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JPH07120418B2 - Pattern recognition method - Google Patents
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JPH07120418B2 - Pattern recognition method - Google Patents

Pattern recognition method

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JPH07120418B2
JPH07120418B2 JP61189531A JP18953186A JPH07120418B2 JP H07120418 B2 JPH07120418 B2 JP H07120418B2 JP 61189531 A JP61189531 A JP 61189531A JP 18953186 A JP18953186 A JP 18953186A JP H07120418 B2 JPH07120418 B2 JP H07120418B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体製造装置等に用いて好適なパターン認
識方法に関する。
The present invention relates to a pattern recognition method suitable for use in a semiconductor manufacturing apparatus or the like.

[従来の技術] ワイヤボンディング装置により、半導体チップの接合部
とフレームの接合部とをワイヤボンディングする場合に
は、チップとフレームとを最適な位置関係に保つため、
チップの位置ずれを検出する必要がある。この位置ずれ
は、パターン認識装置によって検出される。
[Prior Art] When wire bonding a semiconductor chip bonding portion and a frame bonding portion with a wire bonding device, in order to maintain the chip and the frame in an optimum positional relationship,
It is necessary to detect the displacement of the chip. This displacement is detected by the pattern recognition device.

従来のパターン認識方法は、チップ状の検出パターン
をテレビカメラによって撮影した撮像画像を、画像処理
回路によって、基準2値化レベルで2値化した2値化画
像とし、この2値化画像を走査し、2値化画像の各部
と、パターン設定回路に予め登録してある基準パターン
とを比較し、この比較による2値化画像の各部と基準パ
ターンとの合致度を相関回路によって算定し、2値化画
像において基準パターンと最も合致する位置を見つけ出
し、基準位置からの位置ずれを求めるようにしている。
In the conventional pattern recognition method, a captured image obtained by shooting a chip-shaped detection pattern with a television camera is binarized by a reference binarization level by an image processing circuit, and the binarized image is scanned. Then, each part of the binarized image is compared with the reference pattern registered in the pattern setting circuit in advance, and the degree of matching between each part of the binarized image and the reference pattern is calculated by the correlation circuit. The position that best matches the reference pattern is found in the binarized image, and the displacement from the reference position is calculated.

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、従来のパターン認識方法にあっては、基
準パターンを予めパターン設定回路に登録する時、基準
2値化レベル、および基準パターンにおける低レベル画
像部と高レベル画像部の面積比の設定を、オペレータの
判断にまかせている。このような場合には、基準2値化
レベル、もしくは基準パターンにおける低レベル画像部
と高レベル画像部の面積比がそれぞれ後述するような最
適状態を逸脱し、パターンの認識精度、すなわち被検体
の位置検出精度に、オペレータの個人差に基づくばらつ
きを含むことになる。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional pattern recognition method, when the reference pattern is registered in the pattern setting circuit in advance, the reference binarization level and the low-level image part and the high level in the reference pattern are high. The operator decides the area ratio setting of the level image part. In such a case, the reference binarization level or the area ratio of the low-level image portion and the high-level image portion in the reference pattern deviates from the optimum state as described below, and the pattern recognition accuracy, that is, the object The position detection accuracy includes variations based on individual differences among operators.

本発明は、基準パターンを定めるにあたり、基準2値化
レベル、および基準パターンにおける低レベル画像部と
高レベル画像部の面積比を自動的に最適化し、被検体の
位置検出精度を向上することを目的とする。
The present invention, when defining a reference pattern, automatically optimizes the reference binarization level and the area ratio of the low-level image portion and the high-level image portion in the reference pattern to improve the position detection accuracy of the subject. To aim.

[問題点を解決するための手段] 本発明は、被検体の撮像画像を基準2値化レベルで2値
化した2値化画像とし、この2値化画像を予め定めた基
準パターンと比較し、この比較による2値化画像と基準
パターンとの合致度に基づいて被検体の位置を検出する
パターン認識方法において、(A)基準2値化レベルを
定めるにあたり、基準パターンとして取り込もうとする
基準画像を2値化して基準2値化画像とする2値化レベ
ルを変化させ、上記2値化レベルの変化に対応して得ら
れる基準2値化画像の変化が最小となる2値化レベルを
基準2値化レベルとするとともに、(B)上記基準2値
化レベルで2値化された基準2値化画像の外枠範囲の大
きさを変化させ、その変化毎の該外枠で囲まれる画像面
積内における低レベル画像部と高レベル画像部それぞれ
の占める比率を求め、その比率が略50%となる外枠範囲
内の基準2値化画像を最適基準パターンとするようにし
たものである。
[Means for Solving Problems] According to the present invention, an imaged image of a subject is binarized at a reference binarization level, and the binarized image is compared with a predetermined reference pattern. In the pattern recognition method for detecting the position of the subject based on the degree of matching between the binarized image and the reference pattern by this comparison, (A) the reference image to be captured as the reference pattern in determining the reference binarization level. Is binarized to change the binarization level used as the reference binarized image, and the binarization level that minimizes the change in the reference binarized image obtained in response to the change in the binarization level is set as the reference. In addition to the binarization level, (B) the size of the outer frame range of the reference binarized image binarized at the reference binarization level is changed, and the image surrounded by the outer frame for each change Low level image area and high level in area The ratio occupied by each image part is obtained, and the reference binarized image within the outer frame range where the ratio is approximately 50% is used as the optimum reference pattern.

[作用] 基準パターンを予め定める時に用いた基準2値化レベル
は、その後、被検体の撮像画像を2値化する時、該撮像
画像を安定して2値化できるものでなくてはならない。
第4図(A)は被検体1を示す模式図、第4図(B)は
被検体1の走査線2に沿って得られた撮像画像(ビデオ
信号)3を示す模式図である。撮像画像3は、撮影状
態、例えば照明光の光量変化、被検体1の反射率のばら
つき等によって実線で示す状態から、1点鎖線で示す状
態や2点鎖線で示す状態に変化する。したがって、基準
2値化レベルは、撮像画像3が上記のように変化して
も、該撮像画像3を2値化して得られる2値化画像の変
化が少ない、第4図(B)にaで示す最適レベルに設定
する必要がある。
[Operation] The reference binarization level used when the reference pattern is predetermined must be capable of stably binarizing the captured image when the captured image of the subject is subsequently binarized.
FIG. 4 (A) is a schematic diagram showing the subject 1, and FIG. 4 (B) is a schematic diagram showing a captured image (video signal) 3 obtained along the scanning line 2 of the subject 1. The captured image 3 changes from a state indicated by a solid line to a state indicated by a one-dot chain line or a state indicated by a two-dot chain line due to, for example, changes in the amount of illumination light, variations in reflectance of the subject 1, and the like. Therefore, the reference binarization level has a small change in the binarized image obtained by binarizing the captured image 3 even if the captured image 3 changes as described above. It is necessary to set to the optimum level shown in.

しかして、本発明におけるように、基準パターンとして
取り込もうとする基準画像を2値化する際に、その2値
化レベルを変化させていき、その時に得られる基準2値
化画像の変化(低レベル画像部と高レベル画像部の面積
比の変化)が最小となる2値化レベルを基準2値化レベ
ルとするものとすれば、上記基準2値化レベルの最適化
が実現できる。
Thus, as in the present invention, when the reference image to be captured as the reference pattern is binarized, the binarization level is changed, and the change (low level of the reference binarized image obtained at that time is changed. If the binarization level that minimizes the change in the area ratio between the image portion and the high-level image portion is used as the reference binarization level, the optimization of the reference binarization level can be realized.

また、被検体の2値化画像と基準パターンとの合致度に
基づく被検体の位置検出作業においては、得られる合致
度を基準合致度と比較して、検出の合否判定がなされ
る。この基準合致度は検出環境や被検体の状態の変化が
あるため、あまり大きな値はとれず、経験的には例えば
70〜80%である。そこで、基準パターンにおける低レベ
ル画像部と高レベル画像部の面積比が20%対80%に設定
されている状態下で、基準パターンに比較される被検体
の原2値化画像がすべて高レベル画像部であった時に
は、その時点で80%の合致度があることになってしま
い、誤検出のおそれがある。
Further, in the position detection operation of the subject based on the degree of agreement between the binary image of the subject and the reference pattern, the obtained degree of agreement is compared with the reference degree of matching to determine whether or not the detection is successful. This standard matching degree does not take a very large value because there are changes in the detection environment and the state of the subject, and empirically, for example,
70-80%. Therefore, under the condition that the area ratio of the low-level image part and the high-level image part in the reference pattern is set to 20% to 80%, all the original binary images of the subject to be compared with the reference pattern are high-level. If it is an image part, there is a 80% matching degree at that time, which may cause erroneous detection.

しかして、本発明におけるように、基準2値化像の外枠
範囲の大きさを変化させていき、低レベル画像部と高レ
ベル画像部との比率が略50%となる外枠範囲内の基準2
値化画像を基準パターンとすれば、基準パターンにおけ
る該面積比の最適化が実現できる。
Then, as in the present invention, the size of the outer frame range of the reference binarized image is changed, and the ratio of the low level image part to the high level image part is approximately 50% within the outer frame range. Criterion 2
When the binarized image is used as the reference pattern, the area ratio in the reference pattern can be optimized.

したがって、本発明によれば、基準パターンを定めるに
あたり、 照明光の光量変化などの撮影状態等変化に対しても変
化の少ない安定した2値化画像が得られるような基準2
値化レベル 低レベル画像部と高レベル画像部の面積比が最適化さ
れる外枠の大きさがともに自動的に設定されることか
ら、誤検が防止され、被検体の位置検出精度を向上でき
る。
Therefore, according to the present invention, when the reference pattern is determined, the reference 2 that can obtain a stable binarized image with little change in response to a change in the shooting condition such as a change in the amount of illumination light.
Quantization level The size of the outer frame that optimizes the area ratio between the low-level image part and the high-level image part is automatically set, preventing false detection and improving the position detection accuracy of the subject. it can.

[実施例] 第1図は本発明の実施に用いられるパターン認識装置を
示すブロック図、第2図は基準2値化レベルの決定方法
を示す模式図、第3図は基準パターンの外枠範囲を変化
させる状態を示す模式図である。
[Embodiment] FIG. 1 is a block diagram showing a pattern recognition apparatus used for implementing the present invention, FIG. 2 is a schematic diagram showing a method of determining a reference binarization level, and FIG. 3 is an outer frame range of a reference pattern. It is a schematic diagram which shows the state which changes.

第1図において、11はテレビカメラ、12は画像処理回
路、13はコンピュータ、14はD/A変換回路、15は画像メ
モリ、16は相関回路、17はパターン設定回路、18はマス
ク設定回路である。
In FIG. 1, 11 is a television camera, 12 is an image processing circuit, 13 is a computer, 14 is a D / A conversion circuit, 15 is an image memory, 16 is a correlation circuit, 17 is a pattern setting circuit, and 18 is a mask setting circuit. is there.

まず、このパターン認識装置による被検体の位置検出方
法について説明する。
First, a method of detecting the position of the subject by this pattern recognition device will be described.

テレビカメラ11は、半導体チップ等の被検体上の検出パ
ターンを撮影し、その撮像画像(ビデオ信号)を画像処
理回路12に送信する。画像処理回路12は、コンピュータ
13において登録された基準2値化レベルをD/A変換回路1
4を介して付与され、上記撮像画像を基準2値化レベル
で2値化した2値化画像とする。2値化画像は撮像画像
の濃淡に応じた0(高レベル画像部:白画像部)または
1(低レベル画像部:黒画像部)をもって表わされ、例
えばX方向が128ビット、Y方向が128ビットに特定さ
れ、画像メモリ15にメモリされる。
The television camera 11 captures an image of a detection pattern on a subject such as a semiconductor chip and sends the captured image (video signal) to the image processing circuit 12. The image processing circuit 12 is a computer
The reference binarization level registered in 13 is used for the D / A conversion circuit 1
The image pickup image is given via 4 and is binarized by the reference binarization level. The binarized image is represented by 0 (high level image part: white image part) or 1 (low level image part: black image part) according to the contrast of the picked-up image. For example, the X direction is 128 bits and the Y direction is It is specified as 128 bits and stored in the image memory 15.

上記2値化画像は次のごとくして走査される。The binarized image is scanned as follows.

すなわち、相関回路16は、画像メモリ15にメモリされて
いる2値化画像の座標(0,0)のデータAを読み出す。
この座標(0,0)のデータAは、例えば32ビット×32ビ
ット内の各点における2値化されたデータである。相関
回路16は、座標(0,0)として入力されたデータAの各
点と、パターン設定回路17に予め登録してある例えば32
ビット×32ビットの基準パターンBの対応する点とを比
較し、合致しているか否か、すなわち合致度を算定し、
メモリする。この時、得られた合致度が予め定めた基準
合致度より低い場合には検出不合格として、当該合致度
の算定結果を無視してメモリしない。
That is, the correlation circuit 16 reads the data A at the coordinates (0,0) of the binary image stored in the image memory 15.
The data A of the coordinates (0,0) is, for example, binarized data at each point within 32 bits × 32 bits. The correlation circuit 16 registers each point of the data A input as coordinates (0,0) and the pattern setting circuit 17 with, for example, 32 registered in advance.
Bits x 32 bits are compared with corresponding points of the reference pattern B, and whether or not they match, that is, the degree of matching is calculated,
To memory. At this time, if the obtained degree of matching is lower than a predetermined reference degree of matching, it is determined as a detection failure and the calculation result of the degree of matching is ignored and not stored.

なお、この合致度の算定にあたっては、後に詳述する基
準パターンの最適化のため、データAの各点のレベル値
(0または1)と基準パターンBの各点のレベル値(0
または1)の排他的論理和をとり、この排他的論理和の
否定形と、マスク設定回路18に設定されている基準マス
ク度C2の各点のレベル値(0または1)の論理積をとる
ことにより、データAと最適基準パターンとの合致度を
算定することとしている。
In the calculation of the matching degree, the level value (0 or 1) of each point of the data A and the level value (0 of each point of the reference pattern B are set for optimization of the reference pattern described in detail later.
Alternatively, the exclusive OR of 1) is obtained, and the negative form of this exclusive OR is ANDed with the level value (0 or 1) of each point of the reference mask degree C2 set in the mask setting circuit 18. By doing so, the degree of agreement between the data A and the optimum reference pattern is calculated.

上記合致度の算定手順を具体的に図示すれば第5図
(A)〜(E)のとおりとなる。なお、図は4ビット×
4ビットについて例示したものである。第5図(A)は
データAを示し、第5図(B)は基準パターンBを示
し、第5図(C)は基準マスク度C2を示し、第5図
(D)はデータAと基準パターンBの排他的論理和の否
定形を示し、第5図(E)は上記排他的論理和の否定形
と基準マスク度C2の論理積を示している。第5図
(A)、(B)、(D)、(E)の斜線部は低レベル画
像部としての1を表わし、非斜線部は高レベル画像部と
しての0を表わしている。また、第5図(C)の斜線部
は後述する有効域としての1を表わし、非斜線部は無効
域としての0を表わしている。ここで、基準パターンB
は後に詳述するように基準マスク度C2により、低レベル
画像部と高レベル画像部の面積比を50%対50%に設定さ
れている。
FIG. 5A to FIG. 5E specifically show the procedure for calculating the degree of coincidence. The figure shows 4 bits x
This is an example of 4 bits. 5A shows the data A, FIG. 5B shows the reference pattern B, FIG. 5C shows the reference mask degree C2, and FIG. 5D shows the data A and the reference. A negative form of the exclusive OR of the pattern B is shown, and FIG. 5 (E) shows a logical product of the negative form of the exclusive OR and the reference mask degree C2. The shaded areas in FIGS. 5A, 5B, 5D, and 5E represent 1 as the low-level image area, and the non-hatched areas represent 0 as the high-level image area. The shaded area in FIG. 5 (C) represents 1 as an effective area described later, and the non-shaded area represents 0 as an invalid area. Here, the reference pattern B
As will be described later in detail, the area ratio of the low level image portion and the high level image portion is set to 50% to 50% by the reference mask degree C2.

相関回路16は、座標(0,0)のデータAの比較が終了す
ると、例えばX方向に1ビットずらした32ビット×32ビ
ットからなる座標(1,0)のデータAを読み出し、この
座標(1,0)のデータAと基準パターンBとを比較す
る。このようにして、相関回路16は、座標(0,0)〜座
標(95,95)までの各データを順次走査し、それらの合
致度を算定する。相関回路16は、画像メモリ15にメモリ
されている2値化画像の全範囲にわたる合致度の算定を
終了した時、自らにメモリされている合致度の最も大き
な位置を選択し、基準位置からの位置ずれ(x,y)を求
め、これによって被検体の位置を検出する。
When the comparison of the data A at the coordinates (0,0) is completed, the correlation circuit 16 reads the data A at the coordinates (1,0) consisting of 32 bits × 32 bits shifted by 1 bit in the X direction, and the coordinates ( The data A of 1,0) is compared with the reference pattern B. In this way, the correlation circuit 16 sequentially scans each data from the coordinates (0,0) to the coordinates (95,95) and calculates the degree of coincidence. When the correlation circuit 16 finishes the calculation of the matching degree over the entire range of the binarized image stored in the image memory 15, it selects the position with the largest matching degree stored in itself and selects the position from the reference position. The position shift (x, y) is obtained, and the position of the subject is detected by this.

ところで、コンピュータ13に登録される基準2値化レベ
ルは、基準パターンを予め定める時に設定されるもので
あるが、この基準2値化レベルは、画像処理回路12にお
いて被検体の撮像画像を2値化する時、撮影状態等によ
って変化する可能性のある該撮像画像を常に安定して2
値化できるものでなくてはならない。
By the way, the reference binarization level registered in the computer 13 is set when the reference pattern is determined in advance. This reference binarization level is used for binarizing the captured image of the subject in the image processing circuit 12. The captured image, which may change depending on the shooting conditions, etc.
It must be quantifiable.

そこで、この実施例においては、基準パターンとして取
り込もうとする第2図に示すような基準画像20を画像処
理回路12において2値化する際に、コンピュータ13が付
与する2値化レベルとして、△lのレベル差をもった2
値化レベルaと2値化レベルbを用い、それらのレベル
a、bをl1〜l2の範囲で少しずつ移動して変化させる。
これにより、レベルaについて得られる基準2値化画像
(例えば高レベル画像部の面積比40%、低レベル画像部
の面積比60%)とレベルbについて得られる基準2値化
画像(例えば高レベル画像部の面積比30%、低レベル画
像部の面積比70%)の変化(高レベル画像部と低レベル
画像部の面積比の変化:例えば10%)が最小となる時
の、aとbの中間の値を最適基準2値化レベルとする。
Therefore, in this embodiment, when the reference image 20 as shown in FIG. 2 to be captured as the reference pattern is binarized in the image processing circuit 12, the binary level given by the computer 13 is Δl. With a level difference of 2
The binarization level a and the binarization level b are used, and the levels a and b are gradually moved and changed in the range of l1 to l2.
Thereby, the reference binarized image obtained for the level a (for example, the area ratio of the high level image portion is 40%, the area ratio of the low level image portion is 60%) and the reference binarized image obtained for the level b (for example, the high level image portion). A and b when the change in the area ratio of the image part is 30% and the area ratio of the low level image part is 70%) (the change in the area ratio of the high level image part and the low level image part: eg 10%) is minimized. The value in the middle of is the optimum reference binarization level.

すなわち、この実施例によれば、基準パターンを定める
時に基準2値化レベルが自動的に最適化されるから、被
検体の撮像画像を該基準2値化レベルによって常に安定
して2値化し、被検体の位置検出精度を向上できる。
That is, according to this embodiment, since the reference binarization level is automatically optimized when the reference pattern is determined, the captured image of the subject is always stably binarized by the reference binarization level, The position detection accuracy of the subject can be improved.

また、上記相関回路16において、被検体の2値化画像か
ら読み出されたデータAと、基準パターンBとの合致度
を算定する場合には、前述のように、得られる合致度を
基準合致度と比較して、検出の合否判定がなされる。こ
の基準合致度は検出環境や被検体の状態の変化があるた
め、あまり大きな値はとれず、経験的には例えば70〜80
%である。そこで、基準パターンにおける高レベル画像
部と低レベル画像部の面積比が80%対20%に設定されて
いる状態下で、基準パターンに比較される被検体の原2
値化画像がすべて高レベル画像部であった時には、その
時点で80%の合致度があることになってしまい、誤検出
のおそれがある。
Further, in the correlation circuit 16, when calculating the matching degree between the data A read from the binarized image of the subject and the reference pattern B, as described above, the obtained matching degree is used as the reference matching. The pass / fail judgment of the detection is made in comparison with the degree. This standard matching degree cannot be a very large value because there is a change in the detection environment or the state of the subject, and empirically, for example, 70-80
%. Therefore, under the condition that the area ratio of the high-level image part and the low-level image part in the reference pattern is set to 80% to 20%, the original 2 of the subject to be compared with the reference pattern 2
If all of the binarized images are high-level image parts, there is a 80% matching degree at that point, which may result in erroneous detection.

そこで、この実施例においては、基準パターンとして取
り込もうとする基準画像を、画像処理回路12において上
記基準2値化レベルで2値化し、基準2値化画像を得た
後、基準2値化画像の外枠範囲を第3図にZ1で示す初期
外枠から次第に変化させ、その変化毎の該外枠で囲まれ
る画像面積内における低レベル画像部(L)と高レベル
画像部(H)それぞれの占める比率を求め、その比率が
略50%となる外枠範囲Z2で囲まれる基準2値化画像を最
適基準パターンとして相関回路16による合致度の算定に
供するものとする。
Therefore, in this embodiment, the reference image to be captured as the reference pattern is binarized by the image processing circuit 12 at the reference binarization level to obtain the reference binarized image, and then the reference binarized image is obtained. The outer frame range is gradually changed from the initial outer frame indicated by Z1 in FIG. 3, and the low level image portion (L) and the high level image portion (H) within the image area surrounded by the outer frame are changed for each change. The occupying ratio is calculated, and the reference binarized image surrounded by the outer frame range Z2 having the ratio of about 50% is used as the optimum reference pattern for calculation of the degree of matching by the correlation circuit 16.

なお、基準2値化画像の外枠範囲を変化させる具体的方
法は、マスク設定回路18により例えば32ビット×32ビッ
トの初期外枠Z1の外周部分を0(無効域)化、中央部分
を1(有効域)化した外枠Zのマスク度Cを用いる。す
なわち、相関回路16は、画像処理回路12で得られた基
準2値化画像から読み出したデータAの各点のレベル値
(0または1)と、予めパターン設定回路17に設定した
例えば32ビット×32ビットの全点が高レベル画像部であ
る全面高レベル化パターンB0の各点のレベル値(1)の
排他的論理和を取った後、この排他的論理和の否定形
と、上記マスク度Cの各点のレベル値(外枠Zの外側部
は0、内側部は1)の論理積をとる。この結果、相関回
路16は、外側部の一定範囲を0(無効域)化されたZで
囲まれる画像面積内における、高レベル画像部と低レベ
ル画像部それぞれの占める比率を算定することができ
る。そこで、上記外枠Zの0(無効域)化される外側部
の範囲を次第に拡大または縮小して変化させていけば、
上記面積比と略50%とする外枠Z2のマスク度、すなわち
基準マスク度C2を確定できる。すなわち、この実施例に
おいて、パターン設定回路17に設定される基準パターン
は、マスク設定回路18に設定される基準マスク度C2を付
与されることにより、最適化される。
A specific method of changing the outer frame range of the reference binarized image is to set the outer peripheral part of the initial outer frame Z1 of, for example, 32 bits × 32 bits to 0 (invalid area) and the central part to 1 by the mask setting circuit 18. The masking degree C of the outer frame Z that has been changed to the (effective area) is used. That is, the correlation circuit 16 sets the level value (0 or 1) of each point of the data A read from the reference binarized image obtained by the image processing circuit 12 and, for example, 32 bits × preliminarily set in the pattern setting circuit 17. After taking the exclusive OR of the level value (1) of each point of the whole surface leveling pattern B0 in which all the 32 bit points are the high level image part, the negative form of this exclusive OR and the mask degree The logical product of the level values of each point of C (0 on the outer side of the outer frame Z and 1 on the inner side) is calculated. As a result, the correlation circuit 16 can calculate the ratio of each of the high-level image portion and the low-level image portion in the image area surrounded by Z (zero) (ineffective area) in the fixed area of the outer portion. . Therefore, if the range of the outer part of the outer frame Z that is made 0 (ineffective region) is gradually expanded or contracted to change,
The mask degree of the outer frame Z2 that is approximately 50% of the above area ratio, that is, the reference mask degree C2 can be determined. That is, in this embodiment, the reference pattern set in the pattern setting circuit 17 is optimized by giving the reference mask degree C2 set in the mask setting circuit 18.

ただし、本発明の実施においては、上記基準マスク度C2
を付与した基準パターンを最適基準パターンとして固定
化し、この最適基準パターンをパターン設定回路17に設
定するものであってもよい。
However, in the practice of the present invention, the reference mask degree C2
It is also possible to fix the reference pattern given with as the optimum reference pattern and set the optimum reference pattern in the pattern setting circuit 17.

すなわち、この実施例によれば、基準パターンを予め定
める時、基準パターンにおける低レベル画像部と高レベ
ル画像部の面積比を自動的に50%対50%に設定すること
ができ、基準パターンが最適化されるから、検出の合否
判定が確実化され、被検体の位置検出精度を向上でき
る。
That is, according to this embodiment, when the reference pattern is predetermined, the area ratio of the low-level image portion and the high-level image portion in the reference pattern can be automatically set to 50% to 50%, and the reference pattern is Since the optimization is performed, the pass / fail determination of the detection is ensured, and the position detection accuracy of the subject can be improved.

[発明の効果] 以上のように、本発明によれば、基準パターンを定める
にあたり、基準2値化レベル、および基準パターンにお
ける低レベル画像部と高レベル画像部の面積比が自動的
に最適化されることから、誤検が防止され、被検体の位
置検出制度を向上できる。
EFFECTS OF THE INVENTION As described above, according to the present invention, when the reference pattern is determined, the reference binarization level and the area ratio of the low-level image portion and the high-level image portion in the reference pattern are automatically optimized. As a result, erroneous inspection can be prevented and the position detection system of the subject can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の実施に用いられるパターン認識装置を
示すブロック図、第2図は基準2値化レベルの決定方法
を示す模式図、第3図は基準パターンの外枠範囲を変化
させる状態を示す模式図、第4図(A)、(B)は被検
体とその撮像画像を示す模式図、第5図(A)〜(E)
は合致度の算定手順を示す模式図である。 12……画像処理回路、15……画像メモリ、16……相関回
路、17……パターン設定回路、18……マスク設定回路、
20……基準画像、A……2値化画像のデータ、B……基
準パターン、C2……基準マスク度、L……低レベル画像
部、H……高レベル画像部、Z1、Z2……外枠、a、b…
…2値化レベル。
FIG. 1 is a block diagram showing a pattern recognition apparatus used for implementing the present invention, FIG. 2 is a schematic diagram showing a method of determining a reference binarization level, and FIG. 3 is a state in which an outer frame range of a reference pattern is changed. 4A and 4B are schematic diagrams showing the subject and its captured image, and FIGS. 5A to 5E.
[Fig. 3] is a schematic diagram showing a procedure for calculating the degree of agreement. 12 ... Image processing circuit, 15 ... Image memory, 16 ... Correlation circuit, 17 ... Pattern setting circuit, 18 ... Mask setting circuit,
20: standard image, A: binary image data, B: standard pattern, C2: standard mask degree, L: low level image part, H: high level image part, Z1, Z2. Outer frame, a, b ...
… Binarization level.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被検体の撮像画像を基準2値化レベルで2
値化した2値化画像とし、この2値化画像を予め定めた
基準パターンと比較し、この比較による2値化画像と基
準パターンとの合致度に基づいて被検体の位置を検出す
るパターン認識方法において、 (A) 基準2値化レベルを定めるにあたり、基準パタ
ーンとして取り込もうとする基準画像を2値化して基準
2値化画像とする2値化レベルを変化させ、上記2値化
レベルの変化に対応して得られる基準2値化画像の変化
が最小となる2値化レベルを基準2値化レベルとすると
ともに、 (B) 上記基準2値化レベルで2値化された基準2値
化画像の外枠範囲の大きさを変化させ、その変化毎の該
外枠で囲まれる画像面積内における低レベル画像部と高
レベル画像部それぞれの占める比率を求め、その比率が
略50%となる外枠範囲内の基準2値化画像を最適基準パ
ターンとすることを特徴とするパターン認識方法
1. An imaged image of a subject is set to 2 at a reference binarization level.
Pattern recognition in which a binarized image is binarized, the binarized image is compared with a predetermined reference pattern, and the position of the subject is detected based on the degree of matching between the binarized image and the reference pattern by this comparison. In the method, (A) in determining the reference binarization level, the reference image to be captured as a reference pattern is binarized to change the binarization level to be the reference binarization image, and the change of the binarization level. The binarization level that minimizes the change in the reference binarized image obtained corresponding to is set as the reference binarization level, and (B) the reference binarization binarized at the reference binarization level. The size of the outer frame range of the image is changed, and the ratio of each of the low level image part and the high level image part in the image area surrounded by the outer frame is calculated for each change, and the ratio becomes about 50%. Standard 2 values within the outer frame range Pattern recognition method which is characterized in that an image with optimum reference pattern
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