JPH0692033B2 - Additives for flux and solder paste - Google Patents
Additives for flux and solder pasteInfo
- Publication number
- JPH0692033B2 JPH0692033B2 JP1211183A JP21118389A JPH0692033B2 JP H0692033 B2 JPH0692033 B2 JP H0692033B2 JP 1211183 A JP1211183 A JP 1211183A JP 21118389 A JP21118389 A JP 21118389A JP H0692033 B2 JPH0692033 B2 JP H0692033B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flux
- acid
- organic acid
- solder paste
- solder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000004907 flux Effects 0.000 title claims description 58
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 title claims description 46
- 239000000654 additive Substances 0.000 title claims description 13
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims description 23
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 claims description 22
- -1 organic acid salt Chemical class 0.000 claims description 22
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 22
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 12
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 4
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 16
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 10
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical compound CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N Abietic acid Natural products CC(C)C1=CC2=CC[C@]3(C)[C@](C)(CCC[C@@]3(C)C(=O)O)[C@H]2CC1 BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N 0.000 description 5
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Chemical class 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 12-hydroxylauric acid Chemical compound OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ULQISTXYYBZJSJ-UHFFFAOYSA-N 12-hydroxyoctadecanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC(O)=O ULQISTXYYBZJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N heptanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N mandelic acid Chemical compound OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940114072 12-hydroxystearic acid Drugs 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWRVRCAFWBBXTL-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxyphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1C(O)=O MWRVRCAFWBBXTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005643 Pelargonic acid Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229960004106 citric acid Drugs 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960004275 glycolic acid Drugs 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000003784 tall oil Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 229960001367 tartaric acid Drugs 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 229910001174 tin-lead alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フラックス及びはんだペースト用添加剤、こ
の添加剤を含有するフラックス並びにこのフラックスを
含有するはんだペーストに関する。フラックスは、金属
基板の酸化膜を除去する目的で、電子産業分野におい
て、広く用いられている。本発明のフラックスは、金属
基板上に残存しても、金属基板を腐食することがない、
新規なフラックスである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a flux and an additive for solder paste, a flux containing this additive, and a solder paste containing this flux. Flux is widely used in the electronic industry field for the purpose of removing an oxide film on a metal substrate. Even if the flux of the present invention remains on the metal substrate, it does not corrode the metal substrate,
It is a new flux.
電子回路の基板上に電子部品をはんだ付けする方法とし
て一般的なのは、フラックスで基板(銅)面を処理して
酸化皮膜を除去し、次いで溶解したはんだ浴槽に基板面
を浸漬する方法である。A common method for soldering an electronic component onto a substrate of an electronic circuit is to treat the substrate (copper) surface with flux to remove the oxide film, and then immerse the substrate surface in a molten solder bath.
しかるに、この方法は、フラックス処理及びはんだ浴へ
の浸漬という2つの工程を必要とする。さらに、この方
法では、基板に乗せた電子部品が作業の最中に基板から
落下することがあった。However, this method requires two steps: fluxing and dipping in a solder bath. Further, according to this method, the electronic component placed on the board may drop from the board during the work.
そこでこのような問題を解決する方法としてフラックス
及びはんだ粒子を含有するはんだペーストを用いる方法
が開発された。この方法によれば、はんだペーストは基
板上にディスペンサー法等の方法により塗布され、つい
で加熱または紫外線照射によりはんだ付けが完了する。
はんだペーストは粘性を有するために、電子部品は基板
上に容易に保持される。Therefore, as a method for solving such a problem, a method using a solder paste containing a flux and solder particles has been developed. According to this method, the solder paste is applied onto the substrate by a method such as a dispenser method, and then the soldering is completed by heating or irradiating with ultraviolet rays.
Since the solder paste has a viscosity, the electronic component is easily held on the substrate.
しかしながら、上記はんだペーストを用いる方法にも欠
点がある。はんだペーストには、基板上の酸化皮膜を強
力に除去する目的で、活性剤が含有されている。ところ
がこの活性剤は、はんだ付け終了後にはんだ中に残存す
ると、基板を腐食する。そこではんだ付け終了後に基板
は、洗浄に付される必要がある。However, the method using the above solder paste also has drawbacks. The solder paste contains an activator for the purpose of strongly removing the oxide film on the substrate. However, if the activator remains in the solder after the soldering is completed, it corrodes the substrate. Therefore, the substrate needs to be cleaned after the soldering is completed.
さらに、この洗浄には、一般にフレオン溶剤や水が使用
される。ところが、フレオン溶剤は、環境に対する影響
から、使用が禁止されるようになりつつある。また、洗
浄に水を使用すると、重金属により水が汚染され、公害
問題を生じる恐れがあることからそのまま排水できな
い、という問題がある。Furthermore, Freon solvent and water are generally used for this cleaning. However, the use of the Freon solvent is being prohibited due to the influence on the environment. Further, when water is used for washing, there is a problem that the water cannot be drained as it is because the water is contaminated by heavy metals and may cause pollution problems.
そこで、本発明の目的は、はんだ付け終了後に基板を洗
浄しなくても、基板を腐食することがない、フラックス
及びこのフラックスを含むはんだペーストを提供するこ
とにある。即ち、本発明の目的は、無洗浄タイプのフラ
ックス及びはんだペーストを提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to provide a flux and a solder paste containing this flux, which does not corrode the substrate even if the substrate is not cleaned after the soldering is completed. That is, an object of the present invention is to provide a non-cleaning type flux and solder paste.
本発明は、有機酸または有機酸塩を活性剤として含有す
るフラックス及びはんだペースト用添加剤であって、は
んだ付け加熱下で上記有機酸または有機酸塩と反応する
ブロックイソシアネートを主成分として含有することを
特徴とする上記添加剤に関する。The present invention is a flux and an additive for a solder paste containing an organic acid or an organic acid salt as an activator, which contains, as a main component, a blocked isocyanate that reacts with the organic acid or the organic acid salt under heating for soldering. The present invention relates to the above additive.
さらに本発明は、有機酸または有機酸塩を含有するフラ
ックスであって、はんだ付け加熱下で上記有機酸または
有機酸塩と反応するブロックイソシアネートをさらに含
有することを特徴とする上記フラックスに関する。Further, the present invention relates to a flux containing an organic acid or an organic acid salt, which further comprises a blocked isocyanate which reacts with the organic acid or the organic acid salt under heating for soldering.
加えて本発明は、このフラックスとはんだ粒子とを含有
するはんだペーストに関する。In addition, the present invention relates to a solder paste containing this flux and solder particles.
以下本発明について詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.
本発明が対象とするフラックス及びはんだペーストは、
活性剤として有機酸または有機酸塩を含有するものであ
る。The flux and solder paste targeted by the present invention are
It contains an organic acid or an organic acid salt as an activator.
そして、本発明は、これら有機酸及び有機酸塩とブロッ
クイソシアネートとの比較的高い温度における反応を利
用するものである。The present invention utilizes the reaction of these organic acids and organic acid salts with blocked isocyanates at relatively high temperatures.
本発明において「ブロックイソシアネート」とは、イソ
シアネート化合物(R−NCO)のNCOを揮発性の活性水素
化合物(HB)と反応させて常温では不活性とし、加熱下
でのみNCOに由来する反応性を有する化合物(RNHCOB)
である。ブロック剤として用いられる活性水素化合物と
しては、アルコール類、フェノール類、ε−カプロラク
タム、オキシム類及び活性メチレン化合物等を例示する
ことができる。しかし、これらの化合物に限定されるも
のではない。In the present invention, "blocked isocyanate" means that the NCO of an isocyanate compound (R-NCO) is reacted with a volatile active hydrogen compound (HB) to make it inactive at room temperature, and the reactivity derived from NCO only under heating. Compound with (RNHCOB)
Is. Examples of the active hydrogen compound used as the blocking agent include alcohols, phenols, ε-caprolactam, oximes and active methylene compounds. However, it is not limited to these compounds.
尚、このようなブロックイソシアネートには、モノマー
とポリマーとがあるが、本発明ではいずれも用いること
ができる。Although there are a monomer and a polymer in such a blocked isocyanate, any of them can be used in the present invention.
本発明の添加剤中のブロックイソシアネートの濃度には
特に制限はないが、例えば50〜100重量%とすることが
好ましい。The concentration of the blocked isocyanate in the additive of the present invention is not particularly limited, but is preferably 50 to 100% by weight, for example.
