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JPH0686673B2 - Plating equipment - Google Patents
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JPH0686673B2 - Plating equipment - Google Patents

Plating equipment

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JPH0686673B2
JPH0686673B2 JP63279557A JP27955788A JPH0686673B2 JP H0686673 B2 JPH0686673 B2 JP H0686673B2 JP 63279557 A JP63279557 A JP 63279557A JP 27955788 A JP27955788 A JP 27955788A JP H0686673 B2 JPH0686673 B2 JP H0686673B2
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JP
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feeding device
stand
plating
feed
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賢吾 宮田
博 中村
昌英 京
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、たとえばIC装置に利用されるリードフレーム
等の長尺の帯状材料を連続的にめっき処理槽に供給して
めっきするめっき処理設備に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to a plating treatment facility for continuously supplying a long strip-shaped material such as a lead frame used in an IC device to a plating treatment tank for plating. Regarding

〔従来の技術〕[Conventional technology]

IC装置のリードフレームの製造工程では、ワイヤボンデ
ィングやダイボンディング等を適正に行なうために、金
型製作後のパッドやインナーリード及びその他の領域の
表面に金属めっきが施される。このめっき処理のため、
製造ラインには複数のめっき浴,酸洗,水洗及び脱脂等
の処理槽が配置され、材料を処理の順にしたがってパス
させてゆく。
In the manufacturing process of a lead frame of an IC device, in order to properly perform wire bonding, die bonding, etc., metal plating is applied to the surfaces of pads, inner leads and other regions after the mold is manufactured. Because of this plating process,
A plurality of plating baths, pickling baths, water washing baths and degreasing baths are arranged in the production line, and materials are passed in the order of treatment.

材料が長尺の帯状物であるとき、単品の製品を1個ずつ
めっき浴等に浸漬する方法に代えて、処理ラインをパス
させることで連続的な処理が可能である。たとえば、従
来では帯状材料の先端を処理槽の中に差し込んで通過さ
せ、ラインの終端に配置したアンコイラ等に材料の先端
を掛ける作業から始める。そして、段取りの後は材料を
連続的に一様な速度でパスさせ、めっき処理したものを
アンコイラに巻き取って次の工程に備える。
When the material is a long strip, continuous treatment is possible by passing through a treatment line instead of immersing the individual products one by one in a plating bath or the like. For example, conventionally, the work is started by inserting the tip of the strip-shaped material into the processing tank and passing it through, and hanging the tip of the material on an uncoiler or the like arranged at the end of the line. After the setup, the material is continuously passed at a uniform speed, and the plated material is wound on an uncoiler to prepare for the next step.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

ところが、たとえばIC装置のリードフレームの製造の場
合では、ライン長さが10mを超えるようになると、大量
のリードフレームが不良品となることが避けられない。
これは、段取り作業としてライン長さにほぼ等しい材料
をアンコイラまで掛け渡すことになるので、この段取り
過程ではめっき処理が実質的に行えないことが一つの原
因である。したがって、歩留まりの低下が著しくなるほ
か、段取りから処理開始までのセットアップにも時間が
かかるため、生産性の向上にも限界がある。
However, in the case of manufacturing a lead frame of an IC device, for example, if the line length exceeds 10 m, it is inevitable that a large number of lead frames become defective.
This is because, as a setup work, a material having a length substantially equal to the line length is laid over the uncoiler, and one reason is that the plating process cannot be substantially performed in this setup process. Therefore, the yield is significantly reduced, and it takes time to set up from setup to the start of processing, which limits productivity improvement.

このような生産面での問題に対し、近年ではダミーフレ
ームを用いて歩留まりの向上を図ることが行われてい
る。ダミーフレームはスクラップ等を帯状としたもの
で、めっきラインの長さにほぼ等しいものをリードフレ
ームの先端に接続して使用する。このダミーフレームを
使用すれば、段取りのためにリードフレームが無駄にな
ることはなく、歩留まりの向上は可能である。
In response to such a problem in production, a dummy frame has been used in recent years to improve the yield. The dummy frame is made of scrap or the like and is used by connecting to the tip of the lead frame and having a length approximately equal to the plating line. If this dummy frame is used, the lead frame will not be wasted for setup, and the yield can be improved.

