JPH0725841B2 - 含ケイ素ポリマ−の製造方法 - Google Patents
含ケイ素ポリマ−の製造方法Info
- Publication number
- JPH0725841B2 JPH0725841B2 JP9741787A JP9741787A JPH0725841B2 JP H0725841 B2 JPH0725841 B2 JP H0725841B2 JP 9741787 A JP9741787 A JP 9741787A JP 9741787 A JP9741787 A JP 9741787A JP H0725841 B2 JPH0725841 B2 JP H0725841B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon
- present
- containing polymer
- group
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、含ケイ素ポリマーの製造方法に関する。詳し
くは、一般式 （ただし、ｍは０または１乃至10の正の整数、ｎは１、
２または３、R1は水素、アルキル基、アリール基または
ハロゲン、R2はアルキレン基またはフェニレン基であっ
て、R1およびR2はCOOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含
んでいても良い。）で表されるケイ素化合物をラジカル
重合させ、分子内にSi−Ｈ結合を含有する高分子化合物
を製造する方法に関する。
くは、一般式 （ただし、ｍは０または１乃至10の正の整数、ｎは１、
２または３、R1は水素、アルキル基、アリール基または
ハロゲン、R2はアルキレン基またはフェニレン基であっ
て、R1およびR2はCOOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含
んでいても良い。）で表されるケイ素化合物をラジカル
重合させ、分子内にSi−Ｈ結合を含有する高分子化合物
を製造する方法に関する。
従来の技術 Siを含むポリマーの産業上の利用は、現在、シリコーン
（オルガノポリシロキサン）が大半である。これに用い
る原料は、金属ケイ素とハロゲン化炭化水素との反応、
いわゆる直接法によつて製造されるアルキルクロロシラ
ン類、特にはジメチルジクロロシランである。シリコー
ンを除くと含ケイ素ポリマーの実用例は少なく、例え
ば、 が知られている。（Ｉ）は、下式に示すごとく、キシレ
ン等の溶媒中にて製造される。
（オルガノポリシロキサン）が大半である。これに用い
る原料は、金属ケイ素とハロゲン化炭化水素との反応、
いわゆる直接法によつて製造されるアルキルクロロシラ
ン類、特にはジメチルジクロロシランである。シリコー
ンを除くと含ケイ素ポリマーの実用例は少なく、例え
ば、 が知られている。（Ｉ）は、下式に示すごとく、キシレ
ン等の溶媒中にて製造される。
（II）も同様である。（Ｉ）は不溶不融であるが、（I
I）は溶媒に可溶かる熱可塑性である。（III）は（Ｉ）
を高温高圧下で熱分解することによって得られ、溶媒に
可溶で熱可塑性である。（Ｉ）、（II）及び（III）は
セラミックスバインダー用として用いられ、また（II）
および（III）はセラミックス（SiC）の前駆体、特にセ
ラミックス（SiC）繊維用として使用されている（日本
カーボン社、商品名“ニカロン”）。（IV）はビニルシ
ランの重合体であり、エチレンとの共重合体は水分架橋
性ポリエチレンとして電線被覆用に大量に使用されてい
る。
I）は溶媒に可溶かる熱可塑性である。（III）は（Ｉ）
を高温高圧下で熱分解することによって得られ、溶媒に
可溶で熱可塑性である。（Ｉ）、（II）及び（III）は
セラミックスバインダー用として用いられ、また（II）
および（III）はセラミックス（SiC）の前駆体、特にセ
ラミックス（SiC）繊維用として使用されている（日本
カーボン社、商品名“ニカロン”）。（IV）はビニルシ
ランの重合体であり、エチレンとの共重合体は水分架橋
性ポリエチレンとして電線被覆用に大量に使用されてい
る。
本発明にかかわる の重合体は、殆どその例がなく、わずかにチーグラー
（Ziegler）型触媒でアリルシラン（CH2＝CH-CH2‐Si
H3）の重合例が見られるに過ぎない（ジャーナル オブ
ポリマー サイエンス（Journal of Polymer Scienc
e）、Vol 31,No.122,181（1958），イタリア特許60601
8）。
（Ziegler）型触媒でアリルシラン（CH2＝CH-CH2‐Si
H3）の重合例が見られるに過ぎない（ジャーナル オブ
ポリマー サイエンス（Journal of Polymer Scienc
e）、Vol 31,No.122,181（1958），イタリア特許60601
8）。
本発明者らは、本発明にかかわるケイ素化合物のチーグ
ラー（Ziegler）型触媒による重合体が高温焼成した場
合にセラミックス（SiC）への変換収率が高く、セラミ
ックス用プレポリマーとして非常に有望であることを、
既に提唱している（例えば、特願昭62-015929、62-0315
14）。
ラー（Ziegler）型触媒による重合体が高温焼成した場
合にセラミックス（SiC）への変換収率が高く、セラミ
ックス用プレポリマーとして非常に有望であることを、
既に提唱している（例えば、特願昭62-015929、62-0315
14）。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、従来のアルキルクロロシラン類を原料と
する、例えば、下記の繰り返し構造単位を有するポリマ
ー、例えば の製造はクロル系で実施することになり、装置の腐蝕の
心配があり、かつ、プロセスも極めて複雑なものになっ
ている。
する、例えば、下記の繰り返し構造単位を有するポリマ
ー、例えば の製造はクロル系で実施することになり、装置の腐蝕の
心配があり、かつ、プロセスも極めて複雑なものになっ
ている。
問題点を解決するための手段および作用 本発明者らは、これらの事実を考慮し、含ケイ素ポリマ
ーの新しい製造法に注力した結果、特定のケイ素化合物
をラジカル重合させることによって含ケイ素ポリマーが
簡単なプロセスで製造できることを見出し、本発明を完
成にするに至った。
ーの新しい製造法に注力した結果、特定のケイ素化合物
をラジカル重合させることによって含ケイ素ポリマーが
簡単なプロセスで製造できることを見出し、本発明を完
成にするに至った。
すなわち、本発明は、一般式 （ただし、ｍは０または１乃至10の正の整数、ｎは１、
２または３、R1は水素、アルキル基、アリール基または
ハロゲン、R2はアルキレン基またはフェニレン基であっ
て、R1およびR2はCOOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含
んでいても良い。）で表されるケイ素化合物をラジカル
重合させることを特徴とする含ケイ素ポリマーの製造方
法である。
２または３、R1は水素、アルキル基、アリール基または
ハロゲン、R2はアルキレン基またはフェニレン基であっ
て、R1およびR2はCOOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含
んでいても良い。）で表されるケイ素化合物をラジカル
重合させることを特徴とする含ケイ素ポリマーの製造方
法である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において重合に用いられるケイ素化合物は、一般
式 で表されるものであって、ｍは０または１乃至10の正の
整数、ｎは１、２または３である。R1は水素、アルキル
基、アリール基またはハロゲンであって、例えば、Ｈ、
CH3、C2H5、i-C3H7、Φ（Φはフェニル基を示す。以下
同じ。）、ΦCH3、CH2Φ、Ｆ、Cl、Brなどがあげられ、
炭素数の少ないもの程好ましく、水素が最も好ましい。
R2はアルキレン基またはフェニレン基であって、例え
ば、CH2、Φ、CH2Φなどである。なお、上記R1およびR2
は、COOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含んでいても良
い。
式 で表されるものであって、ｍは０または１乃至10の正の
整数、ｎは１、２または３である。R1は水素、アルキル
基、アリール基またはハロゲンであって、例えば、Ｈ、
CH3、C2H5、i-C3H7、Φ（Φはフェニル基を示す。以下
同じ。）、ΦCH3、CH2Φ、Ｆ、Cl、Brなどがあげられ、
炭素数の少ないもの程好ましく、水素が最も好ましい。
R2はアルキレン基またはフェニレン基であって、例え
ば、CH2、Φ、CH2Φなどである。なお、上記R1およびR2
は、COOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含んでいても良
い。
本発明にかかわるこれらシリル基を含有するモノマー、
すなわち、ケイ素化合物は、種々の方法で製造すること
ができ、本発明において特に制限するものではないが、
例えば、下式に示すような方法を採用できる。
すなわち、ケイ素化合物は、種々の方法で製造すること
ができ、本発明において特に制限するものではないが、
例えば、下式に示すような方法を採用できる。
これらのうち、、、はSiH4を原料に用いて、特
に、はVIII族金属を触媒に用いるヒドロシリル化反
応であり、容易に目的とするSiH3基を含有するα−オレ
フィンを得ることができる。蓋し、SiH4は、近年、ポリ
シリコンやアモルファスシリコン用としての需要が拡大
し、安価にかつ大量に製造されるようになったもので、
今後いっそうこの傾向が進むと予想される新しいケイ素
