JPH0727268B2 - Photoreceptor and manufacturing method thereof - Google Patents
Photoreceptor and manufacturing method thereofInfo
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- JPH0727268B2 JPH0727268B2 JP61245081A JP24508186A JPH0727268B2 JP H0727268 B2 JPH0727268 B2 JP H0727268B2 JP 61245081 A JP61245081 A JP 61245081A JP 24508186 A JP24508186 A JP 24508186A JP H0727268 B2 JPH0727268 B2 JP H0727268B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は有機系感光層上に表面保護層を形成してなる感
光体並びにその製造方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photoreceptor having a surface protective layer formed on an organic photosensitive layer, and a method for producing the same.
従来の技術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、感光体にも様々な材料が開発され実用化さ
れてきた。中でも近年、これまで用いられてきたセレ
ン、セレン砒素、セレンテルル、硫化カドミウム、或
は、酸化亜鉛等の感光体に比べて衛生面で優れ、しかも
高感度を有する事から、有機系感光体の発展が著しい。2. Description of the Related Art Since the invention of the Carlson method, the application field of electrophotography has continued to make remarkable progress, and various materials have been developed and put into practical use for photoconductors. Among them, in recent years, the development of organic photoconductors is superior in terms of hygiene and has high sensitivity as compared with photoconductors such as selenium, selenium arsenic, celenium tellurium, cadmium sulfide, and zinc oxide which have been used so far. Is remarkable.
一般に、有機系感光層の作製に用いられる材料として
は、電荷発生に寄与する光導電性材料として、例えば、
フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、ペリレン系顔料等
が用いられ、電荷輸送に寄与する電荷輸送性材料とし
て、例えば、トリフェニルメタン化合物、トリフェニル
アミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ピ
ラゾリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾー
ル化合物等が用いられ、これらを分散塗布せしめるため
の結着材料のとして、例えば、ポリエステル、ポリビニ
ルブチラール、ポリカーボネイト、ポリアリレート、ス
チレンアクリル等の樹脂が用いられる。Generally, as a material used for producing the organic photosensitive layer, as a photoconductive material that contributes to charge generation, for example,
Phthalocyanine-based pigments, azo-based pigments, perylene-based pigments and the like are used, and examples of charge-transporting materials that contribute to charge transport include triphenylmethane compounds, triphenylamine compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, pyrazoline compounds, and oxazole compounds. Oxadiazole compounds and the like are used, and as the binder material for dispersing and coating them, for example, resins such as polyester, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyarylate, and styrene acryl are used.
しかしながら、これらの材料を用いて作製された有機系
感光層は何れも表面硬度が低く、通常JIS−K−5400規
格による鉛筆硬度にして、高々5B乃至4B程度の硬度を有
するに過ぎない。従って、この様な感光層をそのまま感
光体として使用すると、帯電能及び光感度面で優れた性
能を有するにも係わらず、複写機内での実使用において
は、転写紙、クリーニング部材、現像剤、等との摩擦に
よる表面摩耗により、あるいは、ペーパージャム時及び
その復帰の際の人為的操作等により苛酷な表面接触をし
ばしば受け、表面に傷を受けやすい。この傷は複写画像
上に所謂白抜けとして現れ、画像品位を著しく低減し、
感光体寿命を短かくする。さらに、前記表面摩耗は感光
層を徐々に削り取るため感光層膜厚が低下し、ひいては
所望の帯電電位が得られなくなり、感光体寿命を短かく
する。これらの感光層表面に対する摩耗作用は、複写機
の設計によっても変化するが、通常、有機系感光層の寿
命は、数万枚乃至高々10万枚の複写に耐え得る程度のも
のである。However, any of the organic photosensitive layers produced using these materials has a low surface hardness and usually has a pencil hardness according to JIS-K-5400 standard of at most about 5B to 4B. Therefore, when such a photosensitive layer is used as a photoconductor as it is, it has excellent performances in terms of charging ability and photosensitivity, but in actual use in a copying machine, a transfer paper, a cleaning member, a developer, The surface is often scratched due to surface abrasion due to friction with the like, or due to an artificial operation at the time of paper jam and its restoration, and the surface is easily scratched. These scratches appear as so-called white spots on the copied image, significantly reducing the image quality,
Shorten photoreceptor life. Further, the surface abrasion gradually scrapes off the photosensitive layer, so that the film thickness of the photosensitive layer is reduced, so that a desired charging potential cannot be obtained and the life of the photoreceptor is shortened. The abrasion effect on the surface of the photosensitive layer changes depending on the design of the copying machine, but the life of the organic photosensitive layer is usually such that it can withstand the copying of tens of thousands to 100,000 sheets at most.
このような欠点を解消するためには、有機系感光層の表
面に高硬度を有する保護層を設け、複写機内での接触部
材、あるいは、人為的接触に対する耐摩耗性を改善する
方法が有効である。In order to eliminate such drawbacks, it is effective to provide a protective layer having a high hardness on the surface of the organic photosensitive layer to improve the contact resistance in the copying machine or the abrasion resistance against artificial contact. is there.
しかしながら、有機系感光層表面を保護層で被覆するに
は、無作為な膜材料及び成膜手法を用いる事はできず、
次の如き必要項目の全てを満足する膜を用いる必要があ
り、膜材料並びにその成膜手法には、創意工夫が必要と
される。However, in order to cover the surface of the organic photosensitive layer with the protective layer, random film materials and film forming