しかしながら、リードフレームとダミーフレームとの接
続及びオンコイラ等への掛け渡しが必要なので、作業者
が常にラインに従事しなければならない。また、リード
フレームを連続して処理する場合には、先行のものに後
続のフレームを接続する作業も人手を必要とする。この
ように、生産性の面からみると、従来の製造に比較して
何等改善されてない現状にある。
However, since it is necessary to connect the lead frame and the dummy frame and to connect the lead frame to the on-coiler or the like, the worker must always be engaged in the line. Further, when the lead frames are continuously processed, the work of connecting the succeeding frame to the preceding one also requires manpower. Thus, in terms of productivity, there is no improvement compared with the conventional manufacturing.

そこで、本発明は、歩留まりの向上に加えて生産性も向
上させることを目的とする。
Therefore, it is an object of the present invention to improve the productivity as well as the yield.

〔課題を解決するための手段〕[Means for Solving the Problems]

本発明は、複数のめっき処理槽をラインに配列し、それ
ぞれのめっき処理槽への入り口前に被めっき材の送り装
置を配置し、前記被めっき材のパス方向の先端部が上流
の送り装置を抜けて下流の次の送り装置に到達したと
き、前記上流の送り装置の駆動を停止すると同時に下流
の送り装置の駆動を開始する制御系を設け、更に最終段
のめっき処理槽の出口の後側に送り装置を設け、該送り
装置を前記被めっき材が抜ける期間継続して最上流の送
り装置を前記制御系によって駆動させる系としてなるこ
とを特徴とする。
The present invention arranges a plurality of plating treatment tanks in a line, arranges a feeding device for the material to be plated before the entrance to each plating treatment tank, and the feeding device in which the tip end portion in the path direction of the material to be plated is the upstream. When it reaches the next downstream feeding device after passing through, the control system is provided to stop the driving of the upstream feeding device and at the same time to start the driving of the downstream feeding device. It is characterized in that a feeding device is provided on the side, and the feeding device at the most upstream is continuously driven by the control system for a period during which the material to be plated is removed.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面に示す実施例により本発明の特徴を具体的に
説明する。
Hereinafter, the features of the present invention will be specifically described with reference to the embodiments shown in the drawings.

第1図は本発明の送り装置をリードフレームのめっきラ
インに配置した例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example in which the feeding device of the present invention is arranged on a plating line of a lead frame.

図において、リードフレームAは金型によるプレス方向
が水平となるように立った姿勢で搬送され、処理槽Bに
送り込まれる。送り装置は、そのベース1によって処理
槽Bの入り口近傍に設けられ、ベース1には送り駆動ロ
ール2及びシフトロール3をリードフレームAのパスラ
インを挟んで設けている。
In the figure, the lead frame A is conveyed in a standing posture such that the pressing direction of the mold is horizontal, and is fed into the processing bath B. The feeding device is provided near the entrance of the processing tank B by the base 1, and the feeding drive roll 2 and the shift roll 3 are provided on the base 1 with the pass line of the lead frame A interposed therebetween.

送り駆動ロール2はベース1に設けた駆動モータ4の出
力軸の回転をプーリ4a及びベルト4bによって伝達され、
適正な周速として図の矢印方向へ回転する。そして、送
り駆動ロール2の周面にはリードフレームAを損傷しな
いようにゴム等の弾性体を利用したカラー2aを巻き付
け、このカラー2aの周面がリードフレームAのパス面に
一致するような構造を持たせる。
The feed drive roll 2 transmits the rotation of the output shaft of the drive motor 4 provided on the base 1 by the pulley 4a and the belt 4b,
Rotate in the direction of the arrow in the figure as the proper peripheral speed. Then, a collar 2a using an elastic body such as rubber is wound around the peripheral surface of the feed drive roll 2 so as not to damage the lead frame A, and the peripheral surface of the collar 2a matches the pass surface of the lead frame A. Have a structure.

一方、シフトロール3も送り駆動ロール2と同様に周面
にカラー3aを巻き付けたもので、その軸部3b周りに回転
自在である。ベース1にはシフトシリンダ5が設けら
れ、そのアクチュエータ5aの先端に設けたブロック5bに
軸部3bの下端を固定している。アクチュエータ5aのスト
ローク方向は、リードフレームAのパスラインと直交す
る向きであり、送り駆動ロール2とシフトロール3のそ
れぞれの中心はパスラインと直交する線分上に位置させ
る。このような構成によって、送り駆動ロール2とシフ
トロール3のカラー2a,3aはリードフレームAを挟みな
がらこれを搬送することができる。
On the other hand, similarly to the feed drive roll 2, the shift roll 3 also has a collar 3a wound around its peripheral surface, and is rotatable around its shaft portion 3b. The base 1 is provided with a shift cylinder 5, and the lower end of the shaft portion 3b is fixed to a block 5b provided at the tip of the actuator 5a. The stroke direction of the actuator 5a is orthogonal to the pass line of the lead frame A, and the centers of the feed drive roll 2 and the shift roll 3 are located on line segments orthogonal to the pass line. With such a configuration, the collars 2a and 3a of the feed drive roll 2 and the shift roll 3 can carry the lead frame A while sandwiching it.

リードフレームAの送りは、駆動モータ4を作動させる
と同時にシフトシリンダ5のアクチユエータ5aをパスラ
イン側に進出させ、送り駆動ロール2とシフトロール3
とによってリードフレームAを挟圧してはじめて可能と
なる。すなわち、送り駆動ロール2のカラー2aは常にリ
ードフレームAに接触しているが、リードフレームAを
押しつける作用はない。このため、送り駆動ロール2が
回転してもリードフレームAとカラー2aとの間はスリッ
プし、リードフレームAには送りは与えられない。これ
に対し、シフトシリンダ5を作動させてシフトロール3
のカラー3aをリードフレームAに突き当てると、送り駆
動ロール2がこのシフトロール3との間でリードフレー
ムAを強く挟むようになり、スリップすることなくリー
ドフレームAに送りが与えられる。
To feed the lead frame A, the drive motor 4 is actuated and at the same time, the actuator 5a of the shift cylinder 5 is advanced to the pass line side to feed the feed drive roll 2 and the shift roll 3.
This is possible only when the lead frame A is clamped by. That is, the collar 2a of the feed drive roll 2 is always in contact with the lead frame A, but does not press the lead frame A. Therefore, even if the feed drive roll 2 rotates, the lead frame A and the collar 2a slip and the lead frame A is not fed. On the other hand, the shift cylinder 5 is operated to shift the shift roll 3
When the collar 3a is abutted against the lead frame A, the feed drive roll 2 strongly sandwiches the lead frame A with the shift roll 3, and the feed is given to the lead frame A without slipping.

第2図はリードフレームAのめっき処理ラインの概略ブ
ロック図である。図において、脱脂からCuめっき・水洗
までが第1処理槽10によって行われ、これに続いて第2
処理槽11及び第3処理槽12によってそれぞれの処理が行
われる。
FIG. 2 is a schematic block diagram of the lead frame A plating process line. In the figure, degreasing, Cu plating, and water washing are performed in the first treatment tank 10, followed by the second treatment.
The respective treatments are performed by the treatment tank 11 and the third treatment tank 12.

第3図は第1,第2及び第3処理槽10,11,12に対する送り
装置の配置を示す概略図である。図示のように、3連の
処理槽10〜12に対し4組の送り装置が配置され、リード
フレームAの入り側から順に第1スタンドI、第2スタ
ンドII、第3スタンドIII及び第4スタンドIVがレイア
ウトされている。これらの各スタンドI〜IVに設ける送
り装置は全て第1図に示した構造を持つ。そして、リー
ドフレームAの位置に対して各スタンドの作動を抑制す
る制御部Cによって、駆動モータ4及びシフトシリンダ
5の作動を制御する。
FIG. 3 is a schematic view showing the arrangement of the feeding device for the first, second and third processing tanks 10, 11, 12. As shown in the figure, four sets of feeding devices are arranged for three processing tanks 10 to 12, and the first stand I, the second stand II, the third stand III, and the fourth stand are arranged in this order from the entry side of the lead frame A. IV is laid out. The feeding devices provided in each of these stands I to IV have the structure shown in FIG. Then, the operation of the drive motor 4 and the shift cylinder 5 is controlled by the control unit C that suppresses the operation of each stand with respect to the position of the lead frame A.

第3図(a)では、リードフレームAが第1処理槽10内に
入り込む過程であり、このとき第1スタンドIの送り装
置のみが作動する。すなわち、リードフレームAが第1
スタンドIの送り装置に装入されると、駆動モータ4が
作動すると同時にシフトシリンダ5のアクチュエータ5a
が進出し、リードフレームAの両面を送り駆動ロール2
とシフトロール3とが挟む。このため、送り駆動ロール
2の送りがリードフレームAに与えられ、リードフレー
ムAは第2処理槽11へ向けて搬送される。
In FIG. 3 (a), the lead frame A is in the process of entering the first processing tank 10, and at this time, only the feeding device of the first stand I is operated. That is, the lead frame A is the first
When loaded into the feeding device of the stand I, the drive motor 4 operates and at the same time the actuator 5a of the shift cylinder 5
Drive and feed both sides of lead frame A to drive roll 2
And the shift roll 3 are sandwiched. Therefore, the feed of the feed drive roll 2 is given to the lead frame A, and the lead frame A is conveyed toward the second processing tank 11.

この後、第3図(b)のようにリードフレームAの先端が
第2スタンドIIに到達すると、この送り装置が作動して
送り駆動ロール2とシフトロール3とによって送りが与
えられる。そして、これと同時に第1スタンドIではシ
フトシリンダ5のアクチュエータ5aが後退し、リードフ
レームAには送りは伝達されない。以降、リードフレー
ムAが第3処理槽12へ向かって第3スタンドIIIに達す
るとき、第2スタンドIIは送り駆動から外れると同時に
第3スタンドIIIが送り駆動に参加する。第4スタンドI
VにリードフレームAが到達したときも全く同様であ
る。つまり、リードフレームAが進んで行き、その先端
が下流のスタンドに入り込んだときにこのスタンドが送
りを与え、上流側のスタンドは送り駆動から離れる動作
を行なう。なお、このような各スタンドの作動は、リー
ドフレームAの位置を検知しながら制御部Cの制御によ
り行うことは無論である。
After this, when the tip of the lead frame A reaches the second stand II as shown in FIG. 3 (b), the feeding device is actuated and feed is given by the feed drive roll 2 and the shift roll 3. At the same time, the actuator 5a of the shift cylinder 5 moves backward in the first stand I, and the feed is not transmitted to the lead frame A. After that, when the lead frame A reaches the third stand III toward the third processing tank 12, the second stand II is removed from the feed drive, and at the same time, the third stand III participates in the feed drive. Fourth stand I
The same is true when the lead frame A reaches V. That is, when the lead frame A advances and its tip enters the downstream stand, this stand gives the feed, and the stand on the upstream side moves away from the feed drive. Needless to say, the operation of each stand is performed by the control of the controller C while detecting the position of the lead frame A.

また、リードフレームAを送り出した後に、第3図(c)
のように新たなリードフレームAをラインに供給すると
き、図示のように第1スタンドIの送り装置が作動す
る。そして、先行のリードフレームAが第4スタンドIV
から抜け出ていない間では、第1スタンドIと第4スタ
ンドIVの送り装置が共に作動する。
Also, after sending out the lead frame A, FIG. 3 (c)
When a new lead frame A is supplied to the line as described above, the feeding device of the first stand I operates as illustrated. And the lead frame A is the 4th stand IV.
While it is not getting out, the feeding devices of the first stand I and the fourth stand IV both operate.

このように送り装置を各処理槽の前と最終段の処理槽の
後に配置することで、リードフレームAを連続的に流し
ながらパスさせることができる。このため、従来のよう
にダミーフレーム等を用いたりする、先行するものと後
続のリードフレームAどうしを接続する等の作業が全く
不要となり、生産性の向上が可能となる。また、ダミー
フレームを用いるとめっき液に影響を与えることが避け
られないが、リードフレームAのみがパスするのでこの
ような問題も解消される。更に、めっきラインよりも短
いリードフレームAでもパスさせることができるので、
少量生産やサンプル採取等にも有利であり、歩留まりも
格段に向上する。
By disposing the feeding device before each processing tank and after the last processing tank, the lead frame A can be passed while being continuously flowed. Therefore, it is not necessary to use a dummy frame or the like as in the prior art, or to connect the preceding and succeeding lead frames A to each other, and productivity can be improved. Further, when the dummy frame is used, it is unavoidable that the plating solution is affected, but since only the lead frame A passes, such a problem is also solved. Furthermore, since it is possible to pass even lead frame A shorter than the plating line,
It is also advantageous for small-scale production and sample collection, and the yield is significantly improved.

なお、第2処理槽11で行なうAgメッキは、他のメッキ処
理とは異なってリードフレームAを間欠送りとする必要
がある。このため、第1処理槽10と第2処理槽11との間
及び第2処理槽11と第3処理槽12との間でリードフレー
ムAにループを造って第1,第3処理槽10,12での連続送
りとの接続ができるようにする。
Incidentally, in the Ag plating performed in the second processing tank 11, the lead frame A needs to be intermittently fed unlike the other plating treatments. Therefore, a loop is formed in the lead frame A between the first processing tank 10 and the second processing tank 11 and between the second processing tank 11 and the third processing tank 12 to form the first and third processing tanks 10, 10. Allows connection with 12 continuous feeds.

リードフレームAにループを造る装置としてはたとえば
第4図に示すものが採用できる。これはループチャンバ
20の中にリードフレームAをパスさせ、このパスの間に
水の噴射圧によってリードフレームAをパスラインから
外れるようにしてループを造り出すものである。ループ
チャンバ20の中には、リードフレームAのパスラインに
沿って給水パイプ21が配管され、その周壁に噴射孔21a
を開けている。また、パスラインを挟む両側には一対の
ガイド22a、22bが配置され、この中で給水パイプ21から
離れたガイド22bは図示のようにパスラインの上側で水
平となる姿勢に旋回できる構造を持たせる。そして、通
常時はこのガイド22bも他方のガイド22aに対向するよう
にパスラインを挟んだ位置にセットされているが、リー
ドフレームAにループを造るときには図示のように上側
へ退避する。また、ループチャンバ20の内部には、リー
ドフレームAのループを検知するための複数のループ検
知センサ23が設けられる。これらのループ検知23ははリ
ードフレームAまでの距離等を検出して信号を制御部C
に入力し、ループの状況を把握する。
As a device for forming a loop on the lead frame A, for example, the device shown in FIG. 4 can be adopted. This is the loop chamber
The lead frame A is passed through the inside of 20, and the lead frame A is removed from the pass line by the jet pressure of water during this pass to form a loop. A water supply pipe 21 is provided in the loop chamber 20 along the pass line of the lead frame A, and an injection hole 21a is formed in the peripheral wall thereof.
Open. Further, a pair of guides 22a and 22b are arranged on both sides of the pass line, and the guide 22b separated from the water supply pipe 21 has a structure capable of turning in a horizontal position above the pass line as shown in the figure. Let Normally, the guide 22b is also set at a position sandwiching the pass line so as to face the other guide 22a, but when the loop is formed in the lead frame A, it is retracted to the upper side as shown in the drawing. Further, inside the loop chamber 20, a plurality of loop detection sensors 23 for detecting a loop of the lead frame A are provided. These loop detectors 23 detect the distance to the lead frame A, etc. and output a signal to the control unit C.
Enter into and figure out the loop situation.

ループチャンバ20の中では、給水パイプ21の噴射孔21a
から噴出される水の水圧によって、図示のようにリード
フレームAが弓状に反り、第2処理槽11の前後でループ
を造ることができる。そして、このループをループ検知
センサ23が検知すると、上流側及び下流側との送り速度
との間に緩衝が得られるので、第2処理槽11の上流側の
送り装置すなわち第2スタンドIIが作動してリードフレ
ームAに間欠送りを与える。
In the loop chamber 20, the injection hole 21a of the water supply pipe 21
Due to the water pressure of the water jetted from the lead frame A, the lead frame A warps in an arc shape as shown in the figure, and a loop can be formed before and after the second processing tank 11. Then, when this loop is detected by the loop detection sensor 23, a buffer is obtained between the upstream and downstream feed rates, so that the upstream feed device of the second processing tank 11, that is, the second stand II operates. Then, the lead frame A is intermittently fed.

なお、実施例ではIC装置のリードフレームのめっきライ
ンについて述べたが、これ以外に長尺帯状材の処理にも
本発明の送り装置が利用できることは無論である。
In addition, although the plating line of the lead frame of the IC device has been described in the embodiment, it is needless to say that the feeding device of the present invention can be used for the treatment of a long strip-shaped material.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明では、複数段のめっき処理槽の入り口前に設けた
送り装置に順に入り込んで来る被めっき材をその先端側
において送りを与えるながら搬送でき、しかも最終段の
出口の後側に設けた送り装置が作動しているときには必
ず上流の送り装置が後続の被めっき材の送りのために作
動する。このため、被めっき材を順にラインに供給する
だけでダミーフレームを用いたりアンコイラに掛け回す
等の操作が不要となり、歩留りの向上が可能となる。
In the present invention, the material to be plated, which sequentially enters the feeding device provided in front of the inlets of the plating treatment tanks of a plurality of stages, can be conveyed while feeding the tip end side thereof, and further, the feed provided at the rear side of the exit of the final stage. Whenever the machine is operating, the upstream feeder operates to feed the subsequent material to be plated. For this reason, it is not necessary to use a dummy frame or hang it around an uncoiler simply by supplying the plated material to the line in order, and the yield can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の送り装置の概要を示す図、第2図はめ
っき処理ラインの一例を示す概略ブロック図、第3図は
送り装置による被めっき材のパスを示し、第4図はルー
プチャンバの概略を示すものである。 1:ベース、2:送り駆動ロール 2a:カラー、3:シフトロール 3a:ベース、3b:軸部 4:駆動モータ、4a:プーリ 4b:ベルト、5:シフトシリンダ 5a:アクチュエータ、5b:ブロック 10:第1処理槽、11:第2処理槽 12:第3処理槽、20:ループチャンバ 21:給水パイプ、21a:噴射孔 22a,22B:ガイド、23:ループ検知センサ A:リードフレーム(被めっき材) B:処理槽、C:制御部
FIG. 1 is a diagram showing an outline of a feeding device of the present invention, FIG. 2 is a schematic block diagram showing an example of a plating processing line, FIG. 3 is a path of a material to be plated by the feeding device, and FIG. 4 is a loop. 1 shows an outline of a chamber. 1: Base, 2: Feed drive roll 2a: Color, 3: Shift roll 3a: Base, 3b: Shaft part 4: Drive motor, 4a: Pulley 4b: Belt, 5: Shift cylinder 5a: Actuator, 5b: Block 10: First treatment tank, 11: Second treatment tank 12: Third treatment tank, 20: Loop chamber 21: Water supply pipe, 21a: Injection holes 22a, 22B: Guide, 23: Loop detection sensor A: Lead frame (material to be plated) ) B: Processing tank, C: Control unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/50 D 9272−4M // C21D 9/56 F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 23/50 D 9272-4M // C21D 9/56 F

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数のめっき処理槽をラインに配列し、そ
れぞれのめっき処理槽への入り口前に被めっき材の送り
装置を配置し、 前記被めっき材のパス方向の先端部が上流の送り装置を
抜けて下流の次の送り装置に到達したとき、前記上流の
送り装置の駆動を停止すると同時に下流の送り装置の駆
動を開始する制御系を設け、 更に最終段のめっき処理槽の出口の後側に送り装置を設
け、該送り装置を前記被めっき材が抜ける期間継続して
最上流の送り装置を前記制御系によって駆動させる系と
してなるめっき処理設備。
1. A plurality of plating treatment tanks are arranged in a line, and a feed device for the material to be plated is arranged before the entrance to each plating treatment tank, and the tip end portion in the path direction of the material to be plated is fed upstream. A control system is provided for stopping the driving of the upstream feeding device and simultaneously starting the driving of the downstream feeding device when reaching the next feeding device on the downstream side through the device. A plating treatment facility, which is provided with a feeder on the rear side and serves as a system in which the most upstream feeder is continuously driven by the control system while the material to be plated is removed from the feeder.
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