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JPH07116555B2 - Lead frame material and manufacturing method thereof - Google Patents
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JPH07116555B2 - Lead frame material and manufacturing method thereof - Google Patents

Lead frame material and manufacturing method thereof

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JPH07116555B2
JPH07116555B2 JP60126751A JP12675185A JPH07116555B2 JP H07116555 B2 JPH07116555 B2 JP H07116555B2 JP 60126751 A JP60126751 A JP 60126751A JP 12675185 A JP12675185 A JP 12675185A JP H07116555 B2 JPH07116555 B2 JP H07116555B2
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less
alloy
lead frame
plating
frame material
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慎一郎 矢萩
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Daido Steel Co Ltd
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Daido Steel Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体チップと外部端子とを接続する電子部品
であるリードフレームの素材として使用されるリードフ
レーム材料およびその製造方法に関するものであり、更
に詳しくは低クロムの鉄クロム系合金のC、Si、Mn、Al
の上限値を規定すると共に、さらにNi、Cu、Mo或はNb、
Ti、Ta、Zrを添加したベース材にNi或はNi合金のメッキ
またはCu或はCu合金を施した後冷間圧延をした耐食性に
優れ、かつメッキ性及びはんだ付け性を改善したリード
フレーム材料およびその製造方法に関するものである。
The present invention relates to a lead frame material used as a material of a lead frame which is an electronic component for connecting a semiconductor chip and an external terminal, and a manufacturing method thereof. More specifically, low chromium iron-chromium alloys such as C, Si, Mn, Al
In addition to specifying the upper limit of, Ni, Cu, Mo or Nb,
Lead frame material with excellent corrosion resistance, which is obtained by plating Ni or Ni alloy or Cu or Cu alloy on the base material added with Ti, Ta, Zr and then cold rolling, and which has improved plating property and solderability. And a method for manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来リードフレーム材としては強度と耐膨張特性の点で
Fe−Ni42合金が主として使用されて来た。このFe−Ni合
金は高価であるためより低廉な材料が要望され、コスト
メリットと導電性の点から一方では銅合金も使用されて
いる。しかしこの銅合金も導電性及び熱放散の点で優れ
ているが、Fe−Ni42合金に比べて強度が不足し、このこ
とは特にICの自動組立て工程においてアウターリードを
部品に差込む際に折れ曲るというような不都合がある。
コストの点からは純鉄や低炭素鋼は最も安価であるが、
錆が発生し易く耐食性に劣るため使用出来ない。そこで
耐食性及び強度の点からステンレス鋼を使用することが
考えられる。しかし、リードフレーム材は、接点部やチ
ップ搭載部の信頼性を高めるために、メッキ下地を施し
てはんだ付けされる関係から、はんだ付け性とメッキ性
が要求されるが、ステンレス鋼ははんだ付け性及びメッ
キ性に劣る。そのため発明者はこの点の改善を試み、低
CrでC、Si、Mn、Alの上限値を規定した鉄クロム合金か
らなるリードフレーム材を提案している(特開昭59−91
49)。
In terms of strength and expansion resistance, conventional lead frame materials
Fe-Ni42 alloy has been mainly used. Since this Fe-Ni alloy is expensive, a cheaper material is required, and a copper alloy is also used from the viewpoint of cost merit and conductivity. However, this copper alloy is also excellent in terms of conductivity and heat dissipation, but it lacks strength compared to the Fe-Ni42 alloy, and this is especially the case when the outer leads are inserted into parts during IC automatic assembly process. There is an inconvenience such as bending.
Pure iron and low carbon steel are the cheapest in terms of cost,
It cannot be used because it easily rusts and has poor corrosion resistance. Therefore, it is possible to use stainless steel from the viewpoint of corrosion resistance and strength. However, the lead frame material is required to have solderability and plating property because it is plated and soldered to improve the reliability of the contact part and chip mounting part. Inferior in plating property and plating property. Therefore, the inventor tried to improve this point,
A lead frame material made of an iron-chromium alloy in which the upper limits of C, Si, Mn, and Al are defined by Cr has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 59-91).
49).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

この発明者が提案した低クロム鉄合金では、メッキ性及
びはんだ付け性がなお充分でなくAu、Agの下地メッキの
密着性向上のため、Au、Agのメッキをするのに先立ちCu
やNiのストライクメッキを行なう必要があった。
In the low chromium iron alloy proposed by the present inventor, the plating property and the solderability are still insufficient, and the adhesion of Au and Ag is improved to improve the adhesion of the undercoat.
It was necessary to perform strike plating of Ni and Ni.

本発明は先に提案された低クロム鉄合金からなるリード
フレーム材の前記したような問題点を解決すべくなされ
たものであって、メッキ性及びはんだ付け性に優れたリ
ードフレーム材を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the lead frame material made of the low chromium iron alloy proposed previously, and provides a lead frame material excellent in plating property and solderability. The purpose is to

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

そこで本発明の発明者は先に提案した低クロム鉄合金を
ベース材としてメッキを施した後に冷間圧延をしてメッ
キ性及びはんだ付け性が改善されることを新たに知見し
本発明を完成するに至ったものである。
Therefore, the inventor of the present invention newly found that the plating property and the solderability were improved by performing the cold rolling after applying the previously proposed low chromium iron alloy as the base material and completed the present invention. It has come to do.

本発明の第1発明のリードフレーム材料は重量%で、C
r;5.0〜10.5%、C;0.10%以下、Si;2.0%以下、Mn;2.0
%以下、Al;0.10%以下を含有し、残部実質的にFeより
なるベース材と、冷間圧延により表面を平滑にしたNi或
はNi合金またはCu或はCu合金からなるメッキ層とからな
ることを要旨とする。
The lead frame material according to the first aspect of the present invention is C, in weight%.
r; 5.0 to 10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0
% Or less, Al; 0.10% or less, and the balance consisting essentially of Fe, and a plated layer of Ni or Ni alloy or Cu or Cu alloy whose surface is smoothed by cold rolling. That is the summary.

第2発明のリードフレーム材料は、重量%で、Cr;5.0〜
10.5%、C;0.10%以下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、
Al;0.10%以下を含有し、さらにNb、Ti、Ta、Zrのうち
1種または2種以上を0.6%以下含有し、残部実質的にF
eよりなるベース材と、冷間圧延により表面を平滑にし
たNi或はNi合金またはCu或はCu合金からなるメッキ層と
からなることを要旨とする。
The lead frame material of the second invention is Cr; 5.0-
10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less,
Al; 0.10% or less, and 0.6% or less of one or more of Nb, Ti, Ta, and Zr, and the balance is substantially F.
The gist of the invention is that it comprises a base material made of e and a plating layer made of Ni or Ni alloy or Cu or Cu alloy whose surface is smoothed by cold rolling.

第3のリードフレーム材料は、重量%で、Cr;5.0〜10.5
%、C;0.10%以下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;
0.10%以下を含有し、さらにNi;3.0%以下、Cu;2.0%以
下、Mo;4.0%以下のうち1種または2種以上を0.6%以
下含有し、残部実質的にFeよりなるベース材と、冷間圧
延により表面を平滑にしたNi或はNi合金またはCu或はCu
合金からなるメッキ層とからなることを要旨とする。
The third leadframe material is Cr; 5.0 to 10.5% by weight.
%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less, Al;
A base material containing 0.10% or less, 0.6% or less of Ni; 3.0% or less, Cu; 2.0% or less, Mo: 4.0% or less, 0.6% or less of one or more, and the remainder being substantially Fe. , Ni or Ni alloy or Cu or Cu with smooth surface by cold rolling
The gist is that the plating layer is made of an alloy.

第4発明のリードフレーム材料は、重量%で、Cr;5.0〜
10.5%、C;0.10%以下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、
Al;0.10%以下を含有し、さらにNi;3.0%以下、Cu;2.0
%以下、Mo;4.0%以下のうち1種または2種以上を及び
Nb、Ti、Ta、Zrのうち1種または2種以上を0.6%以下
含有し、残部実質的にFeよりなるベース材と、冷間圧延
により表面を平滑にしたNi或はNi合金またはCu或はCu合
金からなるメッキ層とからなることを要旨とする。
The lead frame material of the fourth invention is Cr; 5.0-
10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less,
Al: 0.10% or less, Ni: 3.0% or less, Cu; 2.0
% Or less, Mo; 4.0% or less, and one or more kinds and
A base material containing 0.6% or less of one or two or more of Nb, Ti, Ta, and Zr, and the balance being substantially Fe, and Ni or Ni alloy or Cu or whose surface is smoothed by cold rolling. Is characterized in that it is composed of a Cu alloy plating layer.

第5発明のリードフレーム材料の製造方法は、重量%
で、Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以下、Si;2.0%以下、M
n;2.0%以下、Al;0.10%以下を含有し、残部実質的にFe
よりなるベース材に、Ni或はNi合金のメッキまたはCu或
はCu合金のメッキを施した後、冷間圧延し、次いで歪み
取り焼鈍することを要旨とする。
The manufacturing method of the lead frame material of the fifth invention is
, Cr; 5.0 to 10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, M
Containing n; 2.0% or less, Al; 0.10% or less, and the balance substantially Fe
The base material is made of Ni or Ni alloy plating or Cu or Cu alloy plating, cold rolled, and then strain relief annealed.

なお、Ni合金又はCu合金メッキとして用いる合金はNi又
はCuに各々P、B、W、Mo、Cr、Tiの1種または2種以
上を合計で1〜50%含有するとよい。
The alloy used as the Ni alloy or Cu alloy plating may contain Ni or Cu in a proportion of 1 to 50% in total of one or more of P, B, W, Mo, Cr and Ti.

本発明によるリードフレーム材料は、低クロム系鉄合金
のC、Si、Mn、Alの上限値を規定すると共に必要に応じ
てNi、Cu、Mo又はNb、Ti、Ta、Zrのうち1種または2種
以上を含有したものをベース材としているが、以下にそ
の成分範囲(重量%)の限定理由について説明する。
The lead frame material according to the present invention defines the upper limits of C, Si, Mn, and Al of the low chromium iron alloy and, if necessary, one of Ni, Cu, Mo or Nb, Ti, Ta, and Zr, or A material containing two or more kinds is used as the base material, and the reason for limiting the component range (% by weight) will be described below.

Cr;5.0〜10.5% Crはベース材のメッキ性、耐熱性および耐食性を向上さ
せる元素であり、このような効果を得るためには5.0%
以上含有させることが必要である。しかし、多すぎる
と、はんだ付け性を阻害するので10.5%以下とする必要
がある。
Cr; 5.0 to 10.5% Cr is an element that improves the plating property, heat resistance and corrosion resistance of the base material, and 5.0% is required to obtain such effects.
It is necessary to contain the above. However, if it is too large, the solderability is impaired, so it is necessary to set it to 10.5% or less.

C;0.10%以下 Cはベース材としての強度を得るためにある程度含有さ
せることが必要であるが、多すぎると耐食性や半田付け
性を劣化するので0.10%以下に抑制する必要がある。
C: 0.10% or less It is necessary to contain C to some extent in order to obtain strength as a base material, but if it is too much, corrosion resistance and solderability deteriorate, so it is necessary to suppress C to 0.10% or less.

Si;2.0%以下 Siは溶製時に脱酸剤として作用するとともに耐食性をも
若干増大させるのに有効な元素であるが、多すぎるとベ
ース材の靱性を害するので2.0%以下とする必要があ
る。
Si; 2.0% or less Si acts as a deoxidizer during melting and is an element effective in slightly increasing the corrosion resistance, but if it is too much, it impairs the toughness of the base material, so it should be 2.0% or less. .

Mn;2.0%以下 Mnは溶製時に脱酸および脱硫剤として使用する元素であ
るが、多すぎるとベース材の靱性を劣化させるので2.0
%以下とする必要がある。
Mn: 2.0% or less Mn is an element used as a deoxidizing agent and a desulfurizing agent during melting, but if it is too much, the toughness of the base material deteriorates.
It must be less than or equal to%.

