JPH069311B2 - Method for manufacturing printed wiring board - Google Patents
Method for manufacturing printed wiring boardInfo
- Publication number
- JPH069311B2 JPH069311B2 JP1241400A JP24140089A JPH069311B2 JP H069311 B2 JPH069311 B2 JP H069311B2 JP 1241400 A JP1241400 A JP 1241400A JP 24140089 A JP24140089 A JP 24140089A JP H069311 B2 JPH069311 B2 JP H069311B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- metal foil
- plating
- hole
- printed wiring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 29
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 14
- 238000005553 drilling Methods 0.000 claims description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 24
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、プリント配線板の製造方法に関するもので
ある。さらに詳しくは、この発明は、スルホールメッキ
後の金属箔の厚みのバラツキを抑え、エッチング精度を
向上させることのできるプリント配線板の新しい製造方
法に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board. More specifically, the present invention relates to a new method for manufacturing a printed wiring board that can suppress variations in thickness of metal foil after through-hole plating and improve etching accuracy.
(従来の技術) 従来より、最外層に金属箔を配設した積層板にスルホー
ル穴あけ加工し、このスルホールをメッキした後に金属
箔のエッチングによって回路形成する方法がプリント配
線板の製造法として広く採用されてきている。(Prior Art) Conventionally, a method of forming a circuit through a through hole drilling process on a laminated plate having a metal foil as the outermost layer, plating the through hole, and then etching the metal foil has been widely adopted as a method for manufacturing a printed wiring board. Has been done.
しかしながら、近年のプリント配線板の高密度実装への
要求の高まりとともに回路ファインパターン化のための
エッチングの精度向上が強く求められるようになってき
ており、このための新しい方策が必要になってきてい
る。However, with the increasing demand for high-density mounting of printed wiring boards in recent years, there has been a strong demand for improvement in etching accuracy for circuit fine patterning, and new measures for this have become necessary. There is.
すなわち、従来の方法においては、スルホールメッキに
ともなってスルホール周辺等の金属箔表面にメッキ層が
付着し、このため金属箔の厚みのバラツキが避けられ
ず、エッチングの精度向上には限界があった。That is, in the conventional method, the plating layer adheres to the surface of the metal foil around the through-holes and the like due to the through-hole plating, so that the variation in the thickness of the metal foil cannot be avoided and there is a limit to the improvement of the accuracy of etching. .
特に、電解メッキによる場合には周辺効果(沿面効果)
によるスルホール周辺部でのメッキ層の厚みのある付着
が避けられなかった。Especially when using electrolytic plating, peripheral effects (creeping effects)
It was unavoidable that a thick adhesion of the plating layer around the through hole was caused by.
このような問題を解決するための方法として、たとえば
第2図に示したように、最外層に回路形成用の金属箔
(ア)を有する積層板(イ)をドリル等によって穴あけ加工
し、形成されたスルホール(ウ)に近接したわずかの周囲
を除いて金属箔表面にレジスト(エ)を印刷し、次いでス
ルホールメッキ層(オ)を形成した後にレジスト(エ)を剥離
して、スルホールメッキにともなう金属箔(ア)の厚みの
変化を最小とし、その影響を限られたスルホール(ウ)の
周囲に限定することが考えられてもいる。As a method for solving such a problem, for example, as shown in FIG. 2, a metal foil for forming a circuit is formed on the outermost layer.
The laminated plate (a) having (a) is drilled by a drill or the like, the resist (d) is printed on the surface of the metal foil except for a slight periphery close to the formed through hole (c), and then the through hole plating layer After forming (e), the resist (d) can be peeled off to minimize the change in the thickness of the metal foil (a) due to through-hole plating, and limit the effect to the surroundings of the limited through-hole (c). It is also considered.