原料である（Si2H6やSi3H8の場合も同様のことが言え
る）。
に、はVIII族金属を触媒に用いるヒドロシリル化反
応であり、容易に目的とするSiH3基を含有するα−オレ
フィンを得ることができる。蓋し、SiH4は、近年、ポリ
シリコンやアモルファスシリコン用としての需要が拡大
し、安価にかつ大量に製造されるようになったもので、
今後いっそうこの傾向が進むと予想される新しいケイ素
原料である（Si2H6やSi3H8の場合も同様のことが言え
る）。
これらのケイ素化合物は、２種以上同時に用いることも
できる。また、本発明者らが別に提案するごとく、本発
明において使用のケイ素化合物は、他のラジカル重合可
能のモノマー、例えば、エチレン、ブタジエン、スチロ
ール、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリル酸エステ
ル、メタアクリル酸メチル、酢酸ビニル、アクリルニト
リル、四弗化エチレンなどと共重合（ランダム、交互、
ブロック若しくはグラフト等）できることは言うまでも
ない。この場合、本発明のモノマーの占有部分は少なく
とも0.1wt％以上である。
できる。また、本発明者らが別に提案するごとく、本発
明において使用のケイ素化合物は、他のラジカル重合可
能のモノマー、例えば、エチレン、ブタジエン、スチロ
ール、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリル酸エステ
ル、メタアクリル酸メチル、酢酸ビニル、アクリルニト
リル、四弗化エチレンなどと共重合（ランダム、交互、
ブロック若しくはグラフト等）できることは言うまでも
ない。この場合、本発明のモノマーの占有部分は少なく
とも0.1wt％以上である。
本発明は上記のケイ素化合物をラジカル重合させること
に特徴を有するが、ラジカル重合の様式は特別に制限は
なく、種々の方法を採用できる。例えば、熱、光、放射
線、電気、触媒（開始剤）などの利用が可能であるが、
触媒の利用が最も好ましい。触媒例としては、過酸化水
素、過硫酸アンモン、過酸化ベンゾイル、クメンパーオ
キサイド、シクロヘキサンパーオキサイド、ジ−ｔ−ブ
チルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイ
ド、メチルエチルケトンパーオキサイド、アゾビスイソ
ブチロニトリルなどがあげられる。この場合には更に助
触媒（促進剤）としてジメチルアニリン、CoまたはMnナ
フテネートなどを、賦活剤（還元剤）として重亜硫酸ソ
ーダ、チオ硫酸ソーダ、メルカプタン、第一鉄塩Fe++、
第一銅塩Cu+などを用いることができる。また反応速度
のコントロールには反応抑制剤としてメルカプタン類、
芳香族ニトロ化合物などを、重合度調整剤としてはメル
カプタン類を用いることができる。また更には種々の架
橋剤を用いることができ、例えば、(CH2＝CH)2SiH2や(C
H2＝CH)3SiHなどのモノマーとの共重合により任意に架
橋されることもできる。
に特徴を有するが、ラジカル重合の様式は特別に制限は
なく、種々の方法を採用できる。例えば、熱、光、放射
線、電気、触媒（開始剤）などの利用が可能であるが、
触媒の利用が最も好ましい。触媒例としては、過酸化水
素、過硫酸アンモン、過酸化ベンゾイル、クメンパーオ
キサイド、シクロヘキサンパーオキサイド、ジ−ｔ−ブ
チルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイ
ド、メチルエチルケトンパーオキサイド、アゾビスイソ
ブチロニトリルなどがあげられる。この場合には更に助
触媒（促進剤）としてジメチルアニリン、CoまたはMnナ
フテネートなどを、賦活剤（還元剤）として重亜硫酸ソ
ーダ、チオ硫酸ソーダ、メルカプタン、第一鉄塩Fe++、
第一銅塩Cu+などを用いることができる。また反応速度
のコントロールには反応抑制剤としてメルカプタン類、
芳香族ニトロ化合物などを、重合度調整剤としてはメル
カプタン類を用いることができる。また更には種々の架
橋剤を用いることができ、例えば、(CH2＝CH)2SiH2や(C
H2＝CH)3SiHなどのモノマーとの共重合により任意に架
橋されることもできる。
重合様式も特に制限はなく、気相、液相のいずれでも良
く、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合などの方
式を採用できる。反応温度、反応圧力は重合様式および
反応モノマーによって異なるが、触媒を利用する場合に
は、反応温度は０乃至200℃、好ましくは20乃至150℃、
反応圧力は平衡上高圧であることが望ましく、常圧乃至
1000気圧である。またベンゼン、トルエン、キシレン、
ペンタン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、水な
どの溶媒を用いて重合することも可能である。
く、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合などの方
式を採用できる。反応温度、反応圧力は重合様式および
反応モノマーによって異なるが、触媒を利用する場合に
は、反応温度は０乃至200℃、好ましくは20乃至150℃、
反応圧力は平衡上高圧であることが望ましく、常圧乃至
1000気圧である。またベンゼン、トルエン、キシレン、
ペンタン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、水な
どの溶媒を用いて重合することも可能である。
本発明においては、特にポリマーの構造を限定するもの
でなく、くり返し単位、分子量およびその分布、架橋の
程度などはモノマーの種類、重合様式によって変え得
る。最も代表的なポリマー構造としては、例えば、 ,-CH2‐CHR1‐(R2)mSinH2n‐またはこれらの両方の繰り
返し単位を含むものである。ポリマーの立体規則性に制
限はなく、また分子量は特に制限はないが、通常、100
乃至10,000,000、好ましくは200乃至1,000,000程度のも
のが成形性および溶剤への溶解度等の点で望ましい。
でなく、くり返し単位、分子量およびその分布、架橋の
程度などはモノマーの種類、重合様式によって変え得
る。最も代表的なポリマー構造としては、例えば、 ,-CH2‐CHR1‐(R2)mSinH2n‐またはこれらの両方の繰り
返し単位を含むものである。ポリマーの立体規則性に制
限はなく、また分子量は特に制限はないが、通常、100
乃至10,000,000、好ましくは200乃至1,000,000程度のも
のが成形性および溶剤への溶解度等の点で望ましい。
本発明における含ケイ素ポリマーは、前記のごとく安価
なモノマーから容易に得られる。前記した従来のアルキ
ルクロロシランを原料とする、例えば、下記の繰り返し
構造単位を有するポリマー、例えば、 に比較し、本発明における含ケイ素ポリマーの製造は非
クロル系で実施することができ、腐蝕の心配もなく、か
つ、プロセスも極めて簡単なものとなる。以上のことか
ら本発明にかかわるポリマーは、将来さらに安価に製造
することが可能になるものと思われる。
なモノマーから容易に得られる。前記した従来のアルキ
ルクロロシランを原料とする、例えば、下記の繰り返し
構造単位を有するポリマー、例えば、 に比較し、本発明における含ケイ素ポリマーの製造は非
クロル系で実施することができ、腐蝕の心配もなく、か
つ、プロセスも極めて簡単なものとなる。以上のことか
ら本発明にかかわるポリマーは、将来さらに安価に製造
することが可能になるものと思われる。
更に、本発明における含ケイ素ポリマーは、重合が容易
であるばかりでなく、その加工性（溶融液の流れ性、溶
媒溶解性）、形態（固体あるいは液体）もその分子量、
立体規則性をコントロールすることにより容易に変化さ
せることができる。さらにまた、本発明の含ケイ素ポリ
マー中に存在するSiH3基は比較的安定で、空気中におい
ても室温では酸化されることがなく、150℃近辺の高温
でようやく酸化されるにすぎない。
であるばかりでなく、その加工性（溶融液の流れ性、溶
媒溶解性）、形態（固体あるいは液体）もその分子量、
立体規則性をコントロールすることにより容易に変化さ
せることができる。さらにまた、本発明の含ケイ素ポリ
マー中に存在するSiH3基は比較的安定で、空気中におい
ても室温では酸化されることがなく、150℃近辺の高温
でようやく酸化されるにすぎない。
本発明による含ケイ素ポリマーは溶媒に可溶でかつ熱可
塑性であることから産業上の有用性は大きく、数多くの
用途が期待できる。例えば、セラミックス（SiC）用プ
レポリマー、セラミックス用バインダー、表面処理剤、
はっ水剤、IPN用原料、半導体、フォトレジストなどで
ある。これらのポリマーの機能は、Si−Ｈ結合の高い反
応性や、Si-Si結合の電導性や光分解性を利用するもの
である。
塑性であることから産業上の有用性は大きく、数多くの
用途が期待できる。例えば、セラミックス（SiC）用プ
レポリマー、セラミックス用バインダー、表面処理剤、
はっ水剤、IPN用原料、半導体、フォトレジストなどで
ある。これらのポリマーの機能は、Si−Ｈ結合の高い反
応性や、Si-Si結合の電導性や光分解性を利用するもの
である。
実施例 以下、本発明を実施例によって説明する。
実施例１ 100mlのオートクレーブにビニルシラン（CH2＝CH-SiH3,
bp-23℃）を15.1g（260mmol）、重合開始剤として過酸
化ベンゾイルを1.0g仕込み、80℃で８時間反応させた。
bp-23℃）を15.1g（260mmol）、重合開始剤として過酸
化ベンゾイルを1.0g仕込み、80℃で８時間反応させた。
反応終了後、オートクレープを開放し、粘稠な生成物1
4.5g（収率96％）を得た。この生成物の粘度は20℃で2.
3cpで、液体クロマトグラフィーで分析した結果によれ
ば分子量は約4000乃至15000（ただしポリスチレン換
算）の範囲であった。またIRによればSiH3基およびSiH2
基による吸収ピークが認められた（第１図）。
4.5g（収率96％）を得た。この生成物の粘度は20℃で2.
3cpで、液体クロマトグラフィーで分析した結果によれ
ば分子量は約4000乃至15000（ただしポリスチレン換
算）の範囲であった。またIRによればSiH3基およびSiH2
基による吸収ピークが認められた（第１図）。
実施例２ 実施例１において、重合開始剤としてアゾビスイソブチ
ロニトリル（AIBN）を0.5gを用いた以外は実施例１と同
様に実験を行った。
ロニトリル（AIBN）を0.5gを用いた以外は実施例１と同
様に実験を行った。
得られた生成物は、13.9g（収率92％）で、この生成物
の粘度は20℃で2.5cpで、液体クロマトフラフィーで分
析した結果によれば分子量は約5000乃至17000の範囲で
あった。またIRによればSiH3基およびSiH2基による吸収
ピークが認められた（第２図）。
の粘度は20℃で2.5cpで、液体クロマトフラフィーで分
析した結果によれば分子量は約5000乃至17000の範囲で
あった。またIRによればSiH3基およびSiH2基による吸収
ピークが認められた（第２図）。
実施例３ 実施例１において、ビニルシランのかわりに２−クロロ
−４−シリル−１−ブテン（CH2＝CCl-CH2‐CH2‐Si
H3）を21.4g（177mmol）用いた以外は実施例１と同様に
実験に行った。
−４−シリル−１−ブテン（CH2＝CCl-CH2‐CH2‐Si
H3）を21.4g（177mmol）用いた以外は実施例１と同様に
実験に行った。
得られた生成物は9.8g（収率46％）で、この生成液の粘
度は20℃で1.9cpで、液体クロマトグラフィーで分析し
た結果によれば分子量は約1000乃至10000の範囲であっ
た。
度は20℃で1.9cpで、液体クロマトグラフィーで分析し
た結果によれば分子量は約1000乃至10000の範囲であっ
た。
発明の効果 本発明は、シリル基を含有するα−オレフィンがラジカ
ル重合するという発見に端を発するものであり、産業上
有用な新規な含ケイ素ポリマーの製造法を提供するもの
である。詳しくは、本発明は、安価なモノマーと経済的
重合法が最大の特徴であり、また得られるポリマー、特
にシリル基の特異的物性、反応性から種々の機能（用
途）が期待できる。例えば、特にセラミックス（SiC）
用プレポリマー、種々ポリマーの変性剤、IPN用原料、
表面処理剤等、すぐれた反応性高分子化合物となる。
ル重合するという発見に端を発するものであり、産業上
有用な新規な含ケイ素ポリマーの製造法を提供するもの
である。詳しくは、本発明は、安価なモノマーと経済的
重合法が最大の特徴であり、また得られるポリマー、特
にシリル基の特異的物性、反応性から種々の機能（用
途）が期待できる。例えば、特にセラミックス（SiC）
用プレポリマー、種々ポリマーの変性剤、IPN用原料、
表面処理剤等、すぐれた反応性高分子化合物となる。
以上のごとく、本発明の含ケイ素ポリマーの製造法が与
える産業上の意味（機能性材料の創出）は極めて大き
い。
える産業上の意味（機能性材料の創出）は極めて大き
い。
第１図は、実施例１において得られた含ケイ素ポリマー
のIRのチャートである。 第２図は、実施例２において得られた含ケイ素ポリマー
のIRのチャートである。
のIRのチャートである。 第２図は、実施例２において得られた含ケイ素ポリマー
のIRのチャートである。
Claims (1)
- 【請求項１】（１）一般式 （ただし、ｍは０または１乃至10の正の整数、ｎは１、
２または３、R1は水素、アルキル基、アリール基または
ハロゲン、R2はアルキレン基またはフェニレン基であっ
て、R1およびR2はCOOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含
んでいても良い。）で表されるケイ素化合物をラジカル
重合させることを特徴とする含ケイ素ポリマーの製造方
法。
Priority Applications (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9741787A JPH0725841B2 (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | 含ケイ素ポリマ−の製造方法 |
| EP88901299A EP0301099B1 (en) | 1987-01-28 | 1988-01-28 | Processes for preparing organosilicon compounds and silicon carbide |
| KR1019900702572A KR920001354B1 (ko) | 1987-01-28 | 1988-01-28 | 규소함유 고분자화합물 및 그의 제조방법 |
| PCT/JP1988/000065 WO1988005779A1 (fr) | 1987-01-28 | 1988-01-28 | Procede de preparation de compose d'organosilicones et de carbure de silicium |
| KR1019880701187A KR910001078B1 (ko) | 1987-01-28 | 1988-01-28 | 유기규소화합물의 제조방법 |
| KR1019900702573A KR910008295B1 (ko) | 1987-01-28 | 1988-01-28 | 탄화규소의 제조방법 |
| DE3855646T DE3855646T2 (de) | 1987-01-28 | 1988-01-28 | Verfahren zur herstellung von organisiliziumverbindungen und siliziumkarbid |
| CA000559220A CA1340699C (en) | 1987-02-20 | 1988-02-18 | Preparation process of organosilicon compounds and production process of silicon carbide |
| US08/383,712 US5596117A (en) | 1987-01-28 | 1995-02-03 | Preparation process of organo silicon compounds and production process of silicon |
| US08/413,115 US5508363A (en) | 1987-01-28 | 1995-03-29 | Preparation process of organosilicon compounds and production of silicon carbide |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9741787A JPH0725841B2 (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | 含ケイ素ポリマ−の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01236206A JPH01236206A (ja) | 1989-09-21 |
| JPH0725841B2 true JPH0725841B2 (ja) | 1995-03-22 |
Family
ID=14191883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9741787A Expired - Lifetime JPH0725841B2 (ja) | 1987-01-28 | 1987-04-22 | 含ケイ素ポリマ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0725841B2 (ja) |
-
1987
- 1987-04-22 JP JP9741787A patent/JPH0725841B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01236206A (ja) | 1989-09-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5362826A (en) | Method of preparing macrmonomer compositions | |
| EP1072602B1 (en) | Carbosiloxane dendrimer and copolymers made therewith | |
| JPH0139445B2 (ja) | ||
| JPH09510181A (ja) | アリル型連鎖移動剤 | |
| US5171809A (en) | Silicone polymers, copolymers and block copolymers and a method for their preparation | |
| US4681919A (en) | Polymerizable, optically active polymer and process for preparing polymerizable polymer | |
| CN1140179A (zh) | 聚合烯烃的方法 | |
| KR920001354B1 (ko) | 규소함유 고분자화합물 및 그의 제조방법 | |
| JPH0725841B2 (ja) | 含ケイ素ポリマ−の製造方法 | |
| JPS60123518A (ja) | シリコ−ン系グラフト共重合体の製造方法 | |
| JPH0725842B2 (ja) | 含ケイ素ポリマ−の製造方法 | |
| US5288808A (en) | Graft copolymers having pendant thiuram disulfide functions | |
| US5162396A (en) | Silicone polymers, copolymers and block copolymers and a method for their preparation | |
| JPH02187411A (ja) | フッ素含有重合体の製造方法 | |
| KR20010102496A (ko) | 제어 중합 반응을 위한 개시제의 용도 | |
| Yagci et al. | Acrytonitrile block copolymers: 1. Preparation of polyacrylonitrile containing azo-linkage in the main chain by anionic insertion polymerization | |
| CA1222593A (en) | Heat curable solventless liquid prepolymer | |
| US5302680A (en) | Copolymers of epoxybutadiene and maleimides | |
| JP2022013564A (ja) | ブロック共重合体 | |
| JP2551306B2 (ja) | 貯蔵安定性に優れるシリコーン系グラフトポリマーの製造方法 | |
| JPH0776613A (ja) | モノ−オレフィンのブロック共重合体の製造方法 | |
| JPH0616756A (ja) | ブロック共重合体 | |
| JPH01247410A (ja) | 含ケイ素高分子化合物およびその製造法 | |
| JPH0971612A (ja) | ポリビニルシランおよびそれを脱水素縮合化してなる架橋ケイ素重合体 | |
| JPH01254711A (ja) | 含ケイ素高分子化合物およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 13 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080322 |