JPH0716054B2 - Laser oscillator - Google Patents
Laser oscillatorInfo
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- JPH0716054B2 JPH0716054B2 JP6751585A JP6751585A JPH0716054B2 JP H0716054 B2 JPH0716054 B2 JP H0716054B2 JP 6751585 A JP6751585 A JP 6751585A JP 6751585 A JP6751585 A JP 6751585A JP H0716054 B2 JPH0716054 B2 JP H0716054B2
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はパルスレーザ発振器、とくにそのスイツチン
グ素子である水素サイラトロンの動作の安定化に関する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial application] The present invention relates to stabilization of the operation of a pulse laser oscillator, and more particularly to a hydrogen thyratron, which is a switching element thereof.
第２図は従来この種のものとして代表的な横方向励起型
パルスレーザ発振器の回路を模式的に示す回路構成図で
あり、特にエキシマレーザ（例えばArF,XeF,XeCl）、TE
ACO2レーザ、窒素レーザ発振器等で良く使われる回路の
一例を示したものである。図において（１）はメインコ
ンデンサ、（２）はメインコンデンサ（１）を充電する
直流高圧電源、（３）はメインコンデンサ（１）の充電
路を形成する充電用インダクタンス、（４）はパルスレ
ーザをスイツチングする水素サイラトロン、（５）は水
素サイラトロン（４）をスイツチングするトリガー、
（６）は水素サイラトロン（４）に流れる電流を制限す
るイングクタンス、（７）（８）はレーザガス中に相対
向して配設された一対の電極で（７）は陰極、（８）は
陽極である。（９）は主放電によつてレーザが励起され
る放電励起部、（10）は放電励起部（９）を主放電に先
立つて予備電離する紫外光、（11）は紫外光（10）を発
生するための予備電離ギヤツプ、（12）は主放電を起こ
すためのピーキングコンデンサ、（13）はレーザガス、
（14）はレーザガスを封じ切るレーザ筐体、（15）はサ
イトロンアノード、（16）はサイトロンカソード、（1
7）は第一グリツド、（18）は第二グリツド、（19）は
サイラトロンカソード（16）を加熱するカソードヒー
タ、（20）は水素を含有する金属カプセル、（21）は金
属カプセル（20）を加熱して水素サイラトロン（４）内
の水素ガス圧力を調整するリザーバーヒータ、（22）は
ヒータ部（19），（20）において発生するサージを吸収
するコンデンサ、（23）はパルスブロツキングトラン
ス、（24）はカソードヒータ用絶縁トランス、（25）は
リザーバーヒータ用絶縁トランス、（26）は商用周波交
流電源である。FIG. 2 is a circuit configuration diagram schematically showing a circuit of a laterally-excited pulse laser oscillator, which is a typical conventional one of this kind, and particularly excimer lasers (eg ArF, XeF, XeCl), TE
This is an example of a circuit often used in A CO2 laser, nitrogen laser oscillator and the like. In the figure, (1) is a main capacitor, (2) is a high-voltage DC power supply that charges the main capacitor (1), (3) is a charging inductance that forms a charging path of the main capacitor (1), and (4) is a pulse laser. Hydrogen thyratron for switching the hydrogen thyratron, (5) is a trigger for switching the hydrogen thyratron (4),
(6) is an inductance for limiting the current flowing in the hydrogen thyratron (4), (7) and (8) are a pair of electrodes arranged in the laser gas so as to face each other, (7) is a cathode, and (8) is It is an anode. (9) is a discharge excitation part where the laser is excited by the main discharge, (10) is ultraviolet light which pre-ionizes the discharge excitation part (9) prior to the main discharge, and (11) is ultraviolet light (10). Pre-ionization gear to generate, (12) peaking capacitor to cause main discharge, (13) laser gas,
(14) is a laser housing that seals off the laser gas, (15) is a cytron cathode, (16) is a cytron cathode, (1)
7) is the first grid, (18) is the second grid, (19) is the cathode heater that heats the thyratron cathode (16), (20) is a metal capsule containing hydrogen, and (21) is a metal capsule (20). Reservoir heater to heat the hydrogen thyratron (4) to adjust the pressure of hydrogen gas in the hydrogen thyratron (4), (22) a capacitor to absorb surges generated in the heater parts (19), (20), and (23) pulse blocking A transformer, (24) is an insulating transformer for a cathode heater, (25) is an insulating transformer for a reservoir heater, and (26) is a commercial frequency AC power source.
