Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH07113777B2 - Developer and developing method for photosensitive lithographic printing plate - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH07113777B2 - Developer and developing method for photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Developer and developing method for photosensitive lithographic printing plate

Info

Publication number
JPH07113777B2
JPH07113777B2 JP61018395A JP1839586A JPH07113777B2 JP H07113777 B2 JPH07113777 B2 JP H07113777B2 JP 61018395 A JP61018395 A JP 61018395A JP 1839586 A JP1839586 A JP 1839586A JP H07113777 B2 JPH07113777 B2 JP H07113777B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lithographic printing
printing plate
photosensitive lithographic
weight
developer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP61018395A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS62175757A (en
Inventor
野上  彰
正文 上原
実 清野
巳恵治 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP61018395A priority Critical patent/JPH07113777B2/en
Publication of JPS62175757A publication Critical patent/JPS62175757A/en
Publication of JPH07113777B2 publication Critical patent/JPH07113777B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性平版印刷版の現像液及び現像方法に関
するものであり、特に、ネガ型感光性平版印刷版とポジ
型感光性平版印刷版を共通して、良好に現像することの
できる現像液及び現像方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a developing solution and a developing method for a photosensitive lithographic printing plate, and particularly to a negative photosensitive lithographic printing plate and a positive photosensitive lithographic printing plate. The present invention relates to a developing solution and a developing method capable of commonly developing a plate well.

〔従来技術〕 従来、ネガ型感光性平版印刷版とポジ型感光性平版印刷
版とでは、現像液の組成が異なり、それぞれの現像液で
のみ、好適に現像が可能であった。かりに専用現像液で
ない現像液を用いて現像ができたとしても、十分な性能
を有する平版印刷版は得られず、ネガ型感光性平版印刷
版とポジ型感光性平版印刷版を同一処方の現象液で良好
に共通処理することは実質的にはできないのが現状であ
る。
[Prior Art] Conventionally, a negative photosensitive lithographic printing plate and a positive photosensitive lithographic printing plate have different compositions of developing solutions, and it has been possible to suitably develop only with each developing solution. Even if it was possible to develop using a developer that is not a dedicated developer, a lithographic printing plate with sufficient performance could not be obtained, and a negative photosensitive lithographic printing plate and a positive photosensitive lithographic printing plate had the same prescription phenomenon. Under the present circumstances, it is practically impossible to perform a common treatment with a liquid.

特開昭60-64351号には、一台の自動現像機でネガ型感光
性平版印刷版とポジ型感光性平版印刷版を共に現像処理
する共通現像方法が記載されている。しかし、この技術
はそれぞれの専用現像液を並べた別の現像浴に入れて、
ネガ型感光性平版印刷版用の現像とポジ型感光性平版印
刷版用の現像を連続して行なうものであり、同一処方の
現像液で現像するものではない。
JP-A-60-64351 describes a common developing method in which a negative type photosensitive lithographic printing plate and a positive type photosensitive lithographic printing plate are both developed and processed by one automatic developing machine. However, this technology puts each dedicated developer in a separate developing bath,
The development for a negative photosensitive lithographic printing plate and the development for a positive photosensitive lithographic printing plate are carried out successively, and they are not developed with a developing solution of the same formulation.

従って、それぞれの専用現像液を使用するので、液管理
が面倒であり、安定した現像を長時間行なうのが困難で
ある。
Therefore, since each dedicated developing solution is used, solution management is troublesome, and it is difficult to carry out stable development for a long time.

一方、1つの現像液で共通現像を行なう技術が特開昭60
-130741号公報に開示されている。この現像液は、エチ
レングリコールモノフェニルエーテルまたはエチレング
リコールモノベンジルエーテルの有機溶剤、珪酸塩、ア
ルカリ金属水酸化物、アニオン界面活性剤及び四ホウ酸
塩からなるものである。しかし、このような現像液で共
通現像した場合、ネガ型感光性平版印刷版で印刷時にイ
ンキ汚れが発生することがあった。また、ポジ型感光性
平版印刷版では現像結果がきわめて変動しやすく、また
画像部の一部が現像時に侵されて欠落しやすい状態であ
った。この傾向は、現像時間が少し延びた場合や、現像
温度が所定の温度よりもわずかに高くなった場合に、よ
り顕著であり、その結果、画像の細部が欠けてしまった
り、また、印刷時の耐刷性不良の原因になることがあっ
た。
On the other hand, a technique for performing common development with one developing solution is disclosed in JP-A-60
-130741. This developing solution comprises an organic solvent of ethylene glycol monophenyl ether or ethylene glycol monobenzyl ether, a silicate, an alkali metal hydroxide, an anionic surfactant and a tetraborate. However, when commonly developed with such a developing solution, ink stains may occur during printing on a negative photosensitive lithographic printing plate. Further, in the positive-working photosensitive lithographic printing plate, the development result was very likely to fluctuate, and a part of the image area was easily attacked and lost during development. This tendency is more noticeable when the development time is slightly extended or when the development temperature is slightly higher than the predetermined temperature, and as a result, the image details are lost or when printing is performed. This may cause poor printing durability.

本発明者らは先に特願昭60-166250号に記載の技術によ
り共通現像を成し得たが、前述のようなポジ型感光性平
版印刷版の画像部の劣化しやすい現象は充分には解決さ
れていなかった。
The inventors of the present invention have previously been able to perform common development by the technique described in Japanese Patent Application No. 60-166250, but the phenomenon that the image part of the positive-working photosensitive lithographic printing plate as described above is likely to deteriorate is sufficiently caused. Was not resolved.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明の目的は、ネガ型及びポジ型感光性平版印刷版を
ひとつの現像液で良好に現像することのできるすぐれた
現像液と現像方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an excellent developing solution and a developing method capable of favorably developing a negative type and a positive type photosensitive lithographic printing plate with one developing solution.

本発明の他の目的は、現像安定性にすぐれ、処理ラチチ
ュードの広い現像液と現像方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a developing solution and a developing method which have excellent development stability and a wide processing latitude.

本発明の他の目的は、印刷性能にすぐれた版が得られる
現像液と現像方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a developing solution and a developing method capable of obtaining a plate having excellent printing performance.

本発明の他の目的は、ネガ型及びポジ型の感光性平版印
刷版を迅速に現像することのできるすぐれた現像液と現
像方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an excellent developing solution and a developing method capable of rapidly developing negative-type and positive-type photosensitive lithographic printing plates.

〔発明の構成〕[Structure of Invention]

本発明者らは、鋭意検討の結果、アルミニウム支持体上
に画像形成層を有するネガ型感光性平版印刷版及びポジ
型感光性平版印刷版を水系アルカリ性現像液を用いて共
通して処理する場合、現像液中に20℃における水に対す
る溶解度が10重量%以下の有機溶剤を0.1〜10重量%、
カチオン型界面活性剤を0.001〜10重量%、亜硫酸塩及
びアニオン界面活性剤を含有させ、pHを11.5〜13.5の範
囲とすることにより上記本発明の目的を達することがで
きた。
As a result of intensive studies, the present inventors have shown that when a negative photosensitive lithographic printing plate having an image forming layer on an aluminum support and a positive photosensitive lithographic printing plate are commonly treated with an aqueous alkaline developer. , 0.1 to 10% by weight of an organic solvent whose solubility in water at 20 ° C is 10% by weight or less,
The above object of the present invention can be achieved by containing 0.001 to 10% by weight of a cationic surfactant, a sulfite and an anionic surfactant, and adjusting the pH to a range of 11.5 to 13.5.

本発明における現像液は、20℃における水に対する溶解
度が10重量%以下の有機溶剤を0.1〜10重量%、カチオ
ン型界面活性剤を0.001〜10重量%、亜硫酸塩、アニオ
ン界面活性剤、及びアルカリ剤を含有し、かつpHが11.5
〜13.5の範囲にある水を主な溶媒とするアルカリ性現像
液である。ここで、「水を主たる溶媒とする」とは現像
液の溶媒の少なくとも50重量%が水であることをいう。
The developer in the present invention has a solubility in water at 20 ° C. of 10 to 10% by weight of an organic solvent of 10% by weight or less, 0.001 to 10% by weight of a cationic surfactant, a sulfite, an anionic surfactant, and an alkali. Contains agent and pH is 11.5
It is an alkaline developer whose main solvent is water in the range of 13.5. Here, "mainly composed of water" means that at least 50% by weight of the solvent of the developer is water.

本発明に用いられるカチオン型界面活性剤は種々のもの
が使用できる。カチオン型界面活性剤はアミン型と第四
アンモニウム塩型に大別されるが、これらの何れをも本
発明に用いることができる。
Various types of cationic surfactants can be used in the present invention. Cationic surfactants are roughly classified into amine type and quaternary ammonium salt type, and any of these can be used in the present invention.

アミン型の例としては、ポリオキシエチレンアルキルア
ミン、N−アルキルプロピレンアミン、N−アルキルポ
リエチレンポリアミン、N−アルキルポリエチレンポリ
アミンジメチル硫酸塩、アルキルビグアニド、長鎖アミ
ンオキシド、アルキルイミダゾリン、1−ヒドロキシエ
チル−2−アルキルイミダゾリン、1−アセチルアミノ
エチル−2−アルキルイミダゾリン、2−アルキル−4
−メチル−4−ヒドロキシメチルオキサゾリン等があ
る。
Examples of amine type include polyoxyethylene alkyl amine, N-alkyl propylene amine, N-alkyl polyethylene polyamine, N-alkyl polyethylene polyamine dimethyl sulfate, alkyl biguanide, long chain amine oxide, alkyl imidazoline, 1-hydroxyethyl- 2-alkylimidazoline, 1-acetylaminoethyl-2-alkylimidazoline, 2-alkyl-4
-Methyl-4-hydroxymethyloxazoline and the like.

また、第四アンモニウム塩型の例としては、長鎖第1ア
ミン塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキ
ルジメチルエチルアンモニウム塩、アルキルジメチルア
ンモニウム塩、アルキルジメチルベンジルアンモニウム
塩、アルキルピリジニウム塩、アルキルキノリニウム
塩、アルキルイソキノリニウム塩、アルキルピリジニウ
ム硫酸塩、ステアラミドメチルピリジニウム塩、アシル
アミノエチルジエチルアミン塩、アシルアミノエチルメ
チルジエチルアンモニウム塩、アルキルアミドプロピル
ジメチルベンジルアンモニウム塩、脂肪酸ポリエチレン
ポリアミド、アシルアミノエチルピリジニウム塩、アシ
ルコラミノホルミルメチルピリジニウム塩、ステアロオ
キシメチルピリジニウム塩、脂肪酸トリエタノールアミ
ン、脂肪酸トリエタノールアミンギ酸塩、トリオキシエ
チレン脂肪酸トリエタノールアミン、脂肪酸ジブチルア
ミノエタノール、セチルオキシメチルピリジニウム塩、
p−イソオクチルフェノキシエトキシエチルジメチルベ
ンジルアンモニウム塩等がある。(上記化合物の例の中
の「アルキル」とは炭素数6〜20の、直鎖または一部置
換されたアルキルを示し、具体的には、ヘキシル、オク
チル、セチル、ステアリル等の直鎖アルキルが好ましく
用いられる。) これらの中では、特に水溶性の第四アンモニウム塩型の
カチチオン型界面活性剤が有効で、その中でも、アルキ
ルトリメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベンジ
ルアンモニウム塩、エチレンオキシド付加アンモニウム
塩等が好適である。また、カチオン成分をくり返し単位
として有する重合体も広い意味ではカチオン型界面活性
剤てあり、本発明のカチオン型界面活性剤に含包され
る。特に、親油性モノマーと共重合して得られた第四ア
ンモニウム塩を含む重合体は好適に用いることができ
る。
Examples of the quaternary ammonium salt type include long-chain primary amine salt, alkyl trimethyl ammonium salt, dialkyl dimethyl ethyl ammonium salt, alkyl dimethyl ammonium salt, alkyl dimethyl benzyl ammonium salt, alkyl pyridinium salt, alkyl quinolinium salt. , Alkylisoquinolinium salt, alkylpyridinium sulfate, stearamidomethylpyridinium salt, acylaminoethyldiethylamine salt, acylaminoethylmethyldiethylammonium salt, alkylamidopropyldimethylbenzylammonium salt, fatty acid polyethylene polyamide, acylaminoethylpyridinium salt , Acylcholaminoformylmethylpyridinium salt, stearooxymethylpyridinium salt, fatty acid triethanolamine, fatty acid trieta Ruamingi salt, trioxyethylene fatty acid triethanolamine, fatty acid dibutylaminoethanol, cetyl oxymethyl pyridinium salt,
p-isooctylphenoxyethoxyethyl dimethylbenzyl ammonium salt and the like. (The "alkyl" in the examples of the above compounds represents a straight chain or partially substituted alkyl having 6 to 20 carbon atoms, and specifically, a straight chain alkyl such as hexyl, octyl, cetyl, stearyl, etc. Among these, water-soluble quaternary ammonium salt-type cationion type surfactants are particularly effective, and among them, alkyl trimethyl ammonium salt, alkyl dimethyl benzyl ammonium salt, ethylene oxide addition ammonium salt and the like are preferable. Is. A polymer having a cation component as a repeating unit is also a cationic surfactant in a broad sense, and is included in the cationic surfactant of the present invention. In particular, a polymer containing a quaternary ammonium salt obtained by copolymerizing with a lipophilic monomer can be preferably used.

上記、カチオン型界面活性剤の添加量は0.001〜10重量
%の範囲であり、さらには0.01〜1重量%の範囲が特に
好ましい。この添加量が0.001重量%未満では本発明の
効果が弱く、10重量%を越えると現像が抑制され、良好
な性能が得られない。また、重量平均分子量は300〜50,
000の範囲であり、特に好ましくは500〜5,000の範囲で
ある。これらのカチオン型界面活性剤は単独で使用する
ほか、2種以上を併用しても良い。
The addition amount of the above-mentioned cationic surfactant is in the range of 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 1% by weight. If the addition amount is less than 0.001% by weight, the effect of the present invention is weak, and if it exceeds 10% by weight, development is suppressed and good performance cannot be obtained. The weight average molecular weight is 300 to 50,
It is in the range of 000, particularly preferably in the range of 500 to 5,000. These cationic surfactants may be used alone or in combination of two or more.

本発明に係る現像液は、20℃における水に対する溶解度
が10重量%以下の有機溶剤、カチオン型界面活性剤、亜
硫酸塩及びアニオン界面活性剤を含有させることによ
り、ネガ型感光性平版印刷版とポジ型感光性平版印刷版
の現像バランスをそろえたり、現像をさらに迅速に行っ
たり、さらに現像性等において相互に差異が大きいより
広範囲の品種の感光性平版印刷版を共通の現像液で処理
することを可能にする。
The developer according to the present invention has a negative photosensitive lithographic printing plate having a solubility in water at 20 ° C. of 10% by weight or less of an organic solvent, a cationic surfactant, a sulfite and an anionic surfactant. The development balance of positive-working photosensitive lithographic printing plates can be balanced, development can be performed more quickly, and photosensitive lithographic printing plates of a wider range of products that have large differences in developability, etc. can be processed with a common developer. To enable that.

先ず、好ましい添加剤として20℃における水に対する溶
解度が10重量%以下の有機溶剤が挙げられる。この添加
剤を含有させることにより、上記の効果を高めることが
できる。
First, as a preferable additive, an organic solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 10% by weight or less can be mentioned. By including this additive, the above effect can be enhanced.

本発明に用いる20℃における水に対する溶解度が10重量
%以下の有機溶剤としては、例えば酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチ
レングリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レ
ブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステル;エチルブ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ンのようなケトン類;エチレングリコールモノブチルエ
ーテル、エチレングリコールベンジルエーテル、エチレ
ングリコールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコー
ル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコー
ル、メチルアミルアルコールのようなアルコール類;キ
シレンのようなアルキル置換芳香族炭化水素;メチレン
ジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロルベン
ゼンのようなハロゲン化炭化水素などがある。これら有
機溶媒は一種以上用いてもよい。これらの有機溶媒の中
では、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチ
レングリコールベンジルエーテル及びベンジルアルコー
ルが特に好ましい。
Examples of the organic solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 10% by weight or less used in the present invention include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, butyl lactate, and butyl levulinate. Carboxylic acid esters such as; ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as cyclohexanone; ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol benzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, Alcohols such as methylamyl alcohol; alkyl-substituted aromatic hydrocarbons such as xylene; halogens such as methylene dichloride, ethylene dichloride, monochlorobenzene. And hydrocarbons. One or more of these organic solvents may be used. Among these organic solvents, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol benzyl ether and benzyl alcohol are particularly preferable.

該有機溶剤は、ネガ型とポジ型の両版に対して現像性を
向上するためのすぐれた添加剤であるが、同時にポジ型
感光性平版印刷版に対しては画像部の皮膜を劣化させま
た画像を軟調化させるる欠点をも有している。ポジ型感
光性平版印刷版は露光時にネガ型感光性平版印刷版のよ
うな架橋反応を起こさないため、もともと現像が過度に
なった場合の劣化が大きく、有機溶剤の存在下ではさら
に劣化の程度が大きくなる。本発明者らは、鋭意検討の
結果、上記のごとき、ポジ型感光性平版印刷版の現像時
の劣化を防ぎ、かつネガ型感光性平版印刷版を良好に現
像するために、現像液中にカチオン型界面活性剤を0.00
1〜10重量%の範囲で含有せしめることを見い出した。
The organic solvent is an excellent additive for improving the developability for both negative type and positive type plates, but at the same time, it deteriorates the film in the image area for positive type photosensitive lithographic printing plates. It also has the drawback of softening the image. Since the positive-working photosensitive lithographic printing plate does not undergo a crosslinking reaction during exposure, unlike the negative-working photosensitive lithographic printing plate, it is largely deteriorated when the development is excessive, and further deteriorated in the presence of an organic solvent. Grows larger. As a result of intensive studies, the inventors of the present invention described above, in order to prevent the deterioration of the positive photosensitive lithographic printing plate during development and to develop the negative photosensitive lithographic printing plate well, in a developing solution. 0.000 cationic surfactant
It has been found that the content is in the range of 1 to 10% by weight.

特に、カチオン型界面活性剤は、水に対する溶解度が10
重量%以下の有機溶剤の存在下で、ポジ型感光性平版印
刷版の皮膜劣化と画像の軟調化を防ぐ働きが顕著であ
り、またネガ型感光性平版印刷版への悪影響がほとんど
なく両版を共通して現像する場合にすぐれた効果を示
す。
In particular, the cationic surfactant has a solubility in water of 10
In the presence of an organic solvent in an amount of not more than 10% by weight, the function of preventing film deterioration and image softening of the positive-working photosensitive lithographic printing plate is remarkable, and there is almost no adverse effect on the negative-working photosensitive lithographic printing plate, and both plates are It shows an excellent effect when developing in common.

本発明に係る現像液のpHは11.5から13.5の範囲である
が、このような高いpHでネガ型感光性平版印刷版を現像
した場合、ある品種の版では現像されていながら印刷時
に汚れを生じることがある。その汚れの程度はpHに依存
性がありpHが高いほど汚れやすい。このような高いpH
(pH11.5以上)でネガ型感光性平版印刷版を良好に現像
し、印刷時の汚れをなくすためには、亜硫酸塩が非常に
効果的であり、また、アニオン界面活性剤はネガ型感光
性平版印刷版の現像促進に大きな効果を示す。
Although the pH of the developer according to the present invention is in the range of 11.5 to 13.5, when a negative photosensitive lithographic printing plate is developed at such a high pH, stains are generated during printing while being developed in a certain type of plate. Sometimes. The degree of the stain depends on the pH, and the higher the pH, the easier the stain becomes. Such high pH
Sulfite is very effective in developing the negative photosensitive lithographic printing plate well (pH 11.5 or more) and eliminating stains during printing, and the anionic surfactant is the negative photosensitive It shows a great effect in promoting the development of the lithographic printing plate.

亜硫酸塩は、水溶液で水不溶性ジアゾ樹脂を溶解する働
きを有し、特に疎水性樹脂と組合せた感光層から成る平
版印刷版の現像に於いて、製造後長時間経時した版材で
も汚れのない印刷板を作ることができる。また、特にネ
ガ型感光性平版印刷版を高pHで現像した場合の現像性を
改良する。亜硫酸塩としては、ナトリウム、カリウム、
リチウムの如きアルカリ金属およびマグネシウムの如き
アルカリ土類金属塩あるいはアンモニウム塩等が有用で
ある。
Sulfite has a function of dissolving a water-insoluble diazo resin in an aqueous solution, and particularly in the development of a lithographic printing plate composed of a photosensitive layer combined with a hydrophobic resin, there is no stain even on a plate material that has been aged for a long time after production. You can make printing plates. Further, it improves the developability particularly when the negative photosensitive lithographic printing plate is developed at high pH. As sulfite, sodium, potassium,
Alkali metals such as lithium and alkaline earth metal salts such as magnesium or ammonium salts are useful.

亜硫酸の濃度は0.1〜10重量%、特に0.2〜5重量%の範
囲が好ましい。
The concentration of sulfurous acid is preferably 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0.2 to 5% by weight.

アニオン型界面活性剤としては、高級アルコール(C8
C22)硫酸エステル塩類〔例えば、ラウリルアルコール
サルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコールサル
フェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェ
ートのアンモニウム塩、「テイーボールB−81」(商品
名・シエル化学製)、第二ナトリウムアルキルサルフェ
ートなど〕、脂肪族アルコールリン酸エステル塩類(例
えば、セチルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩
など)、アルキルアリールスルホン酸塩類(例えば、ド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、イソプロピル
ナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、ジナフタリンジ
スルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベンゼンスルホ
ン酸のナトリウム塩など)、アルキルアミドのスルホン
酸塩類 (例えば、 など)、二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類(例
えば、ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、
ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエステルなど)が
ある。これらの中で特にアルキルナフタレンスルホン酸
塩類が好適に用いられる。
As the anionic surfactant, higher alcohols (C 8 ~
C 22 ) Sulfate salts [for example, sodium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, "Tayball B-81" (trade name, manufactured by Ciel Chemical Co.), second sodium alkyl Sulfate, etc.], aliphatic alcohol phosphate salts (eg, sodium salt of cetyl alcohol phosphate ester), alkylaryl sulfonates (eg, sodium salt of dodecylbenzene sulfonate, sodium salt of isopropylnaphthalene sulfonate, dinaphthalene) Sodium salt of disulfonic acid, sodium salt of metanitrobenzene sulfonic acid, etc., Sulfonates of alkylamide (eg, ), Dibasic fatty acid ester sulfonates (eg, sodium sulfosuccinate dioctyl ester,
Sodium sulfosuccinate dihexyl ester). Of these, alkylnaphthalene sulfonates are particularly preferably used.

アニオン界面活性剤の濃度は0.2〜10重量%、特に1〜
5重量の範囲が好ましい。
The concentration of the anionic surfactant is 0.2 to 10% by weight, especially 1 to
A range of 5 weights is preferred.

本発明の現像液に用いるアルカリ剤としては、珪酸ナト
リウム、珪酸カリウム、水酸ナトリウム、水酸化リチウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第
三リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、第三リン酸ア
ンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸アンモニウムなどのような無機アルカリ剤、モ
ノー、ジーまたはトリエタノールアミンおよび水酸化テ
トラアルキルアンモニウムのような有機アルカリ剤およ
び有機珪酸アンモニウム等が有用である。これらの中
で、珪酸塩アルカリが現像安定良く、最も好ましい。ア
ルカリ剤の現像液組成物中における含有量は0.05〜20重
量%の範囲で用いるのが好適であり、より好ましくは0.
1〜10重量%である。
As the alkaline agent used in the developer of the present invention, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium triphosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic potassium phosphate, dibasic potassium phosphate, Inorganic alkaline agents such as tribasic ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, mono-, di- or triethanolamine and tetraalkylammonium hydroxide Such organic alkali agents and organic ammonium silicates are useful. Of these, alkali silicates are most preferable because they are stable in development. The content of the alkaline agent in the developer composition is preferably used in the range of 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.
It is 1 to 10% by weight.

本発明の最も好ましい態様は、現像液が前記条件を満た
した上でアルカリ剤としてケイ酸塩を含有する態様であ
る。この態様によって、現像性がより広範に異なる多品
種の感光性平版印刷版を一つの現像液でより良好にかつ
より迅速に現像すことができる。
The most preferred embodiment of the present invention is an embodiment in which the developer satisfies the above conditions and contains a silicate as an alkaline agent. According to this embodiment, various kinds of photosensitive lithographic printing plates having different developing properties can be developed better and more quickly with one developing solution.

本発明に係る現像液には更に現像性能を高めるために以
下のような添加剤を加えることができる。例えば、特開
昭58-75152号記載のNaCl,KCl,KBr等の中性塩、特開昭58
-190952号記載のEDTA、NTA等のキレート剤、特開昭59-1
21336号記載の〔Co(NH3)6〕Cl3等の錯体、特開昭50-513
24号記載のアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、
N−テトラデシル−N,N−ジヒドロキシエチルベタイン
等のアニオンまたは両性界面活性剤、特開昭56-142528
号記載のビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロラ
イドとアクリル酸ナトリウムの共重合体等の両性高分子
電解質、特開昭57-192952号記載の還元性無機塩、特開
昭58-59444号記載の塩化リチウム等の無機リチウム化合
物、特公昭50-34442号記載の安息香酸リチウム等の有機
リチウム化合物、特開昭59-75255号記載のSi,Ti等を含
む有機金属界面活性剤、特開昭59-84241号記載の有機硼
素化合物等が挙げられる。
The following additives may be added to the developer according to the present invention in order to further improve the developing performance. For example, neutral salts such as NaCl, KCl, and KBr described in JP-A-58-75152, JP-A-58-75152
-190952, EDTA, NTA and other chelating agents, JP-A-59-1
Complexes such as [Co (NH 3 ) 6 ] Cl 3 described in 21336, JP-A-50-513
Sodium alkylnaphthalene sulfonate described in No. 24,
Anionic or amphoteric surfactants such as N-tetradecyl-N, N-dihydroxyethylbetaine, JP-A-56-142528
Such as a copolymer of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium acrylate described in JP-A No. 57-192952, a reducing inorganic salt described in JP-A No. 58-59444, lithium chloride, etc. Inorganic lithium compounds, organic lithium compounds such as lithium benzoate described in JP-B-50-34442, organometallic surfactants containing Si, Ti, etc. described in JP-A-59-75255, JP-A-59-84241 Examples of the organic boron compound include

本発明に係る感光性平版印刷版の画像形成層は必須成分
として感光性物質を含んでおり、感光性物質として露光
またはその後の現像処理により、その物理的、化学的性
質が変化するもので、例えば露光により現像液に対する
溶解性に差が生じるもの、露光の前後で分子間の接着力
に差が生じるもの、露光またはその後の現像処理により
水および油に対する親和性に差が生じるもの、更に電子
写真方式により画像部を形成できるもの、また特開昭55
-166645号に記載されている多層構成のもの等が使用で
きる。
The image forming layer of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention contains a photosensitive substance as an essential component, and its physical and chemical properties are changed by exposure or subsequent development as a photosensitive substance, For example, one that causes a difference in solubility in a developer due to exposure, one that causes a difference in intermolecular adhesion before and after exposure, one that causes a difference in affinity for water and oil due to exposure or subsequent development processing, and an electron. A device capable of forming an image portion by a photographic method, and JP-A-55
The multi-layered structure described in No. 166645 can be used.

感光性物質の代表的なものとしては、例えば感光性ジア
ゾ化合物、感光性アジド化合物、エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物、酸触媒で重合を起こすエポキシ化
合物、酸で分解するC−O−C−基,あるいはシリルエ
ーテルやシリルエステルを有する化合物等が挙げられ
る。露光によりアルカリ可溶性に変化する代表的なポジ
型のものとしてo−キノンジアジド化合物や酸分解性の
エーテル化合物、エステル化合物が挙げられる。露光に
より溶解性が減少するネガ型のものとして芳香族ジアゾ
ニウム塩等が挙げられる。
Typical examples of the photosensitive substance are, for example, a photosensitive diazo compound, a photosensitive azide compound, a compound having an ethylenically unsaturated double bond, an epoxy compound which causes polymerization with an acid catalyst, and a C—O— compound which decomposes with an acid. Examples thereof include compounds having a C-group, silyl ether or silyl ester. Typical o-quinone diazide compounds, acid-decomposable ether compounds and ester compounds, which change into alkali solubility upon exposure, are mentioned. Aromatic diazonium salts and the like are mentioned as negative type compounds whose solubility is reduced by exposure.

o−キノンジアジド化合物の具体例としては、例えば特
開昭47-5303号、同48-63802号、同48-63803号、同49-38
701号、同56-1044号、同56-1045号、特公昭41-11222
号、同43-28403号、同45-9610号、同49-17481号、米国
特許2,797,213号、同3,046,120号、同3,188,210号、同
3,454,400号、同3,544,323号、同3,573,917号、同3,67
4,495号、同3,785,825号、英国特許1,227,602号、同1,2
51,345号、同1,267,005号、同1,329,888号、同1,330,93
2号、ドイツ特許854,890号、特開昭60-37549号、同60-1
0247号、同60-3625号などに記載されているものを挙げ
ることができ、これらの化合物を単独あるいは組合せて
感光成分として用いた感光性平版印刷版に対して少なく
とも本発明を好ましく適用するこができる。
Specific examples of the o-quinonediazide compound include, for example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, and JP-A-49-38.
No. 701, No. 56-1044, No. 56-1045, Japanese Patent Publication No. 41-11222
No. 43-28403, No. 45-9610, No. 49-17481, U.S. Patent Nos. 2,797,213, 3,046,120, 3,188,210, and
3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,67
4,495, 3,785,825, British Patents 1,227,602, 1,2
51,345, 1,267,005, 1,329,888, 1,330,93
2, German Patent 854,890, JP-A-60-37549, 60-1
Nos. 0247 and 60-3625 can be mentioned, and at least the present invention is preferably applied to a photosensitive lithographic printing plate using these compounds alone or in combination as a photosensitive component. You can

これらの感光成分には芳香族ヒドロキシ化合物のo−キ
ノンジアジドスルホン酸エステルまたはo−キノンジア
ジドカルボン酸エステルおよび芳香族アミノ化合物のo
−キノンジアジドスルホン酸またはo−キノンジアジド
カルボン酸アミドが包含され、また、これらo−キノン
ジアジド化合物を単独で使用したもの、およびアルカリ
可溶性樹脂と混合し、この混合物を感光層として設けた
ものが包含される。
These photosensitive components include o-quinone diazide sulfonic acid ester of aromatic hydroxy compound or o-quinone diazide carboxylic acid ester and o of aromatic amino compound.
-Quinone diazide sulfonic acid or o-quinone diazide carboxylic acid amide, and those in which these o-quinone diazide compounds are used alone, and those in which the mixture is provided as a photosensitive layer by mixing with an alkali-soluble resin are also included. .

アルカリ可溶性樹脂には、ノボラック型フェノール樹脂
が含まれ、具体的にはフェノールホルムアルデヒド樹
脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノールクレ
ゾール混合ホルムアルデヒド樹脂、クレゾールキシレノ
ール混合ホルムアルデヒド樹脂などが含まれる。更に特
開昭50-125806号に記載されているように、上記のよう
なフェノール樹脂に共に、t−ブチルフェノールホルム
アルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキル基で置
換されたフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒ
ドとの縮合物とを併用したものも適用できる。o−キノ
ンジアジド化合物を感光成分とする感光層には、必要に
応じて更に染料、可塑剤、プリントアウト性能を与える
成分などの添加剤を加えることができる。
The alkali-soluble resin includes novolac type phenol resin, and specifically includes phenol formaldehyde resin, cresol formaldehyde resin, phenol cresol mixed formaldehyde resin, cresol xylenol mixed formaldehyde resin and the like. Further, as described in JP-A No. 50-125806, phenol or cresol and formaldehyde substituted with an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as t-butylphenolformaldehyde resin together with the above-mentioned phenol resin are used. What used together with the condensate of and is also applicable. If necessary, the photosensitive layer containing the o-quinonediazide compound as a photosensitive component may further contain additives such as a dye, a plasticizer, and a component that imparts printout performance.

o−キノンジアジド化合物を感光成分とする感光層の単
位面積当りの量は好ましくは約0.5〜7g/m2の範囲につい
て本発明を適用できる。
The present invention can be applied to the case where the amount of the photosensitive layer containing the o-quinonediazide compound as a photosensitive component per unit area is preferably about 0.5 to 7 g / m 2 .

本発明の方法を適用するポジ型感光性平版印刷版の画像
露光は特に変える必要はなく常法に従えばよい。
The image exposure of the positive-working photosensitive lithographic printing plate to which the method of the present invention is applied does not have to be particularly changed and may be carried out by a conventional method.

ネガ型感光層の感光成分の代表的なものはジアゾ化合物
であり、例えばジアゾニウム塩および/またはp−ジア
ゾフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物である
ジアゾ樹脂、特公昭52-7364号に記載されているp−ジ
アゾフェニルアミンのフエノール塩またはフルオロカプ
リン酸塩等、特公昭49-48001号に記載されている3−メ
トキシジフェニルアミン−4−ジアゾニウムクロライド
と4−ニトロジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの
共重縮合物の有機溶媒可溶性塩からなるジアゾ樹脂、p
−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合
物の2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベ
ンゼンスルホン酸塩、p−ジアゾフェニルアミンとホル
ムアルデヒドとの縮合物のテトラフルオロホウ酸塩、ヘ
キサフルオロリン酸塩等が挙げられる。これらを感光成
分とするネガ型感光性平版印刷版に対して少なくとも本
発明を好ましく適用できる。
A typical photosensitive component of the negative type photosensitive layer is a diazo compound, for example, a diazo resin which is a condensate of a diazonium salt and / or p-diazophenylamine and formaldehyde, as described in JP-B-52-7364. P-diazophenylamine phenol salt or fluorocaprate, etc., such as a copolycondensate of 3-methoxydiphenylamine-4-diazonium chloride, 4-nitrodiphenylamine and formaldehyde described in JP-B-49-48001. Diazo resin consisting of organic solvent soluble salt, p
2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate of a condensate of diazodiphenylamine and formaldehyde, tetrafluoroborate, hexafluorophosphate of a condensate of p-diazophenylamine and formaldehyde, etc. Is mentioned. At least the present invention can be preferably applied to a negative photosensitive lithographic printing plate containing these as a photosensitive component.

これらのジアゾ化合物を単独で使用したもののほかに感
光層の物性を向上させるため、種々の樹脂と混合して用
いたものに対しても本発明を適用できる。かかる樹脂と
しては、シェラック、ポリビニルアルコールの誘導体の
ほか特開昭50-118802号中に記載されている側鎖にアル
コール性水酸基を有する共重合体、特開昭55-155355号
に記載されているフェノール性水酸基を側鎖に持つ共重
合体が挙げられる。
The present invention can be applied not only to these diazo compounds used alone, but also to those used by mixing with various resins in order to improve the physical properties of the photosensitive layer. Examples of such resins include shellac, polyvinyl alcohol derivatives, copolymers having an alcoholic hydroxyl group in the side chain described in JP-A-50-118802, and JP-A-55-155355. Examples thereof include copolymers having a phenolic hydroxyl group as a side chain.

これらの樹脂には下記一般式で示される構造単位を少な
くとも50重量%含む共重合体、 一般式 (式中、R1は水素原子またはメチル基を示し、R2は水素
原子、メチル基、エチル基またはクロルメチル基を示
し、nは1〜10の整数である。)および芳香族性水酸基
を有する単量体単位を1〜80モル%、ならびにアクリル
酸エステルおよび/またはメタクリル酸エステル単量体
単位を5〜90モル%有し、10〜200の酸価を持つ高分子
化合物が包含される。
These resins are copolymers containing at least 50% by weight of the structural unit represented by the following general formula, (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a chloromethyl group, and n is an integer of 1 to 10) and an aromatic hydroxyl group. A polymer compound having 1 to 80 mol% of monomer units and 5 to 90 mol% of acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester monomer units and having an acid value of 10 to 200 is included.

本発明の現像液及び現像方法が適用されるネガ型感光性
平版印刷版の感光層には、更に染料、可塑剤、プリント
アウト性能を与える成分等の添加剤を加えることができ
る。
To the photosensitive layer of the negative photosensitive lithographic printing plate to which the developing solution and the developing method of the present invention are applied, an additive such as a dye, a plasticizer and a component which gives printout performance can be further added.

上記感光層の単位面積当りの量は少なくとも0.1〜7g/m2
の範囲について本発明を適用できる。
The amount per unit area of the photosensitive layer is at least 0.1 to 7 g / m 2
The present invention can be applied to the range of.

前記の感光性平版印刷版に使用される支持体としてはア
ルミニウム支持体(アルミニウム被覆された複合支持体
を包含する)が用いられる。
An aluminum support (including an aluminum-coated composite support) is used as the support used in the photosensitive lithographic printing plate.

また、アルミニウム材の表面は、保水性を高め感光層と
密着性を向上させる目的で粗面化処理されていることが
望ましい。
Further, the surface of the aluminum material is preferably roughened for the purpose of increasing water retention and improving adhesion to the photosensitive layer.

粗面化方法としては、一般に公知のブラシ研磨法、ボー
ル研磨法、電解エッチング、化学的エッチング、液体ホ
ーニング、サンドブラスト等の方法およびこれらの組合
せが挙げられ、好ましくはブラシ研磨法、電解エッチン
グ、化学的エッチングおよび液体ホーニングが挙げら
れ、これらのうちで特に電解エッチングの使用を含む粗
面化方法が好ましい。また、電解エッチングの際に用い
られる電解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩
を含む水溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いら
れ、これらのうちで特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を
含む電解液が好ましい。さらに粗面化処理の施されたア
ルミニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶
液にてデスマット処理される。
Examples of the roughening method include generally known brush polishing method, ball polishing method, electrolytic etching, chemical etching, liquid honing, sand blasting and the like and combinations thereof, preferably brush polishing method, electrolytic etching, chemical method. Etching and liquid honing, of which the roughening method involving the use of electrolytic etching is particularly preferred. Further, as the electrolytic bath used in the electrolytic etching, an aqueous solution containing an acid, an alkali or a salt thereof or an aqueous solution containing an organic solvent is used, and among these, an electrolytic solution containing hydrochloric acid, nitric acid or a salt thereof is particularly used. Liquids are preferred. Further, the surface-roughened aluminum plate is desmutted with an acid or alkali aqueous solution, if necessary.

こうして得られたアルミニウム板は陽極酸化処理される
ことが望ましく、特に好ましくは、硫酸またはリン酸を
含む浴で処理する方法が挙げられる。また、さらに必要
に応じて封孔処理、その他弗化ジルコニウム酸カリウム
水溶液への浸漬などによる表面処理を行うことができ
る。
The aluminum plate thus obtained is preferably anodized, and particularly preferably, a method of treating with a bath containing sulfuric acid or phosphoric acid can be mentioned. Further, surface treatment such as sealing treatment and immersion in an aqueous solution of potassium fluorozirconate may be carried out, if necessary.

また、本発明に係る現像液を用いる現像処理方法は現像
処理工程の他に必要ならば現像処理工程後、現像停止処
理工程(停止処理液は使い捨て方式や循環使用の方式を
含む)、不感脂化処理工程の各々個々の処理工程、現像
停止処理工程とそれに引継ぐ不感脂化処理工程、現像処
理工程と不感脂化処理と組合せた処理工程、或いは現像
停止処理工程と不感脂化処理工程とを組合せた例えば特
開昭54-8001号公報の処理工程等を含んでいてもよい。
Further, the development processing method using the developing solution according to the present invention includes, in addition to the development processing step, if necessary, after the development processing step, a development stop processing step (the stop processing solution includes a disposable system and a recycling system) Each of the individual processing steps, the development stop processing step and the desensitization processing step succeeding to it, the processing step combining the development processing step and the desensitization processing, or the development stop processing step and the desensitization processing step. For example, a combination of the treatment steps disclosed in JP-A-54-8001 may be included.

なお、本発明におけるネガ型とポジ型の感光性平版印刷
版を同じ現像液で共通に現像する場合、現像液組成以外
の条件(例えば現像温度、現像時間等)はネガ型とポジ
型とで変える等任意である。
When the negative-type and positive-type photosensitive lithographic printing plates according to the present invention are commonly developed with the same developer, the conditions other than the developer composition (for example, developing temperature, developing time, etc.) are the same. It is optional to change it.

〔実施例〕〔Example〕

以下、具体的実施例により本発明を更に詳細に説明する
が、本発明はこれらにより限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1〜7、比較例1〜2 厚さ0.24mmのアルミニウム板を20%リン酸ナトリウム水
溶液に浸漬して脱脂し、これを0.2N塩酸浴中で3A/m2
電流密度で電解研磨したのち、硫酸浴中で陽極酸化し
た。このとき陽極酸化量は4g/m2であった。更にメタ珪
酸ナトリウム水溶液で封孔処理し、平版印刷版に用いる
アルミニウム板を作成した。次に、このアルミニウム板
上に次の感光液Aを塗布して、ネガ型感光性平版印刷版
を、感光液Bを塗布してポジ型感光性平版印刷版を得
た。塗布は回転塗布機により行い、100℃で4分間乾燥
した。塗布膜厚重量はどちらの版も2.5g/m2であった。
Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 2 An aluminum plate having a thickness of 0.24 mm was immersed in a 20% sodium phosphate aqueous solution for degreasing, and this was electrolytically polished in a 0.2 N hydrochloric acid bath at a current density of 3 A / m 2. After that, it was anodized in a sulfuric acid bath. At this time, the amount of anodic oxidation was 4 g / m 2 . Further, sealing treatment was performed with an aqueous solution of sodium metasilicate to prepare an aluminum plate used for a lithographic printing plate. Next, the following photosensitive liquid A was applied onto this aluminum plate to form a negative photosensitive lithographic printing plate, and photosensitive liquid B was applied to obtain a positive photosensitive lithographic printing plate. The coating was performed with a spin coater and dried at 100 ° C. for 4 minutes. The coating film weight was 2.5 g / m 2 for both plates.

(感光液A) ・N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド:
アクリロニトリル:エチルアクリルレート:メタクリル
酸=27:33:41:6(重量比)の共重合体(酸価80)……5.
0g ・p−ジアゾジフェニルアミンのパラホルムアルデヒド
縮合物のヘキサフルオロリン酸塩 ……0.5g ・ジュリマーAC-10L(商品名、日本純薬(株)製、アク
リル酸ポリマー) 0.05g ・酒石酸 ……0.05g ・ビクトリアピュアブルーBOH (商品名、保土ヶ谷化学工業(株)製、染料) ……0.1g ・ノボラック樹脂(pp-3121) (群栄化学(株)製) ……0.15g ・プルロニックL-64 (商品名、旭電化(株)製、界面活性剤) ……0.005g ・メチルセロソルブ ……100ml (感光液B) ・ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−5−ス
ルホン酸クロライドとレゾルシン−ベンズアルデヒド樹
脂との縮合物 ……3.5g ・m−クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂
“MP-707"(郡栄化学工業(株)製) ……9g ・ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−4−ス
ルホン酸クロライド ……0.15g ・ビクトリアピュアブル−BOH (商品名、保土ヶ谷化学工業(株)製、染料) ……0.2g ・メチルセロソルブ ……100g このようにして得られた版を濃度差0.15のステップウェ
ッジを通して2Kwメタルハライドランプを用いて露光し
た。その後、表−1の現像液を用い、自動現像機にて25
℃で現像時間を変化させて現像処理したところ表−2の
結果を得た。
(Photosensitive solution A) N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide:
Copolymer of acrylonitrile: ethyl acrylate: methacrylic acid = 27: 33: 41: 6 (weight ratio) (acid value 80) …… 5.
0g ・ Hexafluorophosphate of paraformaldehyde condensate of p-diazodiphenylamine …… 0.5g ・ Julimer AC-10L (trade name, manufactured by Nippon Pure Chemical Industries, Ltd., acrylic acid polymer) 0.05g ・ Tartaric acid …… 0.05g・ Victoria Pure Blue BOH (Brand name, Hodogaya Chemical Co., Ltd., dye) …… 0.1g ・ Novolak resin (pp-3121) (Gunei Chemical Co., Ltd.) …… 0.15g ・ Pluronic L-64 ( Product name, Asahi Denka Co., Ltd., surfactant) 0.005g Methyl cellosolve 100ml (photosensitive solution B) Naphthoquinone- (1,2) -diazide- (2) -5-sulfonic acid chloride Condensate with resorcin-benzaldehyde resin ...... 3.5g ・ m-cresol-formaldehyde novolak resin "MP-707" (Koriei Chemical Industry Co., Ltd.) ...... 9g ・ Naphthoquinone- (1,2) -diazide- ( 2) -4-sulfo Acid chloride …… 0.15g ・ Victoria Pureable-BOH (trade name, Hodogaya Chemical Co., Ltd., dye) …… 0.2g ・ Methylcellosolve …… 100g The plate thus obtained is a step wedge with a concentration difference of 0.15. Through a 2 Kw metal halide lamp. After that, using the developer of Table-1,
When the development processing was carried out while changing the development time at ° C, the results shown in Table 2 were obtained.

なお、現像液のpHは添加剤を加えた後、使用直前に10%
NaOHあるいはIN-HClで調整した。
The pH of the developer should be 10% immediately before use, after adding additives.
It was adjusted with NaOH or IN-HCl.

表−2および後記表−3において、N版はネガ型感光性
平版印刷版を、P版はポジ型感光性平版印刷版を表し、
また階調性は現像インキSPO-1(小西六写真工業(株)
製)をのせて評価した結果である。
In Table 2 and Table 3 below, N plate represents a negative photosensitive lithographic printing plate, P plate represents a positive photosensitive lithographic printing plate,
In addition, gradation is the development ink SPO-1 (Konishi Rokusha Kogyo Co., Ltd.)
Manufactured) and evaluated.

表−2からわかるように、実施例1〜7の現像液は、比
較例1ないし4の現像液に比べて、現像ラチチュードが
広く、ポジ型平版印刷版の階調性が硬調(ベター段数と
クリアー段数の差が小さい。)で、すぐれた現像性能を
示した。また実施例1〜7の現像液の中でもアミン型の
カチオン型界面活性剤を使用したものよりも、第四アン
モニウム塩型のカチオン型界面活性剤を使用したものは
よりすぐれた現像ラチチュードと階調性を示した。
As can be seen from Table-2, the developing solutions of Examples 1 to 7 have a wider developing latitude than the developing solutions of Comparative Examples 1 to 4, and the gradation of the positive type lithographic printing plate has a high gradation (better step number and The difference in the number of clear stages was small.), Indicating excellent developing performance. Further, among the developers of Examples 1 to 7, those using the quaternary ammonium salt type cationic surfactant had a better development latitude and gradation than those using the amine type cationic surfactant. Showed sex.

実施例8 窒素気流下にエチレングリコールモノメチルエーテル30
0重量部を100℃に加熱し、この中へ2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート150重量部、アクリロニトリル90重量
部、メチルメタクリレート79.5重量部、メタクリル酸1
0.5重量部及び過酸化ベンゾイル1.2重量部の混合液を2
時間かけて滴下した。
Example 8 Ethylene glycol monomethyl ether 30 under nitrogen stream
0 parts by weight is heated to 100 ° C., into which 150 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, 90 parts by weight of acrylonitrile, 79.5 parts by weight of methyl methacrylate, 1 part of methacrylic acid are added.
2 parts by weight of a mixture of 0.5 parts by weight and 1.2 parts by weight of benzoyl peroxide.
It dripped over time.

滴下終了15分後にエチレングリコールモノメチルエーテ
ル300重量部と過酸化ベンゾイル0.3重量部を加えて、そ
のまま4時間反応させた。反応終了後メタノールで希釈
して水中に投じて共重合体を沈殿させ、70℃で真空乾燥
させた。
15 minutes after the completion of dropping, 300 parts by weight of ethylene glycol monomethyl ether and 0.3 parts by weight of benzoyl peroxide were added, and the reaction was continued for 4 hours. After completion of the reaction, the mixture was diluted with methanol and poured into water to precipitate the copolymer, which was dried under vacuum at 70 ° C.

この2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体
(1)の酸価は21であった。
The acid value of this 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (1) was 21.

厚さ0.15mmの2Sアルミニウム板を80℃に保たれた第3り
ん酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬して脱脂し、
ナイロンブラシで砂目立て後、60℃のアルミン酸ナトリ
ウム3%水溶液でデスマットした。このアルミニウム板
を20%硫酸中で2A/dm2の電流密度で2分間陽極酸化し、
その後70℃の珪酸ナトリウムの25%水溶液で1分間処理
した。
A 0.15 mm-thick 2S aluminum plate was immersed in a 10% aqueous solution of sodium triphosphate held at 80 ° C for 3 minutes to degrease it,
After graining with a nylon brush, desmutting was performed with a 3% aqueous solution of sodium aluminate at 60 ° C. This aluminum plate is anodized in 20% sulfuric acid at a current density of 2 A / dm 2 for 2 minutes,
Then, it was treated with a 25% aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 1 minute.

このアルミニウム板につぎの感光液を塗布し、100℃で
2分間乾燥してネガ型感光性平版印刷版を得た。
The following photosensitive solution was applied to this aluminum plate and dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a negative photosensitive lithographic printing plate.

・2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体(1)
……87重量部 ・p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒド
の縮合物の2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾ
イルベンゼンスルホン酸塩 ……10重量部 ・オイルブルー#603 (オリエント化学工業株式会社製、トリフェニルメタン
系油溶性染料) ……3重量部 ・2−メトキシエタノール ……600重量部 ・メタノール ……600重量部 ・エチレンジクロライド ……600重量部 乾燥塗布重量は2.5g/m2であった。この感光性平版印刷
版にステップウェッジと網点の入ったネガ原画を密着さ
せ30アンペアのカーボンアーク灯で70cmの距離から40秒
間画像露光した。
-2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (1)
...... 87 parts by weight 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate of a condensate of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde ...... 10 parts by weight ・ Oil Blue # 603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd., Triphenylmethane oil-soluble dye) 3 parts by weight 2-Methoxyethanol 600 parts by weight Methanol 600 parts by weight Ethylene dichloride 600 parts by weight Dry coating weight was 2.5 g / m 2 . . A step wedge and a negative original image with halftone dots were brought into close contact with this photosensitive lithographic printing plate, and image exposure was carried out for 40 seconds from a distance of 70 cm with a carbon arc lamp of 30 amperes.

一方ポジ型感光性平版印刷版として米国特許第3,635,70
9号明細書の実施例1に記載されているアセトンとピロ
ガロールの縮重合によって得られるポリヒドロキシフェ
ニルのナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸
エステル1重量部とノボラック型クレゾールホルムアル
デヒド樹脂2重量部、オイルブル#603の0.03重量部を2
0重量部の酢酸−2−メトキシエチルと20重量部のメチ
ルエチルケトンに溶解して作製した感光液を、砂目立て
後陽極酸化されたアルミニウム板に塗布し80℃で2分間
乾燥させ乾燥塗布重量2.5g/m2の感光性平版印刷版を得
た。この感光性平版印刷版にステップウェッジと網点の
入った透明ポジ原画を密着させ30アンペアのカーボンア
ーク灯で70cmの距離から60秒間画像露光した。
On the other hand, as a positive photosensitive lithographic printing plate, U.S. Pat.
No. 9, 1 part by weight of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester of polyhydroxyphenyl obtained by condensation polymerization of acetone and pyrogallol and 2 parts by weight of novolak type cresol formaldehyde resin. Part, 0.03 parts by weight of Oil Bull # 603 2
A photosensitive solution prepared by dissolving in 0 parts by weight of 2-methoxyethyl acetate and 20 parts by weight of methyl ethyl ketone was applied to an anodized aluminum plate after graining, dried at 80 ° C for 2 minutes and dried. A photosensitive lithographic printing plate of / m 2 was obtained. A step wedge and a transparent positive original image with halftone dots were brought into close contact with this photosensitive lithographic printing plate, and image exposure was carried out for 60 seconds from a distance of 70 cm with a carbon amp lamp of 30 amperes.

上記のごとく、露光したネガ型及びポジ型感光性平版印
刷版を下記現像液〔A〕を用い、自動現像機PSP-860
(小西六写真工業(株)製)にて現像処理を行なった。
結果を表−3に示す。
As described above, the exposed negative-type and positive-type photosensitive lithographic printing plates were processed using the following developing solution [A] to prepare an automatic processor PSP-860.
(Konishi Roku Photo Industry Co., Ltd.).
The results are shown in Table-3.

現像条件は25℃と30℃でそれぞれ30秒と27℃で20秒と40
秒の4点で行なった。なお、現像液のpHは使用時にNaOH
で12.60に調整した。
The developing conditions are 25 ℃ and 30 ℃ for 30 seconds and 27 ℃ for 20 seconds and 40 seconds, respectively.
It was done at 4 points per second. The pH of the developer is NaOH when using.
I adjusted it to 12.60.

現像液〔A〕 ・ケイ酸ナトリウム 250g (日本工業規格ケイ酸ソーダ3号) ・水酸化ナトリウム 30g ・エチレングリコールモノフェニルエーテル 100g ・ペレックスNB-L (花王アトラス(株)社製アニオン界面活性剤)1,714g ・亜硫酸ナトリウム 200g ・サニゾールC(花王アトラス(株)社製カチオン型界
面活性剤、ドテシルベンジルジメチルアンモニウムクロ
ライド) 10g ・ソルフィット(3−メチル−メトキシブタノール)20
0g ・水 10l なお、比較の現像液として上記現像液〔A〕からカチオ
ン型界面活性剤「サニゾールC」を除いた現像液〔B〕
を調製した。また、上記現像液〔A〕からカチオン型界
面活性剤「サニゾールC」及び亜硫酸ナトリウムを除い
た現像液〔C〕を調製した。現像液〔B〕及び〔C〕も
使用時にpHを12.50に調整した。
Developer [A] -Sodium silicate 250g (Japanese Industrial Standard Sodium Silicate No. 3) -Sodium hydroxide 30g-Ethylene glycol monophenyl ether 100g-Perex NB-L (Kao Atlas Co., Ltd. anionic surfactant) 1,714g-Sodium sulfite 200g-Sanisol C (Kao Atlas Co., Ltd. cationic surfactant, dodecylbenzyldimethylammonium chloride) 10g-Solfit (3-methyl-methoxybutanol) 20
0 g water 10 l As a comparative developer, a developer [B] obtained by removing the cationic surfactant "Sanisol C" from the above developer [A].
Was prepared. Further, a developer [C] was prepared by removing the cationic surfactant "Sanisol C" and sodium sulfite from the developer [A]. The pH of the developing solutions [B] and [C] was adjusted to 12.50 at the time of use.

表−3から明らかなように、本発明の現像液〔A〕は、
25℃30秒ないし27℃20秒が現像適点であり、この現像条
件より時間、温度の増加で多少現像過度になた場合で
も、現像結果に大きな変化はなく、150線/インキの網
点は良好に再現され、現像ラチチュードの広いすぐれた
現像液である。一方、現像液〔A〕からカチオン型界面
活性剤を除いた比較の現像液〔B〕は、同様に25℃30秒
と27℃20秒が現像適点であるが、現像適点であってもポ
ジ型平版印刷版の画像は軟調(クリアー段数とベタ段数
の差が大きい。)で好ましくないものであった。さら
に、現像液の温度が少し高くなったり、現像時間がのび
て現像が過度になった場合に性能劣化が大きく、画像は
軟調化傾向がさらに大きくなり、網点画像の中の3%や
5%の小点が細くなったり、消失したりして、充分な性
能を得ることができなかった。
As is clear from Table 3, the developer [A] of the present invention comprises
The optimum development point is 25 ° C for 30 seconds to 27 ° C for 20 seconds. Even if the time and temperature increase causes overdevelopment to some extent under these development conditions, there is no significant change in the development results, and 150 lines / ink dot Is an excellent developer that is well reproduced and has a wide development latitude. On the other hand, in the comparative developer [B] obtained by removing the cationic surfactant from the developer [A], the development suitable points are 25 ° C. for 30 seconds and 27 ° C. for 20 seconds. However, the image of the positive type lithographic printing plate was unfavorable because it had a soft tone (the difference between the number of clear steps and the number of solid steps was large). Further, when the temperature of the developing solution becomes a little high, or when the developing time becomes long and the developing becomes excessive, the performance is greatly deteriorated, and the image tends to have a softer tone. %, The small dots became thin or disappeared, and sufficient performance could not be obtained.

また、ネガ型平版印刷版についても、わずかではある
が、本発明の現像液〔A〕は比較の現像液〔B〕よりも
現像ラチチュードにおいてすぐれていた。
Also, with respect to the negative type lithographic printing plate, the developing solution [A] of the present invention was superior to the comparative developing solution [B] in the developing latitude, although the amount was small.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明により、ネガ型感光性平版印刷版とポジ型感光性
平版印刷版を一つの現像液で現像する場合(例えば、自
動現像機を用いて同じ現像液でネガ型とポジ型の感光性
平版印刷版を無差別に現像する場合)の現像性、印刷性
能及び現像速度が改良される。
According to the present invention, in the case of developing a negative photosensitive lithographic printing plate and a positive photosensitive lithographic printing plate with one developing solution (for example, a negative type and a positive type photosensitive lithographic plate with the same developing solution using an automatic developing machine). In the case of developing the printing plate indiscriminately), the developability, the printing performance and the developing speed are improved.

なお、通常、迅速現像には、現像液を濃くしたり、処理
温度を高くして行なうか、あるいは有機溶剤のような現
像促進効果のある添加剤を加える方法があるが、どの方
法をとっても現像ラチチュードが狭く、安定した良好な
画像を得るのが従来は困難であった。しかし、本発明で
は従来の約2倍の速さの現像を行なっても安定して良好
な画像を得ることができる。
For rapid development, usually, there is a method in which the developer is thickened, the processing temperature is raised, or an additive having a development promoting effect such as an organic solvent is added. Conventionally, it was difficult to obtain a stable and good image with a narrow latitude. However, according to the present invention, a good image can be stably obtained even if the development is performed at a speed about twice as fast as the conventional one.

なお、20℃における水に対する溶解度が10重量%以下の
有機溶剤を現像液に用いると、通常ポジ型感光性平版印
刷版の現像において画像部が侵されることがしばしばあ
り、わずかな現像過多においても画像が欠落したり皮膜
がうすくなったりすることが起こるが、本発明によれ
ば、前記のようなカチオン型界面活性剤の添加により、
上記の有機溶剤の存在下でも良好に共通現像することが
可能になる。
When an organic solvent having a solubility in water at 20 ° C of 10% by weight or less is used as a developing solution, the image area is often corroded during the development of a positive-working photosensitive lithographic printing plate, and even in a slight excess of development. Although the image may be lost or the film may be thin, according to the present invention, the addition of the cationic surfactant as described above,
Even in the presence of the above-mentioned organic solvent, common development can be performed well.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−130741(JP,A) 特開 昭60−213943(JP,A) 特開 昭58−9143(JP,A) 特開 昭61−18944(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-60-130741 (JP, A) JP-A-60-213943 (JP, A) JP-A58-9143 (JP, A) JP-A-61- 18944 (JP, A)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】アルミニウム支持体上に画像形成層を有す
るネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版
を共通して処理する水系アルカリ性現像液において、該
現像液が20℃における水に対する溶解度が10重量%以下
の有機溶剤を0.1〜10重量%、カチオン型界面活性剤を
0.001〜10重量%、亜硫酸塩及びアニオン界面活性剤を
含有し、pHが11.5〜13.5の範囲であることを特徴とする
感光性平版印刷版の現像液。
1. A water-based alkaline developer for commonly treating a negative photosensitive lithographic printing plate having an image forming layer on an aluminum support and a positive photosensitive lithographic printing plate, wherein the developer is water at 20 ° C. 0.1-10% by weight of organic solvent having a solubility of 10% by weight or less, and a cationic surfactant
A photosensitive lithographic printing plate developer containing 0.001 to 10% by weight of sulfite and an anionic surfactant and having a pH in the range of 11.5 to 13.5.
【請求項2】カチオン型界面活性剤が水溶性の第四アン
モニウム塩型構造を有する界面活性剤であることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の現像液。
2. The developer according to claim 1, wherein the cationic surfactant is a water-soluble surfactant having a quaternary ammonium salt type structure.
【請求項3】アルミニウム支持体上に画像形成層を有す
るネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版
を水系アルカリ性現像液を用い、共通して処理する方法
において、該現像液が20℃における水に対する溶解度が
10重量%以下の有機溶剤を0.1〜10重量%、カチオン型
界面活性剤を0.001〜10重量%、亜硫酸塩及びアニオン
界面活性剤を含有し、pHが11.5〜13.5の範囲であること
を特徴とする感光性平版印刷版の現像方法。
3. A method of commonly treating a negative photosensitive lithographic printing plate and a positive photosensitive lithographic printing plate having an image forming layer on an aluminum support with an aqueous alkaline developing solution, wherein the developing solution is Solubility in water at 20 ℃
0.1 to 10% by weight of an organic solvent of 10% by weight or less, 0.001 to 10% by weight of a cationic surfactant, a sulfite and an anionic surfactant are contained, and the pH is in the range of 11.5 to 13.5. Method for developing a photosensitive lithographic printing plate.
【請求項4】上記カチオン型界面活性剤が水溶性の第四
アンモニウム塩型構造を有する界面活性剤であることを
特徴とする特許請求の範囲第3項記載の現像方法。
4. The developing method according to claim 3, wherein the cationic surfactant is a water-soluble surfactant having a quaternary ammonium salt type structure.
JP61018395A 1986-01-29 1986-01-29 Developer and developing method for photosensitive lithographic printing plate Expired - Fee Related JPH07113777B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61018395A JPH07113777B2 (en) 1986-01-29 1986-01-29 Developer and developing method for photosensitive lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61018395A JPH07113777B2 (en) 1986-01-29 1986-01-29 Developer and developing method for photosensitive lithographic printing plate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62175757A JPS62175757A (en) 1987-08-01
JPH07113777B2 true JPH07113777B2 (en) 1995-12-06

Family

ID=11970513

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61018395A Expired - Fee Related JPH07113777B2 (en) 1986-01-29 1986-01-29 Developer and developing method for photosensitive lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07113777B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01223448A (en) * 1988-03-03 1989-09-06 Konica Corp Method for processing photosensitive material
JPH03191354A (en) * 1989-12-20 1991-08-21 Konica Corp Method of development processing for photosensitive planographic plate

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0062733B1 (en) * 1981-04-10 1986-01-02 Shipley Company Inc. Metal ion-free photoresist developer composition
JPS60130741A (en) * 1983-12-19 1985-07-12 Nippon Seihaku Kk Photosensitive lithographic plate developer
JPS60213943A (en) * 1984-04-09 1985-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd Developing solution composition
KR850008058A (en) * 1984-05-16 1985-12-11 로이 에이취, 맷신길 Positive photoresist developer and development method

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62175757A (en) 1987-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5106724A (en) Developer for light-sensitive lithographic printing plate capable of processing commonly the negative-type and the positive-type and developer composition for light-sensitive material
EP0080042B1 (en) Method for the development of photoresist layers, and developer
JPH04282637A (en) Photosensitive planographic printing plate
JP3327496B2 (en) Positive photosensitive lithographic printing plate
US5149614A (en) Developer compositions for ps plates and method for developing the same wherein the developer composition contains a surfactant having an aryl group, an oxyalkylene group and a sulfate ester or sulfonic acid group
JP2514350B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate developer that can process negative and positive types in common
JPH03101735A (en) Method for processing photosensitive planographic printing plate
EP0390480B1 (en) Developer composition for PS plates for use in making lithographic printing plate and method of platemaking
JPH07113768B2 (en) Developer and developing method for photosensitive lithographic printing plate
JPH073580B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate developer composition
JPH07113777B2 (en) Developer and developing method for photosensitive lithographic printing plate
JP2579189B2 (en) Developer composition for photosensitive lithographic printing plate
JPH0354339B2 (en)
JPH0612443B2 (en) Developer composition of photosensitive lithographic printing plate and developing method
JPS6225761A (en) Developing solution composition and developing method for photosensitive lithographic printing plate
JP2001125281A (en) Developer composition
JP3537536B2 (en) Manufacturing method of photosensitive lithographic printing plate
JP2002265806A (en) Photosensitive composition
JPH0239157A (en) Developer for photosensitive planographic printing plate
JPH11119427A (en) Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate
JPS63205658A (en) Developing solution for photosensitive planographic printing plate which can process negative and positive type commonly
JPH02256053A (en) Method for developing photosensitive planographic printing plate
JP2684253B2 (en) Plate making method of lithographic printing plate
JPH02262148A (en) Method for developing photosensitive planographic printing plate
JPS62125357A (en) Developing solution composition and developing method for photosensitive lithographic printing plate

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees