JPH0693062B2 - Electrode structure of PLZT display device - Google Patents
Electrode structure of PLZT display deviceInfo
- Publication number
- JPH0693062B2 JPH0693062B2 JP27236789A JP27236789A JPH0693062B2 JP H0693062 B2 JPH0693062 B2 JP H0693062B2 JP 27236789 A JP27236789 A JP 27236789A JP 27236789 A JP27236789 A JP 27236789A JP H0693062 B2 JPH0693062 B2 JP H0693062B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- plzt
- drive
- display device
- common electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はPLZT(透明なセラミック)の複屈折を利用し
たPLZT表示ディバイスの電極構造に係り、更に詳しくは
2次元光シャッタや平面ディスプレイにおける開口率の
向上や隣接シャッタのクロストークを軽減するPLZT表示
ディバイスの電極構造に関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electrode structure of a PLZT display device using the birefringence of PLZT (transparent ceramic), and more specifically, to an opening in a two-dimensional optical shutter or a flat display. The present invention relates to an electrode structure of a PLZT display device that improves the efficiency and reduces crosstalk between adjacent shutters.
[従来例] 近年、PZTにLaを添加した透明セラミックのPLZT(PbO,L
aO,ZrO,TiO)が光シャッタやディプレイに用いられよう
としている。このPLZTを2次元光シャッタや平面ディス
プレイに用いる場合、例えば第5図および第6図に示す
電極構造が採られることになる。[Conventional example] In recent years, PLZT (PbO, L
aO, ZrO, TiO) are about to be used for optical shutters and displays. When this PLZT is used for a two-dimensional optical shutter or a flat display, for example, the electrode structure shown in FIGS. 5 and 6 is adopted.
これら図の斜線に示されているように、PLZT基板1の上
には、櫛型の共通電極(GND電極)2および駆動電極3
が互いの櫛間に入り込むように形成されている。なお、
第6図は上記共通電極2および駆動電極3が表面電極の
場合の例を示しているが、例えば何等かの方法で溝を形
成し、この溝に電極を埋め込んだ溝型電極も考えられ、
さらに駆動電圧の低下が望める。As shown by the diagonal lines in these figures, the comb-shaped common electrode (GND electrode) 2 and drive electrode 3 are provided on the PLZT substrate 1.
Are formed so as to be inserted between the combs. In addition,
FIG. 6 shows an example in which the common electrode 2 and the drive electrode 3 are surface electrodes. For example, a groove type electrode in which a groove is formed by some method and the electrode is embedded in this groove is also considered.
Furthermore, the driving voltage can be expected to decrease.
すると、共通電極2と駆動電極3との間には光を透過/
遮断する開口部が設けられ、第6図の破線矢印に示され
るように、駆動電極3に信号Sを印加すると(電圧を印
加すると)、PLZTの基板1内に電界に生じ、この電界に
応じて光が透過/遮断制御される。Then, light is transmitted between the common electrode 2 and the driving electrode 3
An opening for blocking is provided, and when a signal S is applied to the drive electrode 3 (when a voltage is applied), an electric field is generated in the substrate 1 of the PLZT according to the electric field, as shown by the broken line arrow in FIG. The light is controlled to be transmitted / blocked.
[発明が解決しようとする課題] ところで、上記櫛型の電極構造にあっては、駆動電圧の
低下に有効であるが、開口率が低いという問題点あり、
また溝型電極にしようとすると、例えばダイシングカッ
タ等の機械加工ではその溝を櫛型に形成することが難し
く、さらに駆動電圧を下げることが困難である。[Problems to be Solved by the Invention] The above-mentioned comb-shaped electrode structure is effective in reducing the driving voltage, but has a problem that the aperture ratio is low.
If a groove-shaped electrode is used, it is difficult to form the groove in a comb shape by machining such as a dicing cutter, and it is difficult to reduce the driving voltage.
さらに、第5図に示されているように、櫛型の駆動電極
3の一辺が共通電極2に囲まれていないため、隣接シャ
ッタとの間でクロストークが生じることもあった。Further, as shown in FIG. 5, since one side of the comb-shaped drive electrode 3 is not surrounded by the common electrode 2, crosstalk may occur between adjacent shutters.
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、その目
的は櫛型の電極であっても、開口率の向上、駆動電圧の
低下を図ることができ、かつ、クロストークを軽減する
ことができるようにしたPLZT表示ディバイスの電極構造
を提供することにある。The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to improve the aperture ratio, reduce the driving voltage, and reduce crosstalk even with a comb-shaped electrode. Another object of the present invention is to provide an electrode structure of the PLZT display device.
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、この発明のPLZT表示ディバ
イスの電極構造は、PLZTを用いた2次元表示ディバイス
の電極構造において、上記PLZTの基板上に櫛型の駆動電
極と、この駆動電極を囲むとともに、同駆動電極の櫛間
に入り込む電極部を有する共通電極と形成し、かつ、上
記駆動電極をバンプを介して外部に取り出すようにした
ことを要旨とする。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, an electrode structure of a PLZT display device according to the present invention is a two-dimensional display device electrode structure using PLZT. The gist of the invention is to form a drive electrode and a common electrode that surrounds the drive electrode and has an electrode portion that is inserted between the combs of the drive electrode, and takes out the drive electrode to the outside through a bump. .
また、上記駆動電極を囲む共通電極を碁盤の目状に形成
し、かつ、該共通電極を溝型電極としたものである。Further, a common electrode surrounding the drive electrode is formed in a grid pattern, and the common electrode is a groove type electrode.
[作用] 上記構成したので、上記共通電極は、駆動電極を囲むと
ともに、この駆動電極の櫛間に入り込む形になってい
る。そのため、従来の櫛型電極の組合せと比べると、シ
ャッタの開口率が大きくなり、かつ、例えば光シャッタ
アレーとした場合、隣接シャッタとの間にクロストーク
が発生しない。また、共通電極のうち、駆動電極を囲む
部分が碁盤の目状としていることから、例えばダイシン
グカッタ等の機械加工によりPLZTの基板に溝を形成し、
この溝を電極(溝型電極)として、駆動電圧をさらに下
げることが可能になる。[Operation] With the above configuration, the common electrode surrounds the drive electrode and is inserted between the combs of the drive electrode. Therefore, compared with the conventional combination of comb-shaped electrodes, the aperture ratio of the shutter is large, and in the case of an optical shutter array, for example, crosstalk does not occur between adjacent shutters. Further, of the common electrode, since the portion surrounding the drive electrode has a grid pattern, a groove is formed on the PLZT substrate by machining such as dicing cutter,
The drive voltage can be further reduced by using the groove as an electrode (groove-type electrode).
[実施例] 以下、この発明の実施例を第1図乃至第4図に基づいて
説明する。なお、図中、第5図および第6図と同一部分
には同一符号を付し重複説明を省略する。[Embodiment] An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4. In the figure, the same parts as those in FIG. 5 and FIG. 6 are designated by the same reference numerals, and a duplicate description will be omitted.
第1図および第2図において、PLZTの基板1の上には櫛
型の駆動電極3を囲み、かつ、駆動電極3の櫛間に入り
込む長方形の電極部4を有する共通電極(GND)5が形
成されている。すなわち、その電極部4と共通電極5と
により櫛型の電極が形作られることになる。In FIGS. 1 and 2, a common electrode (GND) 5 that surrounds the comb-shaped drive electrode 3 and has a rectangular electrode portion 4 that is inserted between the combs of the drive electrode 3 is provided on the substrate 1 of the PLZT. Has been formed. That is, a comb-shaped electrode is formed by the electrode portion 4 and the common electrode 5.
そして、第3図に示されているように、上記電極構造の
PLZT表示ディバイスを2次元光シャッタアレーや平面デ
ィスプレイに用いる場合、上記共通電極4は碁盤の目状
に形成され、この目内に櫛型の駆動電極3が形成され、
かつ、上記電極部4がその駆動電極3の櫛間に形成され
る。なお、上記駆動電極3および共通電極5は、従来同
様に、スパッタ法等により金属膜を成膜した後、ホトリ
ン工程によって形成すればよい。Then, as shown in FIG. 3, the electrode structure
When the PLZT display device is used for a two-dimensional optical shutter array or flat display, the common electrode 4 is formed in a grid pattern, and the comb-shaped drive electrode 3 is formed in the grid.
In addition, the electrode portion 4 is formed between the combs of the drive electrodes 3. The drive electrode 3 and the common electrode 5 may be formed by a photolithography process after forming a metal film by a sputtering method or the like, as in the conventional case.
また、上記駆動電極3が共通電極5に囲まれているた
め、例えばバンプ技術を用いてその駆動電極3をPLZTの
外部に取り出している。つまり、第2図に示されるよう
に、ガラス基板6上に、ITO透明導電膜により配線パタ
ーンを形成するとともに、例えばメッキ技術等により上
記駆動電極3と接続するバンプ7を形成する。そして、
ガラス基板6をPLZTの基板1に重ね、かつ、それらを透
明接着剤8で接着する。これにより、第1図および第3
図の二点鎖線の丸部分に示されるように、バンプ7が駆
動電極3に接続するため、駆動電極3はバンプ7および
配線パターンを介して外部に取り出される。Further, since the drive electrode 3 is surrounded by the common electrode 5, the drive electrode 3 is taken out of the PLZT by using, for example, a bump technique. That is, as shown in FIG. 2, a wiring pattern is formed on the glass substrate 6 by the ITO transparent conductive film, and the bumps 7 connected to the drive electrodes 3 are formed by, for example, a plating technique. And
The glass substrate 6 is overlaid on the PLZT substrate 1, and they are bonded with a transparent adhesive 8. As a result, FIG. 1 and FIG.
As shown by the circled portion of the chain double-dashed line in the figure, since the bump 7 is connected to the drive electrode 3, the drive electrode 3 is taken out through the bump 7 and the wiring pattern.
すると、第1図および第3図のAに示されているよう
に、開口部を増やすことができ、シャッタの開口率が大
きくなる。また、駆動電極3が共通電極(GND)5に完
全に囲まれるため、例えばPLZT光シャッタアレーとした
場合、隣接シャッタによるクロストークが軽減する。Then, as shown in A of FIGS. 1 and 3, the number of openings can be increased, and the aperture ratio of the shutter is increased. Moreover, since the drive electrode 3 is completely surrounded by the common electrode (GND) 5, for example, in the case of a PLZT optical shutter array, crosstalk due to adjacent shutters is reduced.
第4図はこの発明の変形実施例を示しており、上記共通
電極5が碁盤の目状に形成していることから、電極部4
を除いた共通電極5をダイシングカッタ等により形成し
た溝型電極9とし、また電極3,4をエッチングにより形
成した溝型電極にしている。FIG. 4 shows a modified embodiment of the present invention. Since the common electrode 5 is formed in a grid pattern, the electrode portion 4 is formed.
The common electrode 5 except for is a groove type electrode 9 formed by a dicing cutter or the like, and the electrodes 3 and 4 are groove type electrodes formed by etching.
この場合、PLZTの基板1の上に、ダイシングカッタによ
り縦横の溝、つまり共通電極5に対応する碁盤の目の溝
を形成し、続いてエッチングにより駆動電極3およびこ
の電極に対向する共通電極4の溝を形成する。さらに、
スパッタ法等を用いて金属膜を成膜した後、ホトリソ工
程によって電極パターンを形成する。このように、上記
共通電極5を深い溝型電極9とし、例えば100μmから3
0μmの溝を形成し、かつ、上記駆動電極3および共通
電極4を浅い溝型電極としたので、同図の破線矢印に示
されるように、PLZTの基板1の内の電界分布が良好にな
ることから、駆動電圧をさらに低下することが可能にな
る。In this case, vertical and horizontal grooves are formed on the PLZT substrate 1 by a dicing cutter, that is, grooves of a grid pattern corresponding to the common electrode 5, and then the driving electrode 3 and the common electrode 4 facing the electrode are formed by etching. To form a groove. further,
After forming a metal film using a sputtering method or the like, an electrode pattern is formed by a photolithography process. In this way, the common electrode 5 is used as the deep groove type electrode 9 and, for example, from 100 μm to 3 μm.
Since the groove of 0 μm is formed and the drive electrode 3 and the common electrode 4 are shallow groove electrodes, the electric field distribution in the substrate 1 of the PLZT becomes good as shown by the broken line arrow in the figure. Therefore, the drive voltage can be further reduced.
[発明の効果] 以上説明したように、この発明のPLZT表示ディバイスの
電極構造によれば、PLZTの基板上に、櫛型の駆動電極
と、この駆動電極を囲むとともに、同駆動電極の櫛間に
入り込む電極部を有する共通電極(GND)とを形成し、
かつ、その駆動電極をパンプを介して外部に取り出すよ
うにしたので、駆動電極が完全に共通電極に囲まれるこ
とから、開口部を増やして、開口率の向上を図ることが
でき、かつ、例えば光シャッタアレーの隣接シャッタに
おけるクストロークを軽減することができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the electrode structure of the PLZT display device of the present invention, the comb-shaped drive electrode and the inter-combination of the drive electrodes are formed on the substrate of the PLZT and surround the drive electrode. Forming a common electrode (GND) having an electrode part that goes in,
Moreover, since the drive electrode is taken out through the pump, the drive electrode is completely surrounded by the common electrode, so that the number of openings can be increased and the aperture ratio can be improved. Strokes in adjacent shutters of the optical shutter array can be reduced.
また、上記駆動電極を囲む共通電極を碁盤の目状にし、
かつ、この共通電極を薄型電極としたので、PLZTの基板
の電界分布がさらに良好になり、駆動電圧の低下をさら
に望めるという効果がある。In addition, the common electrode surrounding the drive electrode is formed in a grid pattern,
Moreover, since the common electrode is a thin electrode, the electric field distribution of the PLZT substrate is further improved, and the drive voltage can be further lowered.
第1図および第2図はこの発明の一実施例を示すPLZT表
示ディバイスの電極構造の概略的正面図および断面図、
第3図は上記PLZT表示ディバイスを光シャッタアレーに
適用した場合の電極構造の概略的正面図、第4図はこの
発明の変形実施例を示すPLZT表示ディバイスの電極構造
の概略的断面図、第5図および第6図は従来のPLZT表示
ディバイスの電極構造を示す概略的正面図および断面図
である。 図中、1はPLZTの基板、3は駆動電極(櫛型)、4は電
極部、5は共通電極(GND)、6はガラス板(透明配線
パターン)、7はバンプ、8は透明接着剤、9は溝型電
極である。1 and 2 are schematic front and sectional views of an electrode structure of a PLZT display device showing an embodiment of the present invention,
FIG. 3 is a schematic front view of an electrode structure when the PLZT display device is applied to an optical shutter array, and FIG. 4 is a schematic sectional view of an electrode structure of a PLZT display device showing a modified embodiment of the present invention. 5 and 6 are a schematic front view and a sectional view showing an electrode structure of a conventional PLZT display device. In the figure, 1 is a PLZT substrate, 3 is a drive electrode (comb type), 4 is an electrode part, 5 is a common electrode (GND), 6 is a glass plate (transparent wiring pattern), 7 is a bump, and 8 is a transparent adhesive. , 9 are groove-type electrodes.
Claims (2)
構造において、前記PLZTの基板上に櫛型の駆動電極と、
該駆動電極を囲むとともに、同駆動電極の櫛間に入り込
む電極部を有する共通電極と形成し、かつ、前記駆動電
極をバンプを介して外部に取り出すようにしたことを特
徴とするPLZT表示ディバイスの電極構造。1. An electrode structure of a two-dimensional display device using PLZT, wherein comb-shaped drive electrodes are provided on the substrate of PLZT.
A PLZT display device characterized in that it is formed with a common electrode that surrounds the drive electrode and has an electrode portion that enters between the combs of the drive electrode, and that the drive electrode is taken out to the outside through a bump. Electrode structure.
に形成し、かつ、該共通電極を溝型電極とした請求項
(1)記載のPLZT表示ディバイスの電極構造。2. The electrode structure of a PLZT display device according to claim 1, wherein the common electrode surrounding the drive electrode is formed in a grid pattern, and the common electrode is a groove type electrode.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27236789A JPH0693062B2 (en) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | Electrode structure of PLZT display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27236789A JPH0693062B2 (en) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | Electrode structure of PLZT display device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03132717A JPH03132717A (en) | 1991-06-06 |
| JPH0693062B2 true JPH0693062B2 (en) | 1994-11-16 |
Family
ID=17512899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27236789A Expired - Lifetime JPH0693062B2 (en) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | Electrode structure of PLZT display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0693062B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5897727A (en) * | 1996-09-20 | 1999-04-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for assembling layers with a transfer process using a crosslinkable adhesive layer |
| JP4195189B2 (en) | 1998-02-08 | 2008-12-10 | スリーディーヴィー システムズ リミテッド | Large aperture light image shutter |
| JP4585171B2 (en) | 2001-01-30 | 2010-11-24 | マイクロソフト インターナショナル ホールディングス ビイ.ヴイ. | Light modulator |
-
1989
- 1989-10-19 JP JP27236789A patent/JPH0693062B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03132717A (en) | 1991-06-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001021894A (en) | Liquid crystal display | |
| US4887104A (en) | Electrooptical light shutter device and printer apparatus using same | |
| CN101490733B (en) | Substrate for display panel and display panel having same | |
| JP2521752B2 (en) | Liquid crystal display | |
| JP3800868B2 (en) | Liquid crystal display | |
| JPH0693062B2 (en) | Electrode structure of PLZT display device | |
| JP2004522197A (en) | Liquid crystal display device having light separation structure | |
| JPH01167729A (en) | lcd display panel | |
| US6574028B2 (en) | Opposing electrode light modulator array and method for manufacturing the same | |
| JP2574775B2 (en) | Liquid crystal display device | |
| CN1687827A (en) | Display panel and color filter substrate therein and manufacturing method thereof | |
| JP2003186020A (en) | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same | |
| JP2504278B2 (en) | PLZT optical shutter array electrode forming method | |
| CN116991005B (en) | Display device | |
| JP2660758B2 (en) | Manufacturing method of PLZT display device | |
| WO2024192674A9 (en) | Array substrate, display panel, display apparatus, and mask | |
| JP2987976B2 (en) | Optical shutter array | |
| KR100273899B1 (en) | Apparatus and fabricating method of actuated mirror arrays | |
| US11073709B2 (en) | LCOS display with light absorbing material between pixels | |
| JPH09159980A (en) | Double-surface type electro-optic moduation array | |
| JPS62267719A (en) | Optical shutter array | |
| KR970003444B1 (en) | Manufacturing method of actuated array | |
| KR0137584B1 (en) | Optical path control device and its manufacturing method | |
| JPH11271805A (en) | Liquid crystal display | |
| JP2521752C (en) |