Al;0.10%以下 Alは脱酸剤として作用するが、多すぎるとはんだ付け性
を阻害するので、0.10%以下にする必要がある。
Al; 0.10% or less Al acts as a deoxidizing agent, but if it is too much, it hinders solderability, so it must be 0.10% or less.

Ni;3.0%以下、Cu;2.0%以下、Mo;4.0%以下のうち1種
または2種以上 Ni、Cu、Moは耐食性の改善に寄与する元素であるので、
これらの1種または2種以上を添加するが、多すぎると
ベース材の靱性を害するのでNiは3.0%以下、Cuは2.0%
以下、Moは4.0%以下とする必要がある。
Ni: 3.0% or less, Cu: 2.0% or less, Mo: 4.0% or less One or more of Ni, Cu, and Mo are elements that contribute to the improvement of corrosion resistance.
One or more of these are added, but if too much is added, the toughness of the base material is impaired, so Ni is 3.0% or less, Cu is 2.0% or less.
Below, Mo must be 4.0% or less.

Nb、Ti、Ta、Zrのうち1種または2種以上を0.6%以下 Nb、Ti、Ta、Zrはいずれもベース材の強度を高めるのに
寄与する元素であるので、これらの1種または2種以上
を添加するが、多すぎるとかえって靱性を害するのでこ
れらの合計で0.6%以下とする必要がある。
0.6% or less of one or more of Nb, Ti, Ta, and Zr Nb, Ti, Ta, and Zr are elements that contribute to increasing the strength of the base material. Although more than one kind is added, if the amount is too large, the toughness is rather adversely affected, so it is necessary to make these total 0.6% or less.

本発明のリードフレーム材料は、前記のごとき組成を有
するベース材と、冷間圧延により表面を平滑にしたNi或
はNi合金またはCu或はCu合金からなるメッキ層とからな
るので、冷間圧延によって素材の厚みの寸法精度が良く
なると共に素材表面が滑らかになり表面きずが制御され
て表面状態が著しく改善されるのでAu又はAgメッキ性及
びはんだ付け性が良くなる。
The lead frame material of the present invention comprises a base material having the composition as described above and a plating layer made of Ni or Ni alloy or Cu or Cu alloy whose surface is smoothed by cold rolling. As a result, the dimensional accuracy of the thickness of the material is improved, the surface of the material becomes smooth, surface flaws are controlled, and the surface condition is remarkably improved, so that the Au or Ag plating property and solderability are improved.

また、本発明のリードフレーム材料は、Ni或はNi合金の
メッキまたはCu或はCu合金のメッキを施した後、冷間圧
延することにより、メッキ表面の凹凸をならし、母材の
強度を向上させることができる。次いで歪み取り焼鈍す
ることにより、リードフレーム材に要求される平坦度が
向上する。
Further, the lead frame material of the present invention is plated with Ni or Ni alloy or Cu or Cu alloy, and then cold-rolled to smooth the surface of the plating to improve the strength of the base material. Can be improved. Next, strain relief annealing improves the flatness required for the lead frame material.

〔実施例〕〔Example〕

本発明の実施例について説明し、本発明の効果を明らか
にする。第1表に本実施例に用いたベース材の化学成分
(重量%)を示す。
Examples of the present invention will be described to clarify the effects of the present invention. Table 1 shows the chemical composition (% by weight) of the base material used in this example.

第1表においてNo.1及びNo.2は比較例であって、No.1は
SUS304相当、No.2はSUS430相当である。No.3〜No.13は
発明例であって、No.3は本発明の組成範囲内のCr、C、
Si、Mn、Alを含有する第1発明例であり、No.4〜6はこ
の基本組成にNb、Ti、Ta、Zrのうち1種または2種以上
を含有する第2発明例である。No.7〜10は上記基本組成
のものにNi、Cu、Moのうち1種または2種以上を含有す
る第3発明例であり、No.11〜14は上記基本組成のもにN
b、Ti、Ta、Zrのうち1種または2種以上及びNi、Cu、M
oのうち1種または2種以上を含む第4発明例である。
In Table 1, No. 1 and No. 2 are comparative examples, and No. 1 is
SUS304 equivalent, No.2 is SUS430 equivalent. No. 3 to No. 13 are examples of the invention, and No. 3 is Cr, C within the composition range of the present invention,
It is a first invention example containing Si, Mn and Al, and Nos. 4 to 6 are second invention examples containing one or more of Nb, Ti, Ta and Zr in this basic composition. Nos. 7 to 10 are third invention examples containing one or more of Ni, Cu and Mo in the above basic composition, and Nos. 11 to 14 are N in the above basic composition.
One or more of b, Ti, Ta and Zr and Ni, Cu and M
It is a fourth invention example containing one or more of o.

第1表の成分からなる厚さ0.35mm冷間圧延材を用い、比
較例であるNo.1及びNo.2についてはメッキを施さずに、
発明例であるNo.3〜14についてはそれぞれ第2表に示す
ようにNi或いはNi合金メッキまたはCuメッキを3〜5μ
m施した後に冷間圧延し0.25mmの板厚に加工した。こう
して得られたリードフレーム材のうちNo.4〜No.14につ
いては、さらにアンモニア分解ガス中で650℃で3分間
ひずみ取り焼鈍し、それぞれの材料について耐食性、メ
ッキ性、はんだ付け性及びひずみについて試験を行っ
た。
Using a cold rolled material having a thickness of 0.35 mm consisting of the components shown in Table 1, No. 1 and No. 2 which are comparative examples were not plated,
Inventive examples Nos. 3 to 14 are plated with Ni or Ni alloy plating or Cu plating with 3 to 5 μm as shown in Table 2, respectively.
m, and then cold-rolled to a plate thickness of 0.25 mm. Among the lead frame materials thus obtained, No. 4 to No. 14 were further annealed in ammonia decomposition gas at 650 ° C for 3 minutes for strain relief, and the corrosion resistance, plating property, solderability and strain of each material were investigated. The test was conducted.

耐食性の評価は、温度49℃、湿度98%の湿潤雰囲気中で
96時間放置する湿潤試験を行い、その時点での発錆の有
無を調べた。その結果は第2表に示すが、錆の発生が無
かったものについては○印で示し、発生があったものに
ついて×印で示した。
Corrosion resistance is evaluated in a humid atmosphere with a temperature of 49 ° C and a humidity of 98%.
A wet test was carried out for 96 hours, and the presence or absence of rust at that time was examined. The results are shown in Table 2. When no rust was generated, the mark was marked with a circle, and when rust was generated, it was marked with a cross.

メッキ性の評価は、Ni表面に直接にAgのスポットメッキ
(約5μm)を施し、その後450℃で5分間加熱した後
の表面状況を調べることにより行った。その結果は第2
表に示すが、加熱によるふくれがなかったものについて
は○印で示し、加熱によるふくれがあったものについて
は×で示した。
The plating property was evaluated by directly spot-plating Ag (about 5 μm) on the Ni surface, and then examining the surface condition after heating at 450 ° C. for 5 minutes. The result is the second
As shown in the table, the ones that did not have blisters due to heating are indicated by a circle, and those that did not have blisters due to heating were indicated by a cross.

はんだ付け性の評価は非ハロゲンフラックスを用い、温
度230℃で60%Sn〜40%Pbよりなるはんだ中に10秒浸漬
することにより行った。この結果も同じく第2表に示す
が、はんだの密着性が良好であったものについては○印
で示し、はんだの密着性が良好でなかったもの、すなわ
ち、クラッド材中央部へのねじれ不良が生じたものにつ
いては×印で示した。
The solderability was evaluated by using a non-halogen flux and immersing it in a solder composed of 60% Sn to 40% Pb at a temperature of 230 ° C for 10 seconds. The results are also shown in Table 2, but those having good solder adhesion are indicated by a circle, and those having poor solder adhesion, that is, the twisting failure to the central part of the clad material The generated ones are indicated by x.

ひずみの試験は第1図に示すようにリードフレーム材10
の端部12から幅2mmのところでフォトエッチングににて
無歪的に150mm切断して切断部14をつくり、切離し部16
の先端16aの反り上り高さh(mm)を測定することによ
って行った。
As shown in Fig. 1, the strain test is performed on the lead frame material 10
At a width of 2 mm from the end 12 of the, a 150 mm distortion-free cutting is made by photoetching to make a cutting portion 14, and a separating portion 16
It was performed by measuring the warp height h (mm) of the tip 16a of the.

第2表から明らかなように、比較例であるNo.1及びNo.2
は耐食性については問題ないがメッキ性及びはんだ付け
性において劣るのに対し、本発明の発明例であるNo.3〜
No.14は耐食性、メッキ性及びはんだ付け性のいずれに
も優れていることが確かめられ、また、歪取り焼鈍を行
ったNo.4〜No.14は歪取り焼鈍を行なわなかったNo.1〜N
o.3に比較して歪みの量が著しく低いことが示され、歪
み取り焼鈍を施せば、リードフレーム材料として要求さ
れる特性の一つとしての平坦度が良くなることが確かめ
られた。なお、歪み取り焼鈍を行ったものと行なわなか
ったものにメッキ性及びはんだ付け性に有意な差は認め
られなかった。
As is clear from Table 2, No. 1 and No. 2 which are comparative examples.
Has no problem in corrosion resistance but is inferior in plating property and solderability, which is an invention example of the present invention No. 3 to
It was confirmed that No. 14 is excellent in both corrosion resistance, plating property and solderability, and No. 4 to No. 14 which were subjected to strain relief annealing were No. 1 which were not subjected to strain relief annealing. ~ N
It was shown that the amount of strain was significantly lower than that of O.3, and it was confirmed that the strain relief annealing improves the flatness as one of the properties required for the lead frame material. In addition, no significant difference was observed in the plating property and the solderability between those that were subjected to strain relief annealing and those that were not.

〔発明の効果〕 本発明は以上説明したように重量%で、Cr;5.0〜10.5
%、C;0.10%以下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;
0.10%以下を基本構成とし、これに必要において応じて
Ni;3.0%以下、Cu;2.0%以下、Mo;4.0%以下のうち1種
または2種以上あるいはNb、Ti、Ta、Zrのうち1種また
は2種以上を0.6%以下添加し、残部実質的にFeよりな
るベース材と、冷間圧延により表面を平滑にしたNi或は
Ni合金またはCu或はCu合金からなるメッキ層とからなる
リードフレーム材料であるので、従来の発明者が開発し
た低クロムの鉄合金に比較し、著しくメッキ性及びはん
だ付け性が改善されており、従来のようにAu、Agのメッ
キに先立ってNiストライクメッキを行なう必要がなく、
この工程を省略して直接にAu、Agをメッキしても充分な
メッキ性及びはんだ付け性が得られるという優れた効果
がある。さらに、必要に応じてメッキを施した後の冷間
圧延後に、歪み取り焼鈍を行うことにより、リードフレ
ーム材料に要求される平坦度を向上することができる。
またフェライト系あるいはオーステナイト系のステンレ
ス鋼からなるリードフレーム材料よりもメッキ性及びは
んだ付け性において優れたリードフレーム材料を提供す
ることができる。
[Advantages of the Invention] The present invention, as described above, is in the range of Cr: 5.0 to 10.5% by weight.
%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less, Al;
0.10% or less is the basic composition, and if necessary,
Ni: 3.0% or less, Cu: 2.0% or less, Mo: 4.0% or less, 1 or 2 or more, or Nb, Ti, Ta, Zr 1 or 2 or more, 0.6% or less is added, and the balance is substantially Base material consisting of Fe and Ni or Ni with a smooth surface by cold rolling
Since it is a lead frame material consisting of a plating layer consisting of Ni alloy or Cu or Cu alloy, it has significantly improved plating property and solderability as compared with the conventional low chromium iron alloy developed by the inventor. , It is not necessary to perform Ni strike plating prior to Au and Ag plating as in the past,
Even if this step is omitted and Au or Ag is directly plated, there is an excellent effect that sufficient plating properties and solderability can be obtained. Further, the flatness required for the lead frame material can be improved by performing strain relief annealing after cold rolling after plating if necessary.
Further, it is possible to provide a lead frame material which is more excellent in plating property and solderability than the lead frame material made of ferritic or austenitic stainless steel.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はリードフレーム材料の歪み取り試験を説明する
斜視図である。 10……リードフレーム材料、12……端部、14……切断
部、16……切離部。
FIG. 1 is a perspective view illustrating a strain relief test of a lead frame material. 10 …… Lead frame material, 12 …… End, 14 …… Cut, 16 …… Separate.

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Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】重量%で、Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以
下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%以下を含
有し、残部実質的にFeよりなるベース材と、冷間圧延に
より表面を平滑にしたNi或はNi合金またはCu或はCu合金
からなるメッキ層とからなるリードフレーム材料。
1. By weight%, Cr; 5.0 to 10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less, Al; 0.10% or less, and the balance substantially consisting of Fe. A lead frame material comprising a base material and a plating layer made of Ni or Ni alloy or Cu or Cu alloy having a smooth surface by cold rolling.
【請求項2】重量%で、Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以
下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%以下を含
有し、さらにNb、Ti、Ta、Zrのうち1種または2種以上
を0.6%以下含有し、残部実質的にFeよりなるベース材
と、冷間圧延により表面を平滑にしたNi或はNi合金また
はCu或はCu合金からなるメッキ層とからなるリードフレ
ーム材料。
2. By weight%, Cr; 5.0 to 10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less, Al; 0.10% or less, further containing Nb, Ti, Ta, Plating consisting of a base material containing 0.6% or less of one or more kinds of Zr and the balance being substantially Fe, and Ni or Ni alloy or Cu or Cu alloy whose surface is smoothed by cold rolling. Leadframe material consisting of layers.
【請求項3】重量%で、Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以
下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%以下を含
有し、さらにNi;3.0%以下、Cu;2.0%以下、Mo;4.0%以
下のうち1種または2種以上を0.6%以下含有し、残部
実質的にFeよりなるベース材と、冷間圧延により表面を
平滑にしたNi或はNi合金またはCu或はCu合金からなるメ
ッキ層とからなるリードフレーム材料。
3. By weight%, Cr; 5.0 to 10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less, Al; 0.10% or less, and further Ni; 3.0% or less, Cu; 2.0% or less, Mo: 4.0% or less, 0.6% or less of 1 type or 2 types or more, and the balance consisting essentially of Fe, and Ni or Ni whose surface is smoothed by cold rolling. Lead frame material consisting of alloy or Cu or plating layer consisting of Cu alloy.
【請求項4】重量%で、Cr;5.0%〜10.5%、C;0.10%以
下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%以下を含
有し、さらにNi;3.0%以下、Cu;2.0%以下、Mo;4.0%以
下のうち1種または2種以上及びNb、Ti、Ta、Zrのうち
1種または2種以上を0.6%以下含有し、残部実質的にF
eよりなるベース材と、冷間圧延により表面を平滑にし
たNi或はNi合金またはCu或はCu合金からなるメッキ層と
からなるリードフレーム材料。
4. By weight%, Cr: 5.0% to 10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less, Al; 0.10% or less, and further Ni: 3.0% or less. , Cu; 2.0% or less, Mo; 4.0% or less, one or more kinds, and Nb, Ti, Ta, Zr, one or more kinds, 0.6% or less, and the balance substantially F
A lead frame material comprising a base material made of e and a plating layer made of Ni or Ni alloy or Cu or Cu alloy whose surface is smoothed by cold rolling.
【請求項5】重量%で、Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以
下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%以下を含
有し、残部実質的にFeよりなるベース材に、Ni或はNi合
金のメッキまたはCu或はCu合金のメッキを施した後、冷
間圧延し、次いで歪み取り焼鈍することを特徴とするリ
ードフレーム材料の製造方法。
5. By weight%, Cr; 5.0 to 10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less, Al; 0.10% or less, and the balance consists essentially of Fe. A method for producing a lead frame material, which comprises subjecting a base material to Ni or Ni alloy plating or Cu or Cu alloy plating, cold rolling, and then strain relief annealing.
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