JPH07113036B2 - 燐含有アクリル系化合物及びその製造方法 - Google Patents
燐含有アクリル系化合物及びその製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
- C08F230/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/06—Phosphorus compounds without P—C bonds
- C07F9/08—Esters of oxyacids of phosphorus
- C07F9/09—Esters of phosphoric acids
- C07F9/091—Esters of phosphoric acids with hydroxyalkyl compounds with further substituents on alkyl
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Description
【0001】本発明は、少くとも1個の燐原子及び少く
とも1個の他のヘテロ原子を含む新規なアクリラート及
びメタクリラート、それらの製造方法、前記アクリラー
ト及びメタクリラートからの新規なポリマー及びコポリ
マーの製造、並びに少くとも1個の燐原子及び少くとも
1個の硫黄原子を含み、前記アクリラート及びメタクリ
ラートの合成の有用な中間体である有機化合物にも関す
る。
とも1個の他のヘテロ原子を含む新規なアクリラート及
びメタクリラート、それらの製造方法、前記アクリラー
ト及びメタクリラートからの新規なポリマー及びコポリ
マーの製造、並びに少くとも1個の燐原子及び少くとも
1個の硫黄原子を含み、前記アクリラート及びメタクリ
ラートの合成の有用な中間体である有機化合物にも関す
る。
【0002】学術文献及び技術文献には、ハロゲン、ヒ
ドロキシル、チオール、エポキシド等のような官能基を
有するアクリル系及びメタクリル系の化合物が多数既に
開示されている。これらのグループの化合物はそれぞ
れ、アクリル系二重結合の重合のし易さのために、種々
の業界で各種の用途を既に見出している。しかしなが
ら、従来学術及び技術文献では、少くとも1個の燐原子
と少くとも1個の硫黄原子を同時に有しているアクリル
系及びメタクリル系の化合物の例は僅かしか提供されて
いない。そこで、アクリル系又はメタクリル系の化合物
中にこの種の原子が存在することにより期待できる化学
的挙動における特徴に基き、本発明の対象とする目的
は、この化学の新分野を開拓すること及びこのような化
合物の合成条件を確定することである。
ドロキシル、チオール、エポキシド等のような官能基を
有するアクリル系及びメタクリル系の化合物が多数既に
開示されている。これらのグループの化合物はそれぞ
れ、アクリル系二重結合の重合のし易さのために、種々
の業界で各種の用途を既に見出している。しかしなが
ら、従来学術及び技術文献では、少くとも1個の燐原子
と少くとも1個の硫黄原子を同時に有しているアクリル
系及びメタクリル系の化合物の例は僅かしか提供されて
いない。そこで、アクリル系又はメタクリル系の化合物
中にこの種の原子が存在することにより期待できる化学
的挙動における特徴に基き、本発明の対象とする目的
は、この化学の新分野を開拓すること及びこのような化
合物の合成条件を確定することである。
【0003】従って、本発明はまず、式:
【0004】
【化7】
【0005】[式中、R1 は水素原子及びメチル基から
選択され、Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜12の
整数)であり、Xは硫黄原子及び酸素原子から選択さ
れ、Yは硫黄原子及び酸素原子から選択され、Rは−
(CH2 )p SR3 基(式中、pは3〜12の整数であ
って、R3 は1〜20個の炭素原子を有するアルキル基
である)である]の化合物、および式:
選択され、Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜12の
整数)であり、Xは硫黄原子及び酸素原子から選択さ
れ、Yは硫黄原子及び酸素原子から選択され、Rは−
(CH2 )p SR3 基(式中、pは3〜12の整数であ
って、R3 は1〜20個の炭素原子を有するアルキル基
である)である]の化合物、および式:
【0006】
【化8】
【0007】[式中、R1 は水素原子及びメチル基から
選択され、Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜12の
整数)であり、mは1〜3の整数であり、ZはR2 QH
基(式中、R2 は2〜12個の炭素原子を有するアルキ
ル基でありQは酸素原子及び硫黄原子から選択され
る)、並びに周期表のIA、 II A、IIIA、IB、II
B、VIB、 VIIB及びVIII族の金属原子から選択される
が、mが1である場合、ZはR2 OH基であり、Zが金
属である場合mはZの原子価である]の化合物から選択
される、アクリル系及びメタクリル系の化合物に関す
る。
選択され、Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜12の
整数)であり、mは1〜3の整数であり、ZはR2 QH
基(式中、R2 は2〜12個の炭素原子を有するアルキ
ル基でありQは酸素原子及び硫黄原子から選択され
る)、並びに周期表のIA、 II A、IIIA、IB、II
B、VIB、 VIIB及びVIII族の金属原子から選択される
が、mが1である場合、ZはR2 OH基であり、Zが金
属である場合mはZの原子価である]の化合物から選択
される、アクリル系及びメタクリル系の化合物に関す
る。
【0008】本発明は、式(I)、(II)のアクリル系
及びメタクリル系の化合物の製造方法にも関する。これ
らの化合物全部について、その製造には5価の燐の化合
物と式:
及びメタクリル系の化合物の製造方法にも関する。これ
らの化合物全部について、その製造には5価の燐の化合
物と式:
【0009】
【化9】
【0010】(式中、R1 、A及びYは式(I)中と同
じ意味を有する)のアクリル系又はメタクリル系の化合
物との反応が共通であるけれども、それらの合成は、式
(I)又は式(II)のいずれの化合物を製造するかに応
じて、また後者の(II)についてはZの種類に応じて特
徴を有する。そこで、本発明の化合物のグループのそれ
ぞれについて、本発明の製造方法を以下に説明する。
じ意味を有する)のアクリル系又はメタクリル系の化合
物との反応が共通であるけれども、それらの合成は、式
(I)又は式(II)のいずれの化合物を製造するかに応
じて、また後者の(II)についてはZの種類に応じて特
徴を有する。そこで、本発明の化合物のグループのそれ
ぞれについて、本発明の製造方法を以下に説明する。
【0011】式(I)のアクリル系及びメタクリル系の
化合物は、前記定義の式(III )のアクリル系又はメタ
クリル系の化合物を、式:
化合物は、前記定義の式(III )のアクリル系又はメタ
クリル系の化合物を、式:
【0012】
【化10】
【0013】(式中、R及びXは式(I)中と同じ意味
を有し、Tはハロゲン原子を表わす)の燐含有化合物と
反応させることにより製造される。反応は、生じるハロ
ゲン化水素HTと結合可能な塩基性溶媒の存在下に行う
のが好ましい。このような溶媒の例として挙げ得るの
は、特にトリエチルアミン、ピリジン及びジメチルアニ
リンを含む第3級アミンである。反応は好ましくは約0
℃〜80℃の温度で行い、溶媒が存在する場合、この温
度は前記溶媒の還流温度を越えてはならない。反応時間
は当然のことながら式(III )及び(IV)の化合物の種
類並びに選択される反応温度に応じて変るが、通常約1
〜20時間の間である。このようにして本発明の方法を
行う場合、式(III )のアクリル系又はメタクリル系の
化合物1molに対して、燐含有化合物を約0.7〜1.
3mol の割合で使用するのが一般的である。
を有し、Tはハロゲン原子を表わす)の燐含有化合物と
反応させることにより製造される。反応は、生じるハロ
ゲン化水素HTと結合可能な塩基性溶媒の存在下に行う
のが好ましい。このような溶媒の例として挙げ得るの
は、特にトリエチルアミン、ピリジン及びジメチルアニ
リンを含む第3級アミンである。反応は好ましくは約0
℃〜80℃の温度で行い、溶媒が存在する場合、この温
度は前記溶媒の還流温度を越えてはならない。反応時間
は当然のことながら式(III )及び(IV)の化合物の種
類並びに選択される反応温度に応じて変るが、通常約1
〜20時間の間である。このようにして本発明の方法を
行う場合、式(III )のアクリル系又はメタクリル系の
化合物1molに対して、燐含有化合物を約0.7〜1.
3mol の割合で使用するのが一般的である。
【0014】大気圧での反応が一般に用いられるけれど
も、本発明の方法を減圧下、たとえば約0.05〜1 b
arの範囲で同様に行うことができる。
も、本発明の方法を減圧下、たとえば約0.05〜1 b
arの範囲で同様に行うことができる。
【0015】最後に、本発明の反応は、少くとも1つの
重合防止剤を有効量存在させて行うことができる。適当
な重合防止剤の例として挙げ得るものは、特にフェノチ
アジン、ヒドロキノンメチルエーテル、N,N−ジエチ
ルヒドロキシルアミン、ニトロベンゼン、ジ−tert−ブ
チルカテコール、ヒドロキノン、p−アニリノフェノー
ル、亜燐酸ジ(2−エチルヘキシル)オクチルフェニ
ル、2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシトルエ
ン、メチレンブルー及びそれらの任意の割合の混合物で
ある。一般に、重合防止剤の有効量とはアクリル系又は
メタクリル系の化合物の0.05重量%〜0.5重量%
を含むことである。
重合防止剤を有効量存在させて行うことができる。適当
な重合防止剤の例として挙げ得るものは、特にフェノチ
アジン、ヒドロキノンメチルエーテル、N,N−ジエチ
ルヒドロキシルアミン、ニトロベンゼン、ジ−tert−ブ
チルカテコール、ヒドロキノン、p−アニリノフェノー
ル、亜燐酸ジ(2−エチルヘキシル)オクチルフェニ
ル、2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシトルエ
ン、メチレンブルー及びそれらの任意の割合の混合物で
ある。一般に、重合防止剤の有効量とはアクリル系又は
メタクリル系の化合物の0.05重量%〜0.5重量%
を含むことである。
【0016】反応の終りに、ハロゲン化水素と塩基性溶
媒の間に生じた塩を、必要な場合には、たとえば濾過に
より除去することが可能である。式(I)のアクリル系
又はメタクリル系の化合物の単離と精製は、有機合成の
よく知られた手法、特に過剰の式(III )のヒドロキシ
ル化された(メタ)アクリラートを除くための水洗、少
量の生成物に対してはシリカゲル上のカラムクロマトグ
ラフィー又は大量の場合には蒸留により行うことができ
る。
媒の間に生じた塩を、必要な場合には、たとえば濾過に
より除去することが可能である。式(I)のアクリル系
又はメタクリル系の化合物の単離と精製は、有機合成の
よく知られた手法、特に過剰の式(III )のヒドロキシ
ル化された(メタ)アクリラートを除くための水洗、少
量の生成物に対してはシリカゲル上のカラムクロマトグ
ラフィー又は大量の場合には蒸留により行うことができ
る。
【0017】式(IV)の燐含有化合物の中には既に当業
者によく知られているものもある。それらは特にRがア
ルキル基、たとえばエチル基又はイソプロピル基の化合
物である。このことはRが−(CH2 )p SR3 基(式
中、p及びR3 は式(I)中と同じ意味を有する)を有
する化合物についてはあてはまらない。後者の化合物
は、式(I)のアクリル系及びメタクリル系の化合物の
合成用中間体として特に用いるために本発明で初めて製
造された。
者によく知られているものもある。それらは特にRがア
ルキル基、たとえばエチル基又はイソプロピル基の化合
物である。このことはRが−(CH2 )p SR3 基(式
中、p及びR3 は式(I)中と同じ意味を有する)を有
する化合物についてはあてはまらない。後者の化合物
は、式(I)のアクリル系及びメタクリル系の化合物の
合成用中間体として特に用いるために本発明で初めて製
造された。
【0018】式:
【0019】
【化11】
【0020】(式中、T及びXは式(III )中と同じ意
味を有する)の燐含有化合物は、式R3 S(CH2 )p
OHのアルコールと式PT3 Xのオキシハロゲン化燐又
は硫ハロゲン化燐との反応により製造される。反応は、
1つの溶媒又は少くともその1つが好ましくは生じるハ
ロゲン化水素と結合可能な塩基性溶媒である溶媒混合物
の存在下に行うのが好ましい。塩基性溶媒の例は前記し
たとおりである。それらと混和し得る溶媒の例として挙
げることができるのは、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジエチルエーテル
等である。反応温度は、一般に約10℃と還流温度の間
であるが、Xが硫黄原子である場合は約50℃を越えな
い温度で行うことが好ましい。反応時間は、アルコール
及びオキシハロゲン化燐又は硫ハロゲン化燐の種類に応
じて変化し得るが、一般に約30分〜4時間の間であ
る。概して、アルコールの量は燐含有化合物1mol に対
し約2mol である。反応の終りに、ハロゲン化水素と塩
基性溶媒の間に生じた塩を、必要な場合には、たとえば
濾過により除去することが可能である。反応により一般
には有機相中で、式:
味を有する)の燐含有化合物は、式R3 S(CH2 )p
OHのアルコールと式PT3 Xのオキシハロゲン化燐又
は硫ハロゲン化燐との反応により製造される。反応は、
1つの溶媒又は少くともその1つが好ましくは生じるハ
ロゲン化水素と結合可能な塩基性溶媒である溶媒混合物
の存在下に行うのが好ましい。塩基性溶媒の例は前記し
たとおりである。それらと混和し得る溶媒の例として挙
げることができるのは、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジエチルエーテル
等である。反応温度は、一般に約10℃と還流温度の間
であるが、Xが硫黄原子である場合は約50℃を越えな
い温度で行うことが好ましい。反応時間は、アルコール
及びオキシハロゲン化燐又は硫ハロゲン化燐の種類に応
じて変化し得るが、一般に約30分〜4時間の間であ
る。概して、アルコールの量は燐含有化合物1mol に対
し約2mol である。反応の終りに、ハロゲン化水素と塩
基性溶媒の間に生じた塩を、必要な場合には、たとえば
濾過により除去することが可能である。反応により一般
には有機相中で、式:
【0021】
【化12】
【0022】(式中、T、X、p及びR3 は式(I)及
び(IV)中と同じ意味を有し、qは0〜2の整数であ
る)の化合物の混合物を生じ、その混合物中、主生成物