次に動作について説明する。レーザ筐体（14）に封入さ
れたレーザガス（13）（例えばKr,F2,Heから成る混合ガ
ス）が、陰極（７）と陽極（８）の間に矢印の方向から
流し込まれ、直流高圧電源（２）により、メインコンデ
ンサ（１）が所定の電圧で充電され、そして、トリガー
（５）から第一グリツド（17）及び第二グリツド（18）
にパルスが与えられると、水素サイラトロン（４）が導
通状態となる。この時、メインコンデンサ（１）に蓄え
られた電荷は、インダタクンス（６）を通して、ピーキ
ングコンデンサ（12）に移行される。その際、予備電離
ギヤツプ（11）はアーク放電で接続され、そこから発生
する紫外光（10）により、陰極（７）の近傍、及び放電
励起部（９）の全域に渡り、レーザガス（13）が弱電離
状態（電子密度ne＝106〜108１コ／cm3）となる。ピー
キングコンデンサ（12）の充電により、陰極（７）と陽
電（８）の間の電圧が放電開始電圧に達すると、ピーキ
ングコンデンサ（12）に蓄えられた電荷は、一気に陰極
（７）と陽極（８）の間に流れ、放電励起部（９）にパ
ルス放電が形成される。これは、あらかじめ放電励起部
（９）が紫外光（10）によつ均一な予備電離状態にされ
ているため、均一な放電となる。この放電により形成さ
れた放電励起部（９）では、レーザ媒質が励起され（例
えば、KrF）、レーザ発振が生じる。Next, the operation will be described. A laser gas (13) (for example, a mixed gas composed of Kr, F 2 and He) enclosed in a laser housing (14) is flown between the cathode (7) and the anode (8) in the direction of the arrow to generate a high DC voltage. The power source (2) charges the main capacitor (1) with a predetermined voltage, and then the trigger (5) to the first grid (17) and the second grid (18).
When the pulse is applied to the hydrogen thyratron (4), it becomes conductive. At this time, the electric charge stored in the main capacitor (1) is transferred to the peaking capacitor (12) through the inductance (6). At that time, the pre-ionization gear (11) is connected by arc discharge, and the ultraviolet light (10) generated from the pre-ionization gear (11) spreads over the vicinity of the cathode (7) and the entire discharge excitation part (9) to the laser gas (13). Becomes a weakly ionized state (electron density n e = 10 6 to 10 8 1 co / cm 3 ). When the voltage between the cathode (7) and the positive electrode (8) reaches the discharge start voltage due to the charging of the peaking capacitor (12), the electric charge accumulated in the peaking capacitor (12) bursts into the cathode (7) and the anode (7). 8), a pulse discharge is formed in the discharge excitation part (9). This is a uniform discharge because the discharge excitation part (9) has been previously pre-ionized by the ultraviolet light (10). In the discharge excitation part (9) formed by this discharge, the laser medium is excited (for example, KrF), and laser oscillation occurs.
このようなパルスレーザ発振器では、１秒間に数十〜数
千回動作させることにより、平均出力が得られている。
このような高繰返し動作を行なうためには、以下の仕様
を満たすスイツチング素子が必要とされる。In such a pulse laser oscillator, an average output is obtained by operating several tens to several thousands of times per second.
In order to perform such high repetition operation, a switching element satisfying the following specifications is required.
保持電圧（サイラトロンに印加できる電圧）が高い
こと。（最大30〜50KV程度） ピーク電流が高いこと。（最大５〜20KA程度） 電流の立ち上がり（di/dt）が早いこと。（最大50
〜200KA/μｓ程度） 導通状態から非導通状態になるまでの復帰時間が早
いこと。（１〜５μｓ以下） 高繰返し動作が可能なこと。（数百〜数千PPS） 寿命が長いこと。（108シヨツト以上） これらの仕様を満たすスイツチング素子として、現在の
ところは水素サイラトロン（４）が一般的に使われてい
る。水素サイラトロン（４）は基本的には３極〜５極の
真空管で、内部に若干の水素ガス（もしくは重水素ガ
ス）が封入されている。水素ガスは、真空管に一般に封
入されている希ガス、もしくは水銀等に比べて、イオン
衝撃によるカソードダメージを起こしにくく、なおかつ
再結合が早い（すなわち復帰時間が早くなる）という特
徴を併せ持ち、高繰返しのスイツチング素子を可能とし
ている。High holding voltage (voltage that can be applied to thyratron). (Maximum 30 to 50 KV) High peak current. (Maximum 5 to 20 KA) Current rise (di / dt) must be fast. (Up to 50
Approximately 200 KA / μs) The recovery time from the conducting state to the non-conducting state is fast. (1 to 5 μs or less) High repetitive operation is possible. (Hundreds to thousands of PPS) Long life. (10 8 shots or more) Hydrogen thyratron (4) is currently generally used as a switching element that meets these specifications. The hydrogen thyratron (4) is basically a vacuum tube having 3 to 5 poles, and some hydrogen gas (or deuterium gas) is enclosed inside. Hydrogen gas has characteristics that it is less likely to cause cathode damage due to ion bombardment and has a faster recombination (that is, faster recovery time) than the rare gas or mercury that is generally filled in a vacuum tube. This enables switching elements.
ここで水素サイラトロン（４）の動作を説明する。サイ
ラトロンアノード（15）に正の高電圧が印加された状態
で、トリガー（５）から第一グリツド（17）にパルス電
圧が印加されると、アノード（15）、カソード（16）間
が弱電離状態となる。一定の遅延時間をおいて、トリガ
ー（５）から第二グリツド（18）にパルス電圧が印加さ
れると、少ないジツターで、アノード（15）、カソード
（16）間に放電が形成され、水素サイラトロン（４）は
導通状態となる。この導通状態は、外部回路により電流
が流されている限り、もしくはアノード（15）、カソー
ド（16）間の電圧が反転しない限り続き、それらが実現
した後、水素サイラトロン（４）内部のガスの再結合時
間を経て、非導通状態に復帰する。Here, the operation of the hydrogen thyratron (4) will be described. When a pulse voltage is applied from the trigger (5) to the first grid (17) while a positive high voltage is applied to the thyratron anode (15), weak ionization occurs between the anode (15) and the cathode (16). It becomes a state. When a pulse voltage is applied from the trigger (5) to the second grid (18) after a certain delay time, a discharge is formed between the anode (15) and the cathode (16) with less jitter, and the hydrogen thyratron is generated. (4) becomes conductive. This conduction state continues as long as a current is passed by an external circuit or unless the voltage between the anode (15) and the cathode (16) is reversed, and after they are realized, the gas inside the hydrogen thyratron (4) After the recombination time, it returns to the non-conducting state.
ここで水素サイラトロン（４）の動作特性を決めるうえ
で重要なヒーター電圧の設定について述べる。Here, the setting of the heater voltage, which is important in determining the operating characteristics of the hydrogen thyratron (4), will be described.
リザーバーヒータ（21）の電圧は、水素サイラトロンの
動作に以下の影響を与える。The voltage of the reservoir heater (21) has the following effects on the operation of the hydrogen thyratron.
リザーバーヒータ（21）の電圧の減少は、保持電圧を増
加し、復帰時間を減少させる反面、最大の電流の立ち上
がり（di/dt）maxを減少させ、サイラトロンの寿命は著
しく低減される。このため、リザーバーヒータ電圧は、
最低限必要な保持電圧、復帰時間を確保できる限定の電
圧まで増加させ、（di/dt）maxの特性が最大となるよう
に設定するのが望ましい。 Decreasing the voltage of the reservoir heater (21) increases the holding voltage and decreases the recovery time, but decreases the maximum current rise (di / dt) max, which significantly reduces the life of the thyratron. Therefore, the reservoir heater voltage is
It is desirable to increase the minimum required holding voltage and the limited voltage that can secure the recovery time so that the (di / dt) max characteristic is maximized.
一方、カソードヒータ（19）の電圧は、カソードからの
適切な熱電子の放出、およびカソード材料、ヒータの寿
命という観点から最適な電圧が設定される。On the other hand, the voltage of the cathode heater (19) is set to an optimum voltage from the viewpoints of appropriate emission of thermoelectrons from the cathode, cathode material, and life of the heater.
従来この種のヒータ電源は、商用周波電源（26）を絶縁
トランス（24），（25）により設定電圧まで降圧して用
いていた。Conventionally, this type of heater power supply has used a commercial frequency power supply (26) which is stepped down to a set voltage by insulating transformers (24) and (25).
〔発明が解決しようとする問題点〕 従来のパルスレーザ装置における、水素サイラトロンの
ヒータ電源は、以上ように構成されていたので、１日の
時間帯によつて負荷が極端に変わり、例えば工場内での
商用周波電源を用いた場合、時間帯による電圧変化の影
響を受け、次のような問題点があつた。[Problems to be Solved by the Invention] Since the heater power supply of the hydrogen thyratron in the conventional pulse laser device is configured as described above, the load changes extremely depending on the time of day, for example, in a factory. In the case of using the commercial frequency power supply in, there was the following problem due to the influence of the voltage change depending on the time zone.
工場内での他の負荷が急激に減少した場合、商用周
波電源の電圧が増加し、それに伴なつてリザーバーヒー
タの電圧が増加する。この時、サイラトロン（４）の保
持電圧が低下するため、メインコンデンサ（１）の充電
途中でサイラトロン（４）が導通状態となり、直流電圧
電源（２）が短絡して、レーザ発振が停止するととも
に、サイラトロンに大電流が流れ、その電極に大きなダ
メージを与える。When the other load in the factory suddenly decreases, the voltage of the commercial frequency power source increases, and the voltage of the reservoir heater increases accordingly. At this time, since the holding voltage of the thyratron (4) decreases, the thyratron (4) becomes conductive during charging of the main capacitor (1), the DC voltage power supply (2) is short-circuited, and laser oscillation stops. , A large current flows through the thyratron, and the electrode is damaged.
工場内での他の負荷が急激に増加した場合、商用周
波電源の電圧が減少し、リザーバーヒータ電圧が減少す
る。これにより、（di/dt）maxの特性を著しく悪化さ
せ、サイラトロンの寿命を短かくする。When the other load in the factory increases rapidly, the voltage of the commercial frequency power source decreases and the reservoir heater voltage decreases. This significantly deteriorates the characteristics of (di / dt) max and shortens the life of the thyratron.
カソードヒータ電圧についても、工場内の商用周波
電源の変動により、その適正電圧の設定からずれ、サイ
ラトロンカソード（16）、カソードヒータ（19）が損傷
し、サイラトロン（４）の寿命が短かくなる。The cathode heater voltage also deviates from the proper voltage setting due to the fluctuation of the commercial frequency power supply in the factory, the thyratron cathode (16) and the cathode heater (19) are damaged, and the life of the thyratron (4) becomes short.
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、安定したレーザ発振を得るとともに、サイト
ロンの長寿命化を企り、信頼性のあるパルスレーザ発振
器を得ることを目的としている。The present invention has been made in order to solve the above problems, and an object thereof is to obtain a stable laser oscillation and to prolong the life of a cytron and obtain a reliable pulse laser oscillator. There is.
この発明に係るパルスレーザ発振器は、そのスイツチン
グ素子である水素サイラトロンにおいて、カソードヒー
タ、及びリザーバーヒータの電源として、定電圧電源を
採用したものである。The pulse laser oscillator according to the present invention employs a constant voltage power supply as a power supply for the cathode heater and the reservoir heater in the hydrogen thyratron which is the switching element.
この発明におけるパルスレーザ発振器は、そのスイツチ
ング素子である水素サイラトロンのカソードヒータ、及
びリザーバーヒータが、定電圧電源により常に設定電圧
で駆動されているため、水素サイラトロンは必要な保持
電圧、復帰時間を確保しつつ、最大のdi/dt特性を確保
し、信頼性あるパルスレーザ発振器を実現する。In the pulse laser oscillator according to the present invention, since the cathode heater and the reservoir heater of the switching element, that is, the hydrogen thyratron, are always driven by the constant voltage power source at the set voltage, the hydrogen thyratron secures the necessary holding voltage and the recovery time. At the same time, the maximum di / dt characteristic is secured and a reliable pulse laser oscillator is realized.
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、（27）はカソードヒータ用定電圧電源、
（28）はリザーバーヒータ用定電圧電源である。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. First
In the figure, (27) is a constant voltage power supply for the cathode heater,
(28) is a constant voltage power source for the reservoir heater.
第１図においてパルスレーザの基本的動作は、従来例で
示したものと同一である。しかしながら、水素サイラト
ロン（４）のカソードヒータ（19）、及びリザーバーヒ
ータ（21）は各々独立の定電圧電源（27）、及び（28）
により、設定した印加電圧で動作しており、この際商用
周波電源（26）の電圧変動には依存しない。このため、
工場内等で使用された場合、この負荷の稼働率にかかわ
らず、水素サイラトロン（４）は常に必要な保持電圧、
復帰時間を保ちつつ、最大の（di/dt）特性を示す。そ
のため、水素サイラトロン（４）は常に安定した動作を
示し、なおかつその寿命は著しく向上する。したがつ
て、このスイツチング素子を備えたパルスレーザ発振器
は、信頼性の高い装置となる。The basic operation of the pulse laser in FIG. 1 is the same as that shown in the conventional example. However, the cathode heater (19) and the reservoir heater (21) of the hydrogen thyratron (4) are independent constant voltage power supplies (27) and (28), respectively.
Thus, it operates with the set applied voltage and does not depend on the voltage fluctuation of the commercial frequency power supply (26) at this time. For this reason,
When used in a factory etc., the hydrogen thyratron (4) always needs the necessary holding voltage, regardless of the operating rate of this load.
It exhibits the maximum (di / dt) characteristic while maintaining the recovery time. Therefore, the hydrogen thyratron (4) always shows stable operation, and its life is remarkably improved. Therefore, the pulse laser oscillator provided with this switching element becomes a highly reliable device.
一般に水素サイラトロン（４）の動作特性（保持電圧、
復帰時間、di/dt）は、カソードヒータ（19）、リザー
バーヒータ（21）の印加電圧が、設定値の電圧に対して
0.1V変化すると特性が変化する。したがつてヒータ用定
電圧電源（27），（28）の仕様として、設定電圧に対し
て±0.05V以下の電圧変動であることが望ましい。Generally, the operating characteristics of the hydrogen thyratron (4) (holding voltage,
Recovery time, di / dt) is the voltage applied to the cathode heater (19) and reservoir heater (21) relative to the set voltage
The characteristics change when 0.1V changes. Therefore, it is desirable that the constant voltage power supplies (27) and (28) for the heater have a voltage fluctuation of ± 0.05 V or less with respect to the set voltage.
なお、上記実施例では、カソードヒータ（19）、リザー
バーヒータ（21）が各々独立した定電圧電源（27），
（28）により制御される例を示したが、水素サイラトロ
ン（４）によつては、カソードヒータ（19）と、リザー
バーヒータ（21）が直列、または並列に接続され、単一
の電源により動作されるものもあり、この場合にこの発
明を適用しても、同様の効果を奏するのはいうまでもな
い。In the above embodiment, the cathode heater (19) and the reservoir heater (21) are independent constant voltage power supplies (27),
The example controlled by (28) is shown, but in the hydrogen thyratron (4), the cathode heater (19) and the reservoir heater (21) are connected in series or in parallel, and operated by a single power source. Needless to say, even if the present invention is applied in this case, the same effect is obtained.
