JPH07105156B2 - Semiconductor non-volatile memory device - Google Patents
Semiconductor non-volatile memory deviceInfo
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- JPH07105156B2 JPH07105156B2 JP10870289A JP10870289A JPH07105156B2 JP H07105156 B2 JPH07105156 B2 JP H07105156B2 JP 10870289 A JP10870289 A JP 10870289A JP 10870289 A JP10870289 A JP 10870289A JP H07105156 B2 JPH07105156 B2 JP H07105156B2
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- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
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- Read Only Memory (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、半導体不揮発性記憶装置に係り、特に記憶装
置の非選択状態から選択状態への移行時に読出しデータ
出力に“1"→“0"→“1"レベルのグリッチが発生しない
ように防止する技術に関する。The present invention relates to a semiconductor non-volatile memory device, and more particularly to a read data output when a memory device shifts from a non-selected state to a selected state. The technology relates to preventing a 1 "→“ 0 ”→“ 1 ”level glitch from occurring.
(従来の技術) 従来の半導体読出専用記憶装置(以下、ROMと記す)、
例えばCMOS型(相補性絶縁ゲート型)のマスクROMの一
部を第3図に示している。即ち、1-11〜1-mnはm行×n
列の行列状に配列されたROMセルであり、それぞれ例え
ばソースが接地電位Vssに接続されたNチャネルMOSトラ
ンジスタからなり、そのゲート閾値が記憶データの
“0"、“1"に応じて設定されている。(Prior Art) A conventional semiconductor read-only memory device (hereinafter referred to as ROM),
For example, a part of a CMOS type (complementary insulated gate type) mask ROM is shown in FIG. That is, 1-11 to 1-mn are m rows × n
ROM cells arranged in a matrix of columns, each of which is composed of, for example, an N-channel MOS transistor whose source is connected to the ground potential Vss, and its gate threshold value is set according to "0" or "1" of stored data. ing.
このROMセル1-11〜1-mnが行列状に配列されたメモリセ
ルアレイMAにおいて、WL1〜WLmは同一行のROMセルのゲ
ートに共通に接続されている行線、BL1〜BLnは同一列の
ROMセルのドレインに共通に接続されている列線であ
る。RDは行アドレス入力に応じて上記行線を選択する行
デコーダ、CS1〜CSnは列線BL1〜BLnに直列に接続される
と共に各他端が共通に接続されている列選択トランジス
タであり、それぞれ例えばNチャネルMOSトランジスタ
からなる。CDは列アドレス入力に応じて上記列選択トラ
ンジスタを選択する列デコーダである。In the memory cell array MA in which the ROM cells 1-11 to 1-mn are arranged in a matrix, WL1 to WLm are row lines commonly connected to the gates of the ROM cells in the same row, and BL1 to BLn are in the same column.
A column line commonly connected to the drains of the ROM cells. RD is a row decoder that selects the row line according to the row address input, CS1 to CSn are column selection transistors connected in series to the column lines BL1 to BLn, and the other ends thereof are commonly connected. For example, it comprises an N-channel MOS transistor. CD is a column decoder that selects the column selection transistor according to the column address input.
Vcc電源(例えば5V)と列選択トランジスタCS1〜CSnの
共通接続点(共通列線)との間には、ゲートに与えられ
るチップ選択信号▼▲によりオン/オフ制御される
NチャネルMOSトランジスタQSが接続されている。ま
た、上記共通列線は、読出信号を検知・増幅するセンス
アンプSAの入力端に接続されている。OBはこのセンスア
ンプSAの出力をバッファ増幅するデータ出力バッファで
ある。Between the Vcc power supply (for example, 5V) and the common connection point (common column line) of the column selection transistors CS1 to CSn, an N-channel MOS transistor QS controlled to be turned on / off by a chip selection signal ▼ ▲ given to the gate. It is connected. The common column line is connected to the input end of a sense amplifier SA that detects and amplifies a read signal. OB is a data output buffer that buffer-amplifies the output of the sense amplifier SA.
なお、このROMが形成されている半導体チップ(ROMチッ
プ)をチップ選択信号▼▲により選択状態/非選択
状態に制御する制御回路(図示せず)が設けられてい
る。A semiconductor chip (ROM chip) on which the ROM is formed is provided with a control circuit (not shown) for controlling the selected state / non-selected state by the chip selection signal ▼ ▲.
上記ROMの通常の読出動作はよく知られているので、以
下、簡単に説明する。ここで、選択列線の電位の高レベ
ル/低レベルが対応して読出しデータ出力の“0"レベル
(低レベル)/“1"レベル(高レベル)となるように設
計されているものとする。The normal read operation of the ROM is well known and will be briefly described below. Here, it is assumed that the high level / low level of the potential of the selected column line is designed to correspond to the “0” level (low level) / “1” level (high level) of the read data output. .
列アドレス入力がそのままで行アドレス入力が変化した
場合のアクセス時には、行選択により選択された各メモ
リセルに接続されている各列線の電位は、選択セルがオ
フ状態(記憶データ“0"の状態)の場合には例えば3.5V
の高レベル(センスアンプ判定基準より高いレベル)、
選択セルがオン状態(記憶データ“1"の状態)の場合に
は例えば2.5Vの低レベル(センスアンプ判定基準より低
いレベル)になる。即ち、選択されたメモリセルに接続
されている列線の電位は上記2.5Vと3.5Vとの間で変化す
るので、読出データ出力は“1"と“0"との間を変化し、
“1"→“0"あるいは“1"→“1"または“0"→“0"あるい
は“0"→“1"のように変化する。At the time of access when the column address input remains unchanged and the row address input changes, the potential of each column line connected to each memory cell selected by row selection is such that the selected cell is in the OFF state (memory data “0” Condition), for example, 3.5V
High level (higher than the sense amplifier judgment standard),
When the selected cell is in the ON state (state of stored data “1”), it becomes a low level of 2.5 V (a level lower than the sense amplifier determination standard). That is, since the potential of the column line connected to the selected memory cell changes between the above 2.5V and 3.5V, the read data output changes between "1" and "0",
It changes like “1” → “0” or “1” → “1” or “0” → “0” or “0” → “1”.
これに対して、行アドレス入力がそのままで列アドレス
入力が変化した場合のアクセス時には、選択されたメモ
リセルに接続されている列線のレベルに対応した読出し
データ出力が現れ、読出しデータ出力は、“1"→“0"あ
るいは“1"→“1"または“0"→“0"あるいは“0"→“1"
のように変化する。On the other hand, at the time of access when the row address input is unchanged and the column address input is changed, the read data output corresponding to the level of the column line connected to the selected memory cell appears, and the read data output is “1” → “0” or “1” → “1” or “0” → “0” or “0” → “1”
It changes like.
次に、ROMチップが非選択状態から選択状態への移行時
における読出動作について、第4図を参照しながら説明
する。Next, the read operation when the ROM chip shifts from the non-selected state to the selected state will be described with reference to FIG.
いま、上記ROMがコンピュータシステムに接続されて使
用される場合、このROMチップが非選択の状態(Nチャ
ネルMOSトランジスタQSがオフの状態)において、行線W
L1と列線BLnとが選択されているものとし、この時の選
択セル1-1nがオフ状態(記憶データ“0"の状態)である
ものとする。この状態では、列線BLnが電気的に浮遊状
態であり、この状態がメモリサイクルに対して長時間続
くと、列線BLnの電位は、これに接続されている各セル1
-1n〜1-mnの接合リーク電流により接地電位まで低下す
る。Now, when the ROM is used by being connected to a computer system, the row line W in the state where this ROM chip is not selected (the state where the N-channel MOS transistor QS is off) is used.
It is assumed that L1 and the column line BLn are selected, and the selected cell 1-1n at this time is in the off state (state of stored data “0”). In this state, the column line BLn is in an electrically floating state, and if this state lasts for a long time with respect to the memory cycle, the potential of the column line BLn will change to the cells 1 connected to it.
Junction leakage current of -1n to 1-mn decreases to ground potential.
この後、このROMチップが選択状態になり、これまで選
択されていた行線WL1に代わって行線WL2が選択されたと
する。この選択の直後は、列線BLnの電位は接地電位で
ある。しかし、この選択時にチップ選択信号▼▲は
接地電位(例えば0V)になり、これによりNチャネルNO
SトランジスタQSがオンになり、選択されている列線BLn
は充電され始める。After that, it is assumed that this ROM chip is in the selected state and the row line WL2 is selected in place of the row line WL1 that has been selected so far. Immediately after this selection, the potential of the column line BLn is the ground potential. However, during this selection, the chip selection signal ▼ ▲ becomes the ground potential (for example, 0V), which causes the N-channel NO
S transistor QS is turned on and the selected column line BLn
Begins to be charged.
一方、通常、行線WL1〜WLmは、ポリシリコンやポリサイ
ド等からなり、その抵抗分の存在による信号遅延によ
り、列線BL1側よりも列線BLn側の方が行選択信号の立ち
上がりが遅れ、列線BLnに接続されているセル1-2nの選
択が行選択開始時より遅れる。この遅れの間は、セル1-
2nが選択されないので列線BLnが過渡的に浮遊状態にな
り、この列線BLnはNチャネルMOSトランジスタQSおよび
列選択トランジスタCSnを介して流れる充電電流により
高レベル(センスアンプ判定基準より高いレベル)まで
充電され、この後に列線BLnに接続されているセル1-2n
が選択されるようになる。この選択セル1-2nがオン状態
(記憶データ“1"の状態)であると、列線BLnの電位は
それまでの高レベルの状態から本来なるべき低レベル
(センスアンプ判定基準より低いレベル)に下がる。On the other hand, normally, the row lines WL1 to WLm are made of polysilicon, polycide, etc., and due to the signal delay due to the presence of the resistance component thereof, the rise of the row selection signal is delayed more on the column line BLn side than on the column line BL1 side. The selection of cells 1-2n connected to the column line BLn is delayed from the start of row selection. During this delay, cell 1-
Since 2n is not selected, the column line BLn becomes transiently in a floating state, and this column line BLn is at a high level (a level higher than the sense amplifier determination standard) due to the charging current flowing through the N-channel MOS transistor QS and the column selection transistor CSn. Cells 1-2n that are charged up to and then connected to column line BLn
Will be selected. When the selected cell 1-2n is in the ON state (stored data "1" state), the potential of the column line BLn is at the low level (lower than the sense amplifier determination standard) that should be the original high level. Go down to.
上記したような動作時には、データ出力バッファOBの読
出しデータ出力は、第5図に示すように“1"→“1"の変
化の間に過渡的に“0"になり、“1"→“0"→“1"のグリ
ッチが発生してしまう。In the above operation, the read data output of the data output buffer OB transiently becomes "0" during the change of "1" → "1" as shown in FIG. 5, and "1" → " A glitch from 0 "to" 1 "occurs.
しかし、上記したように読出しデータ出力に“1"→“0"
→“1"のグリッチが発生すると、通常の読出しデータ出
力の遷移“1"→“0"あるいは“0"→“1"よりもデータ出
力バッファOBの出力電流の変化による電源電位の変動
(自己ノイズ)が大きくなり、入力バッファの動作マー
ジンの悪化や誤動作を招くことになる。そして、アドレ
ス入力バッファの誤動作により誤って選択されたメモリ
セルの出力によりセンスアンプSAの出力が反転すると、
データ出力バッファOBの出力電流の変化が再び発生する
という動作が繰り返し、発振が起きてしまう。However, as described above, the read data output changes from “1” to “0”.
→ When a glitch of “1” occurs, the transition of the normal read data output “1” → “0” or “0” → “1” changes in the power supply potential due to the change in the output current of the data output buffer OB (self Noise) becomes large, which causes deterioration of the operation margin of the input buffer and malfunction. Then, when the output of the sense amplifier SA is inverted by the output of the memory cell that is erroneously selected due to the malfunction of the address input buffer,
The operation in which the change in the output current of the data output buffer OB occurs again occurs repeatedly, causing oscillation.
同様なことは、その他のROMについても言える。The same applies to other ROMs.
(発明が解決しようとする課題) 上記したように従来の半導体不揮発性記憶装置は、その
非選択状態から選択状態への移行時に読出しデータ出力
に“1"→“0"→“1"レベルのグリッチが発生する場合が
あり、データ出力バッファの電流変化による電源電位の
変動が大きくなり、入力バッファの動作マージンの悪化
や誤動作を招いたり、センスアンプの発振が起きてしま
うという問題がある。(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the conventional semiconductor nonvolatile memory device, when the non-selected state shifts to the selected state, the read data output of “1” → “0” → “1” level is changed. A glitch may occur, which causes a large fluctuation in the power supply potential due to a change in the current of the data output buffer, which leads to deterioration of the operating margin of the input buffer, malfunction, and oscillation of the sense amplifier.
