JPH072698B2 - アミド誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 - Google Patents
アミド誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤Info
- Publication number
- JPH072698B2 JPH072698B2 JP12646289A JP12646289A JPH072698B2 JP H072698 B2 JPH072698 B2 JP H072698B2 JP 12646289 A JP12646289 A JP 12646289A JP 12646289 A JP12646289 A JP 12646289A JP H072698 B2 JPH072698 B2 JP H072698B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- skin
- amide derivative
- mmol
- external preparation
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なアミド誘導体、及びそれを含有する皮
膚外用剤、特に、角層のバリアー機能を本質的に改善
（正常なバリアー機能の維持、障害を受けたバリアー機
能の回復）し得る皮膚外用剤に関する。
膚外用剤、特に、角層のバリアー機能を本質的に改善
（正常なバリアー機能の維持、障害を受けたバリアー機
能の回復）し得る皮膚外用剤に関する。
角層は、皮膚の最表面にあって、体表面全体を覆い、体
外からの刺激や異物の侵入を防ぎ、また体内からの水分
の蒸散を防ぐ等の役割を果たしている。
外からの刺激や異物の侵入を防ぎ、また体内からの水分
の蒸散を防ぐ等の役割を果たしている。
しかし、何らかの原因によって角層のバリアー機能が弱
まると、皮膚に炎症が起きやすくなったり、肌あれが生
じ易くなるなどの問題が起こる。
まると、皮膚に炎症が起きやすくなったり、肌あれが生
じ易くなるなどの問題が起こる。
また、アラキドン酸やリノール酸などの必須脂肪酸を含
まない食物を摂取し続けるなどして体内で必須脂肪酸が
不足もしくは欠乏し、必須脂肪酸欠乏症になると、角層
のバリアー機能に障害が生じることが知られている。
まない食物を摂取し続けるなどして体内で必須脂肪酸が
不足もしくは欠乏し、必須脂肪酸欠乏症になると、角層
のバリアー機能に障害が生じることが知られている。
そして、上記角層のバリアー機能の維持には、角層細胞
間の脂質、特にＯ−アシルセラミドが極めて重要な働き
を示すことが、細胞間の脂質の分析等の結果から明らか
となっている。
間の脂質、特にＯ−アシルセラミドが極めて重要な働き
を示すことが、細胞間の脂質の分析等の結果から明らか
となっている。
また、皮脂腺から分泌される脂質が皮表で皮脂膜を形成
することにより、角層のバリアー機能の一部が補われる
とされており、従来、ワセリン等を配合した皮膚外用剤
等が、皮膚表面に被膜を形成させて角層のバリアー機能
を補充する目的で使用されている。
することにより、角層のバリアー機能の一部が補われる
とされており、従来、ワセリン等を配合した皮膚外用剤
等が、皮膚表面に被膜を形成させて角層のバリアー機能
を補充する目的で使用されている。
しかしながら、従来の皮膚外用剤等は、あくまでも一時
的に皮膚表面に被膜を形成させてバリアー機能を補充し
ているにすぎず、本質的に角層のバリアー機能を改善さ
せるものではなかった。
的に皮膚表面に被膜を形成させてバリアー機能を補充し
ているにすぎず、本質的に角層のバリアー機能を改善さ
せるものではなかった。
従って、本発明の目的は、角層の正常なバリアー機能を
維持することができ、また障害を受けたバリアー機能を
回復することのできる皮膚外用剤、即ち、角層のバリア
ー機能を本質的に改善でき、炎症や肌あれ等を起こし難
くする皮膚外用剤を提供することにある。
維持することができ、また障害を受けたバリアー機能を
回復することのできる皮膚外用剤、即ち、角層のバリア
ー機能を本質的に改善でき、炎症や肌あれ等を起こし難
くする皮膚外用剤を提供することにある。
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究した結
果、下記一般式（Ｉ）で表される新規アミド誘導体を含
有する皮膚外用剤が角層のバリアー機能を本質的に改善
できることを見出し、本発明を完成した。
果、下記一般式（Ｉ）で表される新規アミド誘導体を含
有する皮膚外用剤が角層のバリアー機能を本質的に改善
できることを見出し、本発明を完成した。
（式中、R1は炭素数10〜40の直鎖若しくは分岐鎖の飽和
若しくは不飽和の炭化水素基を示し、R2は炭素数３〜39
の直鎖若しくは分岐鎖の炭化水素基を示し、R3は水素原
子又は炭素数10〜40の直鎖若しくは分岐鎖の飽和若しく
は不飽和の炭化水素基若しくはアシル基を示す。） 即ち、本発明は、前記一般式（Ｉ）で表わされるアミド
誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤を提供するもので
ある。
若しくは不飽和の炭化水素基を示し、R2は炭素数３〜39
の直鎖若しくは分岐鎖の炭化水素基を示し、R3は水素原
子又は炭素数10〜40の直鎖若しくは分岐鎖の飽和若しく
は不飽和の炭化水素基若しくはアシル基を示す。） 即ち、本発明は、前記一般式（Ｉ）で表わされるアミド
誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤を提供するもので
ある。
以下、まず本発明のアミド誘導体について説明する。
前記一般式（Ｉ）で表わされる本発明のアミド誘導体
は、その製造法は特に限定されるものではなく、例え
ば、次の（１）〜（３）の方法により製造することがで
きる。
は、その製造法は特に限定されるものではなく、例え
ば、次の（１）〜（３）の方法により製造することがで
きる。
（１）前記一般式（Ｉ）においてR3が水素原子であるア
ミド誘導体（Ｉ−Ａ）の製造方法： 上記アミド誘導体（Ｉ−Ａ）は、公知の方法〔例えば、
特開昭63-216852号公報に記載の方法〕に準じて製造す
ることができる。即ち、次に示される反応式に従ってグ
リシジルエーテルとエタノールアミンから得られるアミ
ン誘導体（II）に対して、塩基触媒の存在下でヒドロキ
シ脂肪酸低級アルキルエステル（III-A）又はヒドロキ
シ脂肪酸ラクトン（IV）を作用させ、生成する低級アル
コールを留去しつつ反応させることにより製造すること
ができる。
ミド誘導体（Ｉ−Ａ）の製造方法： 上記アミド誘導体（Ｉ−Ａ）は、公知の方法〔例えば、
特開昭63-216852号公報に記載の方法〕に準じて製造す
ることができる。即ち、次に示される反応式に従ってグ
リシジルエーテルとエタノールアミンから得られるアミ
ン誘導体（II）に対して、塩基触媒の存在下でヒドロキ
シ脂肪酸低級アルキルエステル（III-A）又はヒドロキ
シ脂肪酸ラクトン（IV）を作用させ、生成する低級アル
コールを留去しつつ反応させることにより製造すること
ができる。
（式中、R1及びR2は前記一般式（Ｉ）における場合と同
じ意味を表わし、R4は炭素数１〜５のアルキル基を示
す。） （２）前記一般式（Ｉ）においてR3が炭素数10〜40の直
鎖若しくは分岐鎖の飽和若しくは不飽和の炭化水素基で
あるアミド誘導体（Ｉ−Ｂ）の製造方法： 上記アミド誘導体（Ｉ−Ｂ）は、次に示される反応式に
従って、ヒドロキシ脂肪酸（III）若しくはヒドロキシ
脂肪酸エステル（III-A）とアルキルハライド（Ｖ）若
しくはスルホン酸アルキルエステル（VI）とを塩基の存
在下で反応させることによりエーテル化脂肪酸エステル
（III-B）を得、これと前記（１）の方法で得られるア
ミン誘導体（II）とを塩基触媒存在下で作用させ、生成
するアルコールを留去しつつ反応させることにより、製
造することができる。
じ意味を表わし、R4は炭素数１〜５のアルキル基を示
す。） （２）前記一般式（Ｉ）においてR3が炭素数10〜40の直
鎖若しくは分岐鎖の飽和若しくは不飽和の炭化水素基で
あるアミド誘導体（Ｉ−Ｂ）の製造方法： 上記アミド誘導体（Ｉ−Ｂ）は、次に示される反応式に
従って、ヒドロキシ脂肪酸（III）若しくはヒドロキシ
脂肪酸エステル（III-A）とアルキルハライド（Ｖ）若
しくはスルホン酸アルキルエステル（VI）とを塩基の存
在下で反応させることによりエーテル化脂肪酸エステル
（III-B）を得、これと前記（１）の方法で得られるア
ミン誘導体（II）とを塩基触媒存在下で作用させ、生成
するアルコールを留去しつつ反応させることにより、製
造することができる。
（式中、R1、R2及びR4は前記（１）の反応式における場
合と同じ意味を表わし、R3は炭素数10〜40の直鎖若しく
は分岐鎖の飽和若しくは不飽和の炭化水素基を示し、R5
はメチル基、フェニル基又はｐ−トルイル基を示す。ま
た、ＸはCl、Br又はＩを示す。） （３）前記一般式（Ｉ）においてR3が炭素数10〜40の直
鎖若しくは分岐鎖の飽和若しくは不飽和のアシル基であ
るアミド誘導体（Ｉ−Ｃ）の製造方法： 上記アミド誘導体（Ｉ−Ｃ）は、次に示される反応式に
従って、ヒドロキシ脂肪酸エステル（III-A）と脂肪酸
（VII）とを適当な脱水剤〔例えば、 及びＰ(C6H5)3〕の存在下に縮合させてアシル脂肪酸エ
ステル（III-C）とし、これと前記（１）の方法で得ら
れるアミン誘導体（II）とを塩基触媒存在下で作用さ
せ、生成するアルコールを留去しつつ反応させることに
より、製造することができる。
合と同じ意味を表わし、R3は炭素数10〜40の直鎖若しく
は分岐鎖の飽和若しくは不飽和の炭化水素基を示し、R5
はメチル基、フェニル基又はｐ−トルイル基を示す。ま
た、ＸはCl、Br又はＩを示す。） （３）前記一般式（Ｉ）においてR3が炭素数10〜40の直
鎖若しくは分岐鎖の飽和若しくは不飽和のアシル基であ
るアミド誘導体（Ｉ−Ｃ）の製造方法： 上記アミド誘導体（Ｉ−Ｃ）は、次に示される反応式に
従って、ヒドロキシ脂肪酸エステル（III-A）と脂肪酸
（VII）とを適当な脱水剤〔例えば、 及びＰ(C6H5)3〕の存在下に縮合させてアシル脂肪酸エ
ステル（III-C）とし、これと前記（１）の方法で得ら
れるアミン誘導体（II）とを塩基触媒存在下で作用さ
せ、生成するアルコールを留去しつつ反応させることに
より、製造することができる。
（式中、R1、R2及びR4は前記（１）の反応式における場
合と同じ意味を表わし、R6は炭素数９〜39の直鎖若しく
は分岐鎖の飽和若しくは不飽和の炭化水素基を示す。） また、上記アミド誘導体（Ｉ−Ｃ）は、適当な保護基を
用いて次に示される反応式に従っても製造することがで
きる。
合と同じ意味を表わし、R6は炭素数９〜39の直鎖若しく
は分岐鎖の飽和若しくは不飽和の炭化水素基を示す。） また、上記アミド誘導体（Ｉ−Ｃ）は、適当な保護基を
用いて次に示される反応式に従っても製造することがで
きる。
（式中、R1、R2、R4及びR6は、前記の反応式における場
合と同じ意味を表わし、R7は基 又は を示し、R8はアセチル基又はtert−ブチルジフェニルシ
リル基を示す。） 即ち、ヒドロキシ脂肪酸エステル（III-A）のヒドロキ
シ基をテトラヒドロピラニル基、エトキシエチル基等の
エーテル系保護基R7で保護した後、アミン誘導体（II）
と塩基触媒存在下で反応させ、アミド誘導体（IX）と
し、次いで、アミド誘導体（IX）の２つのヒドロキシ基
をアセチル基又はtert−ブチルジフェニルシリル基
（R8）で保護した後、保護基R7を、酸触媒存在下にアル
コールを作用させて脱保護して、アミド誘導体（XI）と
し、次いで、適当な脱水剤〔例えば、 及びＰ(C6H5)3〕の存在下に脂肪酸（VII）を作用させる
か、又は塩基の存在下に脂肪酸クロリド（XII）を作用
させて、アミド誘導体（XIII）とし、最後に、保護基R8
を脱保護〔R8がアセチル基の場合、低級アルコール中K2
CO3、Na2CO3等の塩基を用い、また、R8がtert−ブチル
ジフェニルシリル基の場合、フッ化テトラブチルアンモ
ニウム等のフッ素イオンを用いる〕して、アミド誘導体
（Ｉ−Ｃ）得る。
合と同じ意味を表わし、R7は基 又は を示し、R8はアセチル基又はtert−ブチルジフェニルシ
リル基を示す。） 即ち、ヒドロキシ脂肪酸エステル（III-A）のヒドロキ
シ基をテトラヒドロピラニル基、エトキシエチル基等の
エーテル系保護基R7で保護した後、アミン誘導体（II）
と塩基触媒存在下で反応させ、アミド誘導体（IX）と
し、次いで、アミド誘導体（IX）の２つのヒドロキシ基
をアセチル基又はtert−ブチルジフェニルシリル基
（R8）で保護した後、保護基R7を、酸触媒存在下にアル
コールを作用させて脱保護して、アミド誘導体（XI）と
し、次いで、適当な脱水剤〔例えば、 及びＰ(C6H5)3〕の存在下に脂肪酸（VII）を作用させる
か、又は塩基の存在下に脂肪酸クロリド（XII）を作用
させて、アミド誘導体（XIII）とし、最後に、保護基R8
を脱保護〔R8がアセチル基の場合、低級アルコール中K2
CO3、Na2CO3等の塩基を用い、また、R8がtert−ブチル
ジフェニルシリル基の場合、フッ化テトラブチルアンモ
ニウム等のフッ素イオンを用いる〕して、アミド誘導体
（Ｉ−Ｃ）得る。
次に、上述の本発明のアミド誘導体を含有する本発明の
皮膚外用剤について説明する。
皮膚外用剤について説明する。
本発明のアミド誘導体を本発明の皮膚外用剤として用い
る場合の配合量は、特に制限されないが、通常、乳化型
の皮膚外用剤の場合には全組成の0.001〜50重量％（以
下、単に％で示す）が好ましく、スクワラン等の液状炭
化水素を基剤とする油性の皮膚外用剤の場合には0.01〜
50％が好ましい。
る場合の配合量は、特に制限されないが、通常、乳化型
の皮膚外用剤の場合には全組成の0.001〜50重量％（以
下、単に％で示す）が好ましく、スクワラン等の液状炭
化水素を基剤とする油性の皮膚外用剤の場合には0.01〜
50％が好ましい。
本発明の皮膚外用剤は、従来の皮膚外用剤の基剤に前記
一般式（Ｉ）で表されるアミド誘導体を含有させてなる
もので、その使用形態において、薬用皮膚外用剤と化粧
料に大別される。
一般式（Ｉ）で表されるアミド誘導体を含有させてなる
もので、その使用形態において、薬用皮膚外用剤と化粧
料に大別される。
薬用皮膚外用剤としては、例えば、薬効成分を含有する
各種軟膏剤を挙げることができる。軟膏剤としては、油
性基剤をベースとするもの、油／水、水／油型の乳化系
基剤をベースとするもののいずれであってもよい。上記
油性基剤としては、特に制限はなく、例えば、植物油、
動物油、合成油、脂肪酸、及び天然又は合成のグリセラ
イド等が挙げられる。また、上記薬効成分としては、特
に制限はなく、例えば、鎮痛消炎剤、鎮痒剤、殺菌消毒
剤、収斂剤、皮膚軟化剤、ホルモン剤等を必要に応じて
適宜使用することができる。
各種軟膏剤を挙げることができる。軟膏剤としては、油
性基剤をベースとするもの、油／水、水／油型の乳化系
基剤をベースとするもののいずれであってもよい。上記
油性基剤としては、特に制限はなく、例えば、植物油、
動物油、合成油、脂肪酸、及び天然又は合成のグリセラ
イド等が挙げられる。また、上記薬効成分としては、特
に制限はなく、例えば、鎮痛消炎剤、鎮痒剤、殺菌消毒
剤、収斂剤、皮膚軟化剤、ホルモン剤等を必要に応じて
適宜使用することができる。
また、化粧料として使用する場合は、必須成分である本
発明のアミド誘導体の他に、化粧料成分として一般に使
用されている油分、保湿剤、紫外線吸収剤、アルコール
類、キレート剤、pH調整剤、防腐剤、増粘剤、色素、香
料等を任意に組み合わせて配合することができる。
発明のアミド誘導体の他に、化粧料成分として一般に使
用されている油分、保湿剤、紫外線吸収剤、アルコール
類、キレート剤、pH調整剤、防腐剤、増粘剤、色素、香
料等を任意に組み合わせて配合することができる。
化粧料としては、種々の形態、例えば、水／油、油／水
型乳化化粧料、クリーム、化粧乳液、化粧水、油性化粧
料、口紅、ファンデーション、皮膚洗浄剤、ヘアートニ
ック、整髪剤、養毛剤、育毛剤等の皮膚化粧料とするこ
とができる。
型乳化化粧料、クリーム、化粧乳液、化粧水、油性化粧
料、口紅、ファンデーション、皮膚洗浄剤、ヘアートニ
ック、整髪剤、養毛剤、育毛剤等の皮膚化粧料とするこ
とができる。
前記一般式（Ｉ）で表される本発明のアミド誘導体を含
有する皮膚外用剤の作用機構の詳細は完全には解明され
ていないが、皮膚外用剤として皮膚に適用されることに
より、角質細胞間の脂質膜を補強して角層のバリアー機
能を改善するものと推察される。
有する皮膚外用剤の作用機構の詳細は完全には解明され
ていないが、皮膚外用剤として皮膚に適用されることに
より、角質細胞間の脂質膜を補強して角層のバリアー機
能を改善するものと推察される。
次に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明する。
実施例１ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−12−ヒドロキシオク
タデカンアミド〔前記一般式（Ｉ）においてR1＝C16H33
-及び であるアミド誘導体〕（I-Aa）の合成： Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）エタノールアミン（IIa）の合成： 攪拌装置、滴下漏斗、温度計及び還流冷却器を備えた20
0ml4ツ口フラスコにエタノールアミン61.1g（1.0mol）
を入れ、60〜70℃に加熱攪拌しつつ、これにヘキサデシ
ルグリシジルエーテル24.3g（0.082mol）を45分かけて
滴下した。滴下終了後、更に同条件下で２時間加熱攪拌
し、未反応のエタノールアミンを減圧下に留去（79〜81
℃/20Torr）した。残渣をシリカゲルフラッシュカラム
クロマトグラフィーで精製することにより、標記化合物
（IIa）18.4gを得た（収率63％）。尚、得られた化合物
の1H-NMRの測定結果は次の通りであった。1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.85（t,3H）、1.23（bs,28H）、2.6〜2.8（m,4H）、3.
1〜3.9（m,10H） アミド誘導体（I-Aa）の合成： 攪拌装置、滴下ロート、温度計及び蒸溜装置を備えた10
0mlフラスコに、上記で得た化合物（IIa）17.3g（48m
mol）及びKOH0.14g（2.5mmol）を仕込み、80℃/20Torr
で減圧下に加熱攪拌しつつ、12−ヒドロキシオクタデカ
ン酸メチル15.1g（48mmol）を１時間かけて滴下した。
滴下終了後、更に同条件下で１時間攪拌し、得られた粗
生成物をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィ
ーで精製することにより、標記化合物（I-Aa）23.0gを
得た（収率74％）。得られた化合物の融点、1R及び1H-N
MRの測定結果は次の通りであった。
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−12−ヒドロキシオク
タデカンアミド〔前記一般式（Ｉ）においてR1＝C16H33
-及び であるアミド誘導体〕（I-Aa）の合成： Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）エタノールアミン（IIa）の合成： 攪拌装置、滴下漏斗、温度計及び還流冷却器を備えた20
0ml4ツ口フラスコにエタノールアミン61.1g（1.0mol）
を入れ、60〜70℃に加熱攪拌しつつ、これにヘキサデシ
ルグリシジルエーテル24.3g（0.082mol）を45分かけて
滴下した。滴下終了後、更に同条件下で２時間加熱攪拌
し、未反応のエタノールアミンを減圧下に留去（79〜81
℃/20Torr）した。残渣をシリカゲルフラッシュカラム
クロマトグラフィーで精製することにより、標記化合物
（IIa）18.4gを得た（収率63％）。尚、得られた化合物
の1H-NMRの測定結果は次の通りであった。1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.85（t,3H）、1.23（bs,28H）、2.6〜2.8（m,4H）、3.
1〜3.9（m,10H） アミド誘導体（I-Aa）の合成： 攪拌装置、滴下ロート、温度計及び蒸溜装置を備えた10
0mlフラスコに、上記で得た化合物（IIa）17.3g（48m
mol）及びKOH0.14g（2.5mmol）を仕込み、80℃/20Torr
で減圧下に加熱攪拌しつつ、12−ヒドロキシオクタデカ
ン酸メチル15.1g（48mmol）を１時間かけて滴下した。
滴下終了後、更に同条件下で１時間攪拌し、得られた粗
生成物をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィ
ーで精製することにより、標記化合物（I-Aa）23.0gを
得た（収率74％）。得られた化合物の融点、1R及び1H-N
MRの測定結果は次の通りであった。
融点:70.8〜71.3℃ IR:3352、2926、2854、1617、1473、1122、1077cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.88（t,J＝6.3Hz,6H）、1.12〜1.82（m,56H）、2.24〜
2.51（m,2H）、3.23〜4.30（m,15H） 実施例２ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−ヒドロキシヘキ
サデカンアミド〔前記一般式（Ｉ）においてR1＝C
16H33、R3OR2＝HO(CH2)15-であるアミド誘導体〕（I-A
b）の合成： 実施例１ので得たアミン（IIa）と16−ヒドロキシヘ
キサデカン酸メチルとを実施例１のと同様の方法で反
応させ、無色粉末の目的化合物（I-Ab）を得た（収率75
％）。得られた化合物の融点、IR及び1H-NMRの測定結果
は次の通りであった。
2.51（m,2H）、3.23〜4.30（m,15H） 実施例２ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−ヒドロキシヘキ
サデカンアミド〔前記一般式（Ｉ）においてR1＝C
16H33、R3OR2＝HO(CH2)15-であるアミド誘導体〕（I-A
b）の合成： 実施例１ので得たアミン（IIa）と16−ヒドロキシヘ
キサデカン酸メチルとを実施例１のと同様の方法で反
応させ、無色粉末の目的化合物（I-Ab）を得た（収率75
％）。得られた化合物の融点、IR及び1H-NMRの測定結果
は次の通りであった。
融点:80.6〜81.5℃ IR:3370、2920、2854、1626、1596、1473、1131、106
2、723cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.88（t,J＝6.6Hz,3H）、0.96〜1.80（m,54H）、2.30〜
2.48（m,2H）、3.24〜4.17（m,15H） 実施例３ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（9Z,12Z−オク
タデカジエニロキシ）ヘキサデカンアミド〔前記一般式
（Ｉ）においてR1＝C16H33及び であるアミド誘導体〕（I-Ba）の合成： 16−（9Z,12Z−オクタデカジエニロキシ）ヘキサデカ
ン酸メチル（III-Ba）の合成： 攪拌装置、滴下ロート、温度計及び還流冷却器を備えた
300ml4ツ口フラスコに、16−ヒドロキシヘキサデカン酸
2.72g（10mmol）、無水テトラヒドロフラン50ml、無水
ヘキサメチルホスホリルトリアミド5ml及び水素化ナト
リウム0.24g（10mmol）を入れ、N2気流下、室温で30分
間攪拌した。次いで、この混合物を−70℃まで冷却し、
1.6Nブチルリチウムヘキサン溶液6.25ml（10mmol）を加
えた後、30分かけて室温まで加温し、ここで水素化ナト
リウム0.24g（10mmol）を加えてさらに30分間室温で攪
拌した。次に、ここにｐ−トルエンスルホン酸9Z,12Z−
オクタデカジエニルエステル9.25g（22mmol）を滴下
し、65℃で18時間加熱攪拌し、次いでこの反応混合物に
無水メタノール150mlを加え、更に65℃で１時間攪拌し
た。反応混合物を室温まで冷却後、塩化アンモニウム水
溶液で過剰のアルカリを中和し、トルエンで反応混合物
を抽出し、溶媒を減圧留去後、残渣をフラッシュカラム
クロマトグラフィーで精製することにより、標記化合物
（III-Ba）0.72gを得た（収率13.5％）。
2、723cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.88（t,J＝6.6Hz,3H）、0.96〜1.80（m,54H）、2.30〜
2.48（m,2H）、3.24〜4.17（m,15H） 実施例３ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（9Z,12Z−オク
タデカジエニロキシ）ヘキサデカンアミド〔前記一般式
（Ｉ）においてR1＝C16H33及び であるアミド誘導体〕（I-Ba）の合成： 16−（9Z,12Z−オクタデカジエニロキシ）ヘキサデカ
ン酸メチル（III-Ba）の合成： 攪拌装置、滴下ロート、温度計及び還流冷却器を備えた
300ml4ツ口フラスコに、16−ヒドロキシヘキサデカン酸
2.72g（10mmol）、無水テトラヒドロフラン50ml、無水
ヘキサメチルホスホリルトリアミド5ml及び水素化ナト
リウム0.24g（10mmol）を入れ、N2気流下、室温で30分
間攪拌した。次いで、この混合物を−70℃まで冷却し、
1.6Nブチルリチウムヘキサン溶液6.25ml（10mmol）を加
えた後、30分かけて室温まで加温し、ここで水素化ナト
リウム0.24g（10mmol）を加えてさらに30分間室温で攪
拌した。次に、ここにｐ−トルエンスルホン酸9Z,12Z−
オクタデカジエニルエステル9.25g（22mmol）を滴下
し、65℃で18時間加熱攪拌し、次いでこの反応混合物に
無水メタノール150mlを加え、更に65℃で１時間攪拌し
た。反応混合物を室温まで冷却後、塩化アンモニウム水
溶液で過剰のアルカリを中和し、トルエンで反応混合物
を抽出し、溶媒を減圧留去後、残渣をフラッシュカラム
クロマトグラフィーで精製することにより、標記化合物
（III-Ba）0.72gを得た（収率13.5％）。
アミド誘導体（I-Ba）の合成： 上記で得た化合物（III-Ba）と実施例１ので得たア
ミン（IIa）とを実施例１のと同様の方法で反応さ
せ、無色粉末の目的化合物（I-Ba）を得た（収率71
％）。得られた化合物の融点、IR及び1H-NMRの測定結果
は次の通りであった。
ミン（IIa）とを実施例１のと同様の方法で反応さ
せ、無色粉末の目的化合物（I-Ba）を得た（収率71
％）。得られた化合物の融点、IR及び1H-NMRの測定結果
は次の通りであった。
融点:63.0〜64.3℃ IR:3304、2920、2854、1614、1467、1116、1062、720cm
-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.80〜0.95（m,6H）、0.95〜1.70（m,72H）、1.95〜2.1
2（m,4H）、2.39（t,J＝7.7Hz,2H）、2.77（bt,J＝5.7H
z,2H）、3.39（t,J＝6.6Hz,4H）、3.23〜4.23（m,13
H）、5.24〜5.44（m,4H） 実施例４ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（9Z,12Z−オク
タデカジエノイルオキシ）ヘキサデカンアミド〔前記一
般式（Ｉ）においてR1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Ca）の合成： 16−（9Z,12Z−オクタデカジエノイルオキシ）ヘキサ
デカン酸メチル（III-Ca）の合成： 攪拌装置、滴下ロート及び温度計を備えた300mlフラス
コに、16−ヒドロキシヘキサデカン酸メチル4.30g（15m
mol）、リノール酸8.41g（13mmol）、トリフェニルホス
フィン7.87g（30mmol）及びテトラヒドロフラン100mlを
仕込み、室温で攪拌下にアゾジカルボン酸ジエチル5.22
g（30mmol）を１時間かけて滴下した。滴下終了後、更
に室温で４時間攪拌した後、溶媒を減圧下に留去し、残
渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製す
ることにり、標記化合物（III-Ca）6.76gを得た（収率8
2％）。
-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.80〜0.95（m,6H）、0.95〜1.70（m,72H）、1.95〜2.1
2（m,4H）、2.39（t,J＝7.7Hz,2H）、2.77（bt,J＝5.7H
z,2H）、3.39（t,J＝6.6Hz,4H）、3.23〜4.23（m,13
H）、5.24〜5.44（m,4H） 実施例４ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（9Z,12Z−オク
タデカジエノイルオキシ）ヘキサデカンアミド〔前記一
般式（Ｉ）においてR1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Ca）の合成： 16−（9Z,12Z−オクタデカジエノイルオキシ）ヘキサ
デカン酸メチル（III-Ca）の合成： 攪拌装置、滴下ロート及び温度計を備えた300mlフラス
コに、16−ヒドロキシヘキサデカン酸メチル4.30g（15m
mol）、リノール酸8.41g（13mmol）、トリフェニルホス
フィン7.87g（30mmol）及びテトラヒドロフラン100mlを
仕込み、室温で攪拌下にアゾジカルボン酸ジエチル5.22
g（30mmol）を１時間かけて滴下した。滴下終了後、更
に室温で４時間攪拌した後、溶媒を減圧下に留去し、残
渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製す
ることにり、標記化合物（III-Ca）6.76gを得た（収率8
2％）。
アミド誘導体（I-Ca）の合成： 攪拌装置、滴下ロート、温度計及び蒸溜装置を備えた50
mlフラスコに、上記で得た化合物（III-Ca）2.74g（5
mmol）、実施例１ので得たアミン（IIa）1.80g（5mmo
l）及びカリウムtert−ブトキシド0.028g（0.25mmol）
を仕込み、80℃/20Torrの減圧下で30分間加熱攪拌し
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー及びゲルクロマトグラフィーで精製することによ
り、標記化合物（I-Ca）1.65gを得た（収率38％）。得
られた化合物の融点、IR、1H-NMR及びMSの測定結果は次
の通りであった。
mlフラスコに、上記で得た化合物（III-Ca）2.74g（5
mmol）、実施例１ので得たアミン（IIa）1.80g（5mmo
l）及びカリウムtert−ブトキシド0.028g（0.25mmol）
を仕込み、80℃/20Torrの減圧下で30分間加熱攪拌し
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー及びゲルクロマトグラフィーで精製することによ
り、標記化合物（I-Ca）1.65gを得た（収率38％）。得
られた化合物の融点、IR、1H-NMR及びMSの測定結果は次
の通りであった。
融点:58.2〜58.9℃ IR:3304、2920、2856、1734、1612、1464、1440、121
6、1166、1108、756、720cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.80〜1.00（m,6H）、1.00〜1.73（m,70H）、1.95〜2.1
6（m,4H）、2.28（t,J＝7.5Hz,2H）、2.39（bt,J＝7.7H
z,2H）、2.77（bt,J＝5.9Hz,2H）、3.23〜4.25（m,13
H）、4.05（t,J＝6.6Hz,2H）、5.26〜5.47（m,4H） MS（FAB,POS）： 877（Ｍ＋１）、859、634、596、360 （FAB,NEG）： 875（Ｍ−１）、873、831、613、534、359、305、279 実施例５ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（9Z−オクタデ
セノイルオキシ）ヘキサデカンアミド〔前記一般式
（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Cb）の合成： Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）ヘキサデカンアミド（IX-b）の合
成： 撹拌装置及び滴下ロートを備えた１フラスコに、16−
ヒドロキシヘキサデカン酸メチル100.26g（0.35mol）、
ｐ−トルエンスルホン酸0.60g（3.5mmol）及びジクロロ
メタン350mlを仕込み、０℃にて撹拌しながらジヒドロ
ピラン32.39g（0.385mol）を滴下した。滴下終了後、１
時間室温で撹拌して反応を完結させた。次いで、反応混
合物にNaHCO30.59g（7mmol）を加えて中和し、濾過、溶
媒留去して、16−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）
ヘキサデカン酸メチル粗製物を得た。
6、1166、1108、756、720cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.80〜1.00（m,6H）、1.00〜1.73（m,70H）、1.95〜2.1
6（m,4H）、2.28（t,J＝7.5Hz,2H）、2.39（bt,J＝7.7H
z,2H）、2.77（bt,J＝5.9Hz,2H）、3.23〜4.25（m,13
H）、4.05（t,J＝6.6Hz,2H）、5.26〜5.47（m,4H） MS（FAB,POS）： 877（Ｍ＋１）、859、634、596、360 （FAB,NEG）： 875（Ｍ−１）、873、831、613、534、359、305、279 実施例５ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（9Z−オクタデ
セノイルオキシ）ヘキサデカンアミド〔前記一般式
（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Cb）の合成： Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）ヘキサデカンアミド（IX-b）の合
成： 撹拌装置及び滴下ロートを備えた１フラスコに、16−
ヒドロキシヘキサデカン酸メチル100.26g（0.35mol）、
ｐ−トルエンスルホン酸0.60g（3.5mmol）及びジクロロ
メタン350mlを仕込み、０℃にて撹拌しながらジヒドロ
ピラン32.39g（0.385mol）を滴下した。滴下終了後、１
時間室温で撹拌して反応を完結させた。次いで、反応混
合物にNaHCO30.59g（7mmol）を加えて中和し、濾過、溶
媒留去して、16−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）
ヘキサデカン酸メチル粗製物を得た。
次に、撹拌装置、滴下ロート、温度計及び蒸留装置を備
えた１フラスコに、実施例１ので得られたＮ−（２
−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピル）エタノ
ールアミン（IIa）125.9g（0.35mol）及びKOH0.98g（1
7.5mmol）を仕込み、80℃/20Torrの減圧下に加熱撹拌し
つつ、上記で得た16−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）ヘキサデカン酸メチル粗製物を２時間かけて滴下
し、生成してくるメタノールを留去した。滴下終了後、
更に同条件下で２時間撹拌し、得られた粗生成物をメタ
ノールより再結晶することにより、化合物（IX-b）212.
3gを得た（収率86.9％）。
えた１フラスコに、実施例１ので得られたＮ−（２
−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピル）エタノ
ールアミン（IIa）125.9g（0.35mol）及びKOH0.98g（1
7.5mmol）を仕込み、80℃/20Torrの減圧下に加熱撹拌し
つつ、上記で得た16−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）ヘキサデカン酸メチル粗製物を２時間かけて滴下
し、生成してくるメタノールを留去した。滴下終了後、
更に同条件下で２時間撹拌し、得られた粗生成物をメタ
ノールより再結晶することにより、化合物（IX-b）212.
3gを得た（収率86.9％）。
Ｎ−（２−（tert−ブチルジフェニルシリルオキシ）
−３−ヘキサデシロキシプロピル）−Ｎ−２−（tert−
ブチルジフェニルシリルオキシ）エチル−16−ヒドロキ
シヘキサデカンアミド（XI-b）の合成： 撹拌装置及び滴下ロートを備えた１フラスコに、上記
で得た化合物（IX-b）34.91g（0.05mol）、イミダゾ
ール13.62g（0.2mol）及びジメチルホルムアミド350ml
を仕込み、室温で撹拌しながらtert−ブチルジフェニル
クロロシラン30.24g（0.11mol）を滴下し、50℃に加温
して14時間撹拌した。反応終了後、反応混合物をジエチ
ルエーテルで抽出し、食塩水で洗浄後、溶媒を減圧留去
した。
−３−ヘキサデシロキシプロピル）−Ｎ−２−（tert−
ブチルジフェニルシリルオキシ）エチル−16−ヒドロキ
シヘキサデカンアミド（XI-b）の合成： 撹拌装置及び滴下ロートを備えた１フラスコに、上記
で得た化合物（IX-b）34.91g（0.05mol）、イミダゾ
ール13.62g（0.2mol）及びジメチルホルムアミド350ml
を仕込み、室温で撹拌しながらtert−ブチルジフェニル
クロロシラン30.24g（0.11mol）を滴下し、50℃に加温
して14時間撹拌した。反応終了後、反応混合物をジエチ
ルエーテルで抽出し、食塩水で洗浄後、溶媒を減圧留去
した。
次に、上記で得られた残渣を撹拌装置を備えた１フラ
スコに仕込み、ここにエタノール550ml、メタノール150
ml及びパラトルエンスルンホン酸ピリジニウム2.36g
（9.4mmol）を加え、室温で28時間撹拌した。反応終了
後、NaHCO3で中和し、ジエチルエーテルで反応混合物を
抽出し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルフラッシ
ュカラムクロマトグラフィーで精製することにより、化
合物（XI-b）39.5gを得た（収率72.4％）。
スコに仕込み、ここにエタノール550ml、メタノール150
ml及びパラトルエンスルンホン酸ピリジニウム2.36g
（9.4mmol）を加え、室温で28時間撹拌した。反応終了
後、NaHCO3で中和し、ジエチルエーテルで反応混合物を
抽出し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルフラッシ
ュカラムクロマトグラフィーで精製することにより、化
合物（XI-b）39.5gを得た（収率72.4％）。
アミド誘導体（I-Cb）の合成： 撹拌装置及び滴下ロートを備えた200mlフラスコに、上
記で得た化合物（XI-b）4.25g（3.9mmol）、ピリジン
1.23g（15.6mmol）及びジクロロメタン50mlを仕込み、
室温で撹拌しながら塩化オレオイル1.41g（4.7mmol）を
滴下した。滴下終了後さらに１時間室温で撹拌して反応
を完結させ、反応混合物を水で洗浄し、溶媒を減圧留去
後、シリカゲルショートカラムクロマトグラフィーで高
極性副生成物を除去し、粗生成物を得た。
記で得た化合物（XI-b）4.25g（3.9mmol）、ピリジン
1.23g（15.6mmol）及びジクロロメタン50mlを仕込み、
室温で撹拌しながら塩化オレオイル1.41g（4.7mmol）を
滴下した。滴下終了後さらに１時間室温で撹拌して反応
を完結させ、反応混合物を水で洗浄し、溶媒を減圧留去
後、シリカゲルショートカラムクロマトグラフィーで高
極性副生成物を除去し、粗生成物を得た。
次に、上記で得られた粗生成物を撹拌装置を備えた200m
lフラスコに仕込み、ここにテトラヒドロフラン50ml及
びフッ化テトラブチルアンモニウム2.46g（7.8mmol）を
加え、室温で30分撹拌した。反応終了後、反応混合物を
クロロホルムで抽出し、食塩水で洗浄後、溶媒を減圧留
去し、残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラ
フィーで精製することにより、標記化合物（I-Cb）2.67
gを得た（収率77.9％）。得られた化合物の融点、IR及
び1H-NMRの測定結果は次の通りであった。
lフラスコに仕込み、ここにテトラヒドロフラン50ml及
びフッ化テトラブチルアンモニウム2.46g（7.8mmol）を
加え、室温で30分撹拌した。反応終了後、反応混合物を
クロロホルムで抽出し、食塩水で洗浄後、溶媒を減圧留
去し、残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラ
フィーで精製することにより、標記化合物（I-Cb）2.67
gを得た（収率77.9％）。得られた化合物の融点、IR及
び1H-NMRの測定結果は次の通りであった。
融点:60.4〜61.3℃ IR:3304、2920、2854、1737、1617、1467、1443、119
1、1110、1062、723cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.88（t,J＝6.4Hz,6H）、1.10〜1.85（m,76H）、1.85〜
2.10（m,4H）、2.29（t,J＝7.5Hz,2H）、2.39（bt,J＝
7.6Hz,2H）、3.21〜4.20（m,13H）、4.05（t,J＝6.7Hz,
2H）、5.34（bt,J＝5.3Hz,2H） 実施例６ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（メチルヘプデ
カノイルオキシ）ヘキサデカンアミド〔前記一般式
（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び （式中、ｐはｐ＝７を頂点とする分布を有する整数を表
わす）であるアミド誘導体〕（I-Cc）の合成： 実施例５のにおいて、塩化オレオイルの代わりに塩化
メチルヘプタデカノイルを用いる以外は実施例５と同様
に反応を行って、目的化合物（I-Cc）を得た（収率65.5
％）。得られた化合物の融点、IR及び1H-NMRの測定結果
は次の通りであった。
1、1110、1062、723cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.88（t,J＝6.4Hz,6H）、1.10〜1.85（m,76H）、1.85〜
2.10（m,4H）、2.29（t,J＝7.5Hz,2H）、2.39（bt,J＝
7.6Hz,2H）、3.21〜4.20（m,13H）、4.05（t,J＝6.7Hz,
2H）、5.34（bt,J＝5.3Hz,2H） 実施例６ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（メチルヘプデ
カノイルオキシ）ヘキサデカンアミド〔前記一般式
（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び （式中、ｐはｐ＝７を頂点とする分布を有する整数を表
わす）であるアミド誘導体〕（I-Cc）の合成： 実施例５のにおいて、塩化オレオイルの代わりに塩化
メチルヘプタデカノイルを用いる以外は実施例５と同様
に反応を行って、目的化合物（I-Cc）を得た（収率65.5
％）。得られた化合物の融点、IR及び1H-NMRの測定結果
は次の通りであった。
融点:60.1〜62.0℃ IR:3298、2926、2380、1737、1614、1467、1443、120
3、1110、1059、720cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.77〜1.00（m,9H）、1.03〜1.75（m,81H）、2.29（t,J
＝7.5Hz,2H）、2.40（bt,J＝7.3Hz,2H）、3.24〜4.33
（m,13H）、4.05（t,J＝6.6Hz,2H） 実施例７ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−32−（9Z,12Z−オク
タデカジエノイルオキシ）ドトリアコンタンアミド〔前
記一般式（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Cd）の合成； 実施例５のにおいて、16−ヒドロキシヘキサデカン酸
メチルの代わりに32−ヒドロキシドトリアコンタン酸メ
チルを用い、且つ実施例５のにおいて、塩化オレオイ
ルの代わりに塩化リノレオイルを用いる以外は実施例５
と同様に反応を行って、目的化合物（I-Cd）を得た（収
率24.8％）。得られた化合物の融点、IR及び1H-NMRの測
定結果は次の通りであった。
3、1110、1059、720cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.77〜1.00（m,9H）、1.03〜1.75（m,81H）、2.29（t,J
＝7.5Hz,2H）、2.40（bt,J＝7.3Hz,2H）、3.24〜4.33
（m,13H）、4.05（t,J＝6.6Hz,2H） 実施例７ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−32−（9Z,12Z−オク
タデカジエノイルオキシ）ドトリアコンタンアミド〔前
記一般式（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Cd）の合成； 実施例５のにおいて、16−ヒドロキシヘキサデカン酸
メチルの代わりに32−ヒドロキシドトリアコンタン酸メ
チルを用い、且つ実施例５のにおいて、塩化オレオイ
ルの代わりに塩化リノレオイルを用いる以外は実施例５
と同様に反応を行って、目的化合物（I-Cd）を得た（収
率24.8％）。得られた化合物の融点、IR及び1H-NMRの測
定結果は次の通りであった。
融点:72.4〜73.0℃ IR:3304、2920、2852、1738、1614、1466、1442、116
8、1112、1062、760、722cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.81〜1.01（m,6H）、1.10〜1.72（m,92H）、1.95〜2.1
5（m,4H）、2.29（t,J＝7.5Hz,2H）、2.39（bt,J＝7.6H
z,2H）、2.77（bt,J＝5.7Hz,2H）、3.18〜4.20（m,13
H）、4.05（t,J＝6.7Hz,2H）、5.23〜5.46（m,4H） 実施例８ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（12−ヒドロキ
シオクタデカノイルオキシ）ヘキサデカンアミド〔前記
一般式（Ｉ）において、 R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Ce）の合成： 12−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）オクタデ
カン酸の合成； 撹拌装置及び滴下ロートを備えた100mlフラスコに、12
−ヒドロキシオクタデカン酸エチル3.28g（10mmol）、
イミダゾール1.36g（20mmol）及びジメチルホルムアミ
ド50mlを仕込み、室温で撹拌しながらtert−ブチルジメ
チルクロロシラン1.66g（11mmol）を滴下した。滴下終
了後、反応混合物を50℃で18時間撹拌し、反応を終了さ
せた。次いで、反応混合物をエーテルで抽出し、食塩水
で洗浄後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルフラッ
シュクロマトグラフィーで精製して、12−（tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）オクタデカン酸エチルを得
た。
8、1112、1062、760、722cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.81〜1.01（m,6H）、1.10〜1.72（m,92H）、1.95〜2.1
5（m,4H）、2.29（t,J＝7.5Hz,2H）、2.39（bt,J＝7.6H
z,2H）、2.77（bt,J＝5.7Hz,2H）、3.18〜4.20（m,13
H）、4.05（t,J＝6.7Hz,2H）、5.23〜5.46（m,4H） 実施例８ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（12−ヒドロキ
シオクタデカノイルオキシ）ヘキサデカンアミド〔前記
一般式（Ｉ）において、 R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Ce）の合成： 12−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）オクタデ
カン酸の合成； 撹拌装置及び滴下ロートを備えた100mlフラスコに、12
−ヒドロキシオクタデカン酸エチル3.28g（10mmol）、
イミダゾール1.36g（20mmol）及びジメチルホルムアミ
ド50mlを仕込み、室温で撹拌しながらtert−ブチルジメ
チルクロロシラン1.66g（11mmol）を滴下した。滴下終
了後、反応混合物を50℃で18時間撹拌し、反応を終了さ
せた。次いで、反応混合物をエーテルで抽出し、食塩水
で洗浄後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルフラッ
シュクロマトグラフィーで精製して、12−（tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）オクタデカン酸エチルを得
た。
次に、上記で得た12−（tert−ブチルジメチルシリルオ
キシ）オクタデカン酸エチルを撹拌装置を備えた100ml
のフラスコに仕込み、ここにエタノール20ml及び50％KO
H水溶液2.24g（20mmol）を加え、室温で４時間撹拌し
た。反応終了後、得られた反応混合物を塩酸で中和後、
クロロホルムで抽出し、溶媒を減圧留去して、12−（te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ）オクタデカン酸4.0g
を得た（収率96.4％）。
キシ）オクタデカン酸エチルを撹拌装置を備えた100ml
のフラスコに仕込み、ここにエタノール20ml及び50％KO
H水溶液2.24g（20mmol）を加え、室温で４時間撹拌し
た。反応終了後、得られた反応混合物を塩酸で中和後、
クロロホルムで抽出し、溶媒を減圧留去して、12−（te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ）オクタデカン酸4.0g
を得た（収率96.4％）。
アミド誘導体（I-Ce）の合成： 撹拌装置、滴下ロート及び温度計を備えた100mlフラス
コに、上記で得た12−（tert−ブチルジメチルシリル
オキシ）オクタデカン酸1.87g（4.5mmol）、実施例５の
で得た化合物（XI-b）3.27g（3mmol）、トリフェニル
ホスフィン1.18g（4.5mmol）及びテトラヒドロフラン10
mlを仕込み、室温で撹拌下にアゾジカルボン酸ジエチル
0.71g（4.05mmol）のテトラヒドロフラン5ml溶液を５分
間かけて滴下した。滴下終了後更に室温で４時間撹拌し
た後、溶媒を減圧下で留去し、残渣をシリカゲルフラッ
シュカラムクロマトグラフィーで精製した。
コに、上記で得た12−（tert−ブチルジメチルシリル
オキシ）オクタデカン酸1.87g（4.5mmol）、実施例５の
で得た化合物（XI-b）3.27g（3mmol）、トリフェニル
ホスフィン1.18g（4.5mmol）及びテトラヒドロフラン10
mlを仕込み、室温で撹拌下にアゾジカルボン酸ジエチル
0.71g（4.05mmol）のテトラヒドロフラン5ml溶液を５分
間かけて滴下した。滴下終了後更に室温で４時間撹拌し
た後、溶媒を減圧下で留去し、残渣をシリカゲルフラッ
シュカラムクロマトグラフィーで精製した。
次に、上記で得られた中間体を撹拌装置を備えた100ml
フラスコに仕込み、ここにテトラヒドロフラン60ml及び
フッ化テトラブチルアンモニウム3.24g（10.3mmol）を
加え、60℃で24時間加熱撹拌した。次いで、得られた反
応混合物をクロロホルムで抽出し、食塩水で洗浄後、溶
媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルフラッシュカラムク
ロマトグラフィーで精製することにより、標記化合物
（I-Ce）0.63gを得た（収率23.4％）。得られた化合物
の融点、IR及び1H-NMRの測定結果は次の通りであった。
フラスコに仕込み、ここにテトラヒドロフラン60ml及び
フッ化テトラブチルアンモニウム3.24g（10.3mmol）を
加え、60℃で24時間加熱撹拌した。次いで、得られた反
応混合物をクロロホルムで抽出し、食塩水で洗浄後、溶
媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルフラッシュカラムク
ロマトグラフィーで精製することにより、標記化合物
（I-Ce）0.63gを得た（収率23.4％）。得られた化合物
の融点、IR及び1H-NMRの測定結果は次の通りであった。
融点:71.7〜73.7℃ IR:3336、2920、2852、1740、1620、1470、1180、111
6、1060、722cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.89（bt,J＝6.2Hz,6H）、1.07〜2.00（m,82H）、2.30
（t,J＝7.5Hz,2H）、2.40（bt,J＝7.6Hz,2H）、3.22〜
4.21（m,15H）、4.06（t,J＝6.6Hz,2） 実施例９ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（9,10,12−ト
リヒドロキシオクタデカノイルオキシ）ヘキサデカンア
ミド〔前記一般式（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Cf）の合成： 実施例８のにおいて、12−ヒドロキシオクタデカン酸
エチルの代わりに9,10,12−トリヒドロキシオクタデカ
ン酸エチルを用いる以外は実施例８と同様に反応を行っ
て、目的化合物（I-Cf）を得た（収率32.7％）。得られ
た化合物の融点、IR及び1H-NMRの測定結果は次の通りで
あった。
6、1060、722cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.89（bt,J＝6.2Hz,6H）、1.07〜2.00（m,82H）、2.30
（t,J＝7.5Hz,2H）、2.40（bt,J＝7.6Hz,2H）、3.22〜
4.21（m,15H）、4.06（t,J＝6.6Hz,2） 実施例９ Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−16−（9,10,12−ト
リヒドロキシオクタデカノイルオキシ）ヘキサデカンア
ミド〔前記一般式（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Cf）の合成： 実施例８のにおいて、12−ヒドロキシオクタデカン酸
エチルの代わりに9,10,12−トリヒドロキシオクタデカ
ン酸エチルを用いる以外は実施例８と同様に反応を行っ
て、目的化合物（I-Cf）を得た（収率32.7％）。得られ
た化合物の融点、IR及び1H-NMRの測定結果は次の通りで
あった。
融点:75.8〜79.2℃ IR:3300、2924、2856、1728、1620、1470、1178、112
0、1070、722cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.82〜1.02（m,6H）、1.15〜2.30（m,78H）、2.30（t,J
＝7.4Hz,2H）、2.41（bt,J＝7.6Hz,2H）、3.22〜4.26
（m,19H）、4.07（t,J＝6.6Hz,2H） 実施例10 Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−12−（9Z,12Z−オク
タデカジエノイルオキシ）ドデカンアミド〔前記一般式
（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Cg）の合成： Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−12−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）ドデカンアミド（IX-g）の合成： 実施例５のにおいて、16−ヒドロキシヘキサデカン酸
メチルの代わりに12−ヒドロキシドデカン酸メチルを用
いた以外は実施例５のと同様にして目的化合物（IX-
g）を得た（収率67.8％）。
0、1070、722cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.82〜1.02（m,6H）、1.15〜2.30（m,78H）、2.30（t,J
＝7.4Hz,2H）、2.41（bt,J＝7.6Hz,2H）、3.22〜4.26
（m,19H）、4.07（t,J＝6.6Hz,2H） 実施例10 Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−12−（9Z,12Z−オク
タデカジエノイルオキシ）ドデカンアミド〔前記一般式
（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Cg）の合成： Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−12−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）ドデカンアミド（IX-g）の合成： 実施例５のにおいて、16−ヒドロキシヘキサデカン酸
メチルの代わりに12−ヒドロキシドデカン酸メチルを用
いた以外は実施例５のと同様にして目的化合物（IX-
g）を得た（収率67.8％）。
Ｎ−（２−アセトキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−アセトキシエチル−12−ヒドロキシドデ
カンアミド（XI-g）の合成： 撹拌装置及び滴下ロートを備えた１フラスコに、上記
で得た化合物（IX-g）167.0g（0.23mol）、ピリジン9
1.0g（1.15mol）及びジクロロメタン440mlを仕込み、０
℃で撹拌下に塩化アセチル45.1g（0.575mol）を1.5時間
かけて滴下した。滴下終了後、更に１時間反応を行い、
反応を完結させた。次いで、この反応混合物にメタノー
ル7.4g（0.23mol）を加えて過剰の塩化アセチルを反応
させ、得られた混合物を、水、2N−塩酸及び食塩水で洗
浄し、溶媒を留去した。
ル）−Ｎ−２−アセトキシエチル−12−ヒドロキシドデ
カンアミド（XI-g）の合成： 撹拌装置及び滴下ロートを備えた１フラスコに、上記
で得た化合物（IX-g）167.0g（0.23mol）、ピリジン9
1.0g（1.15mol）及びジクロロメタン440mlを仕込み、０
℃で撹拌下に塩化アセチル45.1g（0.575mol）を1.5時間
かけて滴下した。滴下終了後、更に１時間反応を行い、
反応を完結させた。次いで、この反応混合物にメタノー
ル7.4g（0.23mol）を加えて過剰の塩化アセチルを反応
させ、得られた混合物を、水、2N−塩酸及び食塩水で洗
浄し、溶媒を留去した。
次に、上記で得られた中間体を撹拌装置を備えた１フ
ラスコに仕込み、ここにメタノール368g（0.115mol）及
びパラトルエンスルホン酸ピリジニウム1.16g（4.6mmo
l）を加えて40℃で５時間撹拌した。反応終了後、NaHCO
30.76g（9.2mmol）を加えて中和し、メタノールを留去
後、残渣をクロロホルムに溶解させ、食塩水で洗浄し、
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルショートカラムク
ロマトグラフィーで精製して、目的化合物（XI-g）118.
3gを得た（収率80.1％）。
ラスコに仕込み、ここにメタノール368g（0.115mol）及
びパラトルエンスルホン酸ピリジニウム1.16g（4.6mmo
l）を加えて40℃で５時間撹拌した。反応終了後、NaHCO
30.76g（9.2mmol）を加えて中和し、メタノールを留去
後、残渣をクロロホルムに溶解させ、食塩水で洗浄し、
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルショートカラムク
ロマトグラフィーで精製して、目的化合物（XI-g）118.
3gを得た（収率80.1％）。
アミド誘導体（I-Cg）の合成： 撹拌装置及び滴下ロートを備えた１フラスコに、上記
で得た化合物（XI-g）73.6g（0.115mol）、ジクロロ
メタン160ml及びピリジン21.8g（0.276mol）を仕込み、
０℃で撹拌下に塩化リノレオイル41.2g（0.138mol）を3
0分かけて滴下し、滴下終了後更に２時間撹拌した。次
にここにメタノール1.6g（0.05mol）を加えて過剰の塩
化リノレオイルをリノール酸メチルとした後、反応混合
物を食塩水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルショートカラムクロマトグラフィーで精製した。
で得た化合物（XI-g）73.6g（0.115mol）、ジクロロ
メタン160ml及びピリジン21.8g（0.276mol）を仕込み、
０℃で撹拌下に塩化リノレオイル41.2g（0.138mol）を3
0分かけて滴下し、滴下終了後更に２時間撹拌した。次
にここにメタノール1.6g（0.05mol）を加えて過剰の塩
化リノレオイルをリノール酸メチルとした後、反応混合
物を食塩水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルショートカラムクロマトグラフィーで精製した。
次に、上記で得た中間体を撹拌装置を備えた3lフラスコ
に仕込み、ここにエタノール１、メタノール0.5l及び
K2CO329.4g（0.213mol）を加えて０〜10℃で１時間撹拌
した。反応終了後、水を加えて生成している塩を溶解さ
せ、ジイソプロピルエーテルで反応混合物を抽出し、食
塩水で洗浄し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り、標記化合物（I-Cg）62.0gを得た（収率65.7％）。
得られた化合物の融点、IR及び1H-NMRの測定結果は次の
通りであった。
に仕込み、ここにエタノール１、メタノール0.5l及び
K2CO329.4g（0.213mol）を加えて０〜10℃で１時間撹拌
した。反応終了後、水を加えて生成している塩を溶解さ
せ、ジイソプロピルエーテルで反応混合物を抽出し、食
塩水で洗浄し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り、標記化合物（I-Cg）62.0gを得た（収率65.7％）。
得られた化合物の融点、IR及び1H-NMRの測定結果は次の
通りであった。
融点:50.6〜52.8℃ IR:3304、2924、2856、1734、1616、1470、1176、110
8、1060、720cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.82〜0.95（m,6H）、1.13〜1.74（m,62H）、1.96〜2.1
3（m,4H）、2.29（t,J＝7.5Hz,2H）、2.39（bt,J＝7.6H
z,2H）、2.77（bt,J＝5.7Hz,2H）、3.22〜4.21（m,13
H）、4.05（t,J＝6.71Hz,2H）、5.23〜5.48（m,4H） 実施例11 Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−15−（9Z,12Z−オク
タデカジエノイルオキシ）ペンタデカンアミド〔前記一
般式（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Ch）の合成： 実施例10のにおいて、12−ヒドロキシドデカン酸メチ
ルの代わりに15−ヒドロキシペンタデカン酸メチルを用
いた以外は実施例10と同様に反応を行って、目的化合物
（I-Ch）を得た（収率42.3％）。得られた化合物の融
点、IR及び1H-NMRの測定結果は次の通りであった。
8、1060、720cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.82〜0.95（m,6H）、1.13〜1.74（m,62H）、1.96〜2.1
3（m,4H）、2.29（t,J＝7.5Hz,2H）、2.39（bt,J＝7.6H
z,2H）、2.77（bt,J＝5.7Hz,2H）、3.22〜4.21（m,13
H）、4.05（t,J＝6.71Hz,2H）、5.23〜5.48（m,4H） 実施例11 Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ヘキサデシロキシプロピ
ル）−Ｎ−２−ヒドロキシエチル−15−（9Z,12Z−オク
タデカジエノイルオキシ）ペンタデカンアミド〔前記一
般式（Ｉ）において、R1＝C16H33-及び であるアミド誘導体〕（I-Ch）の合成： 実施例10のにおいて、12−ヒドロキシドデカン酸メチ
ルの代わりに15−ヒドロキシペンタデカン酸メチルを用
いた以外は実施例10と同様に反応を行って、目的化合物
（I-Ch）を得た（収率42.3％）。得られた化合物の融
点、IR及び1H-NMRの測定結果は次の通りであった。
融点:64.2〜65.7℃ IR:3312、2924、2856、1734、1618、1466、1440、118
6、1110、1060、722cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.82〜0.97（m,6H）、1.15〜1.63（m,58H）、1.96〜2.1
4（m,4H）、2.29（t,J＝7.5Hz,2H）、2.39（bt,J＝7.6H
z,2H）、2.77（bt,J＝5.7Hz,2H）、3.21〜4.20（m,13
H）、4.05（t,J＝6.7Hz,2H）、5.23〜5.48（m,4H） 実施例12 下記第１表に示す本発明のアミド誘導体10％及びスクワ
ラン90％からなる本発明の皮膚外用剤をそれぞれ製造
し、これらの皮膚外用剤について、下記の試験方法によ
り経表皮水分蒸散量及び経皮吸収量を評価した。また、
比較としてスクワランのみからなる皮膚外用剤（比較
品）についても同様の試験を行った。その結果を下記第
１表に示す。
6、1110、1060、722cm-1 1 H-NMR（δ，CDCl3）： 0.82〜0.97（m,6H）、1.15〜1.63（m,58H）、1.96〜2.1
4（m,4H）、2.29（t,J＝7.5Hz,2H）、2.39（bt,J＝7.6H
z,2H）、2.77（bt,J＝5.7Hz,2H）、3.21〜4.20（m,13
H）、4.05（t,J＝6.7Hz,2H）、5.23〜5.48（m,4H） 実施例12 下記第１表に示す本発明のアミド誘導体10％及びスクワ
ラン90％からなる本発明の皮膚外用剤をそれぞれ製造
し、これらの皮膚外用剤について、下記の試験方法によ
り経表皮水分蒸散量及び経皮吸収量を評価した。また、
比較としてスクワランのみからなる皮膚外用剤（比較
品）についても同様の試験を行った。その結果を下記第
１表に示す。
（試験方法） 必須脂肪酸を含まない飼料のみでウィスター（Wister）
系雄性ラットを飼育し、必須脂肪酸欠乏症の症状が現れ
たラットに対し、剃毛した背部皮膚に皮膚外用剤を１日
１回３週間塗布する。３週間の塗布が終了した翌日に次
の項目について試験を行った。
系雄性ラットを飼育し、必須脂肪酸欠乏症の症状が現れ
たラットに対し、剃毛した背部皮膚に皮膚外用剤を１日
１回３週間塗布する。３週間の塗布が終了した翌日に次
の項目について試験を行った。
尚、皮膚外用剤それぞれについてラット３匹ずつを試験
に供した。
に供した。
（１）経表皮水分蒸散量 37℃の温水でラットの背部皮膚を洗浄後、温度20℃及び
湿度45％の部屋で１時間安静な状態においた後、表皮か
らの水分蒸散量をエバポリメーターにて測定した。この
水分蒸散量の値が大きいほど角層のバリアー機能が低下
しており、肌あれが生じていることを示す。
湿度45％の部屋で１時間安静な状態においた後、表皮か
らの水分蒸散量をエバポリメーターにて測定した。この
水分蒸散量の値が大きいほど角層のバリアー機能が低下
しており、肌あれが生じていることを示す。
正常なバリアー機能が維持されている場合、この値は10
以下となるが、バリアー機能が障害を受けた必須脂肪酸
欠乏症のラットでは35以上となる。測定値は平均値±標
準偏差で示した。
以下となるが、バリアー機能が障害を受けた必須脂肪酸
欠乏症のラットでは35以上となる。測定値は平均値±標
準偏差で示した。
（２）経皮吸収量 37℃の温水でラットの背部皮膚を洗浄後、該皮膚を切り
取り、経皮吸収チャンバーに表皮側を上にしてはさみ込
む。下部受器にはリン酸緩衝平衡塩類溶液を満たし、表
皮側容器には37KBqの14C−サリチル酸を含む溶剤1mlを
入れる。２時間後に下部受器中に浸透した14C−サリチ
ル酸量を測定する。正常なバリアー機能が維持されてい
る場合、２時間ではほとんど浸透せず、バリアー機能の
障害が大きいほどこの値は大きくなる。測定値は平均値
±標準偏差で示した。
取り、経皮吸収チャンバーに表皮側を上にしてはさみ込
む。下部受器にはリン酸緩衝平衡塩類溶液を満たし、表
皮側容器には37KBqの14C−サリチル酸を含む溶剤1mlを
入れる。２時間後に下部受器中に浸透した14C−サリチ
ル酸量を測定する。正常なバリアー機能が維持されてい
る場合、２時間ではほとんど浸透せず、バリアー機能の
障害が大きいほどこの値は大きくなる。測定値は平均値
±標準偏差で示した。
実施例13 本発明のアミド誘導体を用いて、下記第２表に示す組成
の本発明の皮膚外用剤（乳化化粧料）をそれぞれ製造
し、その肌あれ改善効果を下記の試験方法により評価し
た。また、比較として本発明のアミド誘導体を含まない
皮膚外用剤（比較品）についても同様の試験を行った。
その結果を下記第３表に示す。
の本発明の皮膚外用剤（乳化化粧料）をそれぞれ製造
し、その肌あれ改善効果を下記の試験方法により評価し
た。また、比較として本発明のアミド誘導体を含まない
皮膚外用剤（比較品）についても同様の試験を行った。
その結果を下記第３表に示す。
（試験方法） 冬期に頬部に肌あれを起こしている20〜40才の女性10名
を被験者とし、左右の頬に異なる皮膚外用剤を１日１回