また、上記実施例では、レーザ発振器を構成する一対の
電極にパルス的に電圧を印加し放電を起こす放電回路と
して、いわゆる、自動予備電離方式容量多行型回路を適
用した例について示しているが、これは何らこの発明を
限定するものではなく、パルス的に電圧を印加するあら
ゆる放電回路に適用できる。Further, in the above-mentioned embodiment, as a discharge circuit which applies a voltage in a pulsed manner to a pair of electrodes constituting a laser oscillator to cause discharge, a so-called automatic preionization capacity multi-row circuit is applied. However, this does not limit the present invention in any way, and can be applied to any discharge circuit that applies a voltage in a pulsed manner.
以上のように、この発明によれば、スイツチング素子と
して用いられている水素サイラトロンのカソードヒー
タ、およびリザーバーヒータに、定電圧電源を接続した
ので、信頼性の高いパルスレーザ発振器が得られる効果
がある。As described above, according to the present invention, since the constant voltage power source is connected to the cathode heater and the reservoir heater of the hydrogen thyratron used as the switching element, there is an effect that a highly reliable pulse laser oscillator can be obtained. .
第１図はこの発明の一実施例によるパルスレーザ発振器
の回路を模式的に示す回路構成図、第２図は従来のパル
スレーザ発振器の回路を模式的に示す回路構成図であ
る。 図において、（１）はメインコンデンサ、（２）は直流
高圧電源、（４）は水素サイラトロン、（７）は陰極、
（８）は陽極、（12）はピーキングコンデンサ、（13）
はレーザガス、（19）はカソードヒータ、（21）はリザ
ーバーヒータ、（27）はカソードヒータ用定電圧電源、
（28）はリザーバーヒータ用定電圧電源である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。FIG. 1 is a circuit configuration diagram schematically showing a circuit of a pulse laser oscillator according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit configuration diagram schematically showing a circuit of a conventional pulse laser oscillator. In the figure, (1) is a main capacitor, (2) is a high voltage DC power supply, (4) is a hydrogen thyratron, (7) is a cathode,
(8) is the anode, (12) is the peaking capacitor, (13)
Is a laser gas, (19) is a cathode heater, (21) is a reservoir heater, (27) is a constant voltage power source for the cathode heater,
(28) is a constant voltage power source for the reservoir heater. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
Claims (2)
の電極、この一対の電極にパルス的に電圧を印加する放
電回路、及び上記放電回路をスイツチングする水素サイ
ラトロンを有するものにおいて、上記水素サイラトロン
に備わるカソードヒータ及びリザーバーヒータに定電圧
電源を接続したことを特徴とするレーザ発振器。1. A device comprising a pair of electrodes arranged in a laser gas so as to face each other, a discharge circuit for applying a voltage in a pulsed manner to the pair of electrodes, and a hydrogen thyratron for switching the discharge circuit, A laser oscillator characterized in that a constant voltage power source is connected to a cathode heater and a reservoir heater provided in a hydrogen thyratron.
対して±0.05V以下である特許請求の範囲第１項記載の
レーザ発振器。2. The laser oscillator according to claim 1, wherein the voltage fluctuation range of the constant voltage power source is ± 0.05 V or less with respect to the set voltage.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6751585A JPH0716054B2 (en) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | Laser oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6751585A JPH0716054B2 (en) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | Laser oscillator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61224382A JPS61224382A (en) | 1986-10-06 |
| JPH0716054B2 true JPH0716054B2 (en) | 1995-02-22 |
Family
ID=13347194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6751585A Expired - Lifetime JPH0716054B2 (en) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | Laser oscillator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0716054B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4975924A (en) * | 1987-08-13 | 1990-12-04 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Metallic vapor laser apparatus |
-
1985
- 1985-03-28 JP JP6751585A patent/JPH0716054B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61224382A (en) | 1986-10-06 |
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