はq=1のものである。これらの化合物をカラムクロマ
トグラフィーにより分離することができる。必要な場合
には、式(I)のアクリル系及びメタクリル系の化合物
の製造に、この混合物を直接使用することができる。
び(IV)中と同じ意味を有し、qは0〜2の整数であ
る)の化合物の混合物を生じ、その混合物中、主生成物
はq=1のものである。これらの化合物をカラムクロマ
トグラフィーにより分離することができる。必要な場合
には、式(I)のアクリル系及びメタクリル系の化合物
の製造に、この混合物を直接使用することができる。
【0023】mが1でZが水素原子である式(II)のア
クリル系及びメタクリル系の化合物は、式(III )のア
クリル系又はメタクリル系の化合物を五硫化燐P2 S5
と反応させて製造する。反応は、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロホルムのような溶媒の存在下に行うの
が好ましい。反応は、約40℃と溶媒の還流温度の間の
温度で行うのが好ましい。反応時間は、式(III )の化
合物の種類に応じて変化し得るが、一般に約15分〜5
時間の間である。反応を行うために、式(III)の化合
物1mol に対し約0.2〜0.3mol の量の五硫化燐を
一般に使用する。反応の終りに、式(II)のアクリル系
又はメタクリル系の化合物を単離するには、それをアル
カリ性溶液(たとえば水酸化ナトリウム)を用いて処理
し、有機溶媒で洗浄し稀薄な鉱酸(HCl、H2 S
O4 )を用いて中和して再生する。
クリル系及びメタクリル系の化合物は、式(III )のア
クリル系又はメタクリル系の化合物を五硫化燐P2 S5
と反応させて製造する。反応は、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロホルムのような溶媒の存在下に行うの
が好ましい。反応は、約40℃と溶媒の還流温度の間の
温度で行うのが好ましい。反応時間は、式(III )の化
合物の種類に応じて変化し得るが、一般に約15分〜5
時間の間である。反応を行うために、式(III)の化合
物1mol に対し約0.2〜0.3mol の量の五硫化燐を
一般に使用する。反応の終りに、式(II)のアクリル系
又はメタクリル系の化合物を単離するには、それをアル
カリ性溶液(たとえば水酸化ナトリウム)を用いて処理
し、有機溶媒で洗浄し稀薄な鉱酸(HCl、H2 S
O4 )を用いて中和して再生する。
【0024】mが1でZがR2 QH基である式(II)の
アクリル系及びメタクリル系の化合物は、先ず、mが1
でZが水素原子であって、たとえば前記のようにして得
られる式(II)のアクリル系及びメタクリル系の化合物
を、一般式:
アクリル系及びメタクリル系の化合物は、先ず、mが1
でZが水素原子であって、たとえば前記のようにして得
られる式(II)のアクリル系及びメタクリル系の化合物
を、一般式:
【0025】
【化13】
【0026】(式中、R4 は水素原子及び1〜10個の
炭素原子を有する線状又は分枝状のアルキル基から選択
される)のアルキレンオキシド又はスルフィド(QがO
であるか又はQがSであるかによる)と反応させて製造
する。不可欠ではないけれども、反応は前記のような溶
媒又は溶媒混合物の存在下に行うことができる。反応は
約−10℃〜+40℃の温度で、かつアクリル系又はメ
タクリル系の出発化合物(II)1mol に対し一般に約1
〜1.5mol の量のアルキレンオキシド又はスルフィド
を使用して行うのが好ましい。反応により2つの異性体
の混合物が形成されることがもっとも多く、異性体のヒ
ドロキシル又はチオール官能基の位置は、オキシラン又
はチイラン環の開環が生起する部位に応じて変る。反応
の終りに異性体の混合物を直接分離する。ただし、溶媒
を使用している場合は、それを蒸発して除く。
炭素原子を有する線状又は分枝状のアルキル基から選択
される)のアルキレンオキシド又はスルフィド(QがO
であるか又はQがSであるかによる)と反応させて製造
する。不可欠ではないけれども、反応は前記のような溶
媒又は溶媒混合物の存在下に行うことができる。反応は
約−10℃〜+40℃の温度で、かつアクリル系又はメ
タクリル系の出発化合物(II)1mol に対し一般に約1
〜1.5mol の量のアルキレンオキシド又はスルフィド
を使用して行うのが好ましい。反応により2つの異性体
の混合物が形成されることがもっとも多く、異性体のヒ
ドロキシル又はチオール官能基の位置は、オキシラン又
はチイラン環の開環が生起する部位に応じて変る。反応
の終りに異性体の混合物を直接分離する。ただし、溶媒
を使用している場合は、それを蒸発して除く。
【0027】mがZの原子価であり、Zが周期表のI
A、IIA、 IIIA、IB、IIB、VIB、 VIIB及びVIII
族の金属原子である、式(II)のアクリル系及びメタク
リル系の化合物は、mが1でZが水素原子であって、た
とえば前記のようにして得られる式(II)のアクリル系
又はメタクリル系の化合物を、金属Zの無機塩と水性ア
ルカリ性媒質中で反応させて製造する。金属Zの例とし
て挙げ得るのは、アルカリ金属、たとえばナトリウム、
カリウム及びリチウム、アルカリ土類金属たとえば、マ
グネシウム及びカルシウム、並びにアルミニウム、亜
鉛、カドミウム、ニッケル、コバルト、鉄及び銅であ
る。反応のために選択されるアルカリ性媒質は水酸化ナ
トリウム、炭酸カリウム又は一般的にどのような無機強
塩基でもあってもよい。金属Zの無機塩として挙げ得る
例は、ハロゲン化物、酸化物及び硫酸塩である。反応
は、約20℃〜60℃の温度で、かつ金属Zの原子価に
応じて金属Zの無機塩1mol につき、一般に約1〜3mo
l の量のアクリル系及びメタクリル系の化合物を使用し
て行うのが好ましい。反応の時間は、一般に約15〜1
50分であるが、反応の終りに当って、式(II)アクリ
ル系又はメタクリル系の金属化合物を、ジクロロメタ
ン、クロロホルム等のような有機溶媒を用いて水溶液か
ら抽出する。
A、IIA、 IIIA、IB、IIB、VIB、 VIIB及びVIII
族の金属原子である、式(II)のアクリル系及びメタク
リル系の化合物は、mが1でZが水素原子であって、た
とえば前記のようにして得られる式(II)のアクリル系
又はメタクリル系の化合物を、金属Zの無機塩と水性ア
ルカリ性媒質中で反応させて製造する。金属Zの例とし
て挙げ得るのは、アルカリ金属、たとえばナトリウム、
カリウム及びリチウム、アルカリ土類金属たとえば、マ
グネシウム及びカルシウム、並びにアルミニウム、亜
鉛、カドミウム、ニッケル、コバルト、鉄及び銅であ
る。反応のために選択されるアルカリ性媒質は水酸化ナ
トリウム、炭酸カリウム又は一般的にどのような無機強
塩基でもあってもよい。金属Zの無機塩として挙げ得る
例は、ハロゲン化物、酸化物及び硫酸塩である。反応
は、約20℃〜60℃の温度で、かつ金属Zの原子価に
応じて金属Zの無機塩1mol につき、一般に約1〜3mo
l の量のアクリル系及びメタクリル系の化合物を使用し
て行うのが好ましい。反応の時間は、一般に約15〜1
50分であるが、反応の終りに当って、式(II)アクリ
ル系又はメタクリル系の金属化合物を、ジクロロメタ
ン、クロロホルム等のような有機溶媒を用いて水溶液か
ら抽出する。
【0028】最後に、本発明は、前記の新規なアクリル
系及びメタクリル系の化合物の、新規なポリマー及びコ
ポリマーの合成への応用にも関する。更に詳細には、本
発明は、式(I)又は式(II)のアクリル系又はメタク
リル系の少くとも1つの化合物から誘導されるユニット
を少くとも1個含むポリマー及びコポリマーに関する。
このような(コ)ポリマーは、式(I)又は式(II)の
前記のアクリル系又はメタクリル系の化合物と共に少く
とも1つの共重合性コモノマーから誘導されるユニット
を更に少くとも1個含み得る。それは、たとえば以下の
ような化合物である:− その線状又は分枝状のアルキル基が、置換されてな
いか、又は少くとも1個の塩素又は弗素のようなハロゲ
ン原子、及び/又は少くとも1個のヒドロキシル基によ
り置換され、1〜20個の炭素原子を有するものであ
る、アクリルアルキル酸又はメタクリル酸アルキル、− メタクリル酸ベンジルのようなアクリル酸アリール
又はメタクリル酸アリール、− ビニル芳香族炭化水素、たとえばスチレン、ビニル
トルエン、α−メチルスチレン、4−メチルスチレン、
3−メチルスチレン、4−メトキシスチレン、2−ヒド
ロキシメチルスチレン、4−エチルスチレン、4−エト
キシスチレン、3,4−ジメチルスチレン、2−クロロ
スチレン、3−クロロスチレン、4−クロロ−3−メチ
ルスチレン、3−tert−ブチルスチレン、2,4−ジク
ロロスチレン、2,6−ジクロロスチレン及び1−ビニ
ルナフタレン、− 不飽和ニトリル、たとえばアクリロニトリル又はメ
タクリロニトリル。
系及びメタクリル系の化合物の、新規なポリマー及びコ
ポリマーの合成への応用にも関する。更に詳細には、本
発明は、式(I)又は式(II)のアクリル系又はメタク
リル系の少くとも1つの化合物から誘導されるユニット
を少くとも1個含むポリマー及びコポリマーに関する。
このような(コ)ポリマーは、式(I)又は式(II)の
前記のアクリル系又はメタクリル系の化合物と共に少く
とも1つの共重合性コモノマーから誘導されるユニット
を更に少くとも1個含み得る。それは、たとえば以下の
ような化合物である:− その線状又は分枝状のアルキル基が、置換されてな
いか、又は少くとも1個の塩素又は弗素のようなハロゲ
ン原子、及び/又は少くとも1個のヒドロキシル基によ
り置換され、1〜20個の炭素原子を有するものであ
る、アクリルアルキル酸又はメタクリル酸アルキル、− メタクリル酸ベンジルのようなアクリル酸アリール
又はメタクリル酸アリール、− ビニル芳香族炭化水素、たとえばスチレン、ビニル
トルエン、α−メチルスチレン、4−メチルスチレン、
3−メチルスチレン、4−メトキシスチレン、2−ヒド
ロキシメチルスチレン、4−エチルスチレン、4−エト
キシスチレン、3,4−ジメチルスチレン、2−クロロ
スチレン、3−クロロスチレン、4−クロロ−3−メチ
ルスチレン、3−tert−ブチルスチレン、2,4−ジク
ロロスチレン、2,6−ジクロロスチレン及び1−ビニ
ルナフタレン、− 不飽和ニトリル、たとえばアクリロニトリル又はメ
タクリロニトリル。
【0029】−N−置換マレイミド、たとえばN−エ
チルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド、N−n
−ブチルマレイミド、N−イソブチルマレイミド、N−
tert−ブチルマレイミド、N−n−オクチルマレイミ
ド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレ
イド及びN−フェニルマレイミド、− 不飽和ジカルボン酸の無水物、たとえば無水マレイ
ン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸又はテトラヒ
ドロ無水フタル酸、− アクリル酸又はメタクリル酸、− ポリオールのアクリル酸エステル又はメタクリル酸
エステル、たとえばエチレングリコール、プロピレング
リコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジ
オール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリ
コール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シ
クロヘキサンジメタノール、2,2,4−トリメチル−
1,3−ペンタンジオール、2−エチル−2−メチル−
1,3−プロパンジオール、2,2−ジエチル−1,3
−プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピ
レングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピ
レングリコール、テトラエチレングリコール、テトラプ
ロピレングリコール、トリメチルロールエタン、トリメ
チロールプロパン、グリセリン、ペンタエリトリトール
のジアクリル酸エステル及びジメタクリル酸エステル、
トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリ
セリン、ペンタエリトリトールのトリアクリル酸エステ
ル及びトリメタクリル酸エステル、ペンタエリトリトー
ルのテトラアクリル酸エステル及びテトラメタクリル酸
エステル、ジペンタエリトリトールのジ(メタ)アクリ
ル酸エステル〜ヘキサ(メタ)アクリル酸エステル、モ
ノ−若しくはポリエトキシル化又はモノ−若しくはポリ
プロポキシル化ポリオールのポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、たとえばトリエトキシル化トリメチロールプロ
パン及びトリプロポキシル化トリメチロールプロパンの
トリアクリル酸エステル及びトリメタクリル酸エステ
ル;トリプロポキシル化グリセリンのトリアクリル酸エ
ステル及びトリメタクリル酸エステル;テトラエトキシ
ル化ペンタエリトリトールのトリアクリル酸エステル、
トリメタクリル酸エステル、テトラアクリル酸エステル
及びテトラメタクリル酸エステル、− (メタ)アクリル酸エポキシエチルビシクロ[2,
2,1]ヘプト−5(6)−イル、アクリル酸エポキシ
ジシクロペンチルオキシエチル、並びに式:
チルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド、N−n
−ブチルマレイミド、N−イソブチルマレイミド、N−
tert−ブチルマレイミド、N−n−オクチルマレイミ
ド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレ
イド及びN−フェニルマレイミド、− 不飽和ジカルボン酸の無水物、たとえば無水マレイ
ン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸又はテトラヒ
ドロ無水フタル酸、− アクリル酸又はメタクリル酸、− ポリオールのアクリル酸エステル又はメタクリル酸
エステル、たとえばエチレングリコール、プロピレング
リコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジ
オール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリ
コール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シ
クロヘキサンジメタノール、2,2,4−トリメチル−
1,3−ペンタンジオール、2−エチル−2−メチル−
1,3−プロパンジオール、2,2−ジエチル−1,3
−プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピ
レングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピ
レングリコール、テトラエチレングリコール、テトラプ
ロピレングリコール、トリメチルロールエタン、トリメ
チロールプロパン、グリセリン、ペンタエリトリトール
のジアクリル酸エステル及びジメタクリル酸エステル、
トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリ
セリン、ペンタエリトリトールのトリアクリル酸エステ
ル及びトリメタクリル酸エステル、ペンタエリトリトー
ルのテトラアクリル酸エステル及びテトラメタクリル酸
エステル、ジペンタエリトリトールのジ(メタ)アクリ
ル酸エステル〜ヘキサ(メタ)アクリル酸エステル、モ
ノ−若しくはポリエトキシル化又はモノ−若しくはポリ
プロポキシル化ポリオールのポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、たとえばトリエトキシル化トリメチロールプロ
パン及びトリプロポキシル化トリメチロールプロパンの
トリアクリル酸エステル及びトリメタクリル酸エステ
ル;トリプロポキシル化グリセリンのトリアクリル酸エ
ステル及びトリメタクリル酸エステル;テトラエトキシ
ル化ペンタエリトリトールのトリアクリル酸エステル、
トリメタクリル酸エステル、テトラアクリル酸エステル
及びテトラメタクリル酸エステル、− (メタ)アクリル酸エポキシエチルビシクロ[2,
2,1]ヘプト−5(6)−イル、アクリル酸エポキシ
ジシクロペンチルオキシエチル、並びに式:
【0030】
【化14】
【0031】(式中、R1 は水素原子及びメチル基から
選択され、nは1〜16の整数である)の(メタ)アク
リル酸エステル;式:
選択され、nは1〜16の整数である)の(メタ)アク
リル酸エステル;式:
【0032】
【化15】
【0033】(式中、R1 は水素原子及びメチル基から
選択され、R2 は1〜12個の炭素原子を有するアルキ
ル基及び6〜12個の炭素原子を有するアリール基から
選択される)の(メタ)アクリル酸エステル、及び式:
選択され、R2 は1〜12個の炭素原子を有するアルキ
ル基及び6〜12個の炭素原子を有するアリール基から
選択される)の(メタ)アクリル酸エステル、及び式:
【0034】
【化16】
【0035】と
【0036】
【化17】
【0037】(式中、R1 は水素原子及びメチル基から
選択される)の(メタ)アクリル酸から選択される、エ
ポキシ化アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステ
ル、− アクリルアミド又はメタクリルアミド、アクリル酸
若しくはメタクリル酸ジアルキルアミノアルキル及びそ
の第4級塩、− アクリル酸及びメタクリル酸2−(2−ノルボルニ
ルオキシ)エチル並びにアクリル酸及びメタクリル酸2
−(ジメタノデカヒドロ−2−ナフチルオキシ)エチ
ル、並びに −式:
選択される)の(メタ)アクリル酸から選択される、エ
ポキシ化アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステ
ル、− アクリルアミド又はメタクリルアミド、アクリル酸
若しくはメタクリル酸ジアルキルアミノアルキル及びそ
の第4級塩、− アクリル酸及びメタクリル酸2−(2−ノルボルニ
ルオキシ)エチル並びにアクリル酸及びメタクリル酸2
−(ジメタノデカヒドロ−2−ナフチルオキシ)エチ
ル、並びに −式:
【0038】
【化18】
【0039】のオキサゾリドン及び式:
【0040】
【化19】
【0041】[式中、R1 は水素原子及びメチル基から
選択され、nは1〜12の整数であり、mは1〜3の整
数であって、R2 は5〜12個の炭素原子を有する線
状、分枝状若しくは環状のアルキル又は芳香族炭化水素
基であり、この式のオキサゾリドンは(メタ)アクリル
官能基を有する化合物を、少くとも1個のイソシアナー
ト官能基を有する化合物と30℃〜90℃で反応させる
ことにより得ることができる。]のオキサゾリドンから
選択されるアクリル系及びメタクリル系のオキサゾリド
ン。
選択され、nは1〜12の整数であり、mは1〜3の整
数であって、R2 は5〜12個の炭素原子を有する線
状、分枝状若しくは環状のアルキル又は芳香族炭化水素
基であり、この式のオキサゾリドンは(メタ)アクリル
官能基を有する化合物を、少くとも1個のイソシアナー
ト官能基を有する化合物と30℃〜90℃で反応させる
ことにより得ることができる。]のオキサゾリドンから
選択されるアクリル系及びメタクリル系のオキサゾリド
ン。
【0042】この型のポリマー及びコポリマーは、式
(I)又は式(II)の少くとも1つのアクリル系又はメ
タクリル系の化合物を、所望により、前記で定義したよ
うな少くとも1つの共重合性コモノマーと、少くとも1
つの遊離基開始剤、たとえば過酸化物、ヒドロペルオキ
シド又はジアゾ化合物の存在下に(共)重合することに
より得られる。(共)重合は一般に約50℃〜120℃
の温度で、かつモノマーの1つを溶媒に使用して行われ
る。この重合は少くとも1つの界面活性剤の存在下に約
50℃〜100℃の温度で、水中エマルジョンで同様に
行うことができる。
(I)又は式(II)の少くとも1つのアクリル系又はメ
タクリル系の化合物を、所望により、前記で定義したよ
うな少くとも1つの共重合性コモノマーと、少くとも1
つの遊離基開始剤、たとえば過酸化物、ヒドロペルオキ
シド又はジアゾ化合物の存在下に(共)重合することに
より得られる。(共)重合は一般に約50℃〜120℃
の温度で、かつモノマーの1つを溶媒に使用して行われ
る。この重合は少くとも1つの界面活性剤の存在下に約
50℃〜100℃の温度で、水中エマルジョンで同様に
行うことができる。
【0043】
【実施例】以下の実施例により本発明をさらに説明する
が、限定する目的ではない。
が、限定する目的ではない。
【0044】実施例1〜4 0.1mol のPXCl3 (X=O,S)を30mlのベン
ゼンで希釈し、凝縮器、温度計、滴下漏斗及び磁気撹拌
を備えた3口フラスコに入れた。
ゼンで希釈し、凝縮器、温度計、滴下漏斗及び磁気撹拌
を備えた3口フラスコに入れた。
【0045】10mlのベンゼンで希釈した式(CH3 )
3 C−S−(CH2 )p −OHの硫黄含有アルコール
0.2mol を0.2mol のピリジンと共に5℃で滴下し
て添加した。
3 C−S−(CH2 )p −OHの硫黄含有アルコール
0.2mol を0.2mol のピリジンと共に5℃で滴下し
て添加した。
【0046】添加の終ったとき、混合物を室温にし、次
いで1時間加熱した(X=Oの場合還流で、X=Sの場
合50℃で)。
いで1時間加熱した(X=Oの場合還流で、X=Sの場
合50℃で)。
【0047】ピリジニウム塩を濾過により除去し、濾液
を氷水で洗浄した。
を氷水で洗浄した。
【0048】有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、次い
で濃縮した。
で濃縮した。
【0049】得られた式:
【0050】
【化20】
【0051】の主生成物について、JEOL PMX 60 SI分光
計を使用し、プロトン核磁気共鳴(NMR)により特性
を調べた。
計を使用し、プロトン核磁気共鳴(NMR)により特性
を調べた。
【0052】得られたスペクトルはすべて1.3ppm
(s,18H)に化学シフトを示す。更に、それらは、
生成物ごとに変化する化学シフト(ppm表示)を示
し、その特徴を下記表Iに示す。この表にはpの値及び
Xの意味に対応させて、一方に反応の収率Y(硫黄含有
アルコールに対し百分率で表現した)と他方にNMRス
ペクトルのデータをまとめる。
(s,18H)に化学シフトを示す。更に、それらは、
生成物ごとに変化する化学シフト(ppm表示)を示
し、その特徴を下記表Iに示す。この表にはpの値及び
Xの意味に対応させて、一方に反応の収率Y(硫黄含有
アルコールに対し百分率で表現した)と他方にNMRス
ペクトルのデータをまとめる。
【0053】
【表1】
【0054】更に、実施例2の生成物について、プロト
ンデカップリングを用いる31−燐核磁気共鳴により、
燐酸を標準として特性を調べた。BRUCKER 80 MHz分光計
で得られたスペクトルは4.6ppm に化学シフトを示
す。
ンデカップリングを用いる31−燐核磁気共鳴により、
燐酸を標準として特性を調べた。BRUCKER 80 MHz分光計
で得られたスペクトルは4.6ppm に化学シフトを示
す。
【0055】実施例5〜13 10mmolの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルと1
0mmolのピリジンを、凝縮器、温度計、滴下漏斗及び磁
気撹拌を備えた反応器に導入した。10mmolの塩化物
(RO)2 P(X)Clを15℃で滴下して添加した。
混合物を周囲温度とし、18時間撹拌を続けた。その後
10mlの無水エーテルを反応混合物に添加し、次いでピ
リジニウム塩を除去した。ロータリーエバポレーター上
でエーテルを除去することにより無色の液体を得た。
0mmolのピリジンを、凝縮器、温度計、滴下漏斗及び磁
気撹拌を備えた反応器に導入した。10mmolの塩化物
(RO)2 P(X)Clを15℃で滴下して添加した。
混合物を周囲温度とし、18時間撹拌を続けた。その後
10mlの無水エーテルを反応混合物に添加し、次いでピ
リジニウム塩を除去した。ロータリーエバポレーター上
でエーテルを除去することにより無色の液体を得た。
【0056】次いで過剰の(メタ)アクリル酸ヒドロキ
シアルキルを除去するため、単離した生成物を水洗及び
/又はシリカ上のカラムクロマトグラフィーにより精製
した。(メタ)アクリル酸(チオ)ホスホリルアルキル
の収率は、塩化ホスホリルを基準として表わして、どの
場合にも95%以上である。
シアルキルを除去するため、単離した生成物を水洗及び
/又はシリカ上のカラムクロマトグラフィーにより精製
した。(メタ)アクリル酸(チオ)ホスホリルアルキル
の収率は、塩化ホスホリルを基準として表わして、どの
場合にも95%以上である。
【0057】この合成に使用したメタクリル酸ヒドロキ
シアルキルは、それぞれの次の意味を示す式(III )を
有する。
シアルキルは、それぞれの次の意味を示す式(III )を
有する。
【0058】A=−(CH2 )2 −(実施例5〜11) A=−(CH2 )3 −(実施例12及び13)。
【0059】この合成に使用した塩化ホスホリルは式
(IV)を有し、R及びXの意味は下記の表IIに列挙され
ている。得られる(メタ)アクリル酸(チオ)ホスホリ
ルアルキルの特性をJEOL PMX 60 SI分光計を使用してプ
ロトン核磁気共鳴により調べた。得られたスペクトルは
すべて6.1ppm (m,1H)、5.6ppm (m,1
H)、2.0ppm (m,3H)に化学シフトを示し、R
が硫黄含有基(実施例9〜13)である場合には2.6
ppm (m,4H)に示した。さらに、それらは生成物ご
とに変る化学シフト(ppmで表わす)を示し、その特
性値は表IIに列挙してある。
(IV)を有し、R及びXの意味は下記の表IIに列挙され
ている。得られる(メタ)アクリル酸(チオ)ホスホリ
ルアルキルの特性をJEOL PMX 60 SI分光計を使用してプ
ロトン核磁気共鳴により調べた。得られたスペクトルは
すべて6.1ppm (m,1H)、5.6ppm (m,1
H)、2.0ppm (m,3H)に化学シフトを示し、R
が硫黄含有基(実施例9〜13)である場合には2.6
ppm (m,4H)に示した。さらに、それらは生成物ご
とに変る化学シフト(ppmで表わす)を示し、その特
性値は表IIに列挙してある。
【0060】
【表2】
【0061】実施例14〜16 0.12mol のメタクリル酸ヒドロキシアルキル及び1
00mlのベンゼンを、凝縮器、温度計、滴下漏斗及び磁
気撹拌を備えた反応器に、20℃の温度で窒素雰囲気の
下に導入した。混合物を加熱還流し、次いで0.03mo
l の五硫化燐P2 S5 を添加した。添加の終りに、80
℃で加熱を続け、P2 S5 が完全に消失するようにした
(実施例15及び16の場合30分、実施例14の場合
2時間)。溶媒の蒸発により式:
00mlのベンゼンを、凝縮器、温度計、滴下漏斗及び磁
気撹拌を備えた反応器に、20℃の温度で窒素雰囲気の
下に導入した。混合物を加熱還流し、次いで0.03mo
l の五硫化燐P2 S5 を添加した。添加の終りに、80
℃で加熱を続け、P2 S5 が完全に消失するようにした
(実施例15及び16の場合30分、実施例14の場合
2時間)。溶媒の蒸発により式:
【0062】
【化21】
【0063】の化合物を透明な淡黄色液体としてメタク
リル酸ヒドロキシアルキルを基準として100%の収率
で得た。
リル酸ヒドロキシアルキルを基準として100%の収率
で得た。
【0064】使用したメタクリル酸ヒドロキシアルキル
は次の通りである: メタクリル酸2−ヒドロキシエチル(n=2) 実施例
14、 メタクリル酸3−ヒドロキシプロピル(n=3) 実施
例15、 メタクリル酸6−ヒドロキシヘキシル(n=6) 実施
例16。
は次の通りである: メタクリル酸2−ヒドロキシエチル(n=2) 実施例
14、 メタクリル酸3−ヒドロキシプロピル(n=3) 実施
例15、 メタクリル酸6−ヒドロキシヘキシル(n=6) 実施
例16。
【0065】得られた式(II- a)の化合物についてJE
OL PMX 60 SI分光計を使用してプロトン核磁気共鳴によ
り特性を調べた。得られたスペクトルはすべて6.1pp
m (m,2H)、5.55ppm (m,2H)、2.0pp
m (m,6H)に化学シフトを示す。その上、それらは
生成物ごとに変る化学シフト(ppmで表わす)を示
し、その値を表III に示す。
OL PMX 60 SI分光計を使用してプロトン核磁気共鳴によ
り特性を調べた。得られたスペクトルはすべて6.1pp
m (m,2H)、5.55ppm (m,2H)、2.0pp
m (m,6H)に化学シフトを示す。その上、それらは
生成物ごとに変る化学シフト(ppmで表わす)を示
し、その値を表III に示す。
【0066】
【表3】
【0067】実施例17〜19 実施例14〜16の1つで得た化合物0.2mol 及び次
に0.22mol の水酸化ナトリウム水溶液(0.7N)
を、磁気撹拌を備えた反応器に導入し、次いで混合物を
40℃に加熱した。0.11mol の硫酸亜鉛を水溶液に
して添加し、加熱を1時間続けた。混合物をジクロロメ
タンを用いて抽出し、生成物を溶媒の蒸発により単離し
た。これにより式:
に0.22mol の水酸化ナトリウム水溶液(0.7N)
を、磁気撹拌を備えた反応器に導入し、次いで混合物を
40℃に加熱した。0.11mol の硫酸亜鉛を水溶液に
して添加し、加熱を1時間続けた。混合物をジクロロメ
タンを用いて抽出し、生成物を溶媒の蒸発により単離し
た。これにより式:
【0068】
【化22】
【0069】の化合物を濃い黄色の油状体として、下記
表IVに示す収率で得た。
表IVに示す収率で得た。
【0070】これらの化合物についてJEOL PMX 60 SI分
光計を使用してプロトン核磁気共鳴により特性を調べ
た。
光計を使用してプロトン核磁気共鳴により特性を調べ
た。
【0071】得られたスペクトルはすべて6.1ppm
(m,4H)、5.6ppm (m,4H)、4.3ppm
(m,16H)及び2.0ppm (m,12H)に化学シ
フトを示す。その上、それらは生成物ごとに変る化学シ
フトを示すが、それをppmで表示して表IVに列挙す
る。これらの生成物についても、実施例4と同じ条件で
31−燐核磁気共鳴により特性を調べた。H3 PO4 を
基準とする化学シフト(ppm表示)を表IVに示す。
(m,4H)、5.6ppm (m,4H)、4.3ppm
(m,16H)及び2.0ppm (m,12H)に化学シ
フトを示す。その上、それらは生成物ごとに変る化学シ
フトを示すが、それをppmで表示して表IVに列挙す
る。これらの生成物についても、実施例4と同じ条件で
31−燐核磁気共鳴により特性を調べた。H3 PO4 を
基準とする化学シフト(ppm表示)を表IVに示す。
【0072】
【表4】
【0073】実施例20〜22 実施例16〜18の1つで得た化合物0.1mol 及びプ
ロピレンオキシド0.11mol を凝縮器、温度計、滴下
漏斗及び磁気撹拌を備えた反応器に0℃で導入し、次い
で混合物の温度を23℃とし、混合物を2時間反応させ
た。これにより式:
ロピレンオキシド0.11mol を凝縮器、温度計、滴下
漏斗及び磁気撹拌を備えた反応器に0℃で導入し、次い
で混合物の温度を23℃とし、混合物を2時間反応させ
た。これにより式:
【0074】
【化23】
【0075】及び
【0076】
【化24】
【0077】の化合物を100%の収率で得た。この混
合物についてJEOL PMX 60 SI分光計を使用してプロトン
核磁気共鳴により特性を調べた。
合物についてJEOL PMX 60 SI分光計を使用してプロトン
核磁気共鳴により特性を調べた。
【0078】得られたスペクトルはすべて6.1ppm
(m,2H)、5.6ppm (m,2H)、4.3ppm
(m,9H)、2.7ppm (s)、2.8〜3.3ppm
(m,2H)、2.0ppm (m,6H)及び1.3ppm
(d,3H)に化学シフトを示す。その上、それらは生
成物ごとに変る化学シフト(ppm表示)を示し、表V
に列挙してある。
(m,2H)、5.6ppm (m,2H)、4.3ppm
(m,9H)、2.7ppm (s)、2.8〜3.3ppm
(m,2H)、2.0ppm (m,6H)及び1.3ppm
(d,3H)に化学シフトを示す。その上、それらは生
成物ごとに変る化学シフト(ppm表示)を示し、表V
に列挙してある。
【0079】
【表5】
【0080】これらの化合物は実施例4と同じ条件の下
で31−燐核磁気共鳴により同様に特性を調べた。スペ
クトルによる定量によれば、異性体(II- c)の割合は
85%で、異性体(II- d)の割合は15%である。そ
れぞれの異性体について観測される化学シフトをppm
で表示して表Vに示す。
で31−燐核磁気共鳴により同様に特性を調べた。スペ
クトルによる定量によれば、異性体(II- c)の割合は
85%で、異性体(II- d)の割合は15%である。そ
れぞれの異性体について観測される化学シフトをppm
で表示して表Vに示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ダニエル・パケ フランス国、54500・バンドウーブル、リ ユ・ダンベール、2 (56)参考文献 特開 昭51−90330(JP,A) 特開 昭60−97986(JP,A) 特公 昭53−47096(JP,B2)
Claims (7)
- 【請求項1】 式: 【化1】 [式中、 R1 は水素原子及びメチル基から選択され、 Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜12の整数)であ
り、 Xは硫黄原子及び酸素原子から選択され、 Yは硫黄原子及び酸素原子から選択され、 Rは−(C H2 )p SR3 基(式中、pは3〜12の整
数であって、R3 は1〜20個の炭素原子を有するアル
キル基である)である]の化合物、および 式: 【化2】 R1 は水素原子及びメチル基から選択され、 Aは(CH2 )n 基(式中、nは2〜12の整数)であ
り、 mは1〜3の整数であり, ZはR 2 QH基(式中、R2 は2〜12個の炭素原子を
有するアルキル基であって、Qは酸素及び硫黄の原子か
ら選択される)並びに周期表のIA、 II A、III A、
IB、IIB、VIB、 VIIB及びVIII族の金属原子から選
択されるが、mが1である場合、ZはR 2 OH基であ
り、Zが金属である場合、mはZの原子価である]の化
合物から選択される、アクリル系又はメタクリル系の化
合物。 - 【請求項2】 式: 【化3】 (式中、R1 、A及びYは請求項1と同じ意味を有す
る)のアクリル系又はメタクリル系の化合物を、 式: 【化4】 (式中、R及びXは請求項1と同じ意味を有し、Tはハ
ロゲン原子を表わす)の5価の燐の化合物と反応させる
ことから成ることを特徴とする、請求項1に記載の式
(I)のアクリル系又はメタクリル系化合物の製造方
法。 - 【請求項3】 初めに五硫化燐と請求項2に記載の式
(III )の化合物とを反応させ、次に一般式: 【化5】 (式中、R4 は水素原子及び1〜10個の炭素原子を有
する線状又は分枝状のアルキル基から選択される)のア
ルキレンオキシド又はスルフィド(QがOであるか又は
QがSであるかによる)と上記初めのステップで得られ
る化合物とを反応させることから成ることを特徴とす
る、mが1でありZがR2 QH基である請求項1に記載
の式(II)のアクリル系又はメタクリル系の化合物の製
造方法。 - 【請求項4】 初めに五硫化燐と請求項2に記載の式
(III )の化合物とを反応させ、次に金属Zの無機塩と
この初めのステップで得られる化合物とを、アルカリ性
媒質中で反応させることから成ることを特徴とする、m
がZの原子価であり、Zが金属原子である請求項1に記
載の式(II)のアクリル系又はメタクリル系の化合物の
製造方法。 - 【請求項5】 請求項1に定義される式(I)もしくは
式(II)の化合物類から選択されるアクリル系又はメタ
クリル系化合物の少くとも1つから誘導される単位を含
むポリマー又はコポリマーの製造方法であって、前記ア
クリル系又はメタクリル系化合物を少くとも1種のラジ
カル開始剤の存在下、約50〜120℃で且つモノマー
の1つを溶媒として使用して、又は、少くとも1種の界
面活性剤の存在下約50〜100℃で且つ水中エマルジ
ョン中で、これと共重合可能な少くとも1種のコモノマ
ーと共重合させるか、あるいは前記化合物を単独重合さ
せることを特徴とする前記方法。 - 【請求項6】 式: 【化6】 (式中、Xは酸素原子であり、Tはハロゲン原子を表わ
し、pは2〜12の整数であって、R3 は1〜20個の
炭素原子を有するアルキル基である)の燐含有化合物。 - 【請求項7】 式R3 S(CH2 )p OH(式中、pお
よびR 3 は請求項6と同じ意味を有する)のアルコール
と式PT3 X(式中、TおよびXは請求項6と同じ意味
を有する)のオキシハロゲン化燐とを反応させることか
ら成ることを特徴とする、請求項6に記載の燐含有化合
物の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9007438 | 1990-06-14 | ||
| FR9007438A FR2663333B1 (fr) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | Composes acryliques phosphores, leur procede de fabrication et nouveaux polymeres en derivant. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04253987A JPH04253987A (ja) | 1992-09-09 |
| JPH07113036B2 true JPH07113036B2 (ja) | 1995-12-06 |
Family
ID=9397610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3143388A Expired - Lifetime JPH07113036B2 (ja) | 1990-06-14 | 1991-06-14 | 燐含有アクリル系化合物及びその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0461976A1 (ja) |
| JP (1) | JPH07113036B2 (ja) |
| CA (1) | CA2044492A1 (ja) |
| FR (1) | FR2663333B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DK0477048T3 (da) * | 1990-08-24 | 1996-11-18 | Inst Francais Du Petrole | Hidtil ukendte phosphorsvovlforbindelser og deres anvendelse som additiver i smøreolie |
| JP4331201B2 (ja) * | 2006-01-13 | 2009-09-16 | 花王株式会社 | リン酸エステル系重合体の製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3992477A (en) * | 1974-12-31 | 1976-11-16 | Ford Motor Company | Protective coating composition |
| US3991230A (en) * | 1974-12-31 | 1976-11-09 | Ford Motor Company | Plural coated article and process for making same |
| JPS5347096A (en) * | 1976-10-13 | 1978-04-27 | Yano Shigemasa | Method of reproducing waste good |
| US4581180A (en) * | 1983-02-01 | 1986-04-08 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Phosphates having one to three (meth)acrylate groups |
| JPS6097986A (ja) * | 1983-10-31 | 1985-05-31 | Takeda Chem Ind Ltd | 有機リン酸エステル誘導体の製造法 |
-
1990
- 1990-06-14 FR FR9007438A patent/FR2663333B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-06-10 EP EP91401516A patent/EP0461976A1/fr not_active Ceased
- 1991-06-13 CA CA 2044492 patent/CA2044492A1/fr not_active Abandoned
- 1991-06-14 JP JP3143388A patent/JPH07113036B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04253987A (ja) | 1992-09-09 |
| EP0461976A1 (fr) | 1991-12-18 |
| CA2044492A1 (fr) | 1991-12-15 |
| FR2663333B1 (fr) | 1993-09-17 |
| FR2663333A1 (fr) | 1991-12-20 |
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