尚、本発明の添加剤、フラックス及びはんだペーストに
は、ブロックイソシアネートの反応性をコントロールす
る目的で、種々の触媒を添加することができる。この触
媒の具体例としては、N−メチルモルホリンを挙げるこ
とができる。Various catalysts can be added to the additive, flux and solder paste of the present invention for the purpose of controlling the reactivity of the blocked isocyanate. Specific examples of this catalyst include N-methylmorpholine.
またこの触媒の添加量は、ブロックイソシアネートの種
類及び量並びに触媒の種類により決めることができる。
例えばブロックイソシアネートとして、フェノールをブ
ロック剤として用いたHDI系(ヘキサメチレンジイソシ
アネート)のイソシアネートを用い、かつ触媒としてN
−メチルモルホリンを用いる場合には、ブロックイソシ
アネート100重量部に対して0.001〜1重量部の触媒を用
いることが適当である。The addition amount of this catalyst can be determined by the type and amount of blocked isocyanate and the type of catalyst.
For example, HDI-based (hexamethylene diisocyanate) isocyanate using phenol as a blocking agent is used as the blocked isocyanate, and N is used as the catalyst.
When using methylmorpholine, it is appropriate to use 0.001 to 1 part by weight of catalyst per 100 parts by weight of blocked isocyanate.
はんだ付けの際、「有機酸及び有機酸塩」は、活性剤と
して作用する。フラックスに含まれる活性剤は、フラッ
クスとはんだとを含有するはんだペーストを金属基板上
に適用すると、基板上の酸化皮膜を除去する作用を有す
る。During soldering, "organic acids and acid salts" act as activators. The activator contained in the flux has a function of removing an oxide film on the substrate when a solder paste containing the flux and the solder is applied to the metal substrate.
本発明において、有機酸としては、モノカルボン酸(ギ
酸、酢酸、プロピオン酸、カプロン酸、エナント酸、カ
プリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸)、ジカルボン酸(シュウ酸、マロン酸、コハク酸、
グルタル酸、アジビン酸、ピメリン酸、スベリン酸、ア
ゼライン酸、セバシン酸、)オキシカルボン酸(オキシ
コハク酸、クエン酸、酒石酸、ヒドロキシ酢酸、サリチ
ル酸、(m−、p−)ヒドロキシ安息香酸、12−ヒドロ
キシドデカン酸、12−ヒドロキシイソ酪酸、(o−、m
−、p−)ヒドロキシフェニル酢酸、4−ヒドロキシル
フタル酸、12−ヒドロキシステアリン酸)等を例示でき
る。In the present invention, as the organic acid, monocarboxylic acids (formic acid, acetic acid, propionic acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, undecanoic acid,
Lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid), dicarboxylic acids (oxalic acid, malonic acid, succinic acid,
Glutaric acid, adibic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid,) oxycarboxylic acid (oxysuccinic acid, citric acid, tartaric acid, hydroxyacetic acid, salicylic acid, (m-, p-) hydroxybenzoic acid, 12-hydroxy Dodecanoic acid, 12-hydroxyisobutyric acid, (o-, m
-, P-) hydroxyphenylacetic acid, 4-hydroxyphthalic acid, 12-hydroxystearic acid) and the like.
さらに、有機酸塩としては、上記有機酸とアミン(例え
ばジエチルアミノエタノール)、アンモニア及びアルカ
リ金属(例えば、ナトリウム、カリウム等)等との塩を
例示することができる。Further, examples of the organic acid salt include salts of the above-mentioned organic acid with an amine (for example, diethylaminoethanol), ammonia and an alkali metal (for example, sodium, potassium, etc.).
次に本発明のフラックスについて説明する。Next, the flux of the present invention will be described.
本発明のフラックスに含まれるブロックイソシアネー
ト、有機酸及び有機酸塩は、前述のものである。The blocked isocyanate, organic acid and organic acid salt contained in the flux of the present invention are as described above.
