JPH0725569B2 - 低温融着性ガラス組成物 - Google Patents
低温融着性ガラス組成物Info
- Publication number
- JPH0725569B2 JPH0725569B2 JP34102489A JP34102489A JPH0725569B2 JP H0725569 B2 JPH0725569 B2 JP H0725569B2 JP 34102489 A JP34102489 A JP 34102489A JP 34102489 A JP34102489 A JP 34102489A JP H0725569 B2 JPH0725569 B2 JP H0725569B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- glass composition
- low
- magnetic material
- low temperature
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
- C03C8/245—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders containing more than 50% lead oxide, by weight
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- Glass Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ヘッドの空隙部充填用材料として用いら
れる、比較的低温にて融着処理が可能な低温融着性ガラ
ス組成物に関するものである。
れる、比較的低温にて融着処理が可能な低温融着性ガラ
ス組成物に関するものである。
近年、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置には
高密度の記録再生機能が要求され、これに伴い、磁気ヘ
ッドも、高密度記録再生を行い得るものが求められてい
る。そこで、高透磁率を有する酸化物磁性材料からなる
ブロックのギャップ対向面に、高透磁率および高飽和磁
束密度を有する合金磁性材料からなる薄膜を形成したコ
アを使用した磁気ヘッドが用いられるようになってきて
いる。
高密度の記録再生機能が要求され、これに伴い、磁気ヘ
ッドも、高密度記録再生を行い得るものが求められてい
る。そこで、高透磁率を有する酸化物磁性材料からなる
ブロックのギャップ対向面に、高透磁率および高飽和磁
束密度を有する合金磁性材料からなる薄膜を形成したコ
アを使用した磁気ヘッドが用いられるようになってきて
いる。
従来、上記のコアは薄膜を介して一対のブロックがガラ
スの融着により一体化されており、このガラスは、通
常、鉛を主成分とした低融点ガラス等が使用されてい
る。
スの融着により一体化されており、このガラスは、通
常、鉛を主成分とした低融点ガラス等が使用されてい
る。
ところが上記従来の低融点ガラスを用いた磁気ヘッドに
おいては、低融点ガラスと合金磁性材料との界面に核化
と呼ばれる反応が生じ、さらに合金磁性材料に磁性を損
失した部分が発生するという問題点を有している。
おいては、低融点ガラスと合金磁性材料との界面に核化
と呼ばれる反応が生じ、さらに合金磁性材料に磁性を損
失した部分が発生するという問題点を有している。
これは、上記の鉛を主成分とした低融点ガラスにおい
て、下記反応により酸素が発生する。
て、下記反応により酸素が発生する。
PbO2→PbO＋（Ｏ） 合金磁性材料は、この発生した酸素により酸化されるこ
とで核化が生じ、その結果酸化された部分が非磁性にな
ると考えられる。また、低融点ガラスにおいて上記の核
化が生じた部分で割れ欠けを生じ、磁気ヘッドの歩留り
の低下を招いている。
とで核化が生じ、その結果酸化された部分が非磁性にな
ると考えられる。また、低融点ガラスにおいて上記の核
化が生じた部分で割れ欠けを生じ、磁気ヘッドの歩留り
の低下を招いている。
更に、上記の低融点ガラスは一般に硬度が低く、例え
ば、500℃で融着可能な低融点ガラスは、ビッカース硬
度が300以上であるものが少ない。従って、従来の磁気
ヘッドにおいては、融着されたガラス部分は、磁性材料
で構成されたコアに比して早期に摩耗しがちとなる。し
かし、逆に硬度の大きいガラスでは、粘度が大きくなり
溶着時のガラスの流れが悪化する。
ば、500℃で融着可能な低融点ガラスは、ビッカース硬
度が300以上であるものが少ない。従って、従来の磁気
ヘッドにおいては、融着されたガラス部分は、磁性材料
で構成されたコアに比して早期に摩耗しがちとなる。し
かし、逆に硬度の大きいガラスでは、粘度が大きくなり
溶着時のガラスの流れが悪化する。
また、合金磁性薄膜を形成した磁気ヘッドの場合、酸化
物磁性材料と低融点ガラスとの熱膨張係数が大きくずれ
ていると、合金磁性薄膜と低融点ガラスとの間に内部応
力が発生し、低融点ガラス、さらには合金磁性薄膜にも
クラックが生じる。
物磁性材料と低融点ガラスとの熱膨張係数が大きくずれ
ていると、合金磁性薄膜と低融点ガラスとの間に内部応
力が発生し、低融点ガラス、さらには合金磁性薄膜にも
クラックが生じる。
また一般に低融点ガラスはNa2O等のアルカリ金属の酸化
物を含んだものが多く、耐水性に劣るものが多い。
物を含んだものが多く、耐水性に劣るものが多い。
本発明に係る低温融着性ガラス組成物は、上記の課題を
解決するために、SiO2５〜８重量％、PbO60〜65重量
％、Al2O3１〜２重量％、B2O3７〜10重量％、Tl2O５〜1
2重量％、Bi2O312〜15重量％からなり、熱膨張係数を酸
化物磁性材料の係数に一致させることを特徴としてい
る。
解決するために、SiO2５〜８重量％、PbO60〜65重量
％、Al2O3１〜２重量％、B2O3７〜10重量％、Tl2O５〜1
2重量％、Bi2O312〜15重量％からなり、熱膨張係数を酸
化物磁性材料の係数に一致させることを特徴としてい
る。
上記の構成によれば、低温融着性ガラス組成物は核化の
原因となる鉛の酸化物を比較的少なくおさえ、その代わ
りにBi2O3を添加することにより、核化が抑制されるの
で、磁気ヘッドの合金磁性材料における磁性を損失した
部分の発生が減少する。更に核化の減少により、ガラス
組成物の割れ欠けを減少させることができる。また、Bi
2O3およびTl2Oを比較的多く含んでいるため、かなり粘
度が低くなるので、溶着時にガラスが流れやすくなる。
原因となる鉛の酸化物を比較的少なくおさえ、その代わ
りにBi2O3を添加することにより、核化が抑制されるの
で、磁気ヘッドの合金磁性材料における磁性を損失した
部分の発生が減少する。更に核化の減少により、ガラス
組成物の割れ欠けを減少させることができる。また、Bi
2O3およびTl2Oを比較的多く含んでいるため、かなり粘
度が低くなるので、溶着時にガラスが流れやすくなる。
加えて、アルカリ金属等を含まずかつAl2O3を含むた
め、耐水性にも優れ、さらに、耐摩耗性にも優れたガラ
ス組成物となる。
め、耐水性にも優れ、さらに、耐摩耗性にも優れたガラ
ス組成物となる。
また、ガラス組成物の熱膨張係数を酸化物磁性材料とほ
ぼ一致させることにより、合金磁性材料とガラスとの間
の内部応力が小さくなり、ガラスクラックの発生を抑え
ることができる。
ぼ一致させることにより、合金磁性材料とガラスとの間
の内部応力が小さくなり、ガラスクラックの発生を抑え
ることができる。
本発明の一実施例を以下に説明する。
SiO2、PbO、Al2O3、B2O3、Tl2OおよびBi2O3を、表１の
組成に従ってそれぞれ一定量ずつ採取し、白金るつぼ中
で1200℃の温度にて１〜２時間溶融および混合すること
により、試料１を作製した。
組成に従ってそれぞれ一定量ずつ採取し、白金るつぼ中
で1200℃の温度にて１〜２時間溶融および混合すること
により、試料１を作製した。
得られた試料１のガラス組成物に対し、その物性を測定
し、結果を表１に併せて示した。
し、結果を表１に併せて示した。
上記のように、得られたガラス組成物の屈伏点は350℃
以下となり、かなり粘度が低くなるので、磁気ヘッド製
造過程における480℃の作業温度においてもガラスが流
れやすく、溶着が可能となる。更に、このガラス組成物
はビッカース硬度が390となり、耐摩耗性にも優れてい
る。
以下となり、かなり粘度が低くなるので、磁気ヘッド製
造過程における480℃の作業温度においてもガラスが流
れやすく、溶着が可能となる。更に、このガラス組成物
はビッカース硬度が390となり、耐摩耗性にも優れてい
る。
また、ガラス組成物の熱膨張係数を酸化物磁性材料、例
えばフェライト等の熱膨張係数120とほぼ一致させるこ
とにより、480℃で溶着を行なった場合、合金磁性材料
とガラスとの間の内部応力が小さくなり、ガラスクラッ
クの発生を抑えることができる。
えばフェライト等の熱膨張係数120とほぼ一致させるこ
とにより、480℃で溶着を行なった場合、合金磁性材料
とガラスとの間の内部応力が小さくなり、ガラスクラッ
クの発生を抑えることができる。
本発明に係る低融着性ガラス組成物は、以上のように、
SiO2５〜８重量％、PbO60〜65重量％、Al2O3１〜２重量
％、B2O3７〜10重量％、Tl2O５〜12重量％、Bi2O312〜1
5重量％からなるものである。
SiO2５〜８重量％、PbO60〜65重量％、Al2O3１〜２重量
％、B2O3７〜10重量％、Tl2O５〜12重量％、Bi2O312〜1
5重量％からなるものである。
それゆえ、低温融着性ガラス組成物は、合金磁性薄膜を
有する磁気ヘッドにおける核化が抑制されるとともに、
磁気ヘッドの合金磁性材料における磁性を損失した部分
の発生が減少する。更に核化の減少により、磁気ヘッド
におけるガラスの割れ欠けを減少させることができる。
その結果、磁気ヘッドの製造時の歩留りを大幅に減少さ
せることができるという効果を奏する。
有する磁気ヘッドにおける核化が抑制されるとともに、
磁気ヘッドの合金磁性材料における磁性を損失した部分
の発生が減少する。更に核化の減少により、磁気ヘッド
におけるガラスの割れ欠けを減少させることができる。
その結果、磁気ヘッドの製造時の歩留りを大幅に減少さ
せることができるという効果を奏する。
また、低温融着性ガラス組成物はB2O3およびTl2Oを比較
的多く含んでいるため、屈伏点が350℃以下、即ち粘度
が低くなり、480℃程度の温度においても流れやすく、
溶着が可能となる。加えて、アルカリ金属等を含まず、
かつAl2O3を含むため耐水性にも優れ、さらに、この系
のガラスはビッカース硬度が350以上の硬さを持ち、耐
摩耗性にも優れている。
的多く含んでいるため、屈伏点が350℃以下、即ち粘度
が低くなり、480℃程度の温度においても流れやすく、
溶着が可能となる。加えて、アルカリ金属等を含まず、
かつAl2O3を含むため耐水性にも優れ、さらに、この系
のガラスはビッカース硬度が350以上の硬さを持ち、耐
摩耗性にも優れている。
また、ガラス組成物の熱膨張係数を酸化物磁性材料とほ
ぼ一致させることにより、合金磁性材料とガラスとの間
の内部応力が小さくなり、ガラスクラックの発生を抑え
ることができ、その結果磁気ヘッド製造時の歩留りを向
上させることができるという効果をも奏する。
ぼ一致させることにより、合金磁性材料とガラスとの間
の内部応力が小さくなり、ガラスクラックの発生を抑え
ることができ、その結果磁気ヘッド製造時の歩留りを向
上させることができるという効果をも奏する。
Claims (1)
- 【請求項１】SiO2５〜８重量％、PbO60〜65重量％、Al2
O3１〜２重量％、B2O3７〜10重量％、Tl2O５〜12重量
％、Bi2O312〜15重量％からなる低温融着性ガラス組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34102489A JPH0725569B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 低温融着性ガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34102489A JPH0725569B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 低温融着性ガラス組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03199135A JPH03199135A (ja) | 1991-08-30 |
| JPH0725569B2 true JPH0725569B2 (ja) | 1995-03-22 |
Family
ID=18342517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34102489A Expired - Fee Related JPH0725569B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 低温融着性ガラス組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0725569B2 (ja) |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP34102489A patent/JPH0725569B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03199135A (ja) | 1991-08-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |