JPH0724096B2 - 磁気ヘッドの加工方法 - Google Patents
磁気ヘッドの加工方法Info
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- JPH0724096B2 JPH0724096B2 JP4164392A JP16439292A JPH0724096B2 JP H0724096 B2 JPH0724096 B2 JP H0724096B2 JP 4164392 A JP4164392 A JP 4164392A JP 16439292 A JP16439292 A JP 16439292A JP H0724096 B2 JPH0724096 B2 JP H0724096B2
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スライダと磁気変換素
子とを有する磁気ヘッドの加工方法に関し、更に詳しく
は、スライダに備えられる空気ベアリング面の平面形状
制御のための改良に係る。
子とを有する磁気ヘッドの加工方法に関し、更に詳しく
は、スライダに備えられる空気ベアリング面の平面形状
制御のための改良に係る。
【０００２】
【従来の技術】従来より、磁気ディスク装置には、磁気
記録媒体の走行によって生じる動圧を利用して、磁気記
録媒体との間に空気ベアリングを保って動作する磁気ヘ
ッドが用いられている。このような磁気ヘッドは、例え
ば特公昭５８−２８６５０号公報等で公知であり、その
基本的な構成は、媒体対向面側に空気ベアリング面を有
するスライダの空気流出端部側に、磁気変換素子を配置
した構造となっている。
記録媒体の走行によって生じる動圧を利用して、磁気記
録媒体との間に空気ベアリングを保って動作する磁気ヘ
ッドが用いられている。このような磁気ヘッドは、例え
ば特公昭５８−２８６５０号公報等で公知であり、その
基本的な構成は、媒体対向面側に空気ベアリング面を有
するスライダの空気流出端部側に、磁気変換素子を配置
した構造となっている。
【０００３】この種の磁気ヘッドでは、媒体対向面は高
度の平面度を持つように研磨加工されるが、更に、起動
特性や動作特性の改善のために、空気ベアリング面の平
面形状を、微小領域で凸面または凹面となるように制御
しなければならないことも多い。例えば、小型磁気ディ
スク装置では、ディスク起動時のヘッド／媒体間面接触
摩擦によるモータトルク増大を避けるため、浮上特性に
実質的に影響を与えない程度の、僅かに凸面のクラウン
形状となるようなものが要求されることがある。このよ
うな空気ベアリング面の平面形状制御に関して、特公昭
５８−２１３２９号公報には、媒体対向面の表面を機械
研磨する技術が開示されている。特開平１ー１７６３７
６号公報にはスライダの媒体対向面とは反対側の面に硬
化性樹脂を付着させ、その硬化収縮力を利用して、空気
ベアリング面の平面形状を制御する技術が開示されてお
り、特開平１ー２６７８２２号公報には、媒体対向面と
は反対側の面に、比較的幅の広い溝を設け、溝のある部
分と、溝のない部分との間の加工歪差を利用して、空気
ベアリング面の平面度を制御する技術が開示されてい
る。
度の平面度を持つように研磨加工されるが、更に、起動
特性や動作特性の改善のために、空気ベアリング面の平
面形状を、微小領域で凸面または凹面となるように制御
しなければならないことも多い。例えば、小型磁気ディ
スク装置では、ディスク起動時のヘッド／媒体間面接触
摩擦によるモータトルク増大を避けるため、浮上特性に
実質的に影響を与えない程度の、僅かに凸面のクラウン
形状となるようなものが要求されることがある。このよ
うな空気ベアリング面の平面形状制御に関して、特公昭
５８−２１３２９号公報には、媒体対向面の表面を機械
研磨する技術が開示されている。特開平１ー１７６３７
６号公報にはスライダの媒体対向面とは反対側の面に硬
化性樹脂を付着させ、その硬化収縮力を利用して、空気
ベアリング面の平面形状を制御する技術が開示されてお
り、特開平１ー２６７８２２号公報には、媒体対向面と
は反対側の面に、比較的幅の広い溝を設け、溝のある部
分と、溝のない部分との間の加工歪差を利用して、空気
ベアリング面の平面度を制御する技術が開示されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、空気ベ
アリング面の平面制御は極めて微小な領域で行われる。
例えば、クラウン形状として要求される凸面は、１０ｎ
ｍ〜３００ｎｍ前後の微小凸面であり、このような微小
凸面を、特公昭５８−２１３２９号で開示される連続機
械研磨によって付与することは非常に困難である。しか
も、高密度記録対応のための低浮上量化により、スライ
ダが小型化される傾向にあり、機械研磨作業が益々困難
になりつつある。
アリング面の平面制御は極めて微小な領域で行われる。
例えば、クラウン形状として要求される凸面は、１０ｎ
ｍ〜３００ｎｍ前後の微小凸面であり、このような微小
凸面を、特公昭５８−２１３２９号で開示される連続機
械研磨によって付与することは非常に困難である。しか
も、高密度記録対応のための低浮上量化により、スライ
ダが小型化される傾向にあり、機械研磨作業が益々困難
になりつつある。
【０００５】また、硬化性樹脂付着による空気ベアリン
グ面の平面形状制御の場合は、硬化性樹脂の経時変化に
より、空気ベアリング面の平面度が変化してしまう。溝
加工による制御は、溝加工自体の難しい上に、平面制御
量に応じた専用治具が必要であり、全体として、生産性
が悪く、コスト高になる。
グ面の平面形状制御の場合は、硬化性樹脂の経時変化に
より、空気ベアリング面の平面度が変化してしまう。溝
加工による制御は、溝加工自体の難しい上に、平面制御
量に応じた専用治具が必要であり、全体として、生産性
が悪く、コスト高になる。
【０００６】そこで、本発明の課題は、上述する従来技
術の問題点を解決し、空気ベアリング面の平面形状を、
経時変化を生じさせることなく、簡単、かつ、確実に制
御でき、生産性に富むコストの安価な磁気ヘッドの加工
方法を提供することである。
術の問題点を解決し、空気ベアリング面の平面形状を、
経時変化を生じさせることなく、簡単、かつ、確実に制
御でき、生産性に富むコストの安価な磁気ヘッドの加工
方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述した課題解決のた
め、本発明に係る磁気ヘッドの加工方法は、スライダを
含み、前記スライダの媒体対向面側に空気ベアリング面
を有する磁気ヘッドに適用される加工方法であって、前
記スライダの前記空気ベアリング面を除く前記媒体対向
面、または、前記媒体対向面と向き合う反対側の面の少
なくとも一方に加工痕を付与し、前記加工痕によって誘
発される歪によって、前記空気ベアリング面の平面形状
を制御する。
め、本発明に係る磁気ヘッドの加工方法は、スライダを
含み、前記スライダの媒体対向面側に空気ベアリング面
を有する磁気ヘッドに適用される加工方法であって、前
記スライダの前記空気ベアリング面を除く前記媒体対向
面、または、前記媒体対向面と向き合う反対側の面の少
なくとも一方に加工痕を付与し、前記加工痕によって誘
発される歪によって、前記空気ベアリング面の平面形状
を制御する。
【０００８】
【作用】スライダは、空気ベアリング面を除く媒体対向
面に、加工痕を付与すると、加工痕のある部分と、加工
痕のない部分とで、加工歪差を生じ、加工痕の両側で撓
むような加工歪を生じる。この加工歪によりスライダの
空気ベアリング面の平面度が制御される。加工痕は媒体
対向面と向き合う反対側の面に設けてもよい。空気ベア
リング面の平面形状は加工痕の数、位置、深さ、幅及び
形状の選択に応じて、凸面または凹面の何れの方向にも
制御できる。加工痕による平面制御は、空気ベアリング
面を直接研磨加工して平面形状を制御する場合に比べて
極めて容易であり、しかも平面形状を、ｎｍ領域の微小
範囲で容易に制御できる。また、加工痕の方向、数、位
置、深さ、幅及び形状等は経時変化を生じないから、経
時変化による空気ベアリング面の平面形状の変化を生じ
ることがない。
面に、加工痕を付与すると、加工痕のある部分と、加工
痕のない部分とで、加工歪差を生じ、加工痕の両側で撓
むような加工歪を生じる。この加工歪によりスライダの
空気ベアリング面の平面度が制御される。加工痕は媒体
対向面と向き合う反対側の面に設けてもよい。空気ベア
リング面の平面形状は加工痕の数、位置、深さ、幅及び
形状の選択に応じて、凸面または凹面の何れの方向にも
制御できる。加工痕による平面制御は、空気ベアリング
面を直接研磨加工して平面形状を制御する場合に比べて
極めて容易であり、しかも平面形状を、ｎｍ領域の微小
範囲で容易に制御できる。また、加工痕の方向、数、位
置、深さ、幅及び形状等は経時変化を生じないから、経
時変化による空気ベアリング面の平面形状の変化を生じ
ることがない。
【０００９】加工痕は、ダイヤモンド、セラミックもし
くは超硬材料よりなるカッタまたは針状端子により、ス
ライダに機械加工を施して形成するか、レーザ、電子線
もしくはイオンのビームまたは超音波をスライダの必要
な個所に照射して形成するか、または微粒研摩材をスラ
イダに噴射して形成できる。これらの加工痕形成手段に
よれば、加工痕の数、位置、深さ、幅及び形状等を任意
に選定でき、空気ベアリング面を直接研磨加工して平面
形状を制御する場合に比べて、加工作業が極めて容易で
あり、しかもｎｍ領域の微小範囲で容易に制御できる。
くは超硬材料よりなるカッタまたは針状端子により、ス
ライダに機械加工を施して形成するか、レーザ、電子線
もしくはイオンのビームまたは超音波をスライダの必要
な個所に照射して形成するか、または微粒研摩材をスラ
イダに噴射して形成できる。これらの加工痕形成手段に
よれば、加工痕の数、位置、深さ、幅及び形状等を任意
に選定でき、空気ベアリング面を直接研磨加工して平面
形状を制御する場合に比べて、加工作業が極めて容易で
あり、しかもｎｍ領域の微小範囲で容易に制御できる。
【００１０】
【実施例】図１は本発明に係る加工方法によって得られ
た磁気ヘッドの斜視図、図２は図１のＡ２ーＡ２線上に
おける部分拡大断面図である。１はスライダ、２は磁気
変換素子である。スライダ１は媒体対向面側に空気ベア
リング面１１、１２と、空気ベアリング面１１、１２か
ら落ち込む溝１３とを有している。空気ベアリング面１
１、１２及び溝１３はスライダ１の長さ方向に沿って設
けられている。スライダ１の長さ方向は、磁気ディスク
等の磁気記録媒体との組み合わせにおいて、空気の流れ
方向ａと一致する。
た磁気ヘッドの斜視図、図２は図１のＡ２ーＡ２線上に
おける部分拡大断面図である。１はスライダ、２は磁気
変換素子である。スライダ１は媒体対向面側に空気ベア
リング面１１、１２と、空気ベアリング面１１、１２か
ら落ち込む溝１３とを有している。空気ベアリング面１
１、１２及び溝１３はスライダ１の長さ方向に沿って設
けられている。スライダ１の長さ方向は、磁気ディスク
等の磁気記録媒体との組み合わせにおいて、空気の流れ
方向ａと一致する。
【００１１】溝１３は底面に歪みを誘発する微小深さの
加工痕３１〜３ｎを有する。加工痕３１〜３ｎはスライ
ダ１の長さ方向と交差する方向、すなわち幅方向に向か
って設けられている。加工痕３１〜３ｎは、図２に示す
ように断面三角形状に形成したり、或は図３に示すよう
に、断面矩形状に形成することができる。空気ベアリン
グ面１１、１２は平面形状が加工痕３１〜３ｎによって
制御された凸面となっている。磁磁気変換素子２は、空
気の流れ方向ａと一致するスライダ１の長さ方向の一端
側において、スライダ１に備えられている。スライダ１
は、媒体対向面側に２つのレール１４、１５を有し、レ
ール１４、１５の表面を空気ベアリング面１１、１２と
して利用する２レールタイプとなっている。図示は省略
するが、２本以上のレールを有するものであってもよ
い。スライダ１は、周知のセラミック構造体によって形
成されている。例えば、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣまたはフェラ
イト等である。磁気変換素子２は薄膜磁気変換素子で構
成されており、従って、実施例は薄膜磁気ヘッドを示し
ている。２１、２２は取り出し電極である。薄膜磁気変
換素子２は誘導型であってもよいし、磁気抵抗効果素子
を用いたものであってもよい。誘導型の薄膜磁気変換素
子２には、面内記録再生用及び垂直記録再生用の両者が
含まれる。また、薄膜磁気ヘッドに限らず、ウインチェ
スタ型磁気ヘッドやコンポジット型磁気ヘッドであって
もよい。
加工痕３１〜３ｎを有する。加工痕３１〜３ｎはスライ
ダ１の長さ方向と交差する方向、すなわち幅方向に向か
って設けられている。加工痕３１〜３ｎは、図２に示す
ように断面三角形状に形成したり、或は図３に示すよう
に、断面矩形状に形成することができる。空気ベアリン
グ面１１、１２は平面形状が加工痕３１〜３ｎによって
制御された凸面となっている。磁磁気変換素子２は、空
気の流れ方向ａと一致するスライダ１の長さ方向の一端
側において、スライダ１に備えられている。スライダ１
は、媒体対向面側に２つのレール１４、１５を有し、レ
ール１４、１５の表面を空気ベアリング面１１、１２と
して利用する２レールタイプとなっている。図示は省略
するが、２本以上のレールを有するものであってもよ
い。スライダ１は、周知のセラミック構造体によって形
成されている。例えば、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣまたはフェラ
イト等である。磁気変換素子２は薄膜磁気変換素子で構
成されており、従って、実施例は薄膜磁気ヘッドを示し
ている。２１、２２は取り出し電極である。薄膜磁気変
換素子２は誘導型であってもよいし、磁気抵抗効果素子
を用いたものであってもよい。誘導型の薄膜磁気変換素
子２には、面内記録再生用及び垂直記録再生用の両者が
含まれる。また、薄膜磁気ヘッドに限らず、ウインチェ
スタ型磁気ヘッドやコンポジット型磁気ヘッドであって
もよい。
【００１２】上述のように、スライダ１は、空気ベアリ
ング面１１、１２を除く媒体対向面である溝１３に、加
工痕３１〜３ｎを有するから、加工痕３１〜３ｎのある
部分と、加工痕３１〜３ｎのない部分とで、加工歪差を
生じる。図示の場合、加工痕３１〜３ｎは、面上に仮想
された直線の上に乗るように配置されているから、加工
痕３１〜３ｎの乗る直線の両側で撓むような加工歪を生
じる。この加工歪によりスライダ１の空気ベアリング面
１１、１２の平面度が制御される。空気ベアリング面１
１、１２の平面形状は加工痕３１〜３ｎの方向、数、位
置、深さ、幅及び形状の選択に応じて、凸面または凹面
の何れの方向にも制御できる。加工痕３１〜３ｎによる
平面制御は、空気ベアリング面１１，１２を直接研磨加
工して平面形状を制御する場合に比べて極めて容易であ
り、しかも平面形状を、ｎｍ領域の微小範囲で容易に制
御できる。また、加工痕３１〜３ｎの方向、数、位置、
深さ、幅及び形状等は経時変化を生じないから、経時変
化による空気ベアリング面１１、１２の平面形状の変化
を生じることがない。
ング面１１、１２を除く媒体対向面である溝１３に、加
工痕３１〜３ｎを有するから、加工痕３１〜３ｎのある
部分と、加工痕３１〜３ｎのない部分とで、加工歪差を
生じる。図示の場合、加工痕３１〜３ｎは、面上に仮想
された直線の上に乗るように配置されているから、加工
痕３１〜３ｎの乗る直線の両側で撓むような加工歪を生
じる。この加工歪によりスライダ１の空気ベアリング面
１１、１２の平面度が制御される。空気ベアリング面１
１、１２の平面形状は加工痕３１〜３ｎの方向、数、位
置、深さ、幅及び形状の選択に応じて、凸面または凹面
の何れの方向にも制御できる。加工痕３１〜３ｎによる
平面制御は、空気ベアリング面１１，１２を直接研磨加
工して平面形状を制御する場合に比べて極めて容易であ
り、しかも平面形状を、ｎｍ領域の微小範囲で容易に制
御できる。また、加工痕３１〜３ｎの方向、数、位置、
深さ、幅及び形状等は経時変化を生じないから、経時変
化による空気ベアリング面１１、１２の平面形状の変化
を生じることがない。
【００１３】図示の場合、空気ベアリング面１１、１２
及び溝１３は、スライダ１の長さ方向に沿って設けられ
ており、加工痕３１〜３ｎは、スライダ１の長さ方向と
直交する方向に設けられているから、図２に示すごと
く、加工痕３１〜３ｎによる加工歪Ｆ１が、空気ベアリ
ング面１１、１２の平面形状を、スライダ１の長さ方向
に沿って凸面となるように制御する。
及び溝１３は、スライダ１の長さ方向に沿って設けられ
ており、加工痕３１〜３ｎは、スライダ１の長さ方向と
直交する方向に設けられているから、図２に示すごと
く、加工痕３１〜３ｎによる加工歪Ｆ１が、空気ベアリ
ング面１１、１２の平面形状を、スライダ１の長さ方向
に沿って凸面となるように制御する。
【００１４】図４は本発明に係る加工方法によって得ら
れた磁気ヘッドの他の実施例を示す斜視図で、加工痕３
１〜３ｎはスライダ１の長さ方向に沿って設けられてい
る。加工痕３１〜３ｎの誘発する歪みにより、空気ベア
リング面１１、１２は、図１〜図３の場合と異なって、
幅方向に沿って凸面となるように制御される。
れた磁気ヘッドの他の実施例を示す斜視図で、加工痕３
１〜３ｎはスライダ１の長さ方向に沿って設けられてい
る。加工痕３１〜３ｎの誘発する歪みにより、空気ベア
リング面１１、１２は、図１〜図３の場合と異なって、
幅方向に沿って凸面となるように制御される。
【００１５】図５は本発明に係る加工方法によって得ら
れた磁気ヘッドの更に別の実施例を示す図で、加工痕３
１〜３ｎは媒体対向面と向き合う反対側の面１０に設け
られている。もし、加工痕３１〜３ｎが面１０にのみ設
けられていて、媒体対向面側には設けられていない場合
は、空気ベアリング面１１、１２は凹面となるように制
御される。加工痕３１〜３ｎが媒体対向面側にも設けら
れている場合には、空気ベアリング面１１、１２の平面
形状は、媒体対向面側に設けられた加工痕（図示しな
い）による凸面制御と、面１０に設けられた加工痕３１
〜３ｎによる凹面制御との合成によって制御される。面
１０の加工痕３１〜３ｎは、例えば媒体対向面側に設け
られた加工痕による凸面制御が大きすぎた場合等に、そ
の修正手段として利用できる。図示はされていないが、
加工痕３１〜３ｎは幅方向に形成することもできる。
れた磁気ヘッドの更に別の実施例を示す図で、加工痕３
１〜３ｎは媒体対向面と向き合う反対側の面１０に設け
られている。もし、加工痕３１〜３ｎが面１０にのみ設
けられていて、媒体対向面側には設けられていない場合
は、空気ベアリング面１１、１２は凹面となるように制
御される。加工痕３１〜３ｎが媒体対向面側にも設けら
れている場合には、空気ベアリング面１１、１２の平面
形状は、媒体対向面側に設けられた加工痕（図示しな
い）による凸面制御と、面１０に設けられた加工痕３１
〜３ｎによる凹面制御との合成によって制御される。面
１０の加工痕３１〜３ｎは、例えば媒体対向面側に設け
られた加工痕による凸面制御が大きすぎた場合等に、そ
の修正手段として利用できる。図示はされていないが、
加工痕３１〜３ｎは幅方向に形成することもできる。
【００１６】図６は本発明に係る加工方法によって得ら
れた磁気ヘッドの更に別の実施例を示す斜視図である。
この実施例では、加工痕３１〜３ｎのそれぞれは破線状
に設けられている。
れた磁気ヘッドの更に別の実施例を示す斜視図である。
この実施例では、加工痕３１〜３ｎのそれぞれは破線状
に設けられている。
【００１７】図７は本発明に係る磁気ヘッドの更に別の
実施例を示す斜視図であり、加工痕３１〜３ｎは長さ方
向及び幅方向に対して傾斜して設けられている。加工痕
３１〜３ｎに交差するように、他の加工痕の群を形成す
ることもできる。
実施例を示す斜視図であり、加工痕３１〜３ｎは長さ方
向及び幅方向に対して傾斜して設けられている。加工痕
３１〜３ｎに交差するように、他の加工痕の群を形成す
ることもできる。
【００１８】図８は本発明に係る加工方法によって得ら
れた磁気ヘッドの更に別の実施例を示す斜視図であり、
加工痕３１〜３ｎは、ある平面領域を面状に覆うように
点状に散在して設けられている。図示は省略するが、上
に述べた加工痕３１〜３ｎの態様を適宜組み合わせるこ
とが可能であり、それによって、空気ベアリング面１
１、１２の平面形状を自由に制御できる。
れた磁気ヘッドの更に別の実施例を示す斜視図であり、
加工痕３１〜３ｎは、ある平面領域を面状に覆うように
点状に散在して設けられている。図示は省略するが、上
に述べた加工痕３１〜３ｎの態様を適宜組み合わせるこ
とが可能であり、それによって、空気ベアリング面１
１、１２の平面形状を自由に制御できる。
【００１９】上述の加工痕３１〜３ｎは、ダイヤモン
ド、セラミックもしくは超硬材料よりなるカッタまたは
針状端子により、スライダに機械加工を施す方法、レー
ザ、電子線もしくはイオンのビームまたは超音波をスラ
イダの必要な個所に照射する方法、または、微粒研摩材
をスライダに噴射する方法等によって形成できる。これ
らの加工痕形成手段によれば、加工痕３１〜３ｎの方
向、数、位置、深さ、幅及び形状等を任意に選定でき、
空気ベアリング面１１，１２を直接研磨加工して平面形
状を制御する場合に比べて、加工作業が極めて容易であ
り、しかもｎｍ領域の微小範囲で容易に制御できる。
ド、セラミックもしくは超硬材料よりなるカッタまたは
針状端子により、スライダに機械加工を施す方法、レー
ザ、電子線もしくはイオンのビームまたは超音波をスラ
イダの必要な個所に照射する方法、または、微粒研摩材
をスライダに噴射する方法等によって形成できる。これ
らの加工痕形成手段によれば、加工痕３１〜３ｎの方
向、数、位置、深さ、幅及び形状等を任意に選定でき、
空気ベアリング面１１，１２を直接研磨加工して平面形
状を制御する場合に比べて、加工作業が極めて容易であ
り、しかもｎｍ領域の微小範囲で容易に制御できる。
【００２０】図９及び図１０は加工痕本数と空気ベアリ
ング面の平面形状制御との関係を示す実測データであ
る。横軸に加工痕本数を、縦軸に空気ベアリング面で測
定したＰＶ値（ｎｍ）をそれぞれ示してある。これらの
データは図１〜図３に示した磁気ヘッドで得られたもの
である。図９は、加工具として、先端角１２０度のダイ
ヤモンド．ボイレトを用い、１００ｇの荷重を加えて、
長さ６００μｍの加工痕を２００μｍのピッチで設けた
場合のデータを示している。図１０は、加工具として、
先端角１２０度のダイヤモンド．ボイレトを用い、１５
０ｇの荷重を加えて、長さ７００μｍの加工痕を１００
μｍのピッチで設けた場合のデータを示している。
ング面の平面形状制御との関係を示す実測データであ
る。横軸に加工痕本数を、縦軸に空気ベアリング面で測
定したＰＶ値（ｎｍ）をそれぞれ示してある。これらの
データは図１〜図３に示した磁気ヘッドで得られたもの
である。図９は、加工具として、先端角１２０度のダイ
ヤモンド．ボイレトを用い、１００ｇの荷重を加えて、
長さ６００μｍの加工痕を２００μｍのピッチで設けた
場合のデータを示している。図１０は、加工具として、
先端角１２０度のダイヤモンド．ボイレトを用い、１５
０ｇの荷重を加えて、長さ７００μｍの加工痕を１００
μｍのピッチで設けた場合のデータを示している。
【００２１】これらのデータに示されるように、加工痕
の本数、長さ、ピッチ及び荷重に依存する加工痕の深さ
及び幅に応じて、ＰＶ値が制御されている。
の本数、長さ、ピッチ及び荷重に依存する加工痕の深さ
及び幅に応じて、ＰＶ値が制御されている。
【００２２】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、次
のような効果が得られる。 （ａ）加工痕のある部分と、加工痕のない部分との間に
生じる加工歪差を利用して、スライダの空気ベアリング
面の平面度を制御できる。 （ｂ）空気ベアリング面の平面形状を、加工痕の方向、
数、位置、深さ、幅及び形状の選択に応じて、凸面また
は凹面の何れの方向にも制御できる。 （ｃ）空気ベアリング面を直接研磨加工して平面形状を
制御する場合に比べて極めて容易であり、しかも空気ベ
アリング面の平面形状を、ｎｍ領域の微小範囲で容易に
制御できる。 （ｄ）加工痕の方向、数、位置、深さ、幅及び形状等は
経時変化を生じないから、経時変化による空気ベアリン
グ面の平面形状の変化を生じることがない。 （ｅ）加工痕は、ダイヤモンド、セラミックもしくは超
硬材料よりなるカッタまたは針状端子により、スライダ
に機械加工を施して形成するか、レーザ、電子線もしく
はイオンのビームまたは超音波をスライダの必要な個所
に照射して形成するか、または微粒研摩材をスライダに
噴射して形成するから、加工痕の数、位置、深さ、幅及
び形状等を任意に選定でき、空気ベアリング面を直接研
磨加工して平面形状を制御する場合に比べて、加工作業
が極めて容易であり、しかもｎｍ領域の微小範囲で容易
に制御し得る磁気ヘッドの加工方法を提供できる。
のような効果が得られる。 （ａ）加工痕のある部分と、加工痕のない部分との間に
生じる加工歪差を利用して、スライダの空気ベアリング
面の平面度を制御できる。 （ｂ）空気ベアリング面の平面形状を、加工痕の方向、
数、位置、深さ、幅及び形状の選択に応じて、凸面また
は凹面の何れの方向にも制御できる。 （ｃ）空気ベアリング面を直接研磨加工して平面形状を
制御する場合に比べて極めて容易であり、しかも空気ベ
アリング面の平面形状を、ｎｍ領域の微小範囲で容易に
制御できる。 （ｄ）加工痕の方向、数、位置、深さ、幅及び形状等は
経時変化を生じないから、経時変化による空気ベアリン
グ面の平面形状の変化を生じることがない。 （ｅ）加工痕は、ダイヤモンド、セラミックもしくは超
硬材料よりなるカッタまたは針状端子により、スライダ
に機械加工を施して形成するか、レーザ、電子線もしく
はイオンのビームまたは超音波をスライダの必要な個所
に照射して形成するか、または微粒研摩材をスライダに
噴射して形成するから、加工痕の数、位置、深さ、幅及
び形状等を任意に選定でき、空気ベアリング面を直接研
磨加工して平面形状を制御する場合に比べて、加工作業
が極めて容易であり、しかもｎｍ領域の微小範囲で容易
に制御し得る磁気ヘッドの加工方法を提供できる。
【図１】本発明に係る加工方法によって得られた磁気ヘ
ッドの斜視図である。
ッドの斜視図である。
【図２】図１のＡ２−Ａ２線上における部分拡大断面図
である。
である。
【図３】本発明に係る加工方法によって得られた磁気ヘ
ッドの他の実施例における部分拡大断面図である。
ッドの他の実施例における部分拡大断面図である。
【図４】本発明に係る加工方法によって得られた磁気ヘ
ッドの別の実施例を示す斜視図である。
ッドの別の実施例を示す斜視図である。
【図５】本発明に係る加工方法によって得られた磁気ヘ
ッドの更に別の実施例を示す斜視図である。
ッドの更に別の実施例を示す斜視図である。
【図６】本発明に係る加工方法によって得られた磁気ヘ
ッドの更に別の実施例を示す斜視図である。
ッドの更に別の実施例を示す斜視図である。
【図７】本発明に係る加工方法によって得られた磁気ヘ
ッドの更に別の実施例を示す斜視図である。
ッドの更に別の実施例を示す斜視図である。
【図８】本発明に係る加工方法によって得られた磁気ヘ
ッドの更に別の実施例を示す斜視図である。
ッドの更に別の実施例を示す斜視図である。
【図９】加工痕本数と空気ベアリング面の平面形状制御
との関係を示す実測データである。
との関係を示す実測データである。
【図１０】加工痕本数と空気ベアリング面の平面形状制
御との関係を示す別の実測データである。
御との関係を示す別の実測データである。
１ スライダ １１、１２ 空気ベアリング面 ２ 磁気変換素子 ３１〜３ｎ 加工痕
Claims (4)
- 【請求項１】 スライダを有し、前記スライダの媒体対
向面側に空気ベアリング面を有する磁気ヘッドに適用さ
れる加工方法であって、前記スライダの前記空気ベアリ
ング面を除く前記媒体対向面、または、前記媒体対向面
と向き合う反対側の面の少なくとも一方に加工痕を付与
し、前記加工痕によって誘発される歪によって、前記空
気ベアリング面の平面形状を制御する磁気ヘッドの加工
方法。 - 【請求項２】 前記加工痕は、ダイヤモンド、セラミッ
クもしくは超硬材料よりなるカッタまたは針状端子によ
り、前記スライダに機械加工を施して形成する請求項１
に記載の磁気ヘッドの加工方法。 - 【請求項３】 前記加工痕は、レーザ、電子線もしくは
イオンのビームまたは超音波を前記スライダに照射して
形成する請求項１に記載の磁気ヘッドの加工方法。 - 【請求項４】 前記加工痕は、微粒研摩材を前記スライ
ダに噴射して形成する請求項１に記載の磁気ヘッドの加
工方法。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP4164392A JPH0724096B2 (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | 磁気ヘッドの加工方法 |
| EP92116728A EP0576723B1 (en) | 1992-05-29 | 1992-09-30 | Magnetic head and method of manufacturing a magnetic head |
| DE69220927T DE69220927T2 (de) | 1992-05-29 | 1992-09-30 | Magnetischer Kopf und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US08/366,448 US6125004A (en) | 1992-05-29 | 1994-12-30 | Magnetic head and method of manufacturing a magnetic head |
| US08/660,596 US5704112A (en) | 1992-05-29 | 1996-06-11 | Method of manufacturing a magnetic head |
| HK97102033A HK1000444A1 (en) | 1992-05-29 | 1997-10-24 | Magnetic head and method of manufacturing a magnetic head |
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|---|---|---|---|
| JP4164392A JPH0724096B2 (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | 磁気ヘッドの加工方法 |
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Family Applications (1)
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| TW345659B (en) * | 1994-11-03 | 1998-11-21 | Ibm | Slider/suspension design for improved crown sensitivity |
| US6321440B1 (en) * | 1998-11-10 | 2001-11-27 | International Business Machines Corporation | Method for adjusting curvature of magnetic read/write head sliders |
| WO2000060582A1 (fr) * | 1999-04-02 | 2000-10-12 | Fujitsu Limited | Procede de correction de la forme superficielle d'un coulisseau de tete magnetique, et coulisseau de tete magnetique |
| US6747845B1 (en) * | 2000-10-11 | 2004-06-08 | International Business Machines Corporation | Modified strain region of strain reactive slider with implanted ions, electrons or neutral atoms |
| US20020154441A1 (en) * | 2001-04-20 | 2002-10-24 | Srinivas Tadepalli | Disc drive with grooves on internal surfaces |
| WO2003051298A2 (en) * | 2001-12-14 | 2003-06-26 | Pharmasset Ltd. | Preparation of intermediates useful in the synthesis of antiviral nucleosides |
| JP4153490B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2008-09-24 | 富士通株式会社 | ヘッドスライダおよび記録媒体駆動装置 |
| JP2007059015A (ja) | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Shinka Jitsugyo Kk | スライダの製造方法 |
| JPWO2007132501A1 (ja) * | 2006-05-11 | 2009-09-17 | 富士通株式会社 | ヘッドスライダの製造方法およびヘッドスライダ |
| KR20120110880A (ko) * | 2011-03-30 | 2012-10-10 | 시게이트 테크놀로지 엘엘씨 | 하드디스크 드라이브용 슬라이더 및 그를 구비한 하드디스크 드라이브 |
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| US11587584B1 (en) * | 2022-02-28 | 2023-02-21 | Western Digital Technologies, Inc. | Slider air bearing design with ultra-low pressure for low power-consumption data storage devices |
| US11587583B1 (en) * | 2022-02-28 | 2023-02-21 | Western Digital Technologies, Inc. | Slider air bearing design with roughened leading edge shallow step for enhanced particle robustness |
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| US4285019A (en) * | 1980-03-10 | 1981-08-18 | Memorex Corporation | Contoured magnetic recording head/slider assembly |
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| JPS5823359A (ja) * | 1981-07-31 | 1983-02-12 | Toshiba Corp | 磁気ヘツド用スライダ |
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-
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-
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