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、たとえばこの第2図に例示した方策によ
る場合にも、スホール(ウ)に近接した周辺部のメッキ層
による盛上りがどうしても避けられず、この盛上りはパ
ターニングに際しての支障となり、またレジスト(エ)印
刷時のスルホール(ウ)との印刷位置づれの発生も問題と
して残されていた。(Problems to be Solved by the Invention) However, even in the case of the measures illustrated in FIG. 2, for example, the swelling due to the plating layer in the peripheral portion close to the shole (c) is unavoidable, and this swelling occurs. It has been a problem in patterning, and the printing position misalignment with the through hole (c) at the time of resist (d) printing remains a problem.
このため、これまでの方法によっては、金属箔の厚みバ
ラツキを抑え、エッチング精度を向上させるのは難しい
のが実情であった。Therefore, it has been difficult to suppress the thickness variation of the metal foil and improve the etching accuracy by the conventional methods.
この発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたもので
あり、スルホール内部のみのメッキを可能とし、金属箔
の厚みのバラツキを抑えてエッチング精度を大きく向上
させることのできるプリント配線板の新しい製造方法を
提供することを目的としている。The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a new printed wiring board that enables plating only in the through holes and can greatly improve the etching accuracy by suppressing the variation in the thickness of the metal foil. It is intended to provide a manufacturing method.
(課題を解決するための手段) この発明は、上記の課題を解決するものとして、積層板
最外層の金属箔表面に下地レジストおよび剥離用レジス
トを塗布した後にスルホール穴あけ加工し、キャタリス
ト被覆した後にこの剥離用レジストを剥離し、金属箔断
面のキャタリストを除去した後にスルホールを無電解メ
ッキし、さらに電解メッキして、次いで下地レジストを
剥離することを特徴とするプリント配線板の製造方法を
提供する。(Means for Solving the Problems) As a means for solving the above problems, the present invention applies a through hole drilling process after applying a base resist and a peeling resist to the outermost metal foil surface of a laminated plate, and is coated with a catalyst. After this peeling resist is peeled off, the catalyst on the cross section of the metal foil is removed, the through holes are electrolessly plated, further electrolytically plated, and then the underlying resist is peeled off. provide.
(作 用) この発明の方法においては、上記の通り、下地レジスト
および剥離用レジストの2層のレジストを塗布した後に
スルホール穴あけ加工し、キャタリストを被覆した後に
剥離用レジストを剥離し、さらには金属箔断面のキャタ
リストを除去した後にスルホールを順次無電解メッキお
よび電解メッキするため、最外層金属箔表面にはメッキ
層は付着せず、スルホール周囲並びに金属箔断面にメッ
キ層が盛上ることもなく、スルホール内部のみを精度良
くメッキすることができる。(Operation) In the method of the present invention, as described above, through-hole drilling is performed after applying the two-layer resist of the underlayer resist and the peeling resist, the catalyst is covered, and then the peeling resist is peeled off. Since the through holes are sequentially electroless plated and electroplated after removing the catalyst on the cross section of the metal foil, the plating layer does not adhere to the surface of the outermost metal foil, and the plating layer may rise around the through holes and on the cross section of the metal foil. Instead, only the inside of the through hole can be plated with high precision.
このため、メッキ処理にともなう金属箔の厚みのバラツ
キは抑えられ、ファインパターン形成のためのエッチン
グ精度は大きく向上する。Therefore, the variation in the thickness of the metal foil due to the plating process is suppressed, and the etching accuracy for forming the fine pattern is greatly improved.
(実施例) 以下、添付した図面に沿ってこの発明のプリント配線板
の製造方法についてさらに詳しく説明する。(Example) Hereinafter, the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
第1図は、この発明の方法を例示した工程断面図であ
る。FIG. 1 is a process sectional view illustrating the method of the present invention.
(a) まず、この第1+図に示したように、プリント配
線板用積層板(1)の最外層金属箔(2)の表面に下地レジス
ト(3)を塗布する。この時、下地レジスト(3)の塗布には
パターニングを必要としていない。(a) First, as shown in FIG. 1+, a base resist (3) is applied to the surface of the outermost metal foil (2) of the printed wiring board laminate (1). At this time, patterning is not required to apply the base resist (3).
また、積層板(1)としてはプリント配線板用の任意の構
成のものを使用することができ、金属箔(2)としても、
銅、アルミニウム、その他の金属、合金の適宜の種類の
箔が使用される。そして、下地レジスト(3)について
は、スルホールメッキ時にメッキ浴に浸漬した場合にも
耐性を有するものとし、具体的には、たとえばシプレー
社製イーグルネガタイプ等のレジストを数μm〜15μ
m厚程度に塗布することができる。Further, as the laminated board (1), it is possible to use an arbitrary structure for a printed wiring board, and also as the metal foil (2),
Appropriate types of foils of copper, aluminum, other metals and alloys are used. The underlying resist (3) has resistance even when immersed in a plating bath at the time of through-hole plating. Specifically, for example, a resist of Eagle negative type manufactured by Shipley Co., Ltd.
It can be applied to a thickness of about m.
すなわち、熱硬化型、光硬化型のポリアミド系、ポリイ
ミド系、不飽和ポリエステル系、その他の樹脂レジスト
が適宜に使用される。That is, thermosetting type, photosetting type polyamide-based, polyimide-based, unsaturated polyester-based, and other resin resists are appropriately used.
(b) 次いで、この下地レジスト(3)層の上に剥離用レジ
スト(4)を塗布する。(b) Next, a stripping resist (4) is applied on the base resist (3) layer.
この時の剥離用レジスト(4)は、次のスルホール穴あけ
加工時にも剥離することのない程度の付着強度を持ち、
しかも硬化してフィルム状となって、剥離操作しやすく
なるものが好適に使用される。その種類としては特に限
定されることはなく、適宜なものを使用することができ
る。そして、好ましくは数10μm〜100μm程度塗
布することとする。The peeling resist (4) at this time has an adhesive strength that does not peel off even during the next through-hole drilling process,
Moreover, those which are cured to form a film and which can be easily peeled off are preferably used. The type is not particularly limited, and any appropriate type can be used. And, preferably, it is applied in the order of several tens of μm to 100 μm.
たとえば、この剥離用レジスト(4)としては、サンノプ
コ社製TC−580SN等を50〜80μm塗布するこ
とができる。For example, as the stripping resist (4), TC-580SN manufactured by San Nopco Co., Ltd. can be applied in a thickness of 50 to 80 μm.
(c) この剥離用レジスト(4)層を形成した後に、積層板
(1)に対してドリル等によってスルホール(5)の穴あけ加
工を行う。この穴あけ加工法としては、これまでに知ら
れている方法を採用すればよく、所定の位置にスルホー
ル(5)を形成する。(c) After forming this peeling resist (4) layer, the laminated plate
A through hole (5) is drilled in (1) with a drill or the like. As the drilling method, a method known so far may be adopted, and the through hole (5) is formed at a predetermined position.
(d) 次いで、スルホール(5)を穴あけ加工した積層板
(1)は、無電解メッキ処理のためのキャタリスト塗布を
行う。このキャタリスト塗布では、たとえばメッキ触媒
作用を有する塩溶液に積層板(1)を浸漬し、スルホール
(5)部および剥離用レジスト(4)の全面にメッキ触媒作用
のためのキャタリスト層(6)を形成する。(d) Next, a laminated plate in which through holes (5) are drilled
In (1), catalyst coating for electroless plating is performed. In this catalyst coating, for example, the laminated plate (1) is dipped in a salt solution having a plating catalytic action to form a through hole.
A catalyst layer (6) for a plating catalytic action is formed on the entire surface of the (5) part and the stripping resist (4).
たとえば、代表的なものとしては、パラジウム等の塩を
用いてこのキャタリスト層(6)を形成する。このための
方法には、従来公知のものを適宜に採用することもでき
る。For example, as a typical example, a salt such as palladium is used to form the catalyst layer (6). A conventionally known method can be appropriately adopted as a method for this purpose.
(e) キャタリスト層(6)を形成した後は剥離用レジスト
(4)層を剥離する。(e) Stripping resist after the catalyst layer (6) is formed
(4) Peel off the layer.
この剥離処理により、下地レジスト(3)層が露出する。By this peeling process, the base resist (3) layer is exposed.
(f) この状態において、金属箔(2)の断面部のみのキャ
タリストをソフトエッチングによって除去し、次いで無
電解メッキした後に電解メッキする。これによって、ス
ルホール(5)内部のみに金属による導電メッキ層(7)が形
成される。しかもまた、金属箔(2)断面部のキャタリス
トはあらかじめ除去してあるので無電解メッキは促進さ
れず、その後の電解メッキ時の周辺効果(沿面効果)は
あまり影響せず、スルホール周辺部としての金属箔(2)
断面部にメッキ膜(7)が厚く付くという問題も生じな
い。(f) In this state, the catalyst only on the cross section of the metal foil (2) is removed by soft etching, and then electroless plating is performed, followed by electrolytic plating. As a result, the conductive plating layer (7) made of metal is formed only inside the through hole (5). Moreover, since the catalyst on the cross section of the metal foil (2) has been removed in advance, electroless plating is not promoted, and the peripheral effect (creeping effect) during subsequent electrolytic plating is not significantly affected, and it is considered as a peripheral part of the through hole. Metal foil (2)
There is no problem that the plating film (7) is thickly attached to the cross section.
(g) メッキ処理後には、下地レジスト(3)層を剥離し
て、金属箔(2)を露出させる。表面回路形成のための金
属箔(2)とスルホール(5)内のメッキ層(7)とは導通する
ことになる。(g) After the plating treatment, the underlying resist (3) layer is peeled off to expose the metal foil (2). The metal foil (2) for forming the surface circuit is electrically connected to the plated layer (7) in the through hole (5).
たとえば以上の工程によって、スルホール(5)内のみの
良好な状態でのメッキ層(7)形成が可能となり、スルホ
ール(5)周辺の金属箔(2)表面へのメッキバラツキは発生
しない。For example, by the above steps, the plating layer (7) can be formed in a good condition only in the through hole (5), and the plating variation on the surface of the metal foil (2) around the through hole (5) does not occur.
もちろん、この発明は、その細部について様々な態様が
可能であり、以上の例示に限られるものではない。レジ
ストの種類やメッキ条件等についても従来公知のものも
含めて各種の手段が適宜に採用される。Of course, the present invention can be modified in various aspects in detail, and is not limited to the above examples. As for the type of resist and the plating conditions, various means including conventionally known ones are appropriately adopted.
(発明の効果) この発明により、以上詳しく説明した通り、両面プリン
ト配線板、多層板等のスルホール内部のみのメッキが可
能となり、スルホール周辺での金属箔表面のメッキバラ
ツキが発生せず、高精度エッチングによるパターニング
が可能となる。(Effects of the Invention) As described in detail above, according to the present invention, it is possible to plate only the inside of a through hole of a double-sided printed wiring board, a multi-layer board, etc., and the plating variation on the surface of the metal foil around the through hole does not occur. Patterning by etching becomes possible.
第1図はこの発明の製造法を例示した工程断面図であ
る。第2図は、従来法の一例を示した工程断面図であ
る。 1…積層板 2…金属箔 3…下地レジスト 4…剥離用レジスト 5…スルホール 6…キャタリスト層 7…メッキ層FIG. 1 is a process sectional view illustrating the manufacturing method of the present invention. FIG. 2 is a process sectional view showing an example of a conventional method. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated board 2 ... Metal foil 3 ... Base resist 4 ... Peeling resist 5 ... Through hole 6 ... Catalyst layer 7 ... Plating layer
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−149091(JP,A) 特公 昭50−5375(JP,B1) 特公 昭45−4582(JP,B1)Continuation of the front page (56) References JP-A-59-149091 (JP, A) JP-B-50-5375 (JP, B1) JP-B-45-4582 (JP, B1)
Claims (1)
および剥離用レジストを塗布した後にスルホール穴あけ
加工し、キャタリスト被覆した後に剥離用レジストを剥
離し、金属箔断面のキャタリストを除去した後にスルホ
ールを無電解メッキし、さらに電解メッキして、次いで
下地レジストを剥離することを特徴とするプリント配線
板の製造方法。1. An outermost metal foil surface of a laminated plate is coated with a base resist and a stripping resist, then through-hole drilling is performed, and after coating with a catalyst, the stripping resist is stripped to remove the catalyst on the cross section of the metal foil. A method for producing a printed wiring board, characterized in that the through holes are electrolessly plated, electrolytic plating is then performed, and then the underlying resist is peeled off.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1241400A JPH069311B2 (en) | 1989-09-18 | 1989-09-18 | Method for manufacturing printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1241400A JPH069311B2 (en) | 1989-09-18 | 1989-09-18 | Method for manufacturing printed wiring board |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03104189A JPH03104189A (en) | 1991-05-01 |
| JPH069311B2 true JPH069311B2 (en) | 1994-02-02 |
Family
ID=17073718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1241400A Expired - Lifetime JPH069311B2 (en) | 1989-09-18 | 1989-09-18 | Method for manufacturing printed wiring board |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069311B2 (en) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS505375A (en) * | 1973-05-25 | 1975-01-21 | ||
| JPS57207396A (en) * | 1981-06-16 | 1982-12-20 | Asahi Chemical Ind | Method of producing ultrafine thick film printed circuit board |
| JPS59149091A (en) * | 1983-02-16 | 1984-08-25 | 松下電器産業株式会社 | Both-side printed circuit board and method of producing same |
| JP2508538B2 (en) * | 1987-09-30 | 1996-06-19 | ソニー株式会社 | Wiring board manufacturing method and multilayer wiring board manufacturing method |
-
1989
- 1989-09-18 JP JP1241400A patent/JPH069311B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03104189A (en) | 1991-05-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7378227B2 (en) | Method of making a printed wiring board with conformally plated circuit traces | |
| US4770900A (en) | Process and laminate for the manufacture of through-hole plated electric printed-circuit boards | |
| JPS5818996A (en) | Method of producing circuit board with through hole | |
| JP4137279B2 (en) | Printed wiring board and manufacturing method thereof | |
| WO1997041713A1 (en) | New method of forming fine circuit lines | |
| JPH0642594B2 (en) | Method for manufacturing printed wiring board | |
| JPH069311B2 (en) | Method for manufacturing printed wiring board | |
| JPH045888A (en) | Printed wiring board | |
| JP3130707B2 (en) | Printed circuit board and method of manufacturing the same | |
| JP3028328B2 (en) | Metal / plastic hybrid mask and manufacturing method thereof | |
| JPH045889A (en) | Printed wiring board | |
| JPS6345887A (en) | Manufacturing method of printed wiring board | |
| JPS62156898A (en) | Manufacture of through-hole printed wiring board | |
| JPH03108794A (en) | Manufacture of printed wiring board | |
| JPS6355998A (en) | Manufacture of high density printed wiring board | |
| JPS6339119B2 (en) | ||
| JPS6064495A (en) | Method of producing printed circuit board | |
| JPS5924560B2 (en) | Printed wiring board manufacturing method | |
| JPH03175695A (en) | Manufacture of through hole printed wiring board | |
| JPH1140924A (en) | Novel method of forming fine circuit lines | |
| JPS5843920B2 (en) | Printed wiring board manufacturing method | |
| JPS62134992A (en) | Manufacture of circuit substrate | |
| JPS62599B2 (en) | ||
| JPS61121391A (en) | Printed wiring board | |
| JPS6170790A (en) | Printed circuit board manufacturing method |