JPH0719072B2 - 電子写真像形成部材 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般に電子写真に関し、さらに詳細には、電子
写真像形成部材および該像形成部材の使用方法に関す
る。

〔従来の技術〕

電子写真技術においては、伝導性層上に光導電性絶縁層
を含む電子写真プレートを先ず上記光導電性絶縁性層の
表面を均一に静帯電させることによって像形成させる。
次いで、プレートを光のような活性化電磁線照射パター
ンに露光せしめ、非照射領域中に静電潜像を残しながら
光導電性絶縁層の照射領域中の電荷を選択的に消散させ
る。続いて、この静電潜像を光導電性絶縁層の表面上に
微分割検電トナー粒子を付着させることにより現像して
可視像を形成させる。得られた可視トナー像は紙のよう
な適当な受け入れ部材に転写できる。この像形成工程は
再使用可能な光導電性絶縁層により多数回繰返すことが
できる。

より進歩したものとして、高速の電子写真複写器、複製
器およびプリンターが開発され、像品質の劣下が長期の
サイクル操作中に生じていた。さらに、極めて高速で操
作する複雑な高性能の複写装置には感光体の狭い操作限
界を含む厳しい要求が存在する。例えば、多くの新式光
導電性像形成部材において見い出される多くの層は高度
に可撓性であり、隣接層に良好に接着し、狭い操作限界
内で予期通りの電気特性を示して多数回のサイクル操作
に亘って優れたトナー像を与えなければならない。電子
写真像形成装置においてベルトとして用いている１つの
タイプの多層型感光体は基体、伝導性層、ブロッキング
層、接着性層、電荷励起層、および電荷移送層を含んで
いる。この感光体はまた抗カール裏打ち層およびオーバ
ーコーティング層も含み得る。優れたトナー像が多層型
ベルト感光体によって得ることができるけれども、多数
層が多層型ベルト感光体の融通性を制限していることが
判っている。例えば、極めて限られたスペースに合せた
感光体ベルト装置用に小直径の支持ロールを用いるコン
パクトな像形成装置においては長操作寿命の可撓性感光
体に対する要求が極めて大きい。小直径支持ロールはま
たコピー紙のビーム強度を用いてトナー像の転写後感光
体ベルトからコピー紙を自動的に取り出す簡単な信頼性
のあるコピー紙はぎ取り装置にとっても極めて望ましい
ものである。残念なことに、例えば、約0.75インチ（19
mm）直径以下の小直径ロールは機械的性能基準の限界値
を特発的な感光体ベルト材料の欠損が多層型ベルト感光
体の常習的事故となるようなレベルまで引き上げてい
る。即ち、多層型ベルト感光体を用いる進歩した像形成
装置においては、クラッキング（ひび割れ）が小直径ロ
ール上でサイクル操作中の１種以上の重要な層において
発生している。サイクル操作中電荷移送層中に発生した
クラックはコピー品質に悪影響を与える写し出し欠陥と
して現われていた。常習的な感光体のクラッキングは感
光体の融通性に重大な影響を有し、自動電子写真複写
機、複製機およびプリンターにおいてその実用価値を低
減している。

さらに、多層型ベルト感光体の継目は小直径支持ロール
上での長時間のサイクル操作中はがれがちである。継目
のはがれはベルトをブレードクリーニング装置を用いる
電子写真像形成装置で用いるときに一層悪化する。さら
に、ベルトのはがれは広いウェブからベルト感光体を作
製するためのウェブ切断操作中にも生じる。伝導性層、
ブロッキング層、接着層、電荷励起層、および／または
電荷移送層のような各種ベルト層におけるはがれを減少
させるための材料の改善は容易に行なえない。なぜなら
ば、新しい材料は残留電圧、背景、暗減衰、可撓性等の
ベルトの電気的、機械的および他の性質全体に悪影響を
及ぼし得るからである。

さらにまた、多層型感光体の移送層の電気的サイクル安
定性は液体現像装置で数千回サイクル操作したとき不安
定であることが判っている。液体現像剤のキャリヤー液
は電荷移送層中に存在するジアミンのような活性小分子
を浸出する傾向にありそれによって感光体の電気的性質
を変化させる。活性小分子の浸出はベルトが不使用期間
中ベルト支持ロール上に溜るとき溶媒／応力クラッキン
グに対する移送層の感受性を増大させる。ある種のキャ
リヤー液はまた移送層中のジアミン化合物のような活性
小分子の結晶化を、特に高濃度のジアミン化合物が移送
層バインダー中に存在する場合に促進させる。活性小分
子の結晶化は感光体の電気的および機械的性質を劣下さ
せる。

小分子ジアミン化合物を含有する感光体は当該技術にお
いて周知である。同様に、ポリエステル接着層を用いる
感光体も公知である。

1986年４月22日付でリン等に付与された米国特許第4,58
4,253号には、ブロッキング層（例えば、シロキサンと
ヒドロキシプロピルセルロースとのフィルム）と電荷励
起層との間にポリエステルPE-100、デュポン49,000樹脂
および他の樹脂のようなフィルム形成性ポリマーを含む
接着層を有する多層型像形成部材を包含する種々の電子
写真像形成部材が開示されている（例えば、第８欄31〜
41行および第17欄８〜18行参照）。この接着層は約0.1
ミクロン（1,000オングストローム）〜約５ミクロン（5
0,000オングストローム）の厚さを有する。

1979年４月12日付にてアンダーソン等に付与された米国
特許第4,150,987号には、例えば、アルミニウム処理マ
イラー支持体、該アルミニウム層上のポリエステル接着
層（PE-200、PE-222、PE-207、VPE-5545、PE-307および
49000のような）、電荷励起層、およびヒドラゾン電荷
移送層とを含む多層型像形成部材を包含する種々の電子
写真像形成部材が開示されている。ポリエステル接着層
は10重量％固形分を含む溶液として適用されている。

1983年４月26日付にてチャンに付与された米国特許第4,
381,337号には、電導性層、電荷励起層および電荷移送
層とを含み、約60℃より大きいTgを有するポリエステル
と約30℃より小さいTgを有するポリエステルとの混合物
を上記電導性支持体上の接着層中にまた上記電荷移送層
中に用いている多層型像形成部材を包含する種々の電子
写真像形成部材が開示されている。バイテルPE-200,バ
イテルPE-100、PE-307およびPE-5571Aを含む数多くの具
体的なポリエステル樹脂が第２欄と第３欄にまたがるパ
ラグラフに列挙されている。

1979年11月６日付にてベルウィッチ等に付与された米国
特許第4,173,472号には、電導性層と光導電性層との間
にポリエステル中間層を有する多層型像形成部材を包含
する種々の電子写真像形成部材が開示されている（例え
ば、第２欄34行および第３欄２行参照）。このポリエス
テルは少なくとも１種の芳香族ジカルボン酸と少なくと
も１種のジオールとから誘導し得る。少なくとも１種の
芳香族カルボン酸はイソフタル酸であり得、、ジオール
は枝分かれ鎖アルキレンジオールであり得る。上記ポリ
エステルは２種の異なる酸または２種の異なるジオール
の混合物からも誘導し得る。バリヤー層を上記電導性層
と中間層の間に使用し得る（例えば、第７欄20〜41表参
照）。中間層は典型的には約0.1〜約0.5ミクロン（1,00
0〜5,000オングストローム）の乾燥厚さを有する。実施
例６においては、テレフタル酸、イソフタル酸およびエ
チレングリコールのコポリエステルを感光体中の中間層
として用いている。

1986年５月13日付にてジョネスに付与された米国特許第
4,588,667号には、基体、チタン金属層、シロキサンブ
ロッキング層、接着層、電荷励起バインダー層、および
電荷移送層とを有する多層型像形成部材を包含する種々
のオーバーコーティング型電子写真像形成部材が開示さ
れている。ブロッキング層と励起体層の間の中間層はポ
リエステルを含み得約0.1ミクロン（1,000オングストロ
ーム）〜約５ミクロン（50,000オングストローム）の乾
燥厚さを有している。厚さ約0.05ミクロン（500オング
ストローム）を有するポリエステルデュポン49000中間
層が実施例において記載されている。移送層は約25〜約
75重量％のジアミン移送物質を含有し得る。

1984年８月７日付にてトイスチャーに付与された米国特
許第4,464,450号には、基体、金属層、金属酸化物層、
シロキサンブロッキング層、任意構成成分としての中間
層、電荷励起バインダー層、および電荷移送層とを有す
る多層型像形成部材を包含する種々のオーバーコーティ
ング型電子写真像形成部材が開示されている。ブロッキ
ング層と励起体層との間の中間層はポリエステルを含み
得約0.1ミクロン（1000オングストローム）〜約５ミク
ロン（50,000オングストローム）の乾燥厚を有してい
る。約0.05ミクロン（500オングストローム）の厚さを
有するポリエステルデュポン49000中間層がいくつかの
実施例に記載されている。移送層は約25〜約75重量％の
ジアミン移送物質を含み得る。

1985年１月８日付にてミヤカワ等に付与された米国特許
第4,492,746号には、PVK中に分散させたポリエステルを
含有し電導性基体に対する接着性を増大させてなる像形
成部材を包含する種々の電子写真像形成部材が開示され
ている。種々のポリエステルとPVKの接着性は表１−４
に示されている（第９および第10欄参照）。

1986年１月21日付にてシャンクに付与された米国特許第
4,565,760号には、基体と正孔移送層との間に、PE-100
のようなポリエステルと電荷注入性材料とを含む正孔注
入電極層を有する多層型像形成部材を包含する種々のオ
ーバーコーティング型電子写真像形成部材が開示されて
いる。この正孔注入電極層は約１〜約20ミクロン（1000
0〜200,000オングストローム）の厚さを有している。例
えば、10〜75重量％のジアミン移送物質を含む正孔移送
材料と例えば、ポリビニルカルバゾール中の三方晶セレ
ンを含む励起層も開示されている。また、例えば、PE20
0のようなポリエステルおよびポリメチルメタクリレー
トを含み得るオーバーコーティング用のプライマーも開
示されている。

1984年12月18日付にてホーガンに付与された米国特許第
4,489,148号には、基体と正孔移送層の間に、ポリエス
テル等のフィルム形成性ポリマーを含む接着層を有する
多層型像形成部材を包含する種々の電子写真像形成部材
が開示されている。デュポン49000ポリエステル樹脂を
含有する接着層が実施例に詳細に記載されている。典型
的には、この接着層は約0.3ミクロン（3,000オングスト
ローム）以下の厚さを有する。約0.05μｍ（500オング
ストローム）の厚さを有する接着層は第10欄の１〜17行
と45〜48行および実施例III〜XVIに記載されている。例
えば、10〜75重量％のジアミン移送物質を含有する正孔
移送材料も開示されている。

1986年４月15日付にてトイスチャー等に付与された米国
特許第4,582,772号には、基体；インジウム−錫酸化
物、カドミウム−錫酸化物、酸化錫、酸化チタン、窒化
チタン、ケイ化チタンおよびこれらの混合物よるなる群
より選ばれた透過性半導体層；光励起層；および例え
ば、電気活性ジアミン物質を含む電荷移送層とを含む電
子写真像形成部材が開示されている。0.1ミクロン（1,0
00オングストローム）の厚さを有する接着層が使用され
得る。接着層はE.I.デュポン社からの49000ポリエステ
ルを含み得る。例えば、10〜75重量％のジアミン移送物
質を含む正孔移送層も開示されている。

1983年３月29日付にてチューに付与された米国特許第4,
378,418号には、基体、正孔注入、層、組合せたあるい
は別々の正孔移送層と励起層、および任意構成成分とし
ての絶縁性樹脂オーバーコーティング層（ポリエステ
ル、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム形成性ポ
リマーを含む）を有する多層型像形成部材を包含する種
々の電子写真像形成部材が開示されている。例えば、10
〜75重量％のジアミン移送物質を含有する正孔移送材料
も開示されている。

〔発明が解決しようとする課題〕 かくして、はがれ、クラッキングおよび成分浸出に対す
る改良された抵抗性を有する多層型ベルト感光体が求め
られている。

従って、本発明の目的は上述の欠点を克服する改良され
た感光性部材を提供することである。

本発明の別の目的は切断およびサイクル操作中にはがれ
に対する大きい抵抗性を示す改良された電子写真像形成
部材を提供することである。

本発明のさらに別の目的は液体現像中に成分浸出に対し
て改良された抵抗性を有する光導電性像形成部材を提供
することである。

本発明のさらに別の目的はサイクル操作中継目一体性を
維持する電子写真像形成部材を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

上記および他の目的は、本発明によれば、電導性表面を
有する可撓性基体；アミノシラン反応生成物を含む正孔
ブロッキング層；次式： （式中、上記ジ酸はテレフタル酸、イソフタル酸および
これらの混合物からなる群より選ばれ、上記ジオールは
エチレングリコールを含み、ジ酸対ジオールのモル比は
約1:1であり、ｎは約175〜約350の間の数である） を有する少なくとも１種のコポリエステル樹脂から本質
的になり、該コポリエステルのTgが約50℃〜約80℃であ
り、また上記アミノシランが該コポリエステル樹脂の−
COOHおよび−OH末端基と上記シアンのアミノ基との反応
生成物である厚さ約200〜約900オングストロームを有す
る接着層；フィルム形成性高分子成分を含む電荷励起
層；およびジアミン正孔移送層とを含み、該正孔移送層
が上記電荷励起層が光励起正孔を励起し注入するスペク
トル領域では実質的に非吸収性であるが上記電荷励起層
からの光励起正孔の注入を支持しかつこれら正孔を上記
電荷移送層を通して移送することができるところの可撓
性電子写真像形成部材を提供することによって達成され
る。

本発明の光導電性像形成部材は電導性表面を有する基体
を用意し、この電導性層上に電荷ブロッキング層を適用
し、本発明の接着層を適用し、該ブロッキング層上に電
荷励起バインダー層を適用しさらにジアミン電荷移送層
を上記電荷励起層上に適用することによって作製し得
る。

基体は不透明または実質的に透明であり得、所定の機械
的特性を有する多くの適当な物質からなり得る。従っ
て、この基体は無機または有機化合物のような電気的に
非伝導性または伝導性の材料の層を含み得る。電気的に
非伝導性の材料としては、ポリエステル、ポリカーボネ
ート、ポリアミド、ポリウレタン等を包含する本目的に
公知の種々の樹脂を使用できる。電気絶縁性または電導
性基体は可撓性であるべきであり、多くの種々の形状、
例えばプレート、スクロール、エンドレス可撓性ベルト
等の任意の形状を有し得る。好ましいのは、基体はエン
ドレス可撓性ベルトの形状であり、E.I.デュポンデネモ
アス社より入手できるマイラー（Mylar）としてあるい
はICI社から入手できるメリネックス（Melinex）として
公知の市販の二軸配向ポリエステルを含む。

基体層の厚さは経済性を含む多くのファクターによる、
即ち、可撓性ベルト用のこの層は、最終光導電性装置に
悪影響を与えない限り、例えば、200μｍ以上の実質的
厚さあるいは50μｍ以下の最小厚さを有し得る。１つの
可撓性ベルトの態様においては、この層の厚さは小直径
ロール例えば12mm直径ロールの周りを回転させる場合の
最適可撓性および最小伸展のために約65〜約150μｍ好
ましくは約75〜約125μｍの範囲にある。基体層の表面
は好ましくはコーティング前にクリーニングして付着コ
ーティングの接着性を向上させる。クリーニングは基体
層表面をプラズマ放電、イオンボンバード等に露出する
ことによって行い得る。

伝導性層は光導電性部材に所望される光透過性および可
撓性により実質的に広範囲に亘って厚さにおいて変化し
得る。従って、可撓性感光性像形成装置を所望するとき
には、伝導性層の厚さは電導性、可撓性および光透過性
の最適組合せのために約20〜約750オングストローム単
位、より好ましくは約50〜約200オングストローム単位
であり得る。伝導性層は電導性金属層であり得、また、
例えば、基体上に任意の適当なコーティング方法、例え
ば、真空蒸着法によって形成し得る。典型的な金属には
アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナ
ジウムとハフニウム、チタン、ニッケル、ステンレスス
チール、クロム、タングステン、モリブデン等がある。
典型的な真空蒸着法にはスパッタリング、磁電管スパッ
タリング、RFスパッタリング等がある。基体上への金属
の磁電管スパッタリングは通常タイプのスパッタリング
モジュールにより真空条件下アルゴン、ネオンまたは窒
素のような不活性雰囲気下で高純度金属ターゲットを用
いて実施することができる。真空条件は特に臨界的なも
のではない。一般には、連続金属膜は適当な基体、例え
ばE.I.デュポンデネモアス社より入手できるマイラーの
ようなポリエステルウェブ基体上に磁電管スパッタリン
グによって得ることができる。真空蒸着条件は所望の金
属厚を得るためにはすべて変り得ることを理解すべきで
ある。ウェルッヒ3102ターボモレキュラーポンプ（Welc
h 3102 Turbomolecular Pump）上の変形マテリアルズリ
サーチコーポレーションモデル8620スパッタリングモジ
ュール（Materials Research Corporation Model 8620
Sputtering Module）のような典型的なRFスパッタリン
グ装置は米国特許第3,926,762号に記載されており、そ
の記載はすべて参考として本明細書に引用する。該米国
特許はまたチタンからなり得る基体上に三方晶セレンの
薄層をスパッタリングすることも開示している。スパッ
タリングによる金属蒸着の他の方法には真空チャンバー
中での平坦磁電管カソードの使用がある。金属ターゲッ
トプレートを平坦磁電管カソード上に置きコーティング
すべき基体を金属ターゲットプレート上を移送させ得
る。カソードおよびターゲットプレートは基体移動通路
のバッチに垂直かつ好ましくは水平に位置させて基体の
幅を横切るターゲット物質の蒸着が均一な厚さを有する
ようにする。必要ならば、複数のターゲットおよび平坦
磁電管カソードを用いて生産量、適用範囲を増大させあ
るいは層組成を変化させ得る。一般的には、真空チャン
バーは密閉し、周囲雰囲気は約５×10^-6mmHgに減圧す
る。この段階に続いて直ちにチャンバー全体をアルゴン
で約１×10^-3mmHgの部分圧でフラッシングして残留壁ガ
ス不純物の殆んどを除去する。約１×10^-4mmHgのアルゴ
ン雰囲気をスパッタリング領域の真空チャンバー内に導
入する。次いで、電力を平坦磁電管に適用し、約３〜約
8m/分での基体の入れ換えを開始する。

必要に応じ、適当な金属の合金を蒸着させ得る。典型的
な金属合金にはジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナ
ジウムとハフニウム、チタン、ニッケル、ステンレスス
チール、クロム、タングステン、モリブデン、およびこ
れらの混合物のような２種以上の金属を含み得る。これ
らの合金はターゲットとして使用して蒸着金属の混合物
を含む層を蒸着させ得る。ターゲットは合金組合せを得
ることが難しい場合には金属粉末のプレス加工混合物か
ら製造し得る。金属粉末の使用組合せを検査し、秤量
し、十分に混合し、圧縮してスパッタリングターゲット
を調製する。伝導性層は、複数の金属層を含み得る。複
数層はすべて真空蒸着させてもよくあるいはキャスティ
ングによるような異なる方法で製造した厚層上に薄層を
真空蒸着することもできる。金属層を形成するのに用い
た方法にかかわらず、金属酸化物の薄層が空気への露出
時に殆んどの金属の外表面上に形成する。即ち、金属層
をオーバーコーティングする他の層を“連続”層として
特徴付したときには、これらの上層連続層は、実際に
は、酸化性金属層の外表面上に形成している薄い金属酸
化物層と接触しているものとする。一般的には、後の消
去露出のために、少なくとも約15％の光透過性の伝導性
層が望ましい。伝導性層を金属に限定する必要はない。
伝導性層の他の例には約4000〜約7000オングストローム
の波長を有する光の透明層としての伝導性インジウム−
酸化錫のような物質の組合せ、または不透明伝導性層と
してのプラスチックバインダー中に分散させた伝導性カ
ーボンブラックであり得る。

平坦磁電管は商業的に入手可能であり、カルホルニア州
サンモンテオのインダストリアルバキュームエンジニア
リング社、西独および米国のレイボルト−ハーラース
社、およびイギリスのジェネラルエンジニアリング社の
ような企業によって製造されている。磁電管は一般に約
500ボルト、120アンペアで操作し流出水温度を約43℃以
下に限定するのに十分な速度で循環させる水によって冷
却する。基体上に金属層を蒸着させるための磁電管スパ
ッタリングの使用は、例えば、メッケル等に付与された
米国特許第4,322,276号に記載されており、該米国特許
の記載はすべて参考として本明細書に引用する。低速複
写機中の電子写真像形成部材用の伝導性層の典型的な電
導性は約10²〜10³オーム／平方である。

金属層を付着させた後、正孔ブロッキング層を適用す
る。一般に、正帯電型感光体の電子ブロッキング層は感
光体の像形成表面からの正孔を伝導性層に向けて浸透せ
しめる。隣接光電導性層とその下の伝導層との間で正孔
に対する電子バリヤーを形成することのできる任意の適
当な正孔ブロッキング層を使用することができる。正孔
ブロッキング層は有機または無機物であり得、任意の適
当な方法で付着させ得る。例えば、正孔ブロッキング層
が溶媒に可溶である場合には、溶液として適用でき、そ
の後、溶媒は乾燥によるような任意の適当な方法によっ
て除去できる。典型的なブロッキング層にはオルガノ金
属塩を含有するポリビニルビチラール、オルガノシラ
ン、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリアミド、ポリウ
レタン、ピロキシリンビニリデンクロライド樹脂、シリ
コーン樹脂、フルオロカーボン樹脂等がある。他のブロ
ッキング層材料には、米国特許第4,291,110号、第4,33
8,387号、第4,286,033号および第4,291,110号に開示さ
れているような窒素含有シロキサンまたは窒素含有チタ
ン化合物、例えば、トリメトキシシリルプロピレンジア
ミン、加水分解トリメトキシシルリルプロピルエチレン
ジアミン、Ｎ−β−（アミノエチル）γ−アミノ−プロ
ピルトリメトキシシラン、イソプロピル４−アミノベン
ゼンスルホニルチタネート、ジ（ドデシルベンゼンスル
ホニル）チタネート、イソプロピルジ（４−アミノベン
ゾイル）イソステアロイルチタネート、イソプロピルト
リ（Ｎ−エチルアミノ−エチルアミノ）チタネート、イ
ソプロピルトリアンスラニルチタネート、イソプロピル
トリ（N,N−ジメチル−エチルアミノ）チタネート、チ
タニウム−４−アミノベンゼンスルホネートオキシアセ
テート、チタニウム−４−アミノベンゾエートイソステ
アレートオキシアセテート、〔H₂N(CH₂)₄〕CH₃Si(OCH₃)
₂、（γ−アミノブチル）メチルジエトキシシラン、お
よび〔H₂N(CH₂)₃〕CH₃Si(OCH₃)₂、（γ−アミノプロピ
ル）メチルジエトキシシランがある。米国特許第4,338,
387号、第4,286,033号および第4,291,110号の記載はす
べて参考として本明細書に引用する。好ましいブロッキ
ング層は加水分解シランと金属基平面層の酸化表面との
反応生成物を含む。酸化表面は蒸着後空気に露出したと
き殆んどの金属基平面の外表面上で固有的に形成する。
この組合せは低RHで電気的安定性を改善する加水分解シ
ランは一般式： を有するかまたはこれらの混合物である。式中、R₁は１
〜20個の炭素原子を有するアルキリデン基であり、R₂、R
₃およびR₇は、個々に、Ｈ、１〜３個の炭素原子を含有
する低級アルキル基およびフェニル基からなる群から選
ばれ、Ｘは酸または酸塩のアニオンであり、ｎは１、
２、３または４であり、ｙは１、２、３または４であ
る。

像形成部材は金属伝導性アノード層の金属酸化物層上に
pH約４〜約10の加水分解シラン水溶液のコーティングを
付着させ、反応生成物層を乾燥してシロキサンフィルム
を形成させ、本発明の接着層を適用し、その後光励起層
および正孔移送層のような電気作動層をシロキサンフィ
ルムに適用することによって作製する。

加水分解シランは一般構造式： （式中、R₁は１〜20個の炭素原子を含有するアルキリデ
ン基であり、R₂およびR₃は、個々に、Ｈ、１〜３個の炭
素原子を有する低級アルキル基、フェニル基およびポリ
（エチレン）アミノまたはエチレンジアミン基から成る
群より選ばれ、R₄、R₅およびR₆は、個々に、１〜４個の
炭素原子を有する低級アルキル基からなる群より選ばれ
る） を有するシランを加水分解することによって調製する。
典型的な加水分解性シランには３−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、（N,N−ジメチル３−アミノ）プロピ
ルトリエトキシシラン、N,N−ジメチルアミノフェニル
トリエトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリ
メトキシシラン、トリメトキシシリルプロピルジエチレ
ントリアミンおよびこれらの混合物がある R₁を長鎖に延長するときには、化合物は安定性が小さく
なる。R₁が約３〜約６個の炭素原子を含むシランがその
分子がより安定であり、より可撓性でありまたより小さ
い張力下にあるので好ましい。最適の結果はR₁が３個の
炭素原子を有するときに得られる。満足できる結果はR₂
とR₃がアルキル基であるときに得られる。最適の平滑で
均一な膜はR₂とR₃が水素である加水分解シランによって
形成される。シランの満足できる加水分解はR₄、R₅およ
びR₆が１〜４個の炭素原子を含むアルキル基であるとき
に行い得る。アルキル基が４個の炭素原子より多いとき
には、加水分解は実施できない程に遅くなる。しかしな
がら、２個の炭素原子を含有するアルキル基を有するシ
ランの加水分解は最良の結果を得るので好ましい。

上述のアミノシランの加水分解中に、アルコキシ基はホ
ヒドロキシ基で置換される。加水分解が続くとき、加水
分解シランは次の中間一般式を有する： 乾燥後に、加水分解シランから形成されたシロキサン反
応生成物膜はｎが６に等しいかそれ以上である大きい分
子を含有する。加水分解シランの反応生成物は線状、部
分架橋、ダイマー、トリマー等であり得る。

加水分解シラン溶液はケイ素原子に結合したアルコキシ
基を加水分解するのに十分な水を加えて溶液を調製する
ことによって調製できる。不十分な水は通常加水分解シ
ランに望ましくないゲルを生ぜしめるであろう。一般的
には、稀溶液が薄コーティングを得るのに好ましい。満
足できる反応生成物膜は溶液総重量基準で約0.1〜約1.5
重量％のシランを含有する溶液によって達成できる。溶
液総重量基準で約0.05〜約0.2重量％のシランを含有す
る溶液が均一な反応生成物層を形成する安定溶液として
好ましい。加水分解シラン溶液のpHは注意深く調整して
最適の電気的安定性を得ることが重要である。約４〜約
10の間のpHが好ましい。厚い反応生成物層は約10より大
きいpHの溶液では形成することが難しい。さらにまた、
反応生成物膜の可撓性も約10より大きいpHを有する溶液
を用いるときは悪影響を受ける。さらに、約10より大き
いあるいは約４より小さいpHを有する加水分解シラン溶
液は最終感光体製品の貯蔵中アルミニウム含有層のよう
な金属伝導性層をひどく腐食しがちである。最適反応生
成物層は約７〜約８のpHを有する加水分解シランによっ
て達成される。何故ならば、得られる処理感光体のサイ
クルアップ及びサイクルダウン特性の抑制が最大である
からである。ある許容し得るサイクルダウンは約４より
小さいpHを有する加水分解アミノシラン溶液によっても
観察されている。

加水分解シラン溶液のpH調整は任意の適当な有機または
無機の酸または酸塩によって行い得る。典型的な有機お
よび無機の酸および酸塩には酢酸、クエン酸、ギ酸、沃
化水素、リン酸、塩化アンモニウム、ヒドロフルオロケ
イ酸、ブロモクレゾールグリーン、ブロモフェノールブ
ルー、ｐ−トルエンスルホン酸等がある。

必要ならば、加水分解シラン水溶液は水以外の極性溶媒
のような添加物を含んで金属伝導性アノード層の金属酸
化物層の湿潤性の改良を促進させることもできる。改良
された湿潤性は加水分解シランと金属酸化物層間の反応
の均一性を大にする。任意な適当な極性溶媒を使用でき
る。典型的な極性溶媒にはメタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、テトラヒドロフラン、メチルセルソル
ブ、エチルセルソルブ、エトキシエタノール、酢酸エチ
ル、エチルホルメートおよびこれらの混合物である。最
適の湿潤は極性溶媒添加物としてのエタノールによって
得られる。一般に、加水分解シラン溶液に加える極性溶
媒の量は溶液の総重量基準で約95％より小である。

任意の適当な方法を用いて加水分解シラン溶液を金属伝
導性アノード層の金属酸化物層に適用することができ
る。典型的な適用方法にはスプレー法、ディップコーテ
ィング法、ロールコーティング法、ワイヤー巻き棒コー
ティング法等がある。加水分解シラン水溶液は金属酸化
物層への適用前に調製することが好ましいけれども、シ
ランを直接金属酸化物層に適用し、付着させたシランコ
ーティングを水蒸気で処理してその場でシランを加水分
解して金属酸化物層表面上に上述のpH範囲の加水分解シ
ラン溶液を調製してもよい。水蒸気はスチームまたは湿
潤空気の形であり得る。一般的には、満足できる結果は
加水分解シランと金属酸化物との反応生成物が約20〜約
2,000オングストロームの厚さを有する層を形成すると
きに得ることができる。反応生成物層がそれより薄くな
るときには、サイクル操作の不安定性が増大し始める。
反応生成物層の厚さが増大するときには、反応生成物層
は非伝導性となり残留電荷が電子の捕捉のために増大し
がりであり、厚目の反応生成物膜はもろくなりやすい。
もろいコーティングは、勿論、可撓性感光体用に特に高
速高容量複写機およびプリンターにおいて適していな
い。

金属酸化物層上の加水分解シランの乾燥または硬化はお
よそ室温よりも高い温度で行ってより均一な電気的性
質、加水分解シランのシロキサンへのより完全な転化お
よびより少ない未反応シラノールを有する反応生成物を
得るべきである。一般に、約100℃〜約150℃の反応温度
が電気化学特性の最大安定のために好ましい。使用温度
はある程度使用する特定の金属酸化物層に依存しまた基
体の温度感受性によって制限される。最適の電気化学安
定性を有する反応生成物層は反応を約135℃の温度で行
ったときに得られる。反応温度はオーブン、強制送風
炉、放射加熱ランプ等のような任意の適当な方法によっ
て維持し得る。

反応時間は使用する反応温度による。即ち、短い反応時
間は高反応温度を用いたとき必要である。一般に、反応
時間の増大は加水分解シランの架橋度を増大させる。満
足できる結果は約0.5〜約45分の反応時間により昇温下
で達成される。実際的には、十分な架橋は、水溶液のpH
が約４〜約10に維持されている限り、反応生成物層を乾
燥させる時間によって達成される。

反応は大気圧または真空下を包含する任意の適当な圧力
下で行い得る。反応を大気圧以下で行うとき必要な熱エ
ネルギーは小さい。

十分な縮合または架橋が起って装置環境内で安定な電気
化学特性を有するシロキサン反応生成物膜を形成してい
るかどうかは単にシロキサン反応生成物膜を水、トルエ
ン、テトラヒドロフラン、塩化メチレンまたはシクロヘ
キサンで洗浄し洗浄したシロキサン反応生成物膜を試験
して約1,000〜約1,200mm^-1のSi−Ｏ−波長バンドの赤外
吸収を比較することによって容易に測定できる。Si−Ｏ
−波長バンドを見ることができる場合には、反応度は十
分である、即ち、バンド中のピークが１つの赤外吸収試
験から次の試験において消失しないならば、十分な縮合
および架橋が生じている。部分重合反応生成物が同じ分
子にシロキサンとシラノール部位を含んでいるものと信
じている。“部分重合”なる表現は完全重合が通常は最
も厳しい乾燥または硬化条件においてさえも達成されな
いために用いている。加水分解シランは金属酸化物層の
孔中の金属水酸化物分子と反応しているようである。こ
のシランコーティングはL.A.トイスチャー等の米国特許
第4,464,450号に記載されており、該米国特許の記載は
すべて本明細書に引用する。

ブロッキング層は連続性でありまた約0.5μｍより小さ
い厚さを有すべきである。何故ならば、それより大きい
厚さは望ましくない高残留電圧をもたらし得るからであ
る。約0.005〜約0.3μｍ（50〜3000オングストローム）
のブロッキング層が露光段階後の電荷中和を容易にし最
適電気性能が得られるので好ましい。約0.03μｍ〜約0.
06μｍの厚さが最適の電気的挙動のためにジルコニウム
酸化物層にとって好ましい。最適の結果はシロキサンブ
ロッキング層によって得られる。ブロッキング層はスプ
レー法、ディップコーティング法、引伸し棒コーティン
グ法、グラビアコーティング法、シルクスクリーニング
法、エアナイフコーティング法、リバースロールコーテ
ィング法、真空蒸着法、化学処理法等の任意の適当な通
常方法によって適用できる。薄層を得るためには、ブロ
ッキング層は稀溶液の形で適用するのが好ましく、溶媒
はコーティングの適用後真空、加熱等によるような通常
の方法によって除去する。一般に、約0.05:100〜約0.5:
100のブロッキング層物質と溶媒の重量比がスプレーコ
ーティングにおいて満足できる。

接着層は正孔ブロッキング層に適用する。ポリエステル
樹脂を含有する接着層は従来技術において開示されてい
る。デュポン49,000（デュポンデネモアス社より入手で
きる）として公知の１つの従来技術ポリエステル樹脂接
着層は４種のジ酸とエチレングリコールの線状飽和コポ
リエステル反応生成物である。この線状飽和コポリエス
テルの分子構造は次式： で示され、該コポリエステル中のジ酸対エチレングリコ
ールのモル比は1:1である。ジ酸はテレフタル酸、イソ
フタル酸、アジピン酸およびアゼライン酸である。テレ
フタル酸対イソフタル酸対アジピン酸：アゼライン酸の
モル比は4:4:1:1である。これらの酸およびエチレング
リコールの分子構造は次のとおりである。

デュポン49,000線状飽和コポリエステルは上述した比で
のエチレングリコールと４種のランダムに配列したジ酸
の交互モノマー単位からなり、約70,000の重量平均分子
量と約32℃のTgを有する。デュポン49,000線状飽和コポ
リエステル接着層中のアルキレン基含有ジ酸の存在は小
直径ロール上を移動中の多層型感光体のはがれに貢献し
ているものと信じている。

本発明のポリエステル接着層は次の構造式： （式中、ジ酸はテレフタル酸、イソフタル酸およびこれ
らの混合物から選ばれ、ジオールはエチレングリコー
ル、2,2−ジメチルプロパンおよびこれらの混合物から
なる群より選ばれ、ｎは約175〜約350の数である） を有するコポリエステル樹脂を接着層の総重量基準で少
なくとも約90重量％以上を含み、このコポリエステル樹
脂のTgは約50℃〜約80℃である。上記構造を有する典型
的なポリエステル樹脂には、例えば、バイテル（Vite
l）PE-100、バイテルPE-200、バイテルPE-200D、および
バイテルPE-222があり、いずれもグッドイヤータイヤア
ンドラバー社より入手できる。このポリエステル樹脂を
含む接着層をブロッキング層に適用する。本発明の接着
層は連続であるべきで、好ましくは約200〜約900μｍ好
ましくは約400〜約700μｍの厚さを有する。約200オン
グストロームより小さい厚さでは、励起層とブロッキン
グ層間の接着が乏しく、感光体ベルトがロールまたは曲
り滑りプレートのような小直径支持体上を移動するとき
はがれが生じる。本発明の接着層の厚さが約900オング
ストロームより大きいときには、過度の残留電荷蓄積が
長時間のサイクル操作中に見られる。任意の適当な溶媒
または溶媒混合物を用いて上記ポリエステルのコーティ
ング溶液を調製できる。典型的な溶媒には、テトラヒド
ロフラン、トルエン、塩化メチレン、シクロヘキサン
等、およびこれらの混合物がある。一般に、グラビアコ
ーティング法により約900オングストロームまたはそれ
以下の連続接着層厚を得るためには、固形分濃度がポリ
エステルと溶媒とのコーティング混合物の総重量基準で
約２〜約５重量％でなることが必要である。しかしなが
ら、任意の他の適当な通常の方法を用いて混合しその後
本発明の接着層コーティング混合物を電荷ブロッキング
層に適用することもできる。典型的な適用法にはスプレ
ー法、ディップコーティング法、ロールコーティング
法、ワイヤー巻き棒コーティング法等がある。適用した
コーティングの乾燥はオーブン乾燥、赤外線照射乾燥、
空乾等の任意の適当な技術によって行い得る。

本発明の接着層は、接着層の総重量基準で、少なくとも
約90重量％の本発明のコポリエステル樹脂を含み、小直
径ロール（例えば、19mm）上での感光体ベルトの移送お
よびブレードクリーニングを含む使用のための適切な接
着強度を達成する。

本発明の接着層に用いるポリエステル樹脂の１つの例は
バイテルPE-100としてグッドイヤータイヤアンドラバー
社より入手できるコポリエステルである。このポリエス
テル樹脂は２種のジ酸とエチレングリコールとの線状飽
和コポリエステルである。この線状飽和ポリエステルの
分子構造は次式： で示され、このコポリエステル中のジ酸対エチレングリ
コールの比は1:1である。ジ酸はテレフタル酸とイソフ
タル酸である。テレフタル酸とイソフタル酸の比は3:2
である。これら酸とエチレングリコールの分子構造は前
述したとおりである。バイテルPE100線状飽和コポリエ
ステルは上記比のエチレングリコールと２種のランダム
配列のジ酸の交互モノマー単位からなり、約50,000の分
子量と約71℃のTgを有する。

本発明のもう１つのポリエステル樹脂接着層はバイテル
PE-200としてグッドイヤータイヤアンドラバー社より入
手できる。このポリエステル樹脂は２種のジ酸と２種の
ジオールの線状飽和ポリエステルである。この線状飽和
コポリエステルの分子構造は次式： で示され、該コポリエステル中のジ酸とエチレングリコ
ールの比は1:1である。ジ酸はテレフタル酸とイソフタ
ル酸である。テレフタル酸対イソフタル酸の比は1.2:1
である。これらの酸およびエチレングリコールの分子構
造は前述したとおりである。２種のジオールはエチレン
グリコールと2,2−ジメチルプロパンジオールである。
エチレングリコール対ジメチルプロパンジオールの比は
1.33:1である。エチレングリコールの分子構造は前述し
たとおりであり、ジメチルプロパンジオールの分子構造
は次のとおりである： グッドイヤーPE-200線状飽和コポリエステルは上述した
比での２種のジ酸と２種のジオールのランダム交互モノ
マー単位からなり約45,000の分子量と約67℃のTgからな
る。

本発明のポリエステル樹脂が誘導されるジ酸はテレフタ
ル酸とイソフタル酸のみである。本発明のポリエステル
樹脂が誘導されるジオールにはエチレングリコールがあ
る。2,2−ジメチルプロパンジオールのような他のグリ
コールもまたエチレングリコールと組合せて用いて本発
明のポリエステル樹脂を調製できる。上記接着層ポリエ
ステルとアミノシロキサンブロッキング層の結合は酸−
塩基界面結合の形成により誘導されさらに強力な親ヌク
レオ反応（nucleophilic interaction）により補強され
て極めて耐久性のある感光体を形成しているものと信じ
ている。

ある場合においては、ブロッキング層と隣接の励起層の
間の中間層が接着性を改良するためあるいは電気的バリ
ヤー層として機能するために望まれる。そのような層を
用いる場合には、それらの層は好ましくは約0.04〜約５
ミクロンの乾燥厚さを有する。典型的な接着層にはポリ
エステル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリド
ン、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリメチルメタ
クリレート、およびこれらの混合物等のフィルム形成性
ポリマーがある。

任意の適当な光励起層をブロッキング層または中間層に
適用でき、次いでこれに前述したような連続正孔移送層
をオーバーコーティングできる。光励起層の例にはフィ
ルム形成性バインダー中に分散させた、無定形セレン、
三方晶セレン、およびセレン−テルル、セレン−テルル
−ひ素、セレン−ひ素およびこれらの混合物からなる群
より選ばれたセレン合金のような無機光導電性粒子；お
よび米国特許第3,357,989号に記載されているＸ形無金
属フタロシアニン、バナジルフタロシアニンおよび銅フ
タロシアニンのような金属フタロシアニンのような種々
のフタロシアニン類；商品名モナストラルレッド、モナ
ストラルバイオレットおよびモナストラルレッドＹとし
てデュポン社より入手できるキナクリドン類；ジブロモ
およびアントロン顔料の商品名であるバットオレンジ１
およびバットオレンジ3;ベンズイミダゾールペリーレ
ン；米国特許第3,442,781号に記載されている置換2,4−
ジアミノ−トリアジン類；商品名インドファーストダブ
ルスカーレット、インドファーストバイオレットレーキ
Ｂ、インドファーストブリリアントスカーレットおよび
インドファーストオレンジとしてアライドケミカル社よ
り入手できる多核芳香族キノン類等の有機光導電性粒子
がある。セレン、セレン合金、ベンズイミダゾールペリ
ーレンおよびこれらの混合物等は連続した均質系の光励
起層として形成できる。ベンズイミダゾールペリーレン
化合物は周知であり、例えば、米国特許第4,587,189号
に記載されており、その記載はすべて参考として本明細
書に引用する。複数の光励起層化合物は光導電性層が光
励起層の性質を増減させる場合に使用できる。このタイ
プの形状の例は米国特許第4,415,639号に記載されてお
り、その記載はすべて参考として本明細書に引用する。
当該技術において公知の他の適当な光励起材料も必要な
らば使用できる。バナジルフタロシアニン、無金属フタ
ロシアニン、ベンズイミダゾールペリーレン、無定形セ
レン、三方晶セレン、セレン−テルル、セレン−テルル
−ひ素、セレン−ひ素等のようなセレン合金、およびこ
れらの混合物のような光導電性材料を含む粒子または層
を含む電荷励起をバインダー層はその白色光に対する感
光性故に特に好ましい。バナジルフタロシアニン、無金
属フタロシアニンおよびテルル合金はまたこれらの物質
が赤外線に対して感光性であるという追加の利点を与え
る点でも好ましいものである。

多くの不活性樹脂物質を、例えば、米国特許第3,121,00
6号に記載されているものを包含する光励起バインダー
層に使用できる。該米国特許の記載はすべて参考として
本明細書に引用する。典型的な有機樹脂バインダーには
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウ
レタン、ポリスチレン、ポリアリールエーテル、ポリア
リールスルホン、ポリブタジエン、ボリスルホン、ポリ
エーテルスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リイミド、ポリメチルペンテン、ポリフェニレンスルフ
ァィド、ポリ酢酸ビニル、ポリシロキサン、ポリアクリ
レート、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミ
ド、アミノ樹脂、フェニレンオキサイド樹脂、テレフタ
ル酸樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリスチレ
ン−アクリロニトリルコポリマー、ポリ塩化ビニル、塩
化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、アクリレートコポリ
マー、アルキッド樹脂、セルロース系フィルム形成体、
ポリ（アミド−イミド）、スチレン−ブタジエンコポリ
マー、塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリマー、酢酸ビ
ニル−塩化ビニリデンコポリマー、スチレン−アルキッ
ド樹脂等のような熱可塑性または熱硬化性樹脂がある。

光励起バインダー層中のポリマーの存在は本発明の接着
層中のコポリエステル樹脂の鎖とのポリマー鎖相互浸透
に貢献しそれによって小直径ロール上を移動中のはがれ
に対する抵抗性を向上させているものと信じている。

光励起顔料化合物または顔料は樹脂バインダー組成物中
に種々の量で存在するが、一般的には約５〜約90容量％
の光励起顔料を約10〜約95容量％の樹脂バインダー中に
分散させる。好ましいのは、約20〜約30容量％の光励起
顔料を約70〜約80容量％の樹脂バインダー組成物中に分
散させる。１つの実施態様においては、約８容量％の光
励起顔料を約92容量％の樹脂バインダー組成物中に分散
させる。

光導電性化合物および／または顔料と樹脂バインダー物
質とを含有する光励起層は一般には約0.1〜約5.0μｍの
厚さ範囲にあり、好ましくは約0.3〜約３μｍの厚さを
有する。光励起層厚はバインダー含有量に関連してい
る。高バインダー分組成物は一般に光励起のためには厚
目の層を必要とする。上記範囲外の厚さは本発明の目的
が達成される限りにおいて使用できる。

活性電荷移送層は三方晶セレンバインダー層からの光励
起正孔および電子の注入を支持し、これら正孔または電
子を有機層を通して移送せしめて表面電荷を選択的に放
電させることのできる任意の適当な透明有機ポリマーま
たは非高分子材料を含み得る。この活性電荷移送層は正
孔または電子を移送するように作用するだけでなく、光
導電性層を摩耗および化学浸蝕から保護し従って感光体
像形成部材の操作寿命を延長する。電荷移送層はゼログ
ラフィーで使用できる光波長例えば4000〜8000オングス
トロームに露光したときもし必要ならばわずかな放電性
を示す。従って、電荷移送層は光導電体を使用する領域
での照射に対して実質的に透明である。即ち、活性電荷
移送層は励起層からの光励起正孔の注入を支持する実質
的に非光導電性の材料である。活性移送層は該活性層を
通して露光を行うときに通常透明であり照射光の殆んど
が有効な光励起のために下層の電荷キャリヤー励起層に
よって利用されるようにする。透明基体と共に使用する
ときには、像形成的露光は基体を通して行い、すべての
光が基体を通過する。この場合、活性移送材料は使用波
長領域において透過性である必要はない。本発明におけ
る励起層と組合せた電荷移送層は該移送層上の静電荷が
照射なしでは伝導されない程度に絶縁体である材料であ
る。

活性化電荷移送層は電気的に不活性な高分子物中に分散
させた添加剤として使用できる活性化化合物を含有して
これらの物質を電気的に活性化し得る。これらの化合物
は励起層からの光励起正孔の注入を支持できずまた、こ
れら正孔の移送を行うことのできない高分子物質に添加
し得る。これにより電気的に不活性な高分子材料を励起
層からの光励起正孔の注入を支持しかつこれら正孔の活
性層を通しての移送を可能にして活性層上の表面電荷を
放電できる材料に転換するであろう。

本発明の多層光導電体の２つの電気作動層の１つに用い
る特に好ましい移送層は約25〜約75重量％の少なくとも
１種の電荷移送用芳香族アミン化合物、および約75〜約
25重量％の高分子フィルム形成性樹脂（上記芳香族アミ
ンが可溶性である）とを含む。

電荷移送層形成性混合物は好ましくは一般式： （式中、R₁およびR₂は置換または未置換のフェニル基、
ナフチル基およびポリフェニル基よりなる群より選ばれ
た芳香族基であり、R₃は置換または未置換のアリール
基、１〜18個の炭素原子を含有するアルキル基および３
〜18個の炭素原子を有する脂環式化合物からなる群より
選ばれる） を有する１種以上の化合物の芳香族アミン化合物を含
む。上記の各置換基はNO₂基、CN基等のような遊離形の
電子回収性基（electron withdrawing groups）である
べきである。上記構造式によって示される典型的な芳香
族アミン化合物には次のものがある。

1.次のようなトリフェニルアミン： 2.次のようなビスおよびポリアリールアミン： 3.次のようなビスアリールアミンエーテル： 4.次のようなビスアルキル−アリールアミン： 好ましい芳香族アミン化合物は次の一般的を有する： （式中、R₁およびR₂は前記で定義したとおりであり、R₄
は置換または未置換のビフェニル基、ジフェニルエーテ
ル基、１〜18個の炭素原子を有するアルキル基および３
〜12個の炭素原子を有する脂環式基からなる群より選ば
れる） 各置換基はNO₂基、CN基等のような遊離形の電子回収性
基であるべきである。

電荷励起層の光励起正孔の注入を支持しかつこれらの正
孔を電荷移送層を通して移送することのできる電荷移送
層用の上述の式で示される電荷移送用芳香族アミンの例
には、不活性樹脂バインダー中に分散させたトリフェニ
ルメタン、ビス（４−ジエチルアミン−２−メチルフェ
ニル）フェニルメタン、４′−４″−ビス（ジエチルア
ミノ）−２′,2″−ジメチルトリフェニルメタン、N,
N′−ビス（アルキルフェニル）−〔1,1′−ビフェニ
ル〕−4,4′−ジアミン（式中、アルキルは、例えば、
メチル、エチル、プロピル、Ｎ−ブチル等である）、N,
N′−ジフェニル−N,N′−ビス（クロロフェニル）−
〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン、N,N′−ジ
フェニル−N,N′−ビス（３″−メチルフェニル）−
（1,1′−ビフェニル）−4,4′−ジアミン等である。

塩化メチレンまたは他の適当な溶媒に可溶な任意の適当
な不活性樹脂バインダーが本発明において使用できる。
塩化メチレンに可溶性の典型的な不活性樹脂バインダー
にはポリカーボネート樹脂、ポリビニルカルバゾール、
ポリエステル、ポリアリレート、ポリアクリレート、ポ
リエーテル、ポリスルホン等がある。分子量は約20,000
〜約1,500,000で変化し得る。

好ましい電気的に不活性な樹脂材料は分子量約20,000〜
約120,000好ましくは約50,000〜約100,000を有するポリ
カーボネート樹脂である。電気的に不活性な樹脂材料と
して最も好ましい材料はジェネラルエレクトリック社よ
りレクサン（Lexan）145として入手できる分子量約35,0
00〜約40,000を有するポリ（4,4′−ジプロピリデン−
ジフェニルレンカーボネート）；ジェネラルエレクトリ
ック社からレクサン141として入手できる分子量約40,00
0〜約45,000を有するポリ（4,4′−イソプロピリデン−
ジフェニレンカーボネート）；バイエル社からマクロロ
ン（Makrolon）として入手できる約50,000〜約100,000
の分子量を有するポリカーボネート樹脂；およびモーベ
イケミカル社よりメルロン（Merlon）として入手できる
分子量約20,000〜約50,000を有するポリカーボネート樹
脂がある。塩化メチレン溶媒は成分すべてを適切に溶解
しまたその低沸点により電荷移送層コーティング混合物
の１つの望ましい成分である。

少なくとも２つの電気作動層を有する感光性部材の例に
は、米国特許第4,265,990号、第4,233,384号、第4,306,
008号、第4,299,897号および第4,439,507号に記載され
ている電荷励起体層とジアミン含有移送層を含む部材が
包含される。これら米国特許の記載はすべて参考として
本明細書に引用する。

特に好ましい多層型光導電体は光導電性物質のバインダ
ー層を含む電荷励起層と約20,000〜約120,000の分子量
を有し約25〜約75重量％の次の一般式を有する１種以上
の化合物を分散させたポリカーボネート樹脂材料の連続
正孔移送層とを含む： （式中、Ｘは１〜４個の炭素原子を含有するアルキル基
および塩素からなる群より選ばれる） 光導電性層は正孔の励起および正孔の注入能力を示し、
正孔移送層は光導電性層が光励起正孔を励起し注入する
スペクトル領域で実質的に非吸収性であるが光導電性層
からの光励起正孔の注入を支持しこれらの正孔を該正孔
移送層を通して移送することのできるものである。

任意の適当な通常の方法を電荷移送層コーティング混合
物を混合しその後電荷励起層に適用するのに使用するこ
とができる。典型的な適用方法にはスプレー法、ディッ
プコーティング法、ロールコーティング法、ワイヤー巻
き棒コーティング法等がある。適用したコーティングの
乾燥はオーブン乾燥、赤外線照射乾燥、空乾等の任意の
適当な通常の方法によって行い得る。一般的に、移送層
の厚さは約５〜約100μｍであるがこの範囲外の厚さも
また使用できる。

一般に、正孔移送層の厚さは約５〜約100μｍである
が、この範囲外の厚さもまた使用できる。正孔移送層は
その上の静電荷が静電潜像の形成と残留を防げるに十分
な速度での照射の不存在下では伝導しない程度に絶縁体
であるべきである。一般には、正孔移送層対電荷励起層
の厚さの比は約2:1〜200:1であり、ある場合には400:1
程大きい。

例えば、フィルム形成性バインダー中に分散させた伝導
性粉子を含む通常の基ストリップ（ground strips）の
ような他の層も感光体の端部にジルコニウム層、ブロッ
キング層、接着層または電荷励起層に接触させて適用さ
せ得る。

必要ならば、オーバーコーティング層も摩耗に対する抵
抗性を改良するのに使用することができる。ある場合に
おいては、裏打ちコーティングを感光体の反対面に施し
て平坦さおよび／または耐摩耗性を付与させ得る。これ
らのオーバーコーティングまたは裏打ちコーティング層
は電気絶縁性またはわずかに半導性である有機ポリマー
または無機ポリマーを含み得る。

以下、本発明の方法および装置は添付図面を参照するこ
とによってより完全に理解されるであろう。

第１図においては、抗カール性裏打ちコーティング１、
支持基体２、伝導性基平面３、アミノシラン正孔ブロッ
キング層４、接着層５、電荷励起層６および電荷移送層
７とを有する感光体が例示されている。

本発明の電子写真部材は活性化電磁線に像形成的に露光
する前に負帯電を用いる任意の適当な通常の電子写真像
形成法において使用できる。電子写真部材の像形成表面
を負電荷で均一に帯電し活性化電磁線に像形成的に露光
させた場合、通常の正または逆転現像法を用いて本発明
の電子写真像形成部材の像形成表面上にマーキング材料
像を形成できる。即ち、適当な電気バイアスを適用し適
当な極性の電荷を有するトナーを用いることによって、
本発明の電子写真部材の像形成表面上の負帯電領域また
は放電領域にトナー像を形成できる。さらに詳細には、
正現像法においては、正帯電トナー粒子が像形成表面の
負帯電静電領域に引き付けられ、逆転現像法において
は、負帯電トナー粒子が像形成表面の放電領域に引き付
けられる。

本発明の電子写真部材は切断およびサイクル操作中のは
がれに対する大きい抵抗性、サイクル操作中の液体現像
中の成分浸出に対する改良された抵抗性およびサイクル
操作中の高継目一体性とを示す。

〔実施例〕

以下、本発明を特定の好ましい実施態様に関連して詳細
に説明するが、これらの実施例は単に例示を目的とする
ものであり、本発明をこれら実施例に示した材料、条
件、プロセスパラメーター等に限定するものではないこ
とを理解されたい。すべての部およびパーセントは特に
断わらない限り重量による。

実施例１ ポリエステル膜を約200オングストロームの厚さを有す
るチタン層で真空コーティングした。チタン層の露出表
面を周囲雰囲気で酸素にさらすことによって酸化させ
た。シロキサン正孔ブロッキング層を３−アミノプロピ
ルトリエトキシシランの0.22％（0.001モル）溶液をグ
ラビアアプリケーターにより上記アルミニウム層の酸化
表面に適用することによって調製した。付着コーティン
グを強制送風炉中で135℃で乾燥させて450オングストロ
ームの厚さを有する層を形成した。ポリエステル樹脂
（E.I.デュポンデネモアス社より入手できる）のコーテ
ィングをグラビアアプリケーターにより上記シロキサン
コーティングベースに適用した。ポリエステル樹脂コー
ティングを乾燥させて約0.05μｍの厚さを有する膜を形
成させた。テトラヒドロフランとトルエンの1:1容量混
合物中の粒度約0.05〜0.2μｍを有するナトリウムドー
ピング三方晶セレン３重量％、ポリビニルカルバゾール
6.8重量％およびN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３
−メチルフェニル）−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′ジ
アミン2.4重量％のスラリーコーティング溶液を上記ポ
リエステルコーティング上に押出しコーティングして26
μｍの湿潤厚さを有する層を形成した。コーティングし
た部材を強制送風炉中で135℃で乾燥させて2.5μｍの厚
さを有する層を形成させた。このコーティングしたウェ
ブをバイエル社より入手できる分子量約50,000〜約100,
000を有するポリカーボネート樹脂中に６種の異なるN,
N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニル）
−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン含有量を有
する移送層のコーティング行うために６種のロットに分
割した。６種の電電移送層は上記の６ロットの電荷励起
層上に分子量約50,000〜約100,000を有するポリカーボ
ネート樹脂（マクロロン、バイエル社より入手可能）と
N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニ
ル）−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンの塩化
メチレン中に溶解した溶液を、最終的には、６ロットの
乾燥移送層においてそれぞれ50、40、30、20、10および
５重量％含有量のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３
−メチルフェニル）−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−
ジアミンを与えるように適用することによって形成させ
た。各移送層は励起体上にバードアプリケーターにより
コーティングし約135℃の温度で乾燥して正孔移送材料
の24μｍ厚の乾燥層を形成させた。抗カール性裏打ちコ
ーティングも適用した。

実施例２ 実施例１で記載したようにして作製した６ロットからの
各サンプル感光体を0.8インチ（約20.3mm）直径ロール
の周りに巻き付け約３週間鉱油で浸した不織布と接触さ
せた。表面クラッキングが50％、40％および30％含有量
のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニ
ル）−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンを含有
するサンプルにおいて見られたが、20％、10％および５
％含有量のサンプルにおいては表面クラッキングはなか
った。

実施例３ 実施例で記載したようにして作製した各６ロットのサン
プル感光体を直径約3.25インチ（8.3cm）を有する円筒
状アルミニウムドラムを含み該ドラムの周りに取り付け
たコロトロン、消去ランプおよびプローブを有する静電
複写スキャナー試験装置中で試験した。各感光体サンプ
ルはドラムに貼り付けた。ドラムは3.43インチ／秒（8.
7cm/秒）の一定表面速度で駆動した。各感光体を帯電前
に一夜暗中に保持した。各々を次いで負コロナ帯電させ
−800ボルトの現像電位とした。コロトロンはモンロエ
コロナトロール（Monroe Coronatrol）によって制御し
た。その後、各感光体を約250エルグ／cm²の光に露光す
ることによって放電（消去）した。次いで、各感光体を
100像形成サイクルの等価寿命試験に供した。表面電位E
_Oおよび残留電位E_Rを100サイクル後各感光体において測
定し電場強度およびボルト／ミクロンに関してプロット
した（第２図参照）。測定は感光体およびコロトロンに
隣接したプローブにより帯電0.3秒後に行った。プロー
ブはケースリー610Bエレクトロメーターに接続させ、そ
の出力をヒューレットパッカーレコーダーモデル7402A
に伝達させた。第２図に示すように、30％N,N′−ジフ
ェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニル）−〔1,1′
−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン含有量の感光体は理
想電気特性からE_OおよびE_Rにおいてわずかな（ただし、
測定可能な）劣下を示した。しかしながら、40〜50％含
有量のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフ
ェニル）−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンを
含む感光体においては電気特性に有意の差異は見られな
かった。

実施例４ 実施例１で記載したようにして作製した各６ロットのサ
ンプル感光体を、該サンプル〔9.5インチ（24.1cm）直
径のアルミニウム円筒体に貼り付けた〕を30インチ／秒
（7.62cm/秒）の一定速度で駆動させる静電複写スキャ
ンナー装置中で試験した。コロトロン、露出光、消去光
およびプローブは各取付け感光体サンプルの周りに取り
付けた。各プローブの相対的位置は以下の第１表に示
す。

各感光体は帯電前に15分間暗中に保持した。次いで各々
を暗中で負コロナ帯電して−900ボルトの現像電位とし
た。（ただし、10％ジアミン含有感光体においてはそれ
より高く帯電させた）。その後、各感光体を光強度約3.
8エルグ／cm²の光を用いて試験像に像形成的に露光し
た。得られた負帯電静電潜像を約200エルグ／cm²の光に
露光することによって放電（消去）させた。各感光体の
光誘起放電特性（PIDC）をプロットした（第３図〜第７
図参照）。各図において行った測定値を以下の各表に示
す。

５％サンプルの測定は実験困難により省略した。PIDC測
定は30重量％含有量のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス
（３−メチルフェニル）−〔1,1′−ビフェニル〕−4,
4′−ジアミンはコントロール（対照）から背影電位に
おいて検知し得る増加を示し、一方40および50重量％含
有量を有する感光体の測定した背景電位値は同じであっ
た。実施例３および４で得られた結果は30重量％含有量
のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニ
ル）−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンがコン
トロールから残留電位における検知可能な増大を示し、
これが高品質静電複写用に不適当なものとしているが、
35重量％含有量のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３
−メチルフェニル）−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−
ジアミンは約10〜15ボルトより小さい残留電位を必要と
する高品質静電複写用に限界的に適するものと考えるこ
とができた。

実施例５ サンプル移送層をテフロン表面上に注型コーティングす
ることによって作製し、得られたフィルムをインストロ
ンメカニカルテスティングディバイス（Instron Mechan
ical Testing Device）により機械的性質について試験
し移送層の引っ張りモジュラスと破壊伸度を測定し、ま
たディファレンシャルスキャンニングカロリメーターを
用いて移送層のTgを測定した。N,N′−ジフェニル−N,
N′−ビス（３−メチルフェニル）−〔1,1′−ビフェニ
ル〕−4,4′−ジアミンの種々の％含有量に対する機械
的性質の相関を第７表に示す。

第７表に示すとおり、電荷移送層の破壊伸度はN,N′−
ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニル）−
〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン含有量が50％
から40％に減少するにつれ4.5％から７％に増大した。
このことは1.6倍の改善を示す。

実施例６ 感光体を実施例１に記載したようにして作製したが、６
種の電荷移送層を６種の異なるロットの電荷移送層上に
分子量約50,000〜約100,000を有するポリカーボネート
樹脂（マクロロン、バイエル社より入手可能）とN,N′
−ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニル）−
〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンの塩化メチレ
ンに溶解した溶液の６種の異なる混合物を最終的に50、
40、30、20、10および０重量％のN,N′−ジフェニル−
N,N′−ビス（３−メチルフェニル）−〔1,1′−ビフェ
ニル〕−4,4′−ジアミン含有量（それぞれ、６ロット
の乾燥移送層において）を与えるように適用することに
よって形成させた。これらの感光体をインストロンメカ
ニカルテスティングディバイスを用いて各感光体を引き
伸すことによって電荷移送層クラッキング伸度について
試験した。移送層の破壊伸度は移送層中のN,N′−ジフ
ェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニル）−〔1,1′
−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンが50％から40％に減
少するにつれ4.5％から７％に増大した。このことは1.6
倍の改善を示す。さらに、40重量％のN,N′−ジフェニ
ル−N,N′−ビス（３−メチルフェニル）−〔1,1′−ビ
フェニル〕−4,4′−ジアミンを含有する感光体ベルト
の0.75インチ（19mm）および1.0インチ（25.4mm）の直
径を有する各ロール上でのサイクル操作は50重量％N,
N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニル）
−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンを含有する
感光体ベルトで見られたよりも約２倍のクラッキング向
上を示した。

実施例７ 感光体を実施例１に記載したようにして作製したが、電
荷移送層を押出コーティングし、２種の異なる接着層を
２種のロットの各アミノシロキサン層上に形成させた。
乾燥接着層の１つは500オングストローム厚を有する490
00ポリエステルを含んでおり、他の乾燥接着層は厚さ50
0オングストロームを有するバイテルPE-100ポリエステ
ル樹脂（グッドイヤータイヤアンドラバー社より入手可
能）を含んでいた。各電荷移送層は約50重量％のN,N′
−ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニル）−
〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンを含んでい
た。これらの感光体ベルトをコロナ帯電、光露光、磁性
ブラシ現像、静電転写およびブレードクリーニングを用
いる静電複写像形成装置内で直径19mmを有するロール上
でサイクル操作することによって継目はがれに対する抵
抗性について試験した。デュポン49000接着層を有する
感光体の継目は3,000像形成サイクル後に分離したのに
対し、PE-100接着層を有する感光体は50,000サイクルで
強固な継目を有していた。

実施例８ ８枚のポリエステルフィルムをそれぞれ約200オングス
トロームの厚さを有するチタン層でコーティングした。
各ポリエステルフィルム上のチタン層の露出表面は周囲
雰囲気の酸素にさらすことによって酸化させた。シロキ
サン正孔ブロッキング層を３−アミノプロピルトリエト
キシシランの0.22％（0.001モル）溶液を各ポリエステ
ルフィルム上のアルミニウム層の酸化表面にグラビアア
プリケーターでもって適用することにより調製した。付
着コーティングを強制送風炉中で135℃で乾燥させて各
ポリエステルフィルム上に450オングストロームの厚さ
を有する層を形成させた。ポリエステル樹脂（バイテル
PE-100、グッドイヤータイヤアンドラバー社より入手可
能）のコーティングをグラビアアプリケーターにより上
記各ポリエステルフィルム上のシロキサンコーティング
ベースに適用した。乾燥後のコーティングポリエステル
膜の厚さは８枚のポリエステルフィルム毎に異なり約20
0オングストローム〜約900オングストロームの範囲であ
った。粒度約0.05〜0.2μｍを有するナトリウムドーピ
ング三方晶セレン３重量％、ポリビニルカルバゾール約
6.8重量％およびN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス（３
−メチルフェニル）−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−
ジアミン2.4重量％のテトラヒドロフランとトルエンの
1:1容量混合物中スラリーコーティング溶液を各ポリエ
ステルコーティング上に押出コーティングして26μｍの
湿潤厚さを有する層を形成させた。コーティングした部
材を強制送風炉中で135℃で乾燥させて2.3μｍの厚さを
有する層を形成させた。これらのコーティングウェブ
を、各々、バイエル社より入手できる分子量約50,000〜
約100,000を有するポリカーボネート樹脂中にN,N′−ジ
フェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニル）−〔1,
1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンを含有する移送層
をコーティングした。各ウェブ上の電荷移送層は上記電
荷励起層上に塩化メチレン中に溶解したバイエル社から
入手できる分子量約50,000〜約100,000を有するマクロ
ロン、ポリカーボネート樹脂とN,N′−ジフェニル−N,
N′−ビス（３−メチルフェニル）−〔1,1′−ビフェニ
ル〕−4,4′−ジアミンの溶液を、最終的に、乾燥移送
層中に50重量％含有量のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビ
ス（３−メチルフェニル）−〔1,1′−ビフェニル〕−
4,4′−ジアミンを与えるように適用することによって
形成させた。移送層は上記励起層上に押出コーティング
し約135℃で乾燥させて各ウェブ上に正孔移送層の24μ
ｍ厚の乾燥層を形成させた。次いで、各感光体を切断し
溶接して連続ベルトを形成させた。この方法をもう１つ
のポリエステルフィルムで繰返したが、乾燥厚さ約400
オングストロームを有するポリエステル樹脂（E.I.デュ
ポンネモアス社より入手できる）のコーティングをバイ
テルPE-100の代りに用いてコントロールサンプルを調製
した。これらの感光体サンプルをインストロンメカニカ
ルテスティングデバイスを用いて180°はがれ測定によ
りはがれ強度について試験した。はがれ強度試験の結果
は第８図に示す。曲線Ａは接着層中にバイテルPE-100を
含む感光体を示し、点Ｂは接着層中に49000ポリエステ
ルを含む感光体を示す。第８図に示した結果はPE-100層
が49,000コントロールよりも1.9倍大きいはがれ強度を
生じていることを示している。はがれ強度はバイテルPE
-100厚の増大とともに増大し725オングストロームの厚
さで18g/cmの一定値に達した。ポリエステル接着層厚さ
についての観察されたはがれ強度依存性ははがれ分離中
のポリエステル接着層内でのエネルギー消散に一部基づ
くものであるが、それにもかかわらず、はがれ強度に対
するこの貢献は30μｍより薄い接着層にとっては極めて
小さく無視できるものと予想される。しかも、約500オ
ングストロームのバイテルPE-100接着層厚を有する本実
施例で記載したようにして作製したベルトにおいては、
コロナ帯電、光露光、磁性ブラシ現像、静電転写および
ブレードクリーニングを用いる静電複写像形成装置内で
の19mm直径ロール上（180°巻き付け）での65時間サイ
クル操作後、継目のはがれは観察されなかった。

実施例９ 実施例８に記載したようにして、約400オングストロー
ムのポリエステル樹脂（バイテルPE-100）接着層厚さを
有する感光体を作製し、この感光体サンプル（直径9.5
インチ＝24.1cmを有するアルミニウム円筒状に貼り付け
た）を30インチ／秒（76.2cm/秒）の一定速度で駆動さ
せる実施例４で記載した静電複写スキャンナー装置で試
験した。感光体は帯電前に15分間暗中に保持した。次い
で、暗中で負コロナ帯電させ−900ボルトの現像電位と
した。その後、感光体を試験像に光強度約3.8エルグ／c
m²の光を用いて像形成的に露光した。得られた負帯電静
電潜像を約200エルグ／cm²の光に露光することによって
放電（消去）させた。この感光体の電気的性質は実施例
８で記載したコントロールと同じコントロールと実質的
に等価である。

実施例10 ２つの感光体を実施例８で記載したようにして作製し
た。１つは約421オングストロームの厚さを有するポリ
エステル接着層（バイテルPE-100）を含み、他方は約40
0オングストロームの厚さを有するデュポン49000ポリエ
ステル接着層を含み、他のすべての層は同一であった。
各々を各側面に沿って縦方向に細切し、セグメントに切
断し、溶接ベルトに形成した。各溶接ベルトをゼロック
ス1075装置からのベルト駆動モジュール中でサイクル操
作した。49000ポリエステル接着層を有するベルトは約5
00サイクルではがれたのに対し、バイテルPE-100ポリエ
ステル接着層を有するベルトは470,000サイクル以上で
もはがれのきざしを示さなかった。

実施例11 ６つの感光体を実施例１で記載したようにして作製した
が、各移送層は押出コーティングし、３つの感光体は移
送層中に50重量％のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス
（３−メチルフェニル）−〔1,1′−ビフェニル〕−4,
4′−ジアミンおよび接着層中に49000ポリエステル樹脂
を含み、３つの感光体は移送層中に40重量％のN,N′−
ジフェニル−N,N′−ビス（３−メチルフェニル）−
〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンおよび接着層
中にバイテルPE-100ポリエステル樹脂を含んでいた。各
タイプの感光体の１つを静電複写帯電、露光、現像、転
写およびクリーニングの各装置を有する３種の異なる静
電複写装置中でサイクル操作して継目はがれに対する抵
抗性を試験した。各装置は互いに次の点で異っていた。
即ち、装置“A"は19mm直径の感光体支持ロール（ストリ
ッパーロール）、9.5mm半径の曲りスキッドプレートお
よび該支持ロールとスキッドプレートの両方上の180°
ベルト巻き付けを有し、装置“B"は90°ベルト巻き付け
を有する19mm直径感光体支持ロール（ストリッパーロー
ル）を有し、装置“C"は２本の19mm直径感光体支持ロー
ルとこの両支持ロール上の180°ベルト巻き付けを有し
ていた。サイクル操作の結果は第８表のとおりである。

本発明を特定の好ましい実施態様に関連して説明して来
たけれども、本発明をこれらに限定するつもりはなく、
むしろ、当業者ならば本発明の精神および特許請求する
範囲内において多くの変形または修正をなし得ることは
理解されるであろう。

【図面の簡単な説明】 第１図は多層型感光体の略図である。 第２図は正孔移送層中のジアミン濃度に対してプロット
した表面電位E_Oと残留電位E_R（電場強度とボルト／ミク
ロンとして）のグラフである。 第３図〜第７図は正孔移送層中に種々の濃度を有する各
感光体における露光に対してプロットした表面電位を示
すグラフである。 第８図は各感光体の接着層の厚さに対してプロットした
はがれ力のグラフである。 １……裏打ちコーティング、２……支持基体、３……伝
導性基平面、４……正孔ブロッキング層、５……接着
層、６……電荷励起層、７……電荷移送層。

フロントページの続き (72)発明者 ドナルド ピー サリヴァン アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14618 ロチェスター チャドウィック ドライ ヴ 20 (72)発明者 ジョン エイ バーグフィオード アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14502 マセドン ターナー レーン 494

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】電導性表面を有する可撓性基体；アミノシ
   ラン反応生成物を含む正孔ブロッキング層；約200オン
   グストローム〜約900オングストロームの厚さを有し少
   なくとも１種のジ酸と少なくとも１種のジオールとの少
   なくとも１種のコポリエステル樹脂反応生成物から本質
   的になる接着層；フィルム形成性高分子成分を含む電荷
   励起層；および正孔移送層を含み、該正孔移送層は上記
   電荷励起層が光励起正孔を励起し注入するスペクトル領
   域で実質的に非吸収性であるが上記電荷励起層からの光
   励起正孔の注入を支持することができ、かつ上記電荷移
   送層を通して正孔を移送することができ、上記コポリエ
   ステル樹脂は次の式： （式中、上記ジ酸はテレフタル酸、イソフタル酸および
   これらの混合物から選ばれ、上記ジオールはエチレング
   リコールを含み、上記ジ酸対ジオールのモル比は約1:1
   であり、ｎは約175〜約350の間の数である） を有し、上記コポリエステル樹脂のTgは約50℃〜約80℃
   である可撓性電子写真像形成部材。