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JPH0716075B2 - Semiconductor laser chip - Google Patents
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JPH0716075B2 - Semiconductor laser chip - Google Patents

Semiconductor laser chip

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JPH0716075B2
JPH0716075B2 JP60157604A JP15760485A JPH0716075B2 JP H0716075 B2 JPH0716075 B2 JP H0716075B2 JP 60157604 A JP60157604 A JP 60157604A JP 15760485 A JP15760485 A JP 15760485A JP H0716075 B2 JPH0716075 B2 JP H0716075B2
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film
reflected
laser chip
semiconductor laser
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和夫 伊藤
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Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は半導体レーザチップに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (A) Field of Industrial Application The present invention relates to a semiconductor laser chip.

(ロ)従来の技術 現在、半導体レーザチップは光ディスク(情報が光学的
に読出し可能に記録されているディスク)に対して利用
される光学的ピックアップ装置の光源として利用されて
いる。
(B) Conventional Technology At present, semiconductor laser chips are used as a light source of an optical pickup device used for an optical disc (a disc on which information is optically readable recorded).

光学式ピックアップ装置として、第6図に示す構造を有
するものが知られている(例えば、実開昭58−75342号
公報参照)。図に於いて、半導体レーザ()より出た
レーザ光は回折格子(2)によって回折され、三つのビ
ームP0(主ビーム)、P1、P2(補助ビーム)となって、
ビームスプリッタ(透過光と反射光との比が同一のも
の、或いは比が相違するもの)(3)、対物レンズ
(4)を経てディスク(D)に入射する。ディスク
(D)にて反射されたビームは反射光P′0、P′1
P′2となって、元の光路を逆に戻り(補助ビームP1、P
2はディスクに対して垂直ではなく若干角度をもって入
射するがこの角度は極めて小さい為、反射光P′1
P′2は実質的に元の光路を戻ると考えて良い)、対物
レンズ(4)を経てビームスプリッタ(3)に至る。ビ
ームスプリッタ(3)にて反射されたビーム(P′0
P′1、P′2)は、凹レンズ(5)、シリンドリカルレ
ンズ(6)を経てフォトセンサ()に至る。フォトセ
ンサ()は反射主ビームP′0を受けるセンサ(7
c)、反射補助ビームP′1を受けるセンサ(7a)及び反
射補助ビームP′2を受けるセンサ(7b)により構成さ
れている。そして、センサ(7c)より情報信号及びフォ
ーカスエラー信号が得られ、また、センサ(7a)(7b)
の出力差としてラジアルエラー信号が得られることは、
既に知られている。
An optical pickup device having a structure shown in FIG. 6 is known (see, for example, Japanese Utility Model Laid-Open No. 58-75342). In the figure, the laser light emitted from the semiconductor laser ( 1 ) is diffracted by the diffraction grating (2) into three beams P 0 (main beam), P 1 and P 2 (auxiliary beams),
A beam splitter (having the same ratio of transmitted light and reflected light or different ratio) (3) and an objective lens (4) enter the disk (D). The beam reflected by the disk (D) is reflected light P ′ 0 , P ′ 1 ,
Becomes P '2, return the original optical path back (auxiliary beams P 1, P
2 is not perpendicular to the disk and is incident at a slight angle, but since this angle is extremely small, the reflected light P ′ 1 ,
It can be considered that P ′ 2 substantially returns to the original optical path), and reaches the beam splitter (3) through the objective lens (4). The beam (P ' 0 , which is reflected by the beam splitter (3),
P '1, P' 2) leads to the concave lens (5), the photosensor through a cylindrical lens (6) (7). Photosensor (7) receives a reflected main beam P '0 sensor (7
c), the formed of a 'sensor for receiving a 1 (7a) and the reflected auxiliary beams P' reflected auxiliary beams P sensor for receiving the 2 (7b). Then, the information signal and the focus error signal are obtained from the sensor (7c), and the sensors (7a) and (7b)
The radial error signal can be obtained as the output difference of
Already known.

さて、第7図は、従来のピックアップ装置に於けるラジ
アルエラー信号(RE)の変化を示している。ラジアルエ
ラー信号(RE)の直流成分は、ディスクの1回転に対応
して変動し、この変動は面振れの大きいディスク程大き
くなる。ディスクに記録されている曲を検索する等の特
殊なディスク再生を行う場合、ラジアルエラー信号の直
流成分(RE・DC)の変動許容範囲は、直流成分の変動振
幅をA、ラジアルエラー信号の振幅をREp−pとすれ
ば、A/REp−p≦0.2を満足する必要がある。従来のピッ
クアップ装置は、必ずしも上記条件を満足するものでは
なかった。
Now, FIG. 7 shows the change of the radial error signal (RE) in the conventional pickup device. The DC component of the radial error signal (RE) fluctuates corresponding to one rotation of the disk, and this fluctuation becomes larger as the surface wobble increases. When performing a special disc playback such as searching for a song recorded on the disc, the allowable fluctuation range of the direct current component (RE / DC) of the radial error signal is A, the fluctuation amplitude of the direct current component, and the amplitude of the radial error signal. Is defined as REp-p, it is necessary to satisfy A / REp-p ≦ 0.2. The conventional pickup device does not always satisfy the above conditions.

上述したラジアルエラー信号の直流成分の変動の原因
は、ピックアップ装置より出力されるビームの光軸のデ
ィスクに対する垂直度が、特にディスクのタンジェンシ
ャル方向に於いて、ディスクの面振れに応じて1回転周
期にて変動し、この垂直度の変動に応じて、信号再生に
必要なビームと不要なビーム(迷光)との間に於いて生
じる光の干渉度合が変化することにあると考えられる。
以下、この点について、第8図を参照して更に詳述す
る。
The cause of the fluctuation of the direct current component of the radial error signal is that the verticality of the optical axis of the beam output from the pickup device with respect to the disk, especially in the tangential direction of the disk, makes one revolution depending on the surface wobble of the disk. It is considered that the degree of interference of light generated between the beam required for signal reproduction and the unnecessary beam (stray light) changes in accordance with the change in the verticality.
Hereinafter, this point will be described in more detail with reference to FIG.

第8図に於いて、(8)は半導体レーザチップを示して
おり、このチップ(8)はチップ取付台(サブマワン
ト)(9)にロウ付け又は導電性接着剤にて固定されて
いる。チップ(8)の放射点(0)より放射されたレー
ザビーム(P0)は、回折格子(2)により、そのまま直
進する(回折を受けない)主ビーム(P0)と、回折によ
り生じる補助ビームP1、P2(±1次の回折光)に分かれ
て、ディスクに向う。ディスクにて反射されたビーム
(P′0、P′1、P′2)は、その一部が〔第6図に於
いて示すビームスプリッタ(3)を透過した分が〕回折
格子(2)に戻る。これ等のビームは回折格子(2)を
経て、レーザチップ(8)側に向う。これ等のビームの
うち、Xの光路をたどるビーム〔P′0(+1)、P′2
(0)〕はレーザチップ(8)の放射面(N)(この面
は鏡面となっている)のQ点にて反射され、元の光路
(X)を戻る〔光路(X)は放射面(結晶へき開面)
(N)に対して垂直ではなく若干の角度を持っている
が、この角度は極めて小さい為、反射光は元の光路を戻
ると考えて良い〕。この反射戻り光(迷光)がビーム
(P′2)と干渉を起し、斯かる干渉を受けたビーム
(P′2)がフォトセンサ(7b)に向う為、このフォト
センサ(7b)の出力信号(Sb)の直流成分に変動を生じ
る(第9図参照)。第9図に於いて、横軸θは、対物レ
ンズの光軸がディスク面に対する垂直線に対してタンジ
ェンシャル方向に於てなす角度を示しており、出力信号
(Sb)の1波長が約1.3度となっている。
In FIG. 8, (8) shows a semiconductor laser chip, and this chip (8) is fixed to a chip mount (submount) (9) by brazing or a conductive adhesive. The laser beam (P 0 ) emitted from the emission point (0) of the chip (8) is directly moved by the diffraction grating (2) to the main beam (P 0 ) which is not directly diffracted and the auxiliary beam generated by the diffraction. Beams P 1 and P 2 (± 1st order diffracted light) are split and directed toward the disc. The beams (P ′ 0 , P ′ 1 , P ′ 2 ) reflected by the disk are partially diffracted by the diffraction grating (2) [a part of which is transmitted through the beam splitter (3) shown in FIG. 6]. Return to. These beams pass through the diffraction grating (2) and travel toward the laser chip (8). Among these beams, the beams [P ′ 0 (+1), P ′ 2 that follow the optical path of X
(0)] is reflected at point Q of the emitting surface (N) of the laser chip (8) (this surface is a mirror surface) and returns to the original optical path (X) [optical path (X) is the emitting surface. (Cleavage plane of crystal)
Although it is not perpendicular to (N) but has a slight angle, it may be considered that the reflected light returns to the original optical path because this angle is extremely small]. This reflected return light (stray light) causes interference with the beam (P ′ 2 ), and the beam (P ′ 2 ) that has received the interference is directed to the photosensor (7 b), so the output of this photosensor (7 b). Fluctuations occur in the DC component of the signal (Sb) (see FIG. 9). In FIG. 9, the horizontal axis θ represents the angle formed by the optical axis of the objective lens in the tangential direction with respect to the vertical line with respect to the disk surface, and one wavelength of the output signal (Sb) is about 1.3. It is a degree.

ここで、回折後のビームの光量について考えると、0次
回折光(回折を受けない光)と±1次回折光の光量比は
1:1/3〜1/8となる為、2回以上回折を受けた光は、その
光量レベルが小さく、干渉を考慮する必要がない。第8
図に於いて、ビームP′0(+1)は、ディスクからの
反射光P′0の+1次回折光であり、1回の回折を受け
たのみであるから、干渉に影響を及ぼす。ビームP′2
(0)は、レーザ光(P0)が回折格子(2)を第6図に
於いて下から上に通過するとき生じた第1次回折光
(P2)のディスクによる反射光(P′2)の0次光〔即
ち、回折格子(2)を上から下に通過すつときに、回折
を受けずに直進した光〕であるから、同じく1回の回折
を受けたのみであり、干渉に影響を及ぼす。
Here, considering the light quantity of the beam after diffraction, the light quantity ratio between the 0th order diffracted light (light not diffracted) and the ± 1st order diffracted light is
Since it is 1: 1/3 to 1/8, the light level that is diffracted more than once is small and it is not necessary to consider interference. 8th
In the figure, the beam P ′ 0 (+1) is the + 1st order diffracted light of the reflected light P ′ 0 from the disk, and since it is only diffracted once, it affects the interference. Beam P '2
(0), the laser beam (P 0) is a diffraction grating (2) the first-order diffracted light (P 2) disc due to reflected light occurring when passing from the bottom to the top at the sixth FIG (P '2 ) Is the 0th order light (that is, light that goes straight without being diffracted when passing through the diffraction grating (2) from the top to the bottom). Affect.

尚、光路Yに向うビーム〔P′0(−1)(ビームP′0
の1次光)、P′1(0)(ビームP′1の0次光)〕
は、共に1回の回折を受けたビームであるが、第8図に
示す如くレーザチップ(8)に入射することがないの
で、ビーム(P′1)に干渉が生じることがない。それ
故、ビーム(P′1)を受けるフォトセンサ(7a)の出
力信号(Sa)の直流成分の変動は第9図に示す通り、小
さくなっている。
The beam [P ′ 0 (−1) (beam P ′ 0
Primary light), P ′ 1 (0) (0th order light of beam P ′ 1 )]
Are beams that have been diffracted once, but since they do not enter the laser chip (8) as shown in FIG. 8, there is no interference with the beam (P ' 1 ). Therefore, the fluctuation of the DC component of the output signal (Sa) of the photo sensor (7a) which receives the beam (P ' 1 ) is small as shown in FIG.

以上の説明により、光路(X)のビームP′2(0)及
びP′0(+1)がレーザチップ(8)の放射面(N)
により反射した反射光が、ラジアルエラー信号〔フォト
センサ(7a)(7b)の出力信号(Sa)(Sb)の差〕の直
流成分の変動の原因となっていることが分る。
According to the above description, the beams P ′ 2 (0) and P ′ 0 (+1) on the optical path (X) are emitted from the emission surface (N) of the laser chip (8).
It can be seen that the reflected light reflected by causes the fluctuation of the DC component of the radial error signal [difference between the output signals (Sa) and (Sb) of the photosensors (7a) and (7b)].

(ハ)発明が解決しようとする問題点 簡単な構成にてレーザチップの放射面に於ける反射を防
止せんとするものである。
(C) Problems to be Solved by the Invention The present invention aims to prevent reflection on the emitting surface of the laser chip with a simple structure.

(ニ)問題点を解決する為の手段 本発明の半導体レーザチップの構成的特徴は放射面上に
低光反射材料からなる膜を設けると共に該膜と上記放射
面上のレーザ光放射点とを50μm以上離隔させたことに
ある。
(D) Means for Solving the Problems A constitutional feature of the semiconductor laser chip of the present invention is that a film made of a low light reflecting material is provided on the emitting surface and the film and the laser light emitting point on the emitting surface are provided. It has been separated by 50 μm or more.

(ホ)作用 放射面に設けられた膜により放射面に於ける不所望な反
射が抑制されてラジアルエラー信号の直流成分の変動が
抑圧される。
(E) Action Undesired reflection on the radiation surface is suppressed by the film provided on the radiation surface, and fluctuations in the DC component of the radial error signal are suppressed.

(ヘ)実施例 第1図は本発明の実施例を示し、(11)はCuからなるス
テム、(12)はSi単結晶からなるヒートシンクであり、
該ヒートシンクは上記ステムの一主面上に熱的電気的に
固着されている。(13)は半導体レーザチップであり、
該チップはp型GaAs基板(14)の一主面上にp型Ga1-XA
lXAs(0<X<1)からなる第1グラッド層(15)、ノ
ーンドープGa1-YAlYAs(0≦Y<X)からなる活性層
(16)、n型Ga1-XAlXAsからなる第2グラッド層(17)
及びn型GaAsからなるキャップ層(18)を順次積層して
なり、また放射面Nたなる端面はへき開により形成さ
れ、そのへき開面上にはSiO2等からなる保護膜(19)が
形成されている。尚、上記基板及び各層(15)〜(18)
の層厚は夫々90μm、2μm、0.1μm、1.5μm、2μ
mである。
(F) Example FIG. 1 shows an example of the present invention, (11) is a stem made of Cu, (12) is a heat sink made of Si single crystal,
The heat sink is thermally and electrically fixed to one main surface of the stem. (13) is a semiconductor laser chip,
The chip consists of p-type Ga 1-X A on one main surface of p-type GaAs substrate (14).
l X As (0 <X <1) first glad layer (15), non - doped Ga 1-Y Al Y As (0 ≦ Y <X) active layer (16), n-type Ga 1-X Al Second Glad layer made of X As (17)
And a cap layer (18) made of n-type GaAs are sequentially laminated, and the end surface which is the radiation surface N is formed by cleavage, and a protective film (19) made of SiO 2 or the like is formed on the cleavage surface. ing. The substrate and the layers (15) to (18)
Layer thickness of 90μm, 2μm, 0.1μm, 1.5μm, 2μ respectively
m.

斯るチップでは基板(14)の他主面及びキャップ層(1
8)表面に夫々形成されたオーミック性の第1、第2電
極(20)(21)間に順方向バイアスを印加することによ
り活性層(16)よりレーザ光が励起され、放射点0より
出力されることとなる。また、斯るチップは第1電極
(20)側がAu合金等により、ヒートシンク(12)上に熱
的電気的に固着されている。更に放射面Nには放射点0
より50μm(図中l)離れた位置よりヒートシンク(1
2)にかけて例えば黒色シリコン樹脂等の低光反射材料
からなる膜(22)が形成されている。また、斯る膜(2
2)は各種接着剤、ラッカー、タール、墨等を塗布する
か若しくは無機物或いは金属をを蒸着若しくは印刷する
ことにより形成しても良い。尚、斯る膜(22)は上記材
質に限定されるものではなく、レーザ光を透過せず、か
つチップ(13)のへき開面に比して光反射性が半分以下
のものであれば良く、更に好適にはレーザ光を吸収し得
る黒色材料が良い。
In such a chip, the other main surface of the substrate (14) and the cap layer (1
8) By applying a forward bias between the ohmic first and second electrodes (20) and (21) respectively formed on the surface, laser light is excited from the active layer (16) and output from the emission point 0. Will be done. Further, such a chip is thermally and electrically fixed to the heat sink (12) on the first electrode (20) side by an Au alloy or the like. Furthermore, the radiation point N is 0
From the position 50 μm (l in the figure) away from the heat sink (1
A film (22) made of a low light-reflecting material such as black silicone resin is formed over 2). In addition, such a film (2
2) may be formed by applying various adhesives, lacquer, tar, black ink, etc., or by vapor depositing or printing an inorganic material or metal. The film (22) is not limited to the above-mentioned material, and may be any film that does not transmit laser light and has light reflectivity of half or less as compared with the cleavage surface of the chip (13). More preferably, a black material capable of absorbing laser light is preferable.

また、本実施例では放射点0と膜(22)との距離lを50
μmとしたが、この距離をこれ以下とすると膜(22)の
だれ等により放射点(0)をも膜(22)に覆われる危惧
がある。更にXの光路を通る戻り光の放射面(N)との
交点(Q)と放射点(0)との距離は通常50μm〜100
μmの位置となるので、放射面N上の放射点0と膜(2
2)との距離lを50μm以下とする必要はない。
In addition, in this embodiment, the distance l between the radiation point 0 and the film (22) is set to 50.
However, if the distance is set shorter than this, there is a concern that the radiation point (0) may be covered with the film (22) due to the drooping of the film (22). Further, the distance between the intersection (Q) with the emission surface (N) of the return light passing through the optical path of X and the emission point (0) is usually 50 μm to 100.
Since it is at the position of μm, the radiation point 0 on the radiation surface N and the film (2
It is not necessary to set the distance l to 2) to 50 μm or less.

上述した構成に依れば、第1図に於いて示す戻り光P′
2(0)、P′0(+1)がレーザチップ(8)の放射面
(N)に入射した場合、反射防止膜(10)により大部分
は吸収され一部は反射されても乱反射され、光路(X)
を戻る量は極めて少なくなる。従って、戻り光P′
2(0)が放射面(N)にて反射され、回折格子(2)
にて回折された後P′2方向に向う光〔P′0(0)の放
射面により反射光の1次回折光〕が、P′2と干渉を起
すのみであり、フォトセンサ(7b)の出力信号(Sb)の
変動は第2図に示す如く大幅に低減されることになる。
According to the above configuration, the return light P'shown in FIG.
When 2 (0) and P ′ 0 (+1) are incident on the emission surface (N) of the laser chip (8), most of them are absorbed by the antireflection film (10) and some of them are reflected but diffusely reflected, Optical path (X)
The amount of return is extremely small. Therefore, the return light P '
2 (0) is reflected by the radiation surface (N), and the diffraction grating (2)
At after being diffracted P '2 light toward the direction [P' 0 (0) 1-order diffracted light of the reflected light by the emitting surface of] is, only interferes with P '2, photo sensors (7b) The fluctuation of the output signal (Sb) will be greatly reduced as shown in FIG.

(ト)発明の効果 以上述べた本発明の依れば、レーザチップの放射面に於
ける不所望な反射を防止することができ、ラジアルエラ
ー信号の直流成分の変動を抑えることができる。第3図
ないし第5図により、本発明による膜を有しないチップ
を用いたピックアップ装置の特性(X印で各サンプルの
値を表示)と本発明のチップを用いたピックアップ装置
の特性(〇印で各サンプルの値を表示)を比較する。第
3図に於いて、縦軸はラジアルエラー信号のうねりを示
すものであり、次式で定義される。
(G) Effect of the Invention According to the present invention described above, it is possible to prevent undesired reflection on the emitting surface of the laser chip and suppress fluctuations in the DC component of the radial error signal. 3 to 5, the characteristics of the pickup device using the chip having no film according to the present invention (values of each sample are indicated by X marks) and the characteristics of the pickup device using the chip of the present invention (O marks). Display the value of each sample with.) In FIG. 3, the vertical axis represents the waviness of the radial error signal, which is defined by the following equation.

うねり=20logRE・DC変化量/REp−p RE・DC変化量はRE・DCの最大値と最小値の差を示す。測
定はディスク外周に於いて±400μmの面振れを生じる
ディスクを使用したものであり、うねりが抑えられてい
ることが分る。
Swell = 20log RE / DC change amount / REp-p RE / DC change amount indicates the difference between the maximum and minimum values of RE / DC. The measurement was performed using a disk that causes a surface runout of ± 400 μm on the outer circumference of the disk, and it can be seen that waviness is suppressed.

第4図は対物レンズをラジアル方向に±0.4mm移動させ
たときの、RE・DCの変化量のREp−pに対する比(%)
を示しており、この変動が小さい程、特殊再生に対して
有利であることを示す。第5図は、基準状態(ピックア
ップ装置のラジアルサーボ系を開放した状態)に於いて
ラジアルエラー信号が有している直流分の値のREp−p
に対する比(%)(中点のづれ量を示す)を示してお
り、本発明による半導体レーザチップを用いたピックア
ップ装置は中点づれが小さいことを示している。
Fig. 4 shows the ratio (%) of the amount of change in RE / DC to REp-p when the objective lens is moved ± 0.4 mm in the radial direction.
And shows that the smaller this variation is, the more advantageous it is for special reproduction. FIG. 5 shows REp-p of the value of the DC component of the radial error signal in the standard state (the state where the radial servo system of the pickup device is opened).
The ratio (%) (indicating the amount of deviation of the midpoint) is shown, which shows that the pickup device using the semiconductor laser chip according to the present invention has a small deviation of the midpoint.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の半導体レーザチップを示す断面図、第
2図ないし第5図はその特性図であり、第2図はフォト
センサの出力信号の変化を示す図、第3図はラジアルエ
ラー信号のうねり量を示す図、第4図はラジアルコント
ロール時に於けるRE・DCの変化量を示す図、第5図は中
点づれを示す図、第6図は従来のピックアップ装置を示
す図、第7図は従来装置のラジアルエラー信号を示す
図、第8図は干渉が起る原理の説明に供する図、第9図
は従来装置のフォトセンサの出力信号の変化を示す図で
ある。 (13)…半導体レーザチップ、(22)…膜、(0)…放
射点、(N)…放射面。
FIG. 1 is a sectional view showing a semiconductor laser chip of the present invention, FIGS. 2 to 5 are characteristic diagrams thereof, FIG. 2 is a diagram showing changes in an output signal of a photosensor, and FIG. 3 is a radial error. FIG. 4 is a diagram showing the amount of signal swell, FIG. 4 is a diagram showing the amount of change in RE / DC during radial control, FIG. 5 is a diagram showing midpoint shift, and FIG. 6 is a diagram showing a conventional pickup device. FIG. 7 is a diagram showing a radial error signal of a conventional device, FIG. 8 is a diagram for explaining the principle of interference, and FIG. 9 is a diagram showing changes in output signals of a photosensor of the conventional device. (13) ... Semiconductor laser chip, (22) ... Film, (0) ... Radiating point, (N) ... Radiating surface.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】放射面上に低光反射材料からなる膜を設け
ると共に、該膜と前記放射面上のレーザ光放射点とを50
μm以上隔離させ、以って、前記レーザ光放射点より放
射されたレーザ光のデイスクからの反射光が前記放射面
で再度反射されることを前記膜で防止する構成としたこ
とを特徴とする光学的ピックアップ用の半導体レーザチ
ップ。
1. A film made of a low-light-reflecting material is provided on the emitting surface, and the film and the laser light emitting point on the emitting surface are 50.
The laser light emitted from the laser light emitting point is separated from the disk by a distance of at least .mu.m, so that the film prevents the light reflected from the disk from being reflected again. Semiconductor laser chip for optical pickup.
【請求項2】特許請求の範囲第1項において、上記膜は
黒色材料からなることを特徴とする半導体レーザチッ
プ。
2. A semiconductor laser chip according to claim 1, wherein the film is made of a black material.
JP60157604A 1985-07-16 1985-07-16 Semiconductor laser chip Expired - Lifetime JPH0716075B2 (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60157604A JPH0716075B2 (en) 1985-07-16 1985-07-16 Semiconductor laser chip

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JP60157604A JPH0716075B2 (en) 1985-07-16 1985-07-16 Semiconductor laser chip

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