３週間塗布する。３週間の塗布が終了した翌日に次の項
目について試験を行った。
を被験者とし、左右の頬に異なる皮膚外用剤を１日１回
３週間塗布する。３週間の塗布が終了した翌日に次の項
目について試験を行った。
（１）経表皮水分蒸散量 37℃の温水で洗顔後、温度20℃及び湿度45％の部屋で30
分間安静にした後、表皮からの水分蒸散量をエバポリメ
ーターにて測定した。この水分蒸散量の値が大きいほど
角層のバリアー機能が低下しており、肌あれが生じてい
ることを示す。この値が40を超えるとひどい肌あれであ
り、肌あれがほとんど認められない場合は10以下とな
る。測定値は平均値±標準偏差で示した。
分間安静にした後、表皮からの水分蒸散量をエバポリメ
ーターにて測定した。この水分蒸散量の値が大きいほど
角層のバリアー機能が低下しており、肌あれが生じてい
ることを示す。この値が40を超えるとひどい肌あれであ
り、肌あれがほとんど認められない場合は10以下とな
る。測定値は平均値±標準偏差で示した。
（２）肌あれスコア 肌あれを肉眼で観察し、下記基準により判定した。スコ
アは平均値±標準偏差で示した。
アは平均値±標準偏差で示した。
スコア 肌あれ判定 ０ 肌あれを認めない １ かすかに肌あれを認める ２ 肌あれを認める ３ ややひどい肌あれを認める ４ ひどい肌あれを認める 〔発明の効果〕 本発明のアミド誘導体を含有する皮膚外用剤は、角層の
バリアー機能を本質的に改善できる効果を有するもの
で、皮膚に適用することにより、炎症や肌あれ等を起こ
し難くすることができる。
バリアー機能を本質的に改善できる効果を有するもの
で、皮膚に適用することにより、炎症や肌あれ等を起こ
し難くすることができる。
Claims (2)
- 【請求項１】下記一般式（Ｉ）で表されるアミド誘導
体。 （式中、R1は炭素数10〜40の直鎖若しくは分岐鎖の飽和
若しくは不飽和の炭化水素基を示し、R2は炭素数３〜39
の直鎖若しくは分岐鎖の炭化水素基を示し、R3は水素原
子又は炭素数10〜40の直鎖若しくは分岐鎖の飽和若しく
は不飽和の炭化水素基若しくはアシル基を示す。） - 【請求項２】下記一般式（Ｉ）で表わされるアミド誘導
体を含有する皮膚外用剤。 （式中、R1は炭素数10〜40の直鎖若しくは分岐鎖の飽和
若しくは不飽和の炭化水素基を示し、R2は炭素数３〜39
の直鎖若しくは分岐鎖の炭化水素基を示し、R3は水素原
子又は炭素数10〜40の直鎖若しくは分岐鎖の飽和若しく
は不飽和の炭化水素基若しくはアシル基を示す。）
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12646289A JPH072698B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | アミド誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 |
| ES90109167T ES2058670T3 (es) | 1989-05-19 | 1990-05-15 | Derivados amidicos y preparados dermatologicos que los contienen. |
| DE69011402T DE69011402T2 (de) | 1989-05-19 | 1990-05-15 | Amidderivate und sie enthaltende Hautpräparationen. |
| AT90109167T ATE109767T1 (de) | 1989-05-19 | 1990-05-15 | Amidderivate und sie enthaltende hautpräparationen. |
| EP90109167A EP0398272B1 (en) | 1989-05-19 | 1990-05-15 | Amide derivatives and dermatologic preparations containing the same |
| US07/524,864 US5175321A (en) | 1989-05-19 | 1990-05-18 | Amide derivatives and dermatologic preparations containing the same |
| US07/794,980 US5221757A (en) | 1989-05-19 | 1991-11-20 | Amide derivatives and dermatologic preparations containing the same |
| HK116296A HK116296A (en) | 1989-05-19 | 1996-07-04 | Amide derivatives and dermatologic preparations containing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12646289A JPH072698B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | アミド誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02306952A JPH02306952A (ja) | 1990-12-20 |
| JPH072698B2 true JPH072698B2 (ja) | 1995-01-18 |
Family
ID=14935817
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12646289A Expired - Lifetime JPH072698B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | アミド誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH072698B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0761644A3 (en) * | 1995-09-07 | 1999-04-07 | Kao Corporation | Amide derivatives and their use in cosmetic composition |
-
1989
- 1989-05-19 JP JP12646289A patent/JPH072698B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02306952A (ja) | 1990-12-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5175321A (en) | Amide derivatives and dermatologic preparations containing the same | |
| JP3245748B2 (ja) | ｐ−メンタン誘導体並びにこれを含有する冷感剤 | |
| US7351716B2 (en) | Dermatological preparations | |
| JPWO2000061097A1 (ja) | 外用剤組成物 | |
| JPH0517399A (ja) | エステル誘導体及びこれを含有する化粧料 | |
| JPH0142934B2 (ja) | ||
| CN105188655B (zh) | 类神经酰胺功能赋予剂 | |
| JPH0676358B2 (ja) | アミド誘導体及びこれを含有する皮膚外用剤 | |
| JP4070357B2 (ja) | 皮膚外用剤 | |
| JP2686172B2 (ja) | アミド誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 | |
| JPH072698B2 (ja) | アミド誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 | |
| US5221757A (en) | Amide derivatives and dermatologic preparations containing the same | |
| JPH0692293B2 (ja) | 皮膚外用剤 | |
| JP4112741B2 (ja) | 保湿剤 | |
| JP3073813B2 (ja) | 化粧料 | |
| JP2551471B2 (ja) | グリセリルエーテル誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 | |
| US5801258A (en) | Amide derivatives and dermatologic preparations containing the same | |
| JPH06157507A (ja) | アミド誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 | |
| JPH02306949A (ja) | アミド誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 | |
| JP3769056B2 (ja) | アミン誘導体及びこれを含有する皮膚外用剤 | |
| JP3271828B2 (ja) | 油中水型乳化化粧料 | |
| JP3788633B2 (ja) | リン酸トリエステル並びにこれを含有する化粧料及び外用剤 | |
| JP2704759B2 (ja) | グリセリルエーテル誘導体及びこれを含有する皮膚外用剤 | |
| JPS63218609A (ja) | 皮膚外用剤 | |
| JPH0770030A (ja) | アミド誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 14 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090118 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090118 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100118 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 15 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100118 |