さらに、本発明のフラックスには溶媒が含まれる。この
溶媒としては、有機酸等の他の成分を溶解する溶剤であ
れば特に制限は無い。但し、はんだ付け時のはんだの溶
融温度より低い沸点を有する溶剤を用いることが、はん
だ付け後のはんだの物性を損ねないとい観点から、好ま
しい。さらにカルボキシル基または水酸基を有する溶媒
においては、沸点がブロックイソシアネートの分解温度
以下であることが、活性剤である有機酸または有機酸塩
とイソシアネートとを反応させるという観点から好まし
い。そのような溶媒としては、脂肪族化合物〔n−ヘキ
サン(b.p.68.7)(以下括弧内は沸点)、イソヘキサン
(60〜64)、n−ヘプタン(98.4)〕、エステル類〔酢
酸イソプロピル(89.0)、プロピオン酸メチル(79.
7)、プロピオン酸エチル(99.1)〕、ケトン類〔メチ
ルエチルケトン(79.6)、メチル−n−プロピルケトン
(103.3)、ジエチルケトン(102.2)〕、アルコール類
〔エタノール(78.3)、n−プロパノール(97.2)、イ
ソプロパノール(82.3)、イソブタノール(107.9)、
第2ブタノール(99.5)〕等を例示できる。Further, the flux of the present invention contains a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it is a solvent capable of dissolving other components such as organic acid. However, it is preferable to use a solvent having a boiling point lower than the melting temperature of the solder during soldering, from the viewpoint that the physical properties of the solder after soldering are not impaired. Further, in the solvent having a carboxyl group or a hydroxyl group, it is preferable that the boiling point is equal to or lower than the decomposition temperature of the blocked isocyanate from the viewpoint of reacting the organic acid or the organic acid salt as the activator with the isocyanate. Examples of such a solvent include aliphatic compounds [n-hexane (bp68.7) (boiling points in parentheses below), isohexane (60 to 64), n-heptane (98.4)], esters [isopropyl acetate (89.0) , Methyl propionate (79.
7), ethyl propionate (99.1)], ketones [methyl ethyl ketone (79.6), methyl-n-propyl ketone (103.3), diethyl ketone (102.2)], alcohols [ethanol (78.3), n-propanol (97.2)] , Isopropanol (82.3), isobutanol (107.9),
Second butanol (99.5)] and the like can be exemplified.
尚、前述のフラックス及びはんだペースト用添加剤も、
ブロックイソシアネートに加えて、上記溶媒を含有する
ことができる。In addition, the above-mentioned flux and solder paste additive,
In addition to the blocked isocyanate, the above solvent can be contained.
本発明のフラックス及びはんだペースト用添加剤、フラ
ックス並びにはんだペーストにおいて、有機酸または有
機酸塩(あるいはこれらの混合物)に対するブロックイ
ソシアネートの使用量または含有量は、有機酸または有
機酸塩に含まれるCOOH基に対してブロックイソシアネー
トのNCO基の量をモル比で、1:0.05〜3、好ましくは1:
0.5〜1.5とすることが金属基板の腐食を有効に防止する
という観点から適当である。In the flux and the additive for solder paste of the present invention, the flux and the solder paste, the use amount or content of the blocked isocyanate with respect to the organic acid or the organic acid salt (or a mixture thereof) is COOH contained in the organic acid or the organic acid salt. The molar ratio of NCO groups of blocked isocyanate to groups is 1: 0.05-3, preferably 1: 3.
The range of 0.5 to 1.5 is suitable from the viewpoint of effectively preventing the corrosion of the metal substrate.
本発明のフラックスにおいて、有機産、有機酸塩、ブロ
ックイソシアネート及び溶媒の含有量は、有機酸または
有機酸塩0.1〜30重量部、ブロックイソシアネート0.1〜
50重量部及び溶媒20〜99.8重量部の範囲とすることが適
当である。In the flux of the present invention, the content of organic products, organic acid salts, blocked isocyanates and solvents is 0.1 to 30 parts by weight of organic acid or organic acid salt, 0.1 to blocked isocyanate.
Appropriately 50 parts by weight and 20 to 99.8 parts by weight of solvent are suitable.
本発明のフラックスには、上記有機酸等の成分以外にロ
ジンを含むことができる。ロジンとしては、種々のロジ
ンを使用できる。例えば、マレイン酸変性ロジン、マレ
イン酸変性ロジンエステル、水素添加ロジン、不均化ロ
ジン、重合ロジン、ガムロジン、ウッドロジン、トール
油ロジン等を挙げることができる。特にはんだの腐食性
等を考慮した場合、エステル化ロジン、例えばマレイン
酸変性ロジンエステルを使用することが好ましい。The flux of the present invention may contain rosin in addition to the components such as the organic acid. Various rosins can be used as the rosin. Examples thereof include maleic acid-modified rosin, maleic acid-modified rosin ester, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, polymerized rosin, gum rosin, wood rosin, tall oil rosin and the like. Particularly, considering the corrosiveness of the solder, it is preferable to use an esterified rosin, for example, a maleic acid-modified rosin ester.
ロジンの主成分はアビエチン酸またはその異性体、重合
体等のアビエチン酸系の化合物である。これらのアビエ
チン酸及びアビエチン酸系の化合物は、常温では活性を
示さず、約90℃以上で加熱すると溶解して優れた活性を
示し、金属基板上の酸化皮膜除去効果を発揮する。よっ
て、常温での保存では、ほとんど腐食性を有さない。The main component of rosin is abietic acid-based compound such as abietic acid or its isomers and polymers. These abietic acid and abietic acid-based compounds do not exhibit activity at room temperature, and when heated at about 90 ° C. or higher, they dissolve and exhibit excellent activity, exhibiting the effect of removing an oxide film on a metal substrate. Therefore, it is hardly corrosive when stored at room temperature.
したがって、本発明においては、ロジンとはアビエチン
酸及びアビエチン酸系の化合物を含むものであればよ
い。Therefore, in the present invention, the rosin only needs to include abietic acid and abietic acid compounds.
ロジンの含有量は、例えば有機酸または有機酸塩100重
量部に対して10〜10000重量部とすることができる。The content of rosin can be, for example, 10 to 10000 parts by weight based on 100 parts by weight of the organic acid or the organic acid salt.
本発明のはんだペーストは、上記フラックスにさらには
んだを含むものである。ここで「はんだ」とは、はんだ
として一般的に知られている錫−鉛合金のみならず、さ
らに銀、ビスマス、金、イリジウム等が混合されたもの
をも含む。The solder paste of the present invention further contains solder in the above flux. Here, the "solder" includes not only a tin-lead alloy generally known as solder but also a mixture of silver, bismuth, gold, iridium and the like.
はんだ粉末の形状に特に限定はない。粒子径は、10〜10
00メッシュ、好ましくは250〜400メッシュのものが適当
である。The shape of the solder powder is not particularly limited. Particle size is 10 to 10
Suitable is 00 mesh, preferably 250-400 mesh.
本発明のはんだペーストにおける、はんだとフラックス
の量比には、とくに限定はないが、例えば、はんだ40〜
95重量部に対してフラックス5〜60重量部とすることが
適当である。In the solder paste of the present invention, the amount ratio of the solder and the flux is not particularly limited, for example, solder 40 ~
It is suitable that the flux is 5 to 60 parts by weight with respect to 95 parts by weight.
以下本発明の実施例によりさらに詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
実施例1(フラックス組成物) 撹拌装置を有する製造釜に、有機酸(または有機酸
塩)、ロジン、活性剤及び溶媒を加えた後、撹拌して各
成分を完全に溶解する。次いで、溶解したのを確認した
後、添加剤を加えて、フラックス組成物を得る。各成分
の配合量は表1に示す。Example 1 (Flux composition) An organic acid (or organic acid salt), a rosin, an activator and a solvent were added to a production kettle equipped with a stirrer and stirred to completely dissolve each component. Next, after confirming the dissolution, an additive is added to obtain a flux composition. The blending amount of each component is shown in Table 1.
得られたフラックス組成物の広がり性及び腐食性につい
て評価した。広がり性は米国規格・QQ−S−571Eに準し
て測定した。腐食性はJIS−Z−3197 6.6に準じて測定
した。結果を表3に示す。The spreadability and corrosiveness of the obtained flux composition were evaluated. Spreadability was measured according to the American standard QQ-S-571E. Corrosion was measured according to JIS-Z-3197 6.6. The results are shown in Table 3.
添加剤(ブロック型イソシアネート) オレスターNP−1060PB:三井東圧化学株式会社製 エポキーEPR−170:三井東圧化学株式会社製 オレスターPB3537:三井東圧化学株式会社製 オレスターXQ5095PB:三井東圧化学株式会社製 コロネート2507:日本ポエウレタン工業株式会社製 コロネート2513:日本ポエウレタン工業株式会社製 腐食性の評価判定Ex:適合フラックス(フラックスによ
り蒸着銅又はめっき銅が腐食されていない) P:不適合フラックス A:フラックスの下の銅が腐食されて見えなくなった場合 B:フラックスの縁部の下の銅が腐食して見えなくなった
場合 C:フラックスの中心部分の下の銅が見えなくなった場合 D:フラックスの周りが腐食のため変色して、かさのよう
に見える場合 E:フラックスの中心部分が腐食のため変色した場合 F:フラックスの縁が不透明な暗褐色となって見える場合 実施例2(はんだペースト) 吉川化工株式会社製・高粘度混練機ペンサー(PS−501
型)を用い、実施例1で得られたフラックス組成物中に
チキソ剤を加え、完全に溶解させる。次いで、溶解した
フラックス組成物にはんだ粉末を加え、均一になるまで
撹拌してはんだペーストを得る。フラックス組成物及び
はんだ粉末の配合量は表4に示す。 Additive (block type isocyanate) Orestar NP-1060PB: Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. Epokey EPR-170: Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. Orestar PB3537: Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. Orestar XQ5095PB: Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. Coronate 2507: Nihon Poe Urethane Industry Co., Ltd. Coronate 2513: Nihon Poe Urethane Industry Co., Ltd. Corrosion evaluation judgment Ex: Compatible flux (evaporated copper or plated copper is not corroded by flux) P: Incompatible flux A: Copper under the flux is corroded and disappears B: Under the edge of the flux If the copper in the center of the flux disappears due to corrosion C: If the copper under the center of the flux disappears, D: The area around the flux discolors due to corrosion and looks like a bulk E: The center of the flux Is discolored due to corrosion F: Edge of flux appears to be opaque dark brown Example 2 (solder paste) Yoshikawa Kako Co., Ltd., high viscosity kneader Pencer (PS-501
Type), a thixotropic agent is added to the flux composition obtained in Example 1 and completely dissolved. Next, solder powder is added to the melted flux composition, and the mixture is stirred until it becomes uniform to obtain a solder paste. The compounding amounts of the flux composition and the solder powder are shown in Table 4.
得られたはんだペーストの広がり性、はんだボール性及
び腐食性について評価した。広がり性は米国規格・QQ−
S−571Eに準じて測定した。はんだボール性は米国規格
・ANSI/IPC−SP−819に準じて測定した。腐食性はJIS−
Z−3197 6.6に準じて測定した。結果を表5に示す。The spreadability, solder ball property and corrosiveness of the obtained solder paste were evaluated. Spreadability is American standard, QQ-
It measured according to S-571E. The solder ball property was measured according to the American standard ANSI / IPC-SP-819. Corrosion is JIS-
It was measured according to Z-3197 6.6. The results are shown in Table 5.
はんだボール性評価 A:好ましい B:許容範囲 C:不可 腐食性の評価判定 Ex:適合フラックス(フラックスにより蒸着銅又はめっ
き銅が腐食されていない) P:不適合フラックス A:フラックスの下の銅が腐食されて見えなくなった場合 B:フラックスの縁部の下の銅が腐食して見えなくなった
場合 C:フラックスの中心部分の下の銅が見えなくなった場合 D:フラックスの周りが腐食のため変色して、かさのよう
に見える場合 E:フラックスの中心部分が腐食のため変色した場合 F:フラックスの縁が不透明な暗褐色となって見える場合 Solder ball property evaluation A: Preferred B: Allowable range C: No Corrosion evaluation judgment Ex: Compatible flux (evaporated copper or plated copper is not corroded by flux) P: Incompatible flux A: Copper under the flux is corroded B: When the copper under the edge of the flux is corroded and disappears C: When the copper under the center of the flux is obscured D: The area around the flux is discolored due to corrosion When it looks like a lump, E: When the center part of the flux is discolored due to corrosion F: When the edges of the flux appear as an opaque dark brown color
Claims (3)
するフラックス及びはんだペースト用添加剤であって、
はんだ付け加熱下で上記有機酸または有機酸塩と反応す
るブロックイソシアネートを主成分として含有すること
を特徴とする上記添加剤。1. A flux and solder paste additive containing an organic acid or an organic acid salt as an activator, comprising:
The above-mentioned additive, which contains, as a main component, a blocked isocyanate that reacts with the organic acid or the organic acid salt under heating for soldering.
するフラックスであって、はんだ付け加熱下で上記有機
酸または有機酸塩と反応するブロックイソシアネートを
さらに含有することを特徴とする上記フラックス。2. A flux containing an organic acid or an organic acid salt as an activator, further comprising a blocked isocyanate which reacts with the organic acid or the organic acid salt under heating for soldering. .
だ粒子を含有するはんだペースト。3. A solder paste containing the flux according to claim 2 and solder particles.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211183A JPH0692033B2 (en) | 1989-08-16 | 1989-08-16 | Additives for flux and solder paste |
| US07/560,180 US5127968A (en) | 1989-08-16 | 1990-07-31 | Additive for fluxes and soldering pastes |
| EP90115596A EP0413312B1 (en) | 1989-08-16 | 1990-08-14 | Additive for fluxes and soldering pastes |
| DE69027488T DE69027488T2 (en) | 1989-08-16 | 1990-08-14 | Additives for flux and soft solder pastes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211183A JPH0692033B2 (en) | 1989-08-16 | 1989-08-16 | Additives for flux and solder paste |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0377792A JPH0377792A (en) | 1991-04-03 |
| JPH0692033B2 true JPH0692033B2 (en) | 1994-11-16 |
Family
ID=16601789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1211183A Expired - Fee Related JPH0692033B2 (en) | 1989-08-16 | 1989-08-16 | Additives for flux and solder paste |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0692033B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4502430B2 (en) * | 1999-10-07 | 2010-07-14 | ディップソール株式会社 | Solder wettability improving treatment agent and method for improving solder wettability of tin and tin alloy |
| JP6342208B2 (en) * | 2014-04-28 | 2018-06-13 | 株式会社タムラ製作所 | Flux composition for soldering and electronic board using the same |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT356776B (en) * | 1977-09-19 | 1980-05-27 | Herberts & Co Gmbh | METHOD FOR PRODUCING ELECTRICALLY INSULATING, HIGHLY FLEXIBLE AND / OR SOLDERABLE COVER |
-
1989
- 1989-08-16 JP JP1211183A patent/JPH0692033B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0377792A (en) | 1991-04-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4988395A (en) | Water-soluble soldering flux and paste solder using the flux | |
| US5127968A (en) | Additive for fluxes and soldering pastes | |
| EP0045496B1 (en) | Flux treated solder powder composition | |
| JPH0692035B2 (en) | Additives for flux and solder paste | |
| US5064481A (en) | Use or organic acids in low residue solder pastes | |
| US5215601A (en) | Additive for fluxes and soldering pastes | |
| US4360392A (en) | Solder flux composition | |
| JP4084657B2 (en) | Solder powder for solder paste | |
| JPH0692033B2 (en) | Additives for flux and solder paste | |
| JPH0318498A (en) | Water soluble flux for soldering | |
| JPH0692034B2 (en) | Non-cleaning type flux and solder paste | |
| EP0549616B1 (en) | Method of cleaning printed circuit boards using water | |
| JP3163506B2 (en) | Cream solder | |
| US5122200A (en) | Method of cleaning printed circuit boards using formic acid | |
| JPH1043882A (en) | Solder paste | |
| KR101947827B1 (en) | Flux composition for solder | |
| JP2561452B2 (en) | Solder paste | |
| JPH0357197B2 (en) | ||
| CN114986019B (en) | Solder flux, preparation method thereof and solder | |
| JPH02205296A (en) | Cream solder | |
| JPH1099991A (en) | Solder paste and solder flux | |
| JPH10128577A (en) | Flux composition | |
| SU1263477A1 (en) | Composition of metal-soldering paste | |
| JPH0386389A (en) | Water soluble cream solder | |
| KR20250139227A (en) | Flux composition, solder composition and electronic substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |