JPH07120839B2 - Printed wiring board - Google Patents
Printed wiring boardInfo
- Publication number
- JPH07120839B2 JPH07120839B2 JP61106654A JP10665486A JPH07120839B2 JP H07120839 B2 JPH07120839 B2 JP H07120839B2 JP 61106654 A JP61106654 A JP 61106654A JP 10665486 A JP10665486 A JP 10665486A JP H07120839 B2 JPH07120839 B2 JP H07120839B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyamide
- mol
- printed wiring
- component unit
- wiring board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 58
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 58
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 22
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 13
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 12
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims 1
- -1 4-aminocyclohexyl Chemical group 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 5
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012765 fibrous filler Substances 0.000 description 4
- QZUPTXGVPYNUIT-UHFFFAOYSA-N isophthalamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC(C(N)=O)=C1 QZUPTXGVPYNUIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCCC(CN)C1 QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005263 alkylenediamine group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-methylcyclohexyl)methyl]-2-methylcyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)C(C)CC1CC1CC(C)C(N)CC1 IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 2
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- JCUZDQXWVYNXHD-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound NCCC(C)CC(C)(C)CN JCUZDQXWVYNXHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSMWYRLQHIXVAP-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylpiperazine Chemical compound CC1CNC(C)CN1 NSMWYRLQHIXVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWPIVPCBQJHQKP-UHFFFAOYSA-N 4-[2,5-di(propan-2-yl)phenyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(C)C)C(C2CCC(N)CC2)=C1 ZWPIVPCBQJHQKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIXYAAAHGYPSAF-UHFFFAOYSA-N 4-[2,6-di(propan-2-yl)phenyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1C1CCC(N)CC1 KIXYAAAHGYPSAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminocyclohexyl)propan-2-yl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1C(C)(C)C1CCC(N)CC1 BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004693 Polybenzimidazole Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000005700 Putrescine Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- MGIAHHJRDZCTHG-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarboxylic acid;terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1.OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 MGIAHHJRDZCTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- GEQHKFFSPGPGLN-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-diamine Chemical compound NC1CCCC(N)C1 GEQHKFFSPGPGLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- CHSILQAFIZTLJN-UHFFFAOYSA-N heptadecane-1,17-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCCCCCCN CHSILQAFIZTLJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJCASULPHYKHT-UHFFFAOYSA-N hexadecane-1,16-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCCCCCN ATJCASULPHYKHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- UPNPFJPZTJQZJM-UHFFFAOYSA-N icosane-1,2-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)CN UPNPFJPZTJQZJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- CJYCVQJRVSAFKB-UHFFFAOYSA-N octadecane-1,18-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCCCCCCCN CJYCVQJRVSAFKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- MSVPBWBOFXVAJF-UHFFFAOYSA-N tetradecane-1,14-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCCCN MSVPBWBOFXVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRAHLZAGPKKBSW-UHFFFAOYSA-N tetrasodium;dioxidophosphanyl phosphite Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])OP([O-])[O-] KRAHLZAGPKKBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- BPSKTAWBYDTMAN-UHFFFAOYSA-N tridecane-1,13-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCCN BPSKTAWBYDTMAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLNPWTHGTVSSEU-UHFFFAOYSA-N undecane-1,11-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCN KLNPWTHGTVSSEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Polyamides (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、耐熱特性に優れて吸湿性が小さくかつ電気絶
縁性に優れたプリント配線基板に関する。さらに、詳細
にはこれらの性能に優れかつ成形作業性に優れたポリア
ミドから形成されたプリント配線基板に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a printed wiring board having excellent heat resistance, low hygroscopicity, and excellent electrical insulation. More specifically, the present invention relates to a printed wiring board formed of polyamide that is excellent in these properties and molding workability.
[従来の技術] プリント配線基板成形用の樹脂にはハンダ耐熱性などの
耐熱性が優れていること、吸湿性が小さく電気絶縁性な
どの電気的特性の温度による依存性が小さいことの他
に、プリント配線基板成形時の作業性に優れていること
が要求されている。従来、プリント配線基板は通常種々
のエポキシ樹脂から形成されており、さらに耐熱性の要
求されるプリント配線基板は通常ポリビスマレイミドか
ら形成されている。これらの成形樹脂はいずれも熱硬化
性樹脂であるので、成形硬化の作業が煩雑であったり、
長時間を要するなどの欠点があり、成形時の作業性に優
れた成形用樹脂からなるプリント配線基板が強く要望さ
れている。その他に、ポリビスマレイミドから形成され
たプリント配線基板は耐熱性には優れているが高価であ
るという欠点があり、エポキシ樹脂から成形されたプリ
ント配線基板は用途によって耐熱性、吸湿性、電気絶縁
性などが不足している場合がある。[Prior Art] In addition to having excellent heat resistance such as solder heat resistance for a resin for forming a printed wiring board, having low hygroscopicity, and having a small temperature dependence of electrical characteristics such as electric insulation, It is required that the workability at the time of molding a printed wiring board is excellent. Conventionally, printed wiring boards are usually made of various epoxy resins, and printed wiring boards required to have heat resistance are usually made of polybismaleimide. Since all of these molding resins are thermosetting resins, the work of molding and curing is complicated,
There is a strong demand for a printed wiring board made of a molding resin that has the drawback of requiring a long time and has excellent workability during molding. In addition, a printed wiring board made of polybismaleimide has excellent heat resistance but has the drawback of being expensive, and a printed wiring board made of epoxy resin has heat resistance, hygroscopicity, and electrical insulation depending on the application. There may be a lack of sex.
また、従来の熱硬化型樹脂から形成されたプリント配線
基板の成形作業性を改善するものとして、熱可塑性樹脂
から成形されたプリント配線基板も多数提案されている
が、耐熱性に優れ、吸湿性が小さく、電気絶縁性に優れ
たプリント配線基板は少ない。従って、プリント配線基
板の分野においては、耐熱性に優れ、吸湿性が小さく、
電気絶縁性などの電気的特性の温度依存性が小さく、成
形時の作業性に優れた熱可塑性樹脂から成形されたプリ
ント配線基板が強く要望されている。In addition, many printed wiring boards molded from thermoplastic resin have been proposed to improve the molding workability of printed wiring boards formed from conventional thermosetting resins, but they have excellent heat resistance and hygroscopicity. There are few printed wiring boards that are small in size and have excellent electrical insulation. Therefore, in the field of printed wiring boards, it has excellent heat resistance, low hygroscopicity,
There is a strong demand for a printed wiring board molded from a thermoplastic resin that has low temperature dependence of electrical characteristics such as electrical insulation and has excellent workability during molding.
[発明が解決しようとする問題点] 本発明者らは、プリント配線基板の分野における従来の
技術が前述の状況にあることに鑑み、耐熱性に優れ、吸
湿性が小さく、電気絶縁性などの電気特性の温度依存性
が小さく、しかも成形時の作業性に優れた熱可塑性樹脂
から成形されたプリント配線基板について検討した結
果、特定のイソフタロイルジアミン成分単位を有するポ
リアミドから形成されたプリント基板が前述の目的を充
足することを見い出して、本発明に到達した。[Problems to be Solved by the Invention] In view of the conventional technology in the field of printed wiring boards described above, the present inventors have excellent heat resistance, low hygroscopicity, electrical insulation and the like. As a result of investigating a printed wiring board molded from a thermoplastic resin which has a small temperature dependence of electrical characteristics and is excellent in workability at the time of molding, a printed board formed from a polyamide having a specific isophthaloyldiamine component unit. Has reached the present invention by discovering that the above-mentioned object is satisfied.
[問題点を解決するための手段および作用] 本発明によれば、 [A] 酸成分が、 (a)イソフタル酸成分単位50ないし100モル% (b)テレフタル酸成分単位0ないし50モル%から構成
され、 ジアミン成分が、 (c)炭素数4ないし25の脂肪族炭化水素基を有するジ
アミン成分単位40ないし85モル%と、 (d)炭素数6ないし25であって少なくとも1個の脂環
族炭化水素基を有するジアミン成分単位15ないし60モル
%とからなり、 上記酸成分とジアミン成分とがランダムに配列した成分
単位からなるポリアミドであって、 (i) 30℃の濃硫酸に溶解し得て、 (ii)300℃で荷重2kgで測定したメルトフローレート
(MFR)が、0.01ないし100g/10minの範囲にあり、 (iii)X線回折法で測定した結晶化度が7%以下であ
り、 (iv)ガラス転移温度(Tg)が150ないし240℃の範囲に
あること、 により表されるポリアミドから形成されるプリント配線
基板が提供される。[Means and Actions for Solving Problems] According to the present invention, [A] the acid component is (a) an isophthalic acid component unit of 50 to 100 mol%, and (b) a terephthalic acid component unit of 0 to 50 mol%. The diamine component comprises (c) 40 to 85 mol% of a diamine component unit having an aliphatic hydrocarbon group having 4 to 25 carbon atoms, and (d) at least one alicyclic ring having 6 to 25 carbon atoms. A polyamide comprising 15 to 60 mol% of a diamine component unit having a group hydrocarbon group, wherein the acid component and the diamine component are randomly arranged, and (i) is soluble in concentrated sulfuric acid at 30 ° C. And (ii) the melt flow rate (MFR) measured at 300 ° C. under a load of 2 kg is in the range of 0.01 to 100 g / 10 min, and (iii) the crystallinity measured by X-ray diffraction is 7% or less. Yes, (iv) glass transition temperature (Tg) is 150 To a temperature of 240 ° C., a printed wiring board formed of the polyamide represented by:
さらに本発明のプリント配線基板は、上記ポリアミド
[A]と充填剤[B]とからなるポリアミド組成物から
形成されていてもよい。Furthermore, the printed wiring board of the present invention may be formed from a polyamide composition comprising the above polyamide [A] and a filler [B].
本発明のプリント配線基板を形成するポリアミド[A]
は、一般式[I] で表されるイソフタロイルジアミン成分単位(a)およ
び一般式[II] で表されるテレフタロイルジアミン成分単位(b)[こ
こで、両式中、R0は炭素原子数が4ないし25の二価の脂
肪族炭化水素基または炭素原子数が6ないし25であって
少なくとも1個の脂環族構造を有する炭化水素基を示
す。]がランダムに配列したポリアミドである。該ポリ
アミドの各成分の組成は上記(a)成分が50ないし100
モル%、好ましくは60ないし90モル%、とくに好ましく
は65ないし80モル%の範囲であり、該(b)成分が0な
いし50モル%、好ましくは10ないし40モル%、とくに好
ましくは20ないし35モル%の範囲である。また、該ポリ
アミドの300℃で荷重2kgで測定したメルトフローレート
(MFR)は0.01ないし100g/10min、好ましくは0.5ないし
50g/10minの範囲にある。また該ポリアミドは、30℃の
濃硫酸に溶解し、このポリアミドについて30℃の濃硫酸
中で測定した極限粘度[η]は通常は0.4ないし2.0dl/
g、好ましくは0.5ないし1.3dl/gの範囲である。また、
該ポリアミドのX線回折法で測定した結晶化度は7%以
下であり、好ましくは5%以下、とくに好ましくは3%
以下である。また、該ポリアミドの示差走査熱量計(昇
温速度毎分10℃)によって測定したガラス転移温度(T
g)は110ないし240℃、好ましくは120ないし220℃の範
囲にある。該ポリアミドが結晶性を有する場合には、そ
の融点は通常は220ないし350℃、好ましくは240ないし3
20℃の範囲である。Polyamide [A] forming the printed wiring board of the present invention
Is the general formula [I] And an isophthaloyldiamine component unit (a) represented by the general formula [II] A terephthaloyldiamine component unit (b) represented by the following formula (wherein R 0 is a divalent aliphatic hydrocarbon group having 4 to 25 carbon atoms or 6 to 25 carbon atoms) And at least one hydrocarbon group having an alicyclic structure. ] Is a randomly arranged polyamide. The composition of each component of the polyamide is such that the component (a) is 50 to 100.
Mol%, preferably 60 to 90 mol%, particularly preferably 65 to 80 mol%, and the component (b) is 0 to 50 mol%, preferably 10 to 40 mol%, particularly preferably 20 to 35 mol%. It is in the range of mol%. The melt flow rate (MFR) of the polyamide measured at 300 ° C. and a load of 2 kg is 0.01 to 100 g / 10 min, preferably 0.5 to
It is in the range of 50g / 10min. The polyamide is dissolved in concentrated sulfuric acid at 30 ° C., and the intrinsic viscosity [η] of this polyamide measured in concentrated sulfuric acid at 30 ° C. is usually 0.4 to 2.0 dl /
g, preferably in the range of 0.5 to 1.3 dl / g. Also,
The crystallinity of the polyamide measured by X-ray diffractometry is 7% or less, preferably 5% or less, particularly preferably 3%.
It is the following. The glass transition temperature (T) measured by a differential scanning calorimeter (temperature rising rate: 10 ° C / min) of the polyamide
g) is in the range 110 to 240 ° C, preferably 120 to 220 ° C. When the polyamide has crystallinity, its melting point is usually 220 to 350 ° C., preferably 240 to 3
It is in the range of 20 ° C.
該ポリアミドを構成する前記一般式[I]で表されるイ
ソフタロイルジアミン成分単位(a)および前記一般式
[II]で表されるテレフタロイルジアミン成分単位
(b)を構成するジアミン成分に相当するR0としては、
炭素原子数が4ないし25の二価の脂肪族炭化水素基、炭
素原子数が6ないし25であり少なくとも1個の脂環族炭
化水素環を含む二価の脂環族炭化水素基を挙げることが
できるが、とくに炭素原子数が4ないし25の二価の脂肪
族炭化水素基R1と炭素原子数が6ないし25であって少な
くとも1個の脂環族炭化水素環を含む二価の脂環族炭化
水素基R2から構成されていることが好ましく、とりわけ
その組成がR1成分が40ないし85モル%およびR2成分が15
ないし60モル%の範囲の混合成分であると好適である。
炭素原子数が4ないし25である二価の脂肪族炭化水素基
R1に相当するジアミン成分として具体的には、1,4−ジ
アミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6−ジアミノ
ヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオク
タン、1,9−ジアミノノナン、1,10−ジアミノデカン、
1,11−ジアミノウンデカン、1,12−ジアミノドデカン、
1,13−ジアミノトリデカン、1,14−ジアミノテトラデカ
ン、1,15−ジアミノペンタデカン、1,16−ジアミノヘキ
サデカン、1,17−ジアミノヘプタデカン、1,18−ジアミ
ノオクタデカン、1,19−ジアミノノナデカン、1,2−ジ
アミノエイコサンなどを例示することができる。これら
のアルキレンジアミン成分としては1種のみを単独で含
有していてもよいし、2種以上の混合物として含有して
いても差しつかえない。これらのアルキレンジアミン成
分のうちでは、炭素原子数が6ないし16の範囲にあるこ
とが好ましく、とくに1,6−ジアミノヘキサン成分であ
ることが好ましい。また、炭素原子数が6ないし25であ
りかつ少なくとも1個の脂環族炭化水素環を含む二価の
脂環族炭化水素基R2に相当するジアミン成分単位として
具体的には、1,3−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジア
ミノシクロヘキサン、1,3−ビス(アミノメチル)シク
ロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサ
ン、イソホロンジアミン、ピペラジン、2,5−ジメチル
ピペラジン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタ
ン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)プロパン、4,
4′−ジアミノ−3,3′−ジメチルジシクロヘキシルメタ
ン、4,4′−ジアミノ−3,3′−ジメチルジシクロヘキシ
ルプロパン、4,4′−ジアミノ−3,3′,5,5′−テトラメ
チルジシクロヘキシルメタン、4,4′−ジアミノ−3,
3′,5,5′−テトラメチルジシクロヘキシルプロパン、
4,4′−ジアミノ−3,3′−ジメチルジシクロヘキシル、
4,4′−ジアミノ−3,3′,5,5′−テトラメチルジシクロ
ヘキシル、α,α′−ビス(4−アミノシクロヘキシ
ル)−p−ジイソプロピルベンゼン、α,α′−ビス
(4−アミノシクロヘキシル)−m−ジイソプロピルベ
ンゼン、α,α′−ビス(4−アミノシクロヘキシル)
−1,4−シクロヘキサン、α,α′−ビス(4−アミノ
シクロヘキシル)−1,3−シクロヘキサンなどを例示す
ることができる。これらのR2を構成するジアミン成分の
うちで、好ましくは脂環族ジアミン成分であり、これら
のうち特に好ましくは、ビス(4−アミノシクロヘキシ
ル)メタン、4,4′−ジアミノ−3,3′−ジメチルジシク
ロヘキシルメタン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロ
ヘキサンである。In the diamine component constituting the isophthaloyldiamine component unit (a) represented by the general formula [I] and the terephthaloyldiamine component unit (b) represented by the general formula [II] that compose the polyamide. The corresponding R 0 is
Specific examples include a divalent aliphatic hydrocarbon group having 4 to 25 carbon atoms, and a divalent alicyclic hydrocarbon group having 6 to 25 carbon atoms and containing at least one alicyclic hydrocarbon ring. In particular, a divalent aliphatic hydrocarbon group R 1 having 4 to 25 carbon atoms and a divalent aliphatic hydrocarbon group having 6 to 25 carbon atoms and containing at least one alicyclic hydrocarbon ring. It is preferably composed of a cyclic hydrocarbon radical R 2 , especially the composition of which the R 1 component is 40 to 85 mol% and the R 2 component is 15
It is preferable that the mixed components are in the range of 60 to 60 mol%.
Divalent aliphatic hydrocarbon groups having 4 to 25 carbon atoms
Specifically as the diamine component corresponding to R 1 , 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1,7-diaminoheptane, 1,8-diaminooctane, 1, 9-diaminononane, 1,10-diaminodecane,
1,11-diaminoundecane, 1,12-diaminododecane,
1,13-diaminotridecane, 1,14-diaminotetradecane, 1,15-diaminopentadecane, 1,16-diaminohexadecane, 1,17-diaminoheptadecane, 1,18-diaminooctadecane, 1,19-diaminonona Examples thereof include decane and 1,2-diaminoeicosane. As these alkylenediamine components, only one kind may be contained alone, or two or more kinds may be contained as a mixture. Of these alkylenediamine components, those having 6 to 16 carbon atoms are preferable, and 1,6-diaminohexane component is particularly preferable. Further, as the diamine component unit having 6 to 25 carbon atoms and corresponding to the divalent alicyclic hydrocarbon group R 2 containing at least one alicyclic hydrocarbon ring, specifically, 1,3 -Diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, isophoronediamine, piperazine, 2,5-dimethylpiperazine, bis (4-amino Cyclohexyl) methane, bis (4-aminocyclohexyl) propane, 4,
4'-diamino-3,3'-dimethyldicyclohexylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldicyclohexylpropane, 4,4'-diamino-3,3 ', 5,5'-tetramethyldicyclohexyl Methane, 4,4'-diamino-3,
3 ', 5,5'-tetramethyldicyclohexylpropane,
4,4'-diamino-3,3'-dimethyldicyclohexyl,
4,4'-diamino-3,3 ', 5,5'-tetramethyldicyclohexyl, α, α'-bis (4-aminocyclohexyl) -p-diisopropylbenzene, α, α'-bis (4-aminocyclohexyl ) -M-Diisopropylbenzene, α, α′-bis (4-aminocyclohexyl)
Examples thereof include 1,4-cyclohexane and α, α′-bis (4-aminocyclohexyl) -1,3-cyclohexane. Of these diamine components constituting R 2 , an alicyclic diamine component is preferable, and among them, bis (4-aminocyclohexyl) methane and 4,4′-diamino-3,3 ′ are particularly preferable. -Dimethyldicyclohexylmethane, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane.
該ポリアミドを構成する前記一般式[II]で表されるテ
レフタロイルジアミン成分単位(b)を構成する芳香族
ジカルボン酸成分は、二価の芳香族炭化水素基であり、
具体的にはテレフタル酸である。The aromatic dicarboxylic acid component constituting the terephthaloyldiamine component unit (b) represented by the general formula [II] constituting the polyamide is a divalent aromatic hydrocarbon group,
Specifically, it is terephthalic acid.
該ポリアミドは、前記(a)成分および前記(b)成分
がランダムに配列して結合し、鎖状構造を形成したもの
である。ここで鎖状構造とは直鎖構造のみならず、分枝
鎖状を形成している場合もある。分枝鎖状構造の形成は
前記(a)、(b)両成分単位のアミン成分を介して形
成される。該ポリアミドのうちでは直鎖状ないしは分枝
鎖状構造すなわち実質上線状構造のポリアミドは、30℃
の濃硫酸中に溶解する。The polyamide is one in which the component (a) and the component (b) are randomly arranged and combined to form a chain structure. Here, the chain structure is not limited to a straight chain structure, but may be a branched chain structure. The branched chain structure is formed through the amine component of both the component units (a) and (b). Among the polyamides, a polyamide having a linear or branched chain structure, that is, a substantially linear structure, has a temperature of 30 ° C.
Soluble in concentrated sulfuric acid.
該ポリアミドの分子末端は前記(a)成分または前記
(b)成分を構成するジアミン成分、イソフタル酸成分
またはテレフタル酸成分のいずれであってもよい。分子
末端が該アルキレンジアミン成分である場合は末端アミ
ノ基が低級カルボン酸でアシル化されていてもよいし、
塩を形成していても差しつかえない。また、分子末端が
テレフタル酸成分、イソフタル酸成分またはフタル酸成
分である場合には末端カルボキシル基が低級アルコール
でエステル化されていてもよいし、アミンでアミド化さ
れていてもよいし、塩を形成してもよいし、酸無水物を
形成してもよい。The molecular terminal of the polyamide may be any of a diamine component, an isophthalic acid component or a terephthalic acid component which constitutes the component (a) or the component (b). When the molecular end is the alkylenediamine component, the terminal amino group may be acylated with a lower carboxylic acid,
It does not matter if it forms salt. When the terminal of the molecule is a terephthalic acid component, an isophthalic acid component or a phthalic acid component, the terminal carboxyl group may be esterified with a lower alcohol, may be amidated with an amine, or may be a salt. It may be formed or an acid anhydride may be formed.
該ポリアミドは、該ポリアミドの前記(a)および前記
(b)両成分単位に相当する芳香族ジカルボン酸のハラ
イドおよびジアミンを溶液法によって重縮合することに
よって製造することもできるし、界面法によって重縮合
することにより製造することもできる。また、該ポリア
ミドの構成成分に相当する芳香族ジカルボン酸およびジ
アミンとのナイロン塩またはオリゴマーなどの低次縮合
物を、加熱溶融状態で剪断条件下に混練手段を用いて重
縮合させることにより製造することができる。これらい
ずれの方法においても、原料の芳香族ジカルボン酸(ハ
ライド)の組成および原料ジアミン成分の組成を調節す
ることによって該イソフタロイルジアミン成分単位
(a)が50ないし100モル%および該テレフタロイルジ
アミン成分単位(b)が0ないし50モル%の範囲のポリ
アミドを製造することができる。これらのうちでは第三
番目の方法が工業的製法として適している。The polyamide can be produced by polycondensing a halide and a diamine of an aromatic dicarboxylic acid corresponding to both the component unit (a) and the component unit (b) of the polyamide by a solution method or by an interfacial method. It can also be produced by condensation. Further, it is produced by polycondensing a low-order condensate such as a nylon salt or an oligomer with an aromatic dicarboxylic acid and a diamine corresponding to the constituent components of the polyamide in a heating and melting state under shearing conditions using a kneading means. be able to. In any of these methods, by adjusting the composition of the aromatic dicarboxylic acid (halide) as the raw material and the composition of the raw material diamine component, the isophthaloyldiamine component unit (a) is 50 to 100 mol% and the terephthaloyl It is possible to produce a polyamide in which the diamine component unit (b) is in the range of 0 to 50 mol%. Of these, the third method is suitable as an industrial manufacturing method.
本発明のプリント配線基板は前記ポリアミドから形成さ
せることもできるし、該ポリアミド[A]および充填剤
[B]からなるポリアミド組成物から形成させることも
できる。The printed wiring board of the present invention can be formed from the above polyamide, or can be formed from a polyamide composition comprising the polyamide [A] and a filler [B].
本発明のプリント配線基板を形成するポリアミド組成物
に配合される充填剤[B]は、粉末状、板状、繊維状あ
るいはクロス状物などの種々の形態を有する有機系また
は無機系の化合物であり、具体的には、シリカ、アルミ
ナ、シリカアルミナ、タルク、ケイソウ土、クレー、カ
オリン、石英、ガラス、マイカ、グラファイト、二硫化
モリブデン、セッコウ、ベンガラ、二酸化チタン、酸化
亜鉛などの粉状、板状の無機系化合物、ガラス繊維、ホ
ウ素繊維、セラミックス繊維、石綿繊維などの繊維状の
無機系化合物またはこれらのクロス状物などの2次加工
品、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリメタフ
ェニレンテレフタルアミド、ポリパラフェニレンイソフ
タルアミド、ポリメタフェニレンイソフタルアミド、ジ
アミノジフェニルエーテルとテレフタル酸(イソフタル
酸)との縮合物、p(m)−アミノ安息香酸の縮合物な
どの全芳香族系ポリアミド、ジアミノジフェニルエーテ
ルと無水トリメリット酸または無水ピロメリット酸との
縮合物などの全芳香族系ポリアミドイミド、全芳香族系
ポリイミド、ポリベンツイミダゾール、ポリイミダゾフ
ェナンスロリンなどの複素環含有化合物、ポリテトラフ
ロロエチレンなどの粉状、板状、繊維状あるいはクロス
状物などのこれらの2次加工品などを例示することがで
き、これらの2種以上を混合して使用することもでき
る。これらの充填剤はシランカップラーやチタンカップ
ラーなどで処理したものも同様に使用することができ
る。The filler [B] blended with the polyamide composition forming the printed wiring board of the present invention is an organic or inorganic compound having various forms such as powder, plate, fiber or cloth. Yes, specifically, silica, alumina, silica-alumina, talc, diatomaceous earth, clay, kaolin, quartz, glass, mica, graphite, molybdenum disulfide, gypsum, red iron oxide, titanium dioxide, zinc oxide, etc., powder, plate Inorganic compounds, glass fibers, boron fibers, ceramic fibers, asbestos fibers, and other inorganic products or secondary processed products of these cloth-like products, polyparaphenylene terephthalamide, polymetaphenylene terephthalamide, Polyparaphenylene isophthalamide, polymetaphenylene isophthalamide, diaminodiphenyl Ether and terephthalic acid (isophthalic acid) condensates, wholly aromatic polyamides such as p (m) -aminobenzoic acid condensates, diaminodiphenyl ether and trimellitic anhydride or pyromellitic anhydride Heterocycle-containing compounds such as wholly aromatic polyamide-imide, wholly aromatic polyimide, polybenzimidazole, polyimidazophenanthroline, etc., such as polytetrafluoroethylene powder, plate, fiber or cloth. Examples of the secondary processed products are as follows, and two or more kinds of them can be mixed and used. Those fillers treated with a silane coupler or a titanium coupler can be used in the same manner.
前記充填剤のうち、粉末状の充填剤としてはシリカ、シ
リカアルミナ、アルミナ、二酸化チタン、グラファイ
ト、二硫化モリブデン、ポリテトラフロロエチレンを使
用することが好ましく、とくにグラファイト、二硫化モ
リブデンまたはポリテトラフロロエチレンを使用すると
該組成物から得られる成形体の動摩擦係数、テーバー摩
耗、限界PV値などの耐摩耗性が向上するようになるので
好ましい。かかる充填剤の平均粒径は通常0.1mμないし
200μmの範囲、とくに1mμないし100μmの範囲にある
と前述の耐摩耗性が著しく向上するので好ましい。かか
る充填剤の配合割合は該ポリアミド100重量部に対して
0.1ないし200重量部、好ましくは0.5ないし100重量部、
とくに好ましくは1.0ないし50重量部の範囲である。Among the above-mentioned fillers, it is preferable to use silica, silica-alumina, alumina, titanium dioxide, graphite, molybdenum disulfide, polytetrafluoroethylene as the powdery filler, particularly graphite, molybdenum disulfide or polytetrafluoroethylene. The use of ethylene is preferable because the molded article obtained from the composition has improved abrasion resistance such as dynamic friction coefficient, Taber abrasion, and limit PV value. The average particle size of such fillers is usually 0.1 mμ or
A range of 200 μm, particularly a range of 1 mμ to 100 μm is preferable because the above-mentioned wear resistance is remarkably improved. The blending ratio of such filler is 100 parts by weight of the polyamide.
0.1 to 200 parts by weight, preferably 0.5 to 100 parts by weight,
It is particularly preferably in the range of 1.0 to 50 parts by weight.
また、前記充填剤のうち、有機系の繊維状充填剤として
はポリパラフェニレンテレフタルアミド繊維、ポリメタ
フェニレンテレフタルアミド繊維、ポリパラフェニレン
イソフタルアミド繊維、ポリメタフェニレンイソフタル
アミド繊維、ジアミノジフェニルエーテルとテレフタル
酸またはイソフタル酸との縮合物から得られる繊維など
の全芳香族系ポリアミド繊維を使用すると該組成物から
得られる成形体の引張り強度、アイゾット衝撃強度など
の機械的特性、熱変形温度などの耐熱特性などが向上す
るようになるので好ましい。さらに、前記充填剤のうち
で無機系の繊維状充填剤としてはガラス繊維またはホウ
素繊維を使用すると、該組成物から得られる成形体の引
張強度、曲げ強度、曲げ弾性率などの機械的特性、熱変
形温度などの耐熱特性、耐水性などの化学的物理的特性
などが向上するようになるので好ましい。前記有機系ま
たは無機系の繊維状充填剤の平均長は通常0.1ないし20m
mの範囲、とくに1ないし10mmの範囲にあると、該組成
物の成形性が向上しかつ該組成物から得られる成形体の
熱変形温度などの耐熱特性、引張強度、曲げ強度などの
機械的特性などが向上するようになるので好ましい。前
記有機系または無機系の繊維状充填剤の配合割合は該ポ
リアミド100重量部に対して3ないし200重量部、好まし
くは5ないし180重量部、とくに好ましくは5ないし150
重量部の範囲である。Further, among the above-mentioned fillers, examples of the organic fibrous filler include polyparaphenylene terephthalamide fiber, polymetaphenylene terephthalamide fiber, polyparaphenylene isophthalamide fiber, polymetaphenylene isophthalamide fiber, diaminodiphenyl ether and terephthalic acid. Alternatively, when a wholly aromatic polyamide fiber such as a fiber obtained from a condensation product with isophthalic acid is used, the molded product obtained from the composition has mechanical properties such as tensile strength and Izod impact strength, and heat resistance properties such as heat distortion temperature. And the like are improved, which is preferable. Furthermore, when glass fiber or boron fiber is used as the inorganic fibrous filler among the above-mentioned fillers, mechanical properties such as tensile strength, bending strength and bending elastic modulus of a molded product obtained from the composition, It is preferable because heat resistance such as heat distortion temperature and chemical and physical characteristics such as water resistance are improved. The average length of the organic or inorganic fibrous filler is usually 0.1 to 20 m.
When it is in the range of m, particularly in the range of 1 to 10 mm, the moldability of the composition is improved and the heat resistance of the molded product obtained from the composition such as heat deformation temperature, mechanical strength such as tensile strength and bending strength. It is preferable because the characteristics and the like are improved. The mixing ratio of the organic or inorganic fibrous filler is 3 to 200 parts by weight, preferably 5 to 180 parts by weight, and particularly preferably 5 to 150 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamide.
The range is parts by weight.
本発明のプリント配線基板を形成する前記ポリアミドま
たは前記ポリアミド組成物には必要に応じて従来から公
知の安定剤、可塑剤、離型剤、滑剤などを配合されてい
てもよい。該ポリアミドまたは該ポリアミド組成物にこ
れらの添加剤の配合されたポリアミド配合物を調製する
方法としては、該ポリアミドを溶融状態に維持しなが
ら、前記充填剤および/または前記添加剤を配合し混練
する方法などを例示することができる。溶融混練配合す
る方法として具体的には、押出機、ニーダーなどを用い
て混練配合する方法などを例示することができる。If necessary, the polyamide or the polyamide composition forming the printed wiring board of the present invention may be mixed with a conventionally known stabilizer, plasticizer, release agent, lubricant, and the like. The method for preparing the polyamide or the polyamide composition in which the polyamide composition and the polyamide composition are mixed with these additives is to mix and knead the filler and / or the additive while maintaining the polyamide in a molten state. A method etc. can be illustrated. Specific examples of the melt kneading and blending method include a method of kneading and blending using an extruder, a kneader or the like.
本発明のプリント配線基板は、従来エポキシ樹脂、ポリ
ビスマレイミドなどの熱硬化性樹脂が使用されているも
のと同様のタイプのプリント配線基板に利用できる。本
発明のプリント配線基板はアルミニウムベースプリント
配線基板、鋼板ベースプリント配線基板などの金属ベー
スプリント配線基板やガラス布基材、ガラスマット基材
などのプリント配線基板の形態で利用することができ、
該プリント配線基板の絶縁層として該ポリアミドが使用
される。また、該金属ベースプリント配線基板の場合は
通常金属基板層、該ポリアミド層および導電性プリント
金属箔層の三層構造からなる積層体を例示することがで
きる。INDUSTRIAL APPLICABILITY The printed wiring board of the present invention can be used for a printed wiring board of the same type as that in which a thermosetting resin such as an epoxy resin or polybismaleimide is conventionally used. The printed wiring board of the present invention can be used in the form of a printed wiring board such as an aluminum-based printed wiring board, a metal-based printed wiring board such as a steel plate-based printed wiring board or a glass cloth base material, a glass mat base material,
The polyamide is used as an insulating layer of the printed wiring board. Further, in the case of the metal-based printed wiring board, a laminate having a three-layer structure of a metal substrate layer, the polyamide layer and a conductive printed metal foil layer can be exemplified.
また、本発明のプリント配線基板は、該ポリアミド層お
よび導電性プリント金属箔層からなる二層積層構造の樹
脂コアプリント配線基板あるいは該二層積層構造のプリ
ント配線基板がさらに多層に積層された多層積層プリン
ト配線基板の形態でも利用できる。Further, the printed wiring board of the present invention is a resin core printed wiring board having a two-layer laminated structure composed of the polyamide layer and a conductive printed metal foil layer, or a multilayer in which the printed wiring boards having the two-layer laminated structure are further laminated. It can also be used in the form of a laminated printed wiring board.
これらのプリント配線基板の銅箔や金属と該ポリアミド
との成形体は該ポリアミドの成形方法、すなわち射出成
形、圧縮成形、押出し成形などの溶融成形によって通常
成形される。Molded products of the copper foil or metal of these printed wiring boards and the polyamide are usually molded by the molding method of the polyamide, that is, melt molding such as injection molding, compression molding, and extrusion molding.
[実施例] 次に、本発明のプリント配線基板を実施例によって具体
的に説明する。なお、実施例によって使用したポリアミ
ドの合成法を参考例に示した。また、プリント配線基板
の作成方法およびその各性能の評価方法も次に示した。Example Next, the printed wiring board of the present invention will be specifically described by way of examples. The synthetic method of the polyamide used in the examples is shown in the reference example. In addition, a method for making a printed wiring board and an evaluation method for each performance thereof are also shown below.
なお、以下の表において使用した次の略号はそれぞれ、
次の化合物を示す。The following abbreviations used in the table below are
The following compounds are shown.
TA:テレフタル酸 IA:イソフタル酸 C6DA:1,6−ジアミノヘキサン ACM:ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン DMACM:4,4′−ジアミノ−3,3′−ジメチルジシクロヘキ
シルメタン AMC:1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン (ポリアミド組成の測定) ポリアミド試料をトリフロロ酢酸に溶解し、13C−NMRス
ペクトルを測定した結果からイソフタル酸成分単位およ
びテレフタル酸成分単位の組成を求めた。また、該ポリ
アミドのプレスフィルムの細断片4gを6Nの塩酸200ml中
で還流下で撹拌しながら50時間加熱した。解重合後の混
合物から塩酸および水を除去して乾固した後、NaOH水溶
液を加えてpHを11〜12に調製し、次にクロロホルムで抽
出し、抽出物の13C−NMRスペクトルを測定し、ジアミン
成分の組成を求めた。さらに必要に応じて該ジアミン成
分をGPCを用いて分取した後に13C−NMRを測定すること
によって求めた。TA: terephthalic acid IA: isophthalic acid C 6 DA: 1,6-diaminohexane ACM: bis (4-aminocyclohexyl) methane DMACM: 4,4′-diamino-3,3′-dimethyldicyclohexylmethane AMC: 1,3 -Bis (aminomethyl) cyclohexane (Measurement of Polyamide Composition) A polyamide sample was dissolved in trifluoroacetic acid and the 13 C-NMR spectrum was measured to determine the composition of the isophthalic acid component unit and the terephthalic acid component unit. Further, 4 g of the fine pieces of the pressed film of the polyamide were heated in 200 ml of 6N hydrochloric acid under reflux for 50 hours while stirring. After removing hydrochloric acid and water from the mixture after depolymerization to dryness, NaOH aqueous solution was added to adjust the pH to 11 to 12, then extracted with chloroform, and the 13 C-NMR spectrum of the extract was measured. , The composition of the diamine component was determined. Further, if necessary, the diamine component was fractionated by GPC and then determined by measuring 13 C-NMR.
[I]ポリアミドの製法 参考例 1 テレフタル酸89.22g(0.537M)、イソフタル酸208.17g
(1.253M)、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン
193.54g(0.92M)および1,6−ジアミノヘキサン106.91g
(0.92M)をイオン交換水70g、ジ亜リン酸ソーダ0.38g
(0.00358M)とともに1リットルオートクレーブに仕込
み、N2置換を十分に行った後、撹拌下3時間かけて250
℃に昇温した。さらに密閉状態のまま250℃で1時間反
応させた後撹拌を止め、オートクレーブ底部から差圧10
kg/cm2で反応混合物を抜き出した。N2中50℃、100mmHg
で一夜乾燥して低次縮合物を得た。この低次縮合物の
[η](conc.H2SO4中、30℃)は0.15dl/gであった。こ
の低次縮合物を二軸押出機(スクリュー径30mm、L/D=4
2、バレル温度(℃)80/180/340/340/280/280/260/26
0、第3、第4、第6ゾーンは大気解放ベント、回転数5
0rpm、オリゴマー供給量2kg/hr、排気はN2パージ)によ
って溶融下重縮合を進め無色透明のポリマーを得た。ポ
リマー中のイソフタル酸成分単位とテレフタル酸成分単
位のモル%、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタ
ン、1,6−ジアミノヘキサンのモル%、MFR(g/10mi
n)、[η](conc.H2SO4中、30℃)およびガラス転移
温度を表1に示した。[I] Polyamide Production Reference Example 1 89.22 g (0.537M) terephthalic acid, 208.17 g isophthalic acid
(1.253M), bis (4-aminocyclohexyl) methane
193.54g (0.92M) and 1,6-diaminohexane 106.91g
(0.92M) ion-exchanged water 70g, sodium diphosphite 0.38g
(0.00358M) was charged into a 1 liter autoclave, and after sufficiently replacing with N 2 , 250 with stirring for 3 hours.
The temperature was raised to ° C. After keeping the reaction in a sealed state at 250 ° C for 1 hour, stirring is stopped and the pressure difference from the bottom of the autoclave is 10
The reaction mixture was withdrawn at kg / cm 2 . 50 ℃ in N 2 , 100mmHg
After drying overnight, a low-order condensate was obtained. The [η] (30 ° C. in conc. H 2 SO 4 ) of this low-order condensate was 0.15 dl / g. This low-order condensate is a twin-screw extruder (screw diameter 30 mm, L / D = 4
2, barrel temperature (℃) 80/180/340/340/280/280/260/26
0, 3rd, 4th and 6th zones are atmospheric release vents, 5 rpm
The polycondensation under melting was advanced by 0 rpm, the oligomer supply rate was 2 kg / hr, and the exhaust was N 2 purge) to obtain a colorless transparent polymer. Mol% of isophthalic acid component unit and terephthalic acid component unit in polymer, mol% of bis (4-aminocyclohexyl) methane, 1,6-diaminohexane, MFR (g / 10mi
Table 1 shows n), [η] (in conc. H 2 SO 4 , 30 ° C.) and glass transition temperature.
参考例 2〜5 参考例1において、ジアミン成分の種類または使用量を
変えた以外は、参考例1に記載した方法に従って表1に
示したポリマーを得た。Reference Examples 2 to 5 In Reference Example 1, the polymers shown in Table 1 were obtained according to the method described in Reference Example 1 except that the type or amount of the diamine component was changed.
[II]プリント配線基板の作製 二軸押出機による溶融重合法で合成したポリアミドはス
トランドで得られ、長さ0.8〜1cmにカットされ、100
℃、1mmHgの条件下12hr乾燥し、プリント配線基板用樹
脂とした。次に、厚さ2mmのアルミ板を13×13cmにカッ
トしたものの上にプリント配線基板用樹脂5gをのせ、ス
ペーサーとして10cm×10cmにくりぬいた200μ厚のアル
ミ箔および厚さ35μの電解銅箔をのせたものをプレス成
形機によって窒素雰囲気中100kg/cm2の圧力下、Tgより8
0ないし150℃高い温度でホットプレスした後、20℃の温
度でコールドプレスし、アルミベースのプリント配線基
板を作製した。 [II] Fabrication of printed wiring board Polyamide synthesized by melt polymerization using a twin-screw extruder is obtained as a strand and cut into a length of 0.8-1 cm.
The resin was dried for 12 hours under conditions of 1 ° C and 1 mmHg to obtain a resin for a printed wiring board. Next, put a 5g resin for printed wiring board on a 2mm-thick aluminum plate cut into 13x13cm, and cut a 200cm-thick aluminum foil and a 35μ-thick electrolytic copper foil into a 10cmx10cm spacer. The placed product is pressed by a press molding machine in a nitrogen atmosphere under a pressure of 100 kg / cm 2 to obtain 8 from Tg.
After hot pressing at a temperature higher by 0 to 150 ° C., cold pressing was performed at a temperature of 20 ° C. to produce an aluminum-based printed wiring board.
[III]プリント配線基板の各性能の評価法 銅箔引きはがし強度、体積抵抗、誘電率、誘電正接(ta
nδ)の測定の試験方法はJIS C 6481によった。また、
半田耐熱性の評価は、半田浴上でフロート法によって測
定した。絶縁破壊電圧は、市販の絶縁破壊電圧測定装置
を用いて測定を行った。[III] Evaluation method for each performance of printed wiring board Copper foil peeling strength, volume resistance, dielectric constant, dielectric loss tangent (ta
The test method for the measurement of nδ) was in accordance with JIS C 6481. Also,
The evaluation of solder heat resistance was performed by a float method on a solder bath. The dielectric breakdown voltage was measured using a commercially available dielectric breakdown voltage measuring device.
実施例 1 参考例1に記載したポリアミドを用いてアルミベースプ
リント配線基板を前記の方法により作製した。樹脂層の
厚さは250μであった。性能を表2に示した。Example 1 Using the polyamide described in Reference Example 1, an aluminum-based printed wiring board was produced by the above method. The thickness of the resin layer was 250μ. The performance is shown in Table 2.
実施例 2〜5 実施例1において参考例1に記載したポリアミドを使用
する代わりに表1に記載したポリアミドを用いた他は、
実施例1に記載の方法で樹脂層の厚さが250μのアルミ
ベースプリント配線基板を作製した。これらの性能を表
2に示した。Examples 2 to 5, except that the polyamide described in Table 1 was used instead of the polyamide described in Reference Example 1 in Example 1,
By the method described in Example 1, an aluminum-based printed wiring board having a resin layer thickness of 250 μ was manufactured. These performances are shown in Table 2.
比較例 1 100℃、1mmHgの条件下12hr乾燥した2,2,4−トリメチル
ヘキサメチレンジアミン成分単位とテレフタル酸成分単
位からなるポリアミド(ダイナミットノーベル社製、ト
リガミドTTM)を用いて、実施例1と同様にアルミベー
スプリント配線基板を作製した。結果を表2に示した。Comparative Example 1 Using a polyamide (Trigamide T ™ manufactured by Dynamit Nobel Co., Ltd.) composed of a 2,2,4-trimethylhexamethylenediamine component unit and a terephthalic acid component unit dried under conditions of 100 ° C. and 1 mmHg for 12 hours. An aluminum-based printed wiring board was prepared in the same manner as in 1. The results are shown in Table 2.
[発明の効果] 本発明のプリント配線基板は耐熱性に優れ、吸湿性が小
さくかつ絶縁性などの性能に優れていることの他に、樹
脂層として利用されるポリアミドが熱可塑性であるので
成形作業性に優れているという利点がある。 EFFECTS OF THE INVENTION The printed wiring board of the present invention has excellent heat resistance, low hygroscopicity, and excellent performance such as insulation, and in addition, since the polyamide used as the resin layer is thermoplastic, it is molded. It has the advantage of excellent workability.
Claims (2)
され、 ジアミン成分が、 (c)炭素数4ないし25の脂肪族炭化水素基を有するジ
アミン成分単位40ないし85モル%と、 (d)炭素数6ないし25であって少なくとも1個の脂環
族炭化水素基を有するジアミン成分単位15ないし60モル
%とからなり、 上記酸成分とジアミン成分とがランダムに配列した成分
単位からなるポリアミドであって、 (i) 30℃の濃硫酸に溶解し得て、 (ii)300℃で荷重2kgで測定したメルトフローレート
(MFR)が、0.01ないし100g/10minの範囲にあり、 (iii)X線回折法で測定した結晶化度が7%以下であ
り、 (iv)ガラス転移温度(Tg)が150ないし240℃の範囲に
あること、 により表されるポリアミドから形成されるプリント配線
基板。1. An acid component [A] is composed of (a) an isophthalic acid component unit of 50 to 100 mol%, (b) a terephthalic acid component unit of 0 to 50 mol%, and a diamine component of (c) a carbon number of 4 40 to 85 mol% of a diamine component unit having 1 to 25 aliphatic hydrocarbon groups, and (d) 15 to 60 mol of a diamine component unit having 6 to 25 carbon atoms and having at least one alicyclic hydrocarbon group %, And a polyamide composed of component units in which the above acid component and diamine component are randomly arranged, (i) dissolved in concentrated sulfuric acid at 30 ° C., (ii) measured at a load of 2 kg at 300 ° C. Melt flow rate (MFR) is in the range of 0.01 to 100 g / 10 min, (iii) the crystallinity measured by X-ray diffraction is 7% or less, and (iv) the glass transition temperature (Tg) is 150. To 240 ° C, the po Printed circuit board formed from amide.
され、 ジアミン成分が、 (c)炭素数4ないし25の脂肪族炭化水素基を有するジ
アミン成分単位40ないし85モル%と、 (d)炭素数6ないし25であって少なくとも1個の脂環
族炭化水素基を有するジアミン成分単位15ないし60モル
%とからなり、 これらの酸成分およびジアミン成分がランダムに配列し
たポリアミドであって、 (i) 30℃の濃硫酸に溶解し得て、 (ii)300℃で荷重2kgで測定したメルトフローレート
(MFR)が、0.01ないし100g/10minの範囲にあり、 (iii)X線回折法で測定した結晶化度が7%以下であ
り、 (iv)ガラス転移温度(Tg)が150ないし240℃の範囲に
あること、により表されるポリアミド および、 [B]充填剤 からなるポリアミド組成物より形成されたプリント基
板。2. An acid component [A] is composed of (a) an isophthalic acid component unit of 50 to 100 mol%, (b) a terephthalic acid component unit of 0 to 50 mol%, and a diamine component of (c) a carbon number of 4 40 to 85 mol% of a diamine component unit having 1 to 25 aliphatic hydrocarbon groups, and (d) 15 to 60 mol of a diamine component unit having 6 to 25 carbon atoms and having at least one alicyclic hydrocarbon group %, A polyamide in which these acid components and diamine components are randomly arranged, (i) capable of being dissolved in concentrated sulfuric acid at 30 ° C., and (ii) a melt flow rate measured at 300 ° C. under a load of 2 kg. (MFR) is in the range of 0.01 to 100 g / 10 min, (iii) the crystallinity measured by X-ray diffraction is 7% or less, and (iv) the glass transition temperature (Tg) is 150 to 240 ° C. The polyamide represented by And a printed circuit board formed from a polyamide composition comprising [B] a filler.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61106654A JPH07120839B2 (en) | 1986-05-12 | 1986-05-12 | Printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61106654A JPH07120839B2 (en) | 1986-05-12 | 1986-05-12 | Printed wiring board |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62263686A JPS62263686A (en) | 1987-11-16 |
| JPH07120839B2 true JPH07120839B2 (en) | 1995-12-20 |
Family
ID=14439093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61106654A Expired - Lifetime JPH07120839B2 (en) | 1986-05-12 | 1986-05-12 | Printed wiring board |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07120839B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010285553A (en) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | Heat resistant polyamide resin |
| US12110366B2 (en) * | 2019-01-22 | 2024-10-08 | Solvay Specialty Polymers Usa, Llc | Semi-aromatic, semi-crystalline polyamide polymers and corresponding polymer compositions and articles |
| WO2021224456A1 (en) * | 2020-05-07 | 2021-11-11 | Solvay Specialty Polymers Usa, Llc | Electrical and electronic articles including polyamide compositions |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57115420A (en) * | 1980-11-20 | 1982-07-17 | Du Pont | Polyamide |
| EP0087385B1 (en) * | 1982-01-29 | 1986-09-17 | Ciba-Geigy Ag | Transparent, cross-linkable polyamides |
| CA1207941A (en) * | 1983-02-16 | 1986-07-15 | Bp Amoco Corporation | Crystalline copolyamides from terephthalic acid, isophthalic acid and c.sub.6 diamines |
| JPS60158220A (en) * | 1984-01-27 | 1985-08-19 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Molding material |
-
1986
- 1986-05-12 JP JP61106654A patent/JPH07120839B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62263686A (en) | 1987-11-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61126170A (en) | Polyamide resin composition | |
| KR940006854B1 (en) | Polyamide and Polyamide Resin Compositions | |
| EP0492948B1 (en) | Imide- and amide-imide containing copolymer | |
| JP2557348B2 (en) | Polyamide for molding material and polyamide composition for molding material | |
| KR20090087479A (en) | Polyamide Resin, Epoxy Resin Composition Using the Same and Uses thereof | |
| JP2996695B2 (en) | Polyamide resin and method for producing the same | |
| CN101208373A (en) | Polyamide resin, epoxy resin composition and cured product thereof | |
| JPH07120839B2 (en) | Printed wiring board | |
| JP3445321B2 (en) | Polyamide, production method thereof, polyamide resin composition and use | |
| JPS62209166A (en) | Polyamide composition | |
| US4970292A (en) | Amide-imide resin of lowered water absorption for molding and composite applications | |
| JP2945063B2 (en) | Resin composition for connector, and connector | |
| JPH0753798B2 (en) | Polyamide and composition thereof | |
| JPH0725878B2 (en) | polyamide | |
| JP2510414B2 (en) | Polyamide composition and method for producing the same | |
| JPH0684430B2 (en) | Sliding material molding material | |
| JP3142891B2 (en) | Polyamide resin composition and method for producing the same | |
| JPH078912B2 (en) | Polyamide imide | |
| JPH04248836A (en) | Polyamide resin composition and its production | |
| JPH0751629B2 (en) | Polyamide imide | |
| JP2007161914A (en) | Polyamide resin composition, epoxy resin composition and its use | |
| JP2716620B2 (en) | Thermoplastic resin composition and molded article thereof | |
| KR102187001B1 (en) | Polyphtalamide resin composition, molded article comprising the same and method for preparing the same | |
| JPS61228022A (en) | Production of polyamide | |
| JPS61285253A (en) | Polyamide composition |