制御信号バス上
の描画信号発生器選択信号を判読して所望の上記描画信
号発生器に制御信号を出力することにより上記データバ
ス上の描画パターンデータを上記所望の描画信号発生器
に記憶させ、上記データを記憶した上記描画信号発生器
は、上記描画ビーム制御器を駆動し、描画パターン出力
信号とビーム制御信号をそれぞれ、上記露光ビーム偏向
器、上記ビームブランキング器に加え、所望のパターン
を走査露光するという方式をとることにより、制御部に
データを入力するだけで、内蔵した描画信号発生器を任
意に選択して、種々の曲線を、効率よくなめらかに描画
でき、さらに描画信号発生器は並列に配列されているた
め要求が生じた所望の曲線の描画信号発生器を容易に増
設でき、所望のパターンを簡単なデータ処理で描画可能
とする操作性，拡張性に優れた走査形露光装置を実現可
能とするものである。The scanning exposure apparatus according to the present invention includes at least an exposure unit having an exposure beam deflector and a beam blanker, a drawing signal generator including a plurality of drawing signal generators, a control signal reader and a drawing beam controller. And a control unit, wherein the exposure unit and the drawing signal generator are connected by a drawing pattern output signal bus, and the drawing signal generator and the controller are connected by a control signal bus and a drawing pattern data bus. In the exposure apparatus, the control signal reader reads the drawing signal generator selection signal on the control signal bus and outputs a control signal to a desired drawing signal generator to draw on the data bus. Pattern data is stored in the desired drawing signal generator, and the drawing signal generator that stores the data drives the drawing beam controller to generate a drawing pattern output signal. Beam control signals are added to the exposure beam deflector and the beam blanker, respectively, and a method for scanning and exposing a desired pattern is adopted. Can be arbitrarily selected to draw various curves efficiently and smoothly, and since the drawing signal generators are arranged in parallel, it is possible to easily add drawing signal generators for the desired curves that have been requested. It is possible to realize a scanning type exposure apparatus which is capable of drawing a desired pattern by simple data processing and has excellent operability and expandability.
実施例の説明 第１図は、本発明の一実施例の走査形露光装置の構成を
示すものである。本実施例において、走査形露光装置は
制御部１と描画信号発生部２と露光部３から構成され、
各部の信号の入出力信号線として描画パターンデータバ
ス4,制御信号バス5,描画パターン出力信号バス９が設け
られている。制御部１は描画パターンデータと制御信号
を、それぞれ描画パターンデータバス４と制御信号バス
５を用いて描画信号発生部２に出力する。描画信号発生
部２は、データ入力端子と出力端子と制御端子を有した
複数個の描画信号発生器61，62，…，6Nと制御信号判読
器７と描画ビーム制御器８から構成され、制御部１で発
生した制御信号の一部つまり描画信号発生器選択信号は
制御信号判読器７に伝送されて判読され、所望の描画信
号発生器6n（ｎは1,2、…,Nのうちのどれか１つであ
る）に制御信号を出力する。制御信号を出力された描画
信号発生器6nは描画パターンデータを記憶する。Description of Embodiments FIG. 1 shows the configuration of a scanning exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. In the present embodiment, the scanning type exposure apparatus comprises a control unit 1, a drawing signal generation unit 2 and an exposure unit 3,
A drawing pattern data bus 4, a control signal bus 5, and a drawing pattern output signal bus 9 are provided as input / output signal lines for signals of respective parts. The control unit 1 outputs the drawing pattern data and the control signal to the drawing signal generating unit 2 using the drawing pattern data bus 4 and the control signal bus 5, respectively. The drawing signal generator 2 comprises a plurality of drawing signal generators 6 1 , 6 2 , ..., 6 N having data input terminals, output terminals and control terminals, a control signal reader 7 and a drawing beam controller 8. Then, a part of the control signal generated by the control unit 1, that is, the drawing signal generator selection signal is transmitted to the control signal reader 7 and is read, and the desired drawing signal generator 6 n (n is 1, 2, ..., Control signal to any one of N). The drawing signal generator 6 n to which the control signal is output stores the drawing pattern data.
所望の描画信号発生器6Nがデータの記憶を完了した後、
描画スタートの制御信号で描画信号発生器6Nは描画パタ
ーン出力信号と描画ビーム制御器駆動信号を、描画パタ
ーン出力信号バス９を通じてそれぞれ、露光ビーム偏向
器11と描画ビーム制御器８に出力し、信号を受けた描画
ビーム制御器８はビームブランキング器10にビーム制御
信号を出力する。ビームブランキング器10と露光ビーム
偏向器11は、受けとった信号にもとづいて同期しなが
ら、ビーム14を偏向又はブランキングしながら、試料13
上に所望のパターンを描画する。描画終了と同時に、描
画信号発生器6nは、制御信号バス５を通じて、描画エン
ドの制御信号を制御部１に出力し、制御部は次の描画パ
ターンデータと制御信号を出力し、同様に繰り返してい
く。なお、制御部１は、露光部３を直接制御する制御信
号を出力するようにしてもよい。After the desired drawing signal generator 6 N has finished storing the data,
The drawing signal generator 6 N outputs the drawing pattern output signal and the drawing beam controller drive signal to the exposure beam deflector 11 and the drawing beam controller 8 through the drawing pattern output signal bus 9 by the drawing start control signal, The drawing beam controller 8 receiving the signal outputs a beam control signal to the beam blanking device 10. The beam blanking device 10 and the exposure beam deflector 11 are synchronized with each other on the basis of the received signal, deflecting or blanking the beam 14, and
Draw the desired pattern on top. Simultaneously with the drawing, the drawing signal generator 6 n outputs the drawing end control signal to the control unit 1 through the control signal bus 5, and the control unit outputs the next drawing pattern data and control signal. To go. The control unit 1 may output a control signal that directly controls the exposure unit 3.
従って制御部２の入力装置12にデータを入力するだけ
で、所望のパターンを発生する描画信号発生器6nを選択
し、入力データ通りにパターンを描くことができる。例
えば、描画信号発生器61を矩形内塗りつぶし、同62を
円、同63を任意の２点を結ぶ直線のパターンを発生する
ようにすると、それぞれの組み合わせでほとんどあらゆ
るパターンの描画を行うことができる。任意の２点を結
ぶ直線のパターンを発生する描画信号発生器だけですべ
てのパターンを近似的に構成することができるが、円を
描画する場合を考えると、なめらかに描こうとする入力
データ数が増え、データ数が少ないとなめらかに描けな
い。さらに、よく使用することが予想される矩形内塗り
つぶしのパターンを発生する描画信号発生器等を設けて
いると、入力データ数を大幅に減少することができ、非
常に操作性が向上する。描画信号発生器は拡張性のよい
並列構造で配列されているため、容易に増設が可能で、
専用の描画信号発生器を設けることにより簡単なデータ
入力だけで所望のパターンをなめらかに描画でき、複雑
なパターンを簡単な操作で効率よく描画することができ
る非常に優れた露光装置を実現可能にする。Therefore, only by inputting data to the input device 12 of the control unit 2, the drawing signal generator 6 n that generates a desired pattern can be selected and the pattern can be drawn according to the input data. For example, if the drawing signal generator 6 1 is filled in the rectangle, the drawing 6 2 is a circle, and the drawing 6 3 is a straight line pattern connecting two arbitrary points, almost any pattern is drawn by each combination. be able to. All patterns can be configured approximately only with a drawing signal generator that generates a linear pattern connecting any two points, but considering the case of drawing a circle, the number of input data to be drawn smoothly If the number of data increases and the number of data is small, it cannot be drawn smoothly. Furthermore, if a drawing signal generator or the like that generates a pattern for filling in a rectangle that is expected to be frequently used is provided, the number of input data can be greatly reduced and the operability is greatly improved. Since the drawing signal generators are arranged in a parallel structure with good expandability, they can be easily added,
By providing a dedicated drawing signal generator, a desired pattern can be drawn smoothly with only simple data input, and it is possible to realize an extremely excellent exposure apparatus that can efficiently draw complicated patterns with simple operations. To do.
本実施例における入出力信号の順序をさらに説明するた
めに各領域間における描画パターンデータバス4,制御信
号バス5,描画パターン出力信号バス９上の信号のタイム
チャートを第２図に示す。制御信号バス５は、制御部１
に対して信号出力バスと入力バスを有している。まず、
制御部１から制御信号バス５に描画信号発生器選択信号
15が出力され、選択後合図として選択完了信号16が返っ
てくる。次に描画パターンデータバス４を通じて描画パ
ターンデータ17が、制御信号のデータ出力パルス18とと
もに出力される。例えば、矩形内塗りつぶしの描画信号
発生器6nが選択された場合、描画パターンデータ17とし
て、矩形の位置を決める座標X,Yと、矩形の横と縦の長
さL,Hを入力するものとすると、同図に示したように、
Ｘデータ17aとともにデータ出力パルス18aが出力され、
描画信号発生器6nがＸデータ17aを記憶し、その合図と
してデータ記憶完了パルス19aが返ってくる。これを以
下繰り返して、選択された描画信号発生器6nは必要なデ
ータ記憶を完了する。次に、描画スタート信号20で、描
画パターン出力信号とビーム制御信号21が出力され、描
画が行われる。描画終了とともに合図として描画エンド
の信号22が返ってくるので、制御部１は次のデータを同
様に出力し繰り返していく。FIG. 2 shows a time chart of signals on the drawing pattern data bus 4, the control signal bus 5, and the drawing pattern output signal bus 9 between the respective areas in order to further explain the order of the input / output signals in this embodiment. The control signal bus 5 is the control unit 1.
, And has a signal output bus and an input bus. First,
Drawing signal generator selection signal from control unit 1 to control signal bus 5
15 is output, and the selection completion signal 16 is returned as a signal after selection. Next, the drawing pattern data 17 is output through the drawing pattern data bus 4 together with the data output pulse 18 of the control signal. For example, when the drawing signal generator 6 n for filling the inside of the rectangle is selected, the coordinates X and Y that determine the position of the rectangle and the horizontal and vertical lengths L and H of the rectangle are input as the drawing pattern data 17. Then, as shown in the figure,
The data output pulse 18a is output together with the X data 17a,
The drawing signal generator 6 n stores the X data 17a, and a data storage completion pulse 19a is returned as a signal thereof. This is repeated thereafter, and the selected drawing signal generator 6 n completes the necessary data storage. Next, as a drawing start signal 20, a drawing pattern output signal and a beam control signal 21 are output, and drawing is performed. Since the drawing end signal 22 is returned as a signal upon completion of drawing, the control unit 1 similarly outputs the next data and repeats.
本実施例では、描画信号発生器61，…6Nの出力信号であ
る描画パターン出力信号にディジタル信号を用いたの
で、露光ビーム偏向器11にディジタル・アナログ変換器
（D/A変換器）を有したものを用いた。なお、描画パタ
ーン出力信号がアナログ信号であってもよい。この場合
にはD/A変換器は必要としない。In this embodiment, the drawing signal generator 61, ... so using digital signal to the drawing pattern output signal which is the output signal of 6 N, the exposure beam deflector 11 digital-to-analog converter (D / A converter) Was used. The drawing pattern output signal may be an analog signal. In this case, the D / A converter is not needed.
発明の効果 以上のように、本発明の走査形描画装置は、少なくとも
制御部と描画信号発生部と露光部から構成され、制御部
は入力データを処理して少なくとも描画パターンのデー
タと描画信号発生部の制御信号を発生し、描画信号発生
部は複数の描画信号発生器と制御信号判読器と描画ビー
ム制御器から構成されて制御部から発生された制御信号
を判読して描画パターンのデータを所望の描画信号発生
器に取り込み、描画ビーム制御器とともに、所望のパタ
ーンの信号を発生し、露光部を構成する露光ビーム偏向
器とビームブランキング器に出力信号を加えて、所望の
パターンを描画するという方式を取るものであり、低価
格の簡易形の走査形露光装置でありながら、制御部にデ
ータを入力するだけで、所望の描画信号発生器を選択し
て、描画効率に優れたベクトルスキャン方式で所望の曲
線をなめらかに描画し、さらに描画信号発生器は並列に
配列されているため、必要に応じて所望の曲線の信号発
生器を容易に増設でき、所望のパターンを簡単なデータ
処理で描画可能とする操作性，拡張性に優れた走査形露
光装置を実現できるものである。As described above, the scanning drawing apparatus of the present invention comprises at least the control unit, the drawing signal generating unit, and the exposing unit, and the control unit processes the input data to generate at least the drawing pattern data and the drawing signal. Generates a control signal for the control section, and the drawing signal generating section is composed of a plurality of drawing signal generators, a control signal reader and a drawing beam controller, reads the control signal generated from the control section, and outputs the drawing pattern data. Takes in a desired drawing signal generator, generates a signal of a desired pattern together with the drawing beam controller, and adds an output signal to the exposure beam deflector and beam blanker that form the exposure unit to draw the desired pattern. Although it is a low-priced and simple scanning exposure apparatus, it is possible to select a desired drawing signal generator by simply inputting data to the control unit and to print. A desired curve can be drawn smoothly using a vector scan method with excellent image efficiency, and the drawing signal generators are arranged in parallel, so you can easily add signal generators with the desired curve as needed. It is possible to realize a scanning type exposure apparatus that is excellent in operability and extensibility that allows the pattern of 1 to be drawn by simple data processing.
第１図は本発明の一実施例の走査形露光装置の構成図、
第２図は本発明の一実施例の入出力信号のタイムチャー
トである。 １……制御部、２……描画信号発生部、３……露光部、
４……描画パターンデータバス、５……制御信号バス、
６……描画信号発生器、７……制御信号判読器、８……
描画ビーム制御器、９……描画パターン出力信号バス、
10……ビームブランキング器、11……露光ビーム偏向
器、15……描画信号発生器選択信号、17……描画パター
ンデータ、20……描画スタート信号、21……描画パター
ン出力信号，ビーム制御信号、22……描画エンド信号。FIG. 1 is a block diagram of a scanning type exposure apparatus according to an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a time chart of input / output signals according to an embodiment of the present invention. 1 ... control unit, 2 ... drawing signal generation unit, 3 ... exposure unit,
4 ... Drawing pattern data bus, 5 ... Control signal bus,
6 ... Drawing signal generator, 7 ... Control signal reader, 8 ...
Drawing beam controller, 9 ... Drawing pattern output signal bus,
10 …… Beam blanker, 11 …… Exposure beam deflector, 15 …… Drawing signal generator selection signal, 17 …… Drawing pattern data, 20 …… Drawing start signal, 21 …… Drawing pattern output signal, Beam control Signal, 22 …… Drawing end signal.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−119719（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−136225（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−70532（ＪＰ，Ａ) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-60-119719 (JP, A) JP-A-60-136225 (JP, A) JP-A-58-70532 (JP, A)
Claims (2)
ランキング器を有する露光部と、複数の描画信号発生器
と制御信号判読器と描画ビーム制御器からなる描画信号
発生部と、制御部から構成され、上記露光部と上記描画
信号発生部は描画パターン出力信号バスにより、上記描
画信号発生部と上記制御部は制御信号バス及び描画パタ
ーンデータバスにより接続され、上記制御信号判読器
は、上記制御信号バス上の描画信号発生器選択信号を判
読して所望の上記描画信号発生器に制御信号を出力する
ことにより、上記データバス上の描画パターンデータを
上記所望の描画信号発生器に記憶させ、上記データを記
憶した上記描画信号発生器は、上記描画ビーム制御器を
駆動し、上記描画パターン出力信号バスを介して描画パ
ターン出力信号とビーム制御信号をそれぞれ上記露光ビ
ーム偏向器、上記ビームブランキング器に加え、所望の
パターンをベクトルスキャン方式で走査露光することを
特徴とする走査形露光装置。1. An exposure unit having at least an exposure beam deflector and a beam blanker, a drawing signal generating unit including a plurality of drawing signal generators, a control signal reader and a drawing beam controller, and a control unit. The exposure unit and the drawing signal generation unit are connected by a drawing pattern output signal bus, the drawing signal generation unit and the control unit are connected by a control signal bus and a drawing pattern data bus, and the control signal reader is the control unit. By reading the drawing signal generator selection signal on the signal bus and outputting the control signal to the desired drawing signal generator, the drawing pattern data on the data bus is stored in the desired drawing signal generator, The drawing signal generator that stores the data drives the drawing beam controller, and outputs the drawing pattern output signal and the visual signal via the drawing pattern output signal bus. The beam control signal, respectively the exposure beam deflector, the addition to the beam blanking unit, a desired pattern scanning type exposure apparatus, characterized in that the scanning exposure by a vector scan scheme.
しのパターン発生器、円のパターン発生器、任意の２点
を結ぶ直線のパターン発生器のうち、少なくとも１つを
含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の走
査形露光装置。2. A plurality of drawing signal generators includes at least one of a pattern generator for filling in a rectangle, a pattern generator for circles, and a pattern generator for straight lines connecting arbitrary two points. The scanning exposure apparatus according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59056626A JPH0680628B2 (en) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | Scanning exposure device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59056626A JPH0680628B2 (en) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | Scanning exposure device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60198815A JPS60198815A (en) | 1985-10-08 |
| JPH0680628B2 true JPH0680628B2 (en) | 1994-10-12 |
Family
ID=13032504
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59056626A Expired - Lifetime JPH0680628B2 (en) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | Scanning exposure device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0680628B2 (en) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57138136A (en) * | 1981-02-20 | 1982-08-26 | Hitachi Ltd | Controller for drawing of electron ray drawing device |
| JPS5870532A (en) * | 1981-10-22 | 1983-04-27 | Toshiba Mach Co Ltd | Electron beam lithograph controlling device |
-
1984
- 1984-03-23 JP JP59056626A patent/JPH0680628B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60198815A (en) | 1985-10-08 |
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