本発明は、上記問題点を解決すべくなされたもので、そ
の目的は、記憶装置の非選択状態から選択状態への移行
時に、読出しデータ出力に“1"→“0"→“1"レベルのグ
リッチが発生することを防止し得る半導体不揮発性記憶
装置を提供することにある。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to output “1” → “0” → “1” level to the read data output when the storage device shifts from the non-selected state to the selected state. It is an object of the present invention to provide a semiconductor nonvolatile memory device capable of preventing the occurrence of the glitch.
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、不揮発性メモリセルがm行×n列の行列状に
配列されたメモリセルアレイと、このメモリセルアレイ
のm本の行線を選択する行デコーダと、前記メモリセル
アレイのn本の列線を選択する列選択トランジスタと、
この列選択トランジスタを制御する列デコーダと、前記
列選択トランジスタを経た選択列線からの読出信号を検
知・増幅するセンスアンプと、このセンスアンプの出力
をバッファ増幅するデータ出力バッファと、選択制御信
号により記憶装置の選択状態/非選択状態を制御する制
御回路とを具備する半導体不揮発性記憶装置において、
前記メモリセルアレイに付加され、前記行線と同一形状
を有する1本のダミー行線と、このダミー行線と前記n
本の列線とにそれぞれ接続され、それぞれ前記メモリセ
ルと同一形状を有し、それぞれ選択時にオン状態となる
ように設定された1行でn個のダミーメモリセルと、記
憶装置の非選択時に前記ダミー行線を選択し、記憶装置
の選択時に前記ダミー行線を選択しないように制御され
るダミー行線選択回路とを具備し、前記記憶装置が非選
択状態から選択状態に移行する時に、メモリセルアレイ
の選択対象となる行線が非選択状態から選択状態になる
のと同期してダミー行線が選択状態から非選択状態に移
行することを特徴とする。[Configuration of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention selects a memory cell array in which nonvolatile memory cells are arranged in a matrix of m rows × n columns, and m row lines of the memory cell array. A row decoder, and a column selection transistor for selecting n column lines of the memory cell array,
A column decoder that controls the column selection transistor, a sense amplifier that detects and amplifies a read signal from the selected column line that passes through the column selection transistor, a data output buffer that amplifies the output of the sense amplifier, and a selection control signal. And a control circuit for controlling the selected state / non-selected state of the memory device according to
One dummy row line added to the memory cell array and having the same shape as the row line;
N column dummy memory cells each connected to one column line and each having the same shape as the memory cell and set so as to be turned on when selected, and when the memory device is not selected. A dummy row line selection circuit that is controlled so as to select the dummy row line and not select the dummy row line when a memory device is selected, and when the memory device shifts from a non-selected state to a selected state, It is characterized in that the dummy row line shifts from the selected state to the non-selected state in synchronization with the change of the row line to be selected in the memory cell array from the non-selected state to the selected state.
(作用) 記憶装置が非選択状態の時、ダミー行線が選択状態であ
るのでオン状態のダミーメモリセルにより各列線が接地
電位に設定されている。そして、記憶装置が非選択状態
から選択状態に移行する時に、メモリセルアレイの選択
対象となる行線が非選択状態から選択状態に移行するの
と同期してダミー行線が選択状態から非選択状態に移行
する。この場合、メモリセルが選択されるまでは同一列
のダミーメモリセルが選択されていて選択列線が接地電
位に保持されるので、この選択列線が過渡的に浮遊状態
になることが防止され、また、選択メモリセル選択時に
はダミーメモリセルが非選択状態になるので、メモリセ
ル選択動作の障害となることはない。従って、選択され
たメモリセルに接続されている列線の電位は、それまで
設定されていた接地電位から、選択メモリセルの記憶デ
ータに応じて低レベルまたは高レベルになるので、読出
しデータ出力に“1"→“0"→“1"レベルのグリッチが発
生することはない。(Operation) Since the dummy row line is in the selected state when the memory device is in the non-selected state, each column line is set to the ground potential by the dummy memory cell in the ON state. Then, when the memory device shifts from the non-selected state to the selected state, the dummy row line shifts from the selected state to the non-selected state in synchronization with the shift of the row line to be selected in the memory cell array from the non-selected state to the selected state. Move to. In this case, since the dummy memory cells in the same column are selected and the selected column line is held at the ground potential until the memory cell is selected, it is possible to prevent the selected column line from transiting to a floating state. Moreover, since the dummy memory cell is in the non-selected state when the selected memory cell is selected, it does not hinder the memory cell selection operation. Therefore, the potential of the column line connected to the selected memory cell becomes a low level or a high level from the ground potential that has been set up to that time, depending on the stored data of the selected memory cell, so that the read data is output. There is no glitch of “1” → “0” → “1” level.
(実施例) 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明す
る。Embodiment An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第1図は、たとえばマスクROMの一部を示しており、第
3図を参照して前述した従来のマスクROMと比べて、
(a)メモリセルアレイMA″に行線と同一形状を有する
ダミー行線WLdが付加され、(b)それぞれ前記メモリ
セルと同一形状を有し、それぞれ選択時にオン状態(記
憶データ“1"の状態)となるように設定されたn個のダ
ミーメモリセル(例えばNチャネルMOSトランジスタ1d-
1〜1d-n)が設けられ、その各ゲートはダミー行線WLdと
接続され、その各ドレインはメモリセルアレイMA″のn
本の列線BL1〜BLnに接続されており、(c)記憶装置の
非選択時にはダミー行線WLdを選択し、記憶装置の選択
時にはダミー行線WLdを選択しないように制御されるダ
ミー行線選択回路(列線リセット回路)DSが設けられ、
(d)行デコーダRD″は、記憶装置の非選択時に全ての
行選択信号をメモリセルの閾値電圧以下のレベルに設定
する点が異なり、その他は同じであるので第3図中と同
一符号を付している。FIG. 1 shows, for example, a part of the mask ROM, and in comparison with the conventional mask ROM described above with reference to FIG.
(A) A dummy row line WLd having the same shape as the row line is added to the memory cell array MA ″, and (b) each has the same shape as the memory cell and is turned on when selected (state of stored data “1”). ) N dummy memory cells (eg N-channel MOS transistor 1d-
1 to 1d-n), each gate is connected to the dummy row line WLd, and each drain is n of the memory cell array MA ″.
(C) Dummy row line WLd connected to the book column lines BL1 to BLn and controlled so as to select the dummy row line WLd when the storage device is not selected and not to select the dummy row line WLd when the storage device is selected. A selection circuit (column line reset circuit) DS is provided,
(D) The row decoder RD ″ is different in that all the row selection signals are set to a level equal to or lower than the threshold voltage of the memory cell when the memory device is not selected. Attached.
即ち、m行×n列のROMセル1-11〜1-mnと1行×n列の
ダミーメモリセル1d-1〜1d-nが(m+1)行×n列の行
列状に配列されたメモリセルアレイMA″が形成されてい
る。このメモリセルアレイMA″の各行線WL1〜WLmには行
デコーダRD″の出力が接続され、ダミー行線WLdにはダ
ミー行線選択回路DSの出力が接続されている。また、メ
モリセルアレイMA″の各列線BL1〜BLnには列選択トラン
ジスタCS1〜CSnが直列に接続され、この列選択トランジ
スタCS1〜CSnの各他端の共通接続点(共通列線)とVcc
電源との間にチップ選択信号▼▲によりオン/オフ
制御されるNチャネルMOSトランジスタQSが接続されて
いる。CDは列デコーダ、SAはセンスアンプ、OBはデータ
出力バッファであり、さらに、チップ選択信号▼▲
によりROMチップを選択状態/非選択状態に制御する制
御回路(図示せず)が設けられている。That is, a memory in which m rows × n columns of ROM cells 1-11 to 1-mn and 1 row × n columns of dummy memory cells 1d-1 to 1d-n are arranged in a matrix of (m + 1) rows × n columns. A cell array MA ″ is formed. Each row line WL1 to WLm of this memory cell array MA ″ is connected to the output of the row decoder RD ″, and the dummy row line WLd is connected to the output of the dummy row line selection circuit DS. Further, column selection transistors CS1 to CSn are connected in series to each column line BL1 to BLn of the memory cell array MA ″, and common connection points (common column lines) at the other ends of the column selection transistors CS1 to CSn are connected. Vcc
An N-channel MOS transistor QS, which is on / off controlled by a chip selection signal ▼, is connected to the power source. CD is a column decoder, SA is a sense amplifier, OB is a data output buffer, and a chip select signal ▼ ▲
Is provided with a control circuit (not shown) for controlling the ROM chip in the selected state / non-selected state.
次に、上記ROMの動作を説明する。ここで、通常の読出
動作は、基本的には第3図に示したROMの動作と同様で
あるのでその詳述を省略し、以下、このROMが形成され
ているチップの非選択状態から選択状態への移行時にお
ける読出動作について、第2図を参照しながら説明す
る。Next, the operation of the ROM will be described. Here, the normal read operation is basically the same as the operation of the ROM shown in FIG. 3, so its detailed description is omitted, and the following will be selected from the non-selected state of the chip in which this ROM is formed. The read operation at the transition to the state will be described with reference to FIG.
いま、上記ROMがコンピュータシステムに接続されて使
用される場合、このROMチップが非選択の状態(Nチャ
ネルMOSトランジスタQSがオフの状態)において、列線B
Lnが選択されているものとする。この状態では、ダミー
行線WLdが選択状態であるのでオン状態のダミーメモリ
セル1d-nにより列線BLnが接地電位に設定されている。
この後、このROMチップが選択状態になり、これまで選
択されていた行線WL1に代わって行線WL2が選択されたと
する。そして、この選択時にチップ選択信号▼▲は
0Vになり、これによりNチャネルMOSトランジスタQSが
オンになり、選択されている列線BLnは充電され始めよ
うとする。Now, when the ROM is used by being connected to a computer system, in the state where this ROM chip is not selected (N-channel MOS transistor QS is off), the column line B
It is assumed that Ln is selected. In this state, since the dummy row line WLd is in the selected state, the dummy memory cells 1d-n in the on state set the column line BLn to the ground potential.
After that, it is assumed that this ROM chip is in the selected state and the row line WL2 is selected in place of the row line WL1 that has been selected so far. And at the time of this selection, the chip selection signal ▼ ▲
The voltage becomes 0 V, which turns on the N-channel MOS transistor QS and tries to start charging the selected column line BLn.
一方、通常、行線WL1〜WLmおよびダミー行線WLdは、ポ
リシリコンやポリサイド等からなる。これにより、行線
WL1〜WLmは、その抵抗分の存在による信号遅延により、
列線BL1側よりも列線BLn側の方が行選択信号の立ち上が
りが遅れ、列線BLnに接続されているセル1-2nの選択が
行選択開始時より遅れる。On the other hand, usually, the row lines WL1 to WLm and the dummy row line WLd are made of polysilicon, polycide, or the like. This allows the row line
WL1 to WLm are
The rising of the row selection signal is delayed on the column line BLn side than on the column line BL1 side, and the selection of the cells 1-2n connected to the column line BLn is delayed from the start of the row selection.
しかし、この遅れの間は、ダミー行線WLdは、抵抗分の
存在による信号遅延により、列線BL1側よりも列線BLn側
の方が行選択信号の立下がりが遅れ、列線BLnに接続さ
れているダミーメモリセル1d-nの非選択状態への移行が
遅れるので、列線BLnの電位は接地電位に保持され、過
渡的に浮遊状態になることはなく、この列線BLnの電位
が高レベルまで充電されることはない。そして、この後
に列線BLnに接続されているセル1-2nが選択されるよう
になると、ダミーメモリセル1d-nが非選択状態になり、
メモリセル1-2nの選択動作の障害となることはない。従
って、列線BLnの電位は、それまで設定されていた接地
電位から、選択メモリセル1-2nの記憶データに応じて低
レベルまたは高レベルになる。However, during this delay, the dummy row line WLd is connected to the column line BLn because the fall of the row selection signal is delayed on the column line BLn side than on the column line BL1 side due to the signal delay due to the presence of the resistance component. Since the transition of the dummy memory cells 1d-n to the non-selected state is delayed, the potential of the column line BLn is held at the ground potential and does not transitively enter the floating state. It is never charged to a high level. Then, after this, when the cells 1-2n connected to the column line BLn are selected, the dummy memory cells 1d-n are in the non-selected state,
It does not hinder the selection operation of the memory cells 1-2n. Therefore, the potential of the column line BLn becomes a low level or a high level from the ground potential that has been set so far, depending on the storage data of the selected memory cell 1-2n.
即ち、上記ROMにおいては、ROMチップが非選択状態の
時、ダミー行線WLdが選択状態であるので、オン状態の
ダミーメモリセルにより各列線BL1〜BLnが接地電位に設
定されている。そして、記憶装置が非選択状態から選択
状態に移行する時に、メモリセルアレイMA″の選択対象
となる行線が非選択状態から選択状態に移行するのと同
期して、ダミー行線WLdが選択状態から非選択状態に移
行する。この場合、メモリセルが選択されるまでは同一
列のダミーメモリセルが選択されていて選択列線が接地
電位に保持されるので、この選択列線が過渡的に浮遊状
態になることが防止され、また、メモリセル選択時には
ダミーメモリセルが非選択状態になるので、メモリセル
選択動作の障害となることはない。従って、選択された
メモリセルに接続されている列線の電位は、それまで設
定されていた接地電位から、選択メモリセルの記憶デー
タの応じて低レベルまたは高レベルになるので、読出し
データ出力に“1"→“0"→“1"レベルのグリッチが発生
することはない。That is, in the ROM, since the dummy row line WLd is in the selected state when the ROM chip is in the non-selected state, each column line BL1 to BLn is set to the ground potential by the dummy memory cells in the ON state. Then, when the memory device shifts from the non-selected state to the selected state, the dummy row line WLd is in the selected state in synchronization with the shift of the row line to be selected in the memory cell array MA ″ from the non-selected state to the selected state. In this case, since the dummy memory cells in the same column are selected and the selected column line is held at the ground potential until the memory cell is selected, the selected column line is transiently changed. The floating state is prevented, and since the dummy memory cell is in the non-selected state when the memory cell is selected, it does not interfere with the memory cell selection operation. The potential of the column line changes from the previously set ground potential to the low level or the high level according to the data stored in the selected memory cell. Therefore, the read data output is "1" → "0" → "1" level. It never glitches.
なお、上記実施例ではマスクROMを示したが、本発明
は、紫外線消去・再書込み可能なROM(EPROM)とか、電
気的消去・再書込み可能なROM(EEPROM)のような半導
体不揮発性記憶装置にも適用できる。Although the mask ROM is shown in the above embodiments, the present invention is a semiconductor nonvolatile memory device such as a UV erasable / rewritable ROM (EPROM) or an electrically erasable / rewritable ROM (EEPROM). Can also be applied to.
[発明の効果] 上述したように本発明の半導体不揮発性記憶装置によれ
ば、記憶装置の非選択状態から選択状態への移行時に、
読出しデータ出力に“1"→“0"→“1"レベルのグリッチ
が発生することを防止できるので、このグリッチに起因
する入力バッファの動作マージンの悪化や誤動作とか、
センスアンプの発振を防止できる。[Effect of the Invention] As described above, according to the semiconductor nonvolatile memory device of the present invention, when the memory device shifts from the non-selected state to the selected state,
Since it is possible to prevent glitches of "1" → "0" → "1" level from occurring in the read data output, deterioration of the operation margin of the input buffer or malfunction due to this glitch,
Oscillation of the sense amplifier can be prevented.
第1図は本発明の一実施例に係るROMの一部を示す構成
説明図、第2図は第1図のROMの読出動作の一例を示す
波形図、第3図は従来のROMの一部を示す構成説明図、
第4図は第3図のROMの読出動作の一例を示す波形図、
第5図は第4図の読出動作におけるデータ出力バッファ
の出力電位を示す波形図である。 1-11〜1-mn……ROMセル、1d-1〜1d-n……ダミーメモリ
セル、MA″……メモリセルアレイ、WL1〜WLm……行線、
WLd……ダミー行線、BL1〜BLn……列線、RD″……行デ
コーダ、DS……ダミー行線選択回路(列線リセット回
路)、CS1〜CSn……列選択トランジスタ、CD……列デコ
ーダ、QS……NチャネルMOSトランジスタ、SA……セン
スアンプ、OB……データ出力バッファ。FIG. 1 is a structural explanatory view showing a part of a ROM according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a waveform diagram showing an example of a read operation of the ROM of FIG. 1, and FIG. A configuration explanatory view showing a section,
FIG. 4 is a waveform diagram showing an example of a read operation of the ROM of FIG.
FIG. 5 is a waveform diagram showing the output potential of the data output buffer in the read operation of FIG. 1-11 to 1-mn ... ROM cells, 1d-1 to 1d-n ... dummy memory cells, MA ″ ... memory cell array, WL1 to WLm ... row lines,
WLd ... Dummy row line, BL1 to BLn ... Column line, RD "... Row decoder, DS ... Dummy row line selection circuit (column line reset circuit), CS1 to CSn ... Column selection transistor, CD ... Column Decoder, QS ... N-channel MOS transistor, SA ... Sense amplifier, OB ... Data output buffer.
Claims (1)
に配列されたメモリセルアレイと、このメモリセルアレ
イのm本の行線を選択する行デコーダと、前記メモリセ
ルアレイのn本の列線を選択する列選択トランジスタ
と、この列選択トランジスタを制御する列デコーダと、
前記列選択トランジスタを経た選択列線からの読出信号
を検知・増幅するセンスアンプと、このセンスアンプの
出力をバッファ増幅するデータ出力バッファと、選択制
御信号により記憶装置の選択状態/非選択状態を制御す
る制御回路とを具備する半導体不揮発性記憶装置におい
て、 前記メモリセルアレイに付加され、前記行線と同一形状
を有する1本のダミー行線と、 このダミー行線と前記n本の列線とにそれぞれ接続さ
れ、それぞれ前記メモリセルと同一形状を有し、それぞ
れ選択時にオン状態となるように設定された1行でn個
のダミーメモリセルと、 記憶装置の非選択時に前記ダミー行線を選択し、記憶装
置の選択時に前記ダミー行線を選択しないように制御さ
れるダミー行線選択回路と、 を具備し、 前記記憶装置が非選択状態から選択状態に移行する時
に、メモリセルアレイの選択対象となる行線が非選択状
態から選択状態になるのと同期してダミー行線が選択状
態から非選択状態に移行することを特徴とする半導体不
揮発性記憶装置。1. A memory cell array in which non-volatile memory cells are arranged in a matrix of m rows × n columns, a row decoder for selecting m row lines of the memory cell array, and n columns of the memory cell array. A column selection transistor that selects a line, and a column decoder that controls the column selection transistor,
A sense amplifier that detects and amplifies a read signal from the selected column line that has passed through the column selection transistor, a data output buffer that amplifies the output of the sense amplifier by a buffer, and a selection control signal to select / unselect the storage device. In a semiconductor nonvolatile memory device including a control circuit for controlling, one dummy row line having the same shape as the row line, added to the memory cell array, the dummy row line and the n column lines. N dummy memory cells in one row, each of which has the same shape as the memory cell and is set to be in an ON state when selected, and the dummy row line when the memory device is not selected. A dummy row line selection circuit which is controlled so as not to select the dummy row line when selecting the storage device, and the storage device is in a non-selected state. From the selected state to the selected state of the memory cell array, the dummy row line shifts from the selected state to the unselected state in synchronization with the transition from the unselected state to the selected state. Non-volatile storage device.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10870289A JPH07105156B2 (en) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | Semiconductor non-volatile memory device |
| KR1019900005983A KR930000817B1 (en) | 1989-04-27 | 1990-04-27 | Nonvolatile Semiconductor Memory |
| US07/943,145 US5265061A (en) | 1989-04-27 | 1992-09-10 | Apparatus for preventing glitch for semiconductor non-volatile memory device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10870289A JPH07105156B2 (en) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | Semiconductor non-volatile memory device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02285594A JPH02285594A (en) | 1990-11-22 |
| JPH07105156B2 true JPH07105156B2 (en) | 1995-11-13 |
Family
ID=14491456
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP10870289A Expired - Fee Related JPH07105156B2 (en) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | Semiconductor non-volatile memory device |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07105156B2 (en) |
| KR (1) | KR930000817B1 (en) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63117398A (en) * | 1986-11-05 | 1988-05-21 | Nec Corp | Reading circuit |
-
1989
- 1989-04-27 JP JP10870289A patent/JPH07105156B2/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-04-27 KR KR1019900005983A patent/KR930000817B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR900017039A (en) | 1990-11-15 |
| JPH02285594A (en) | 1990-11-22 |
| KR930000817B1 (en) | 1993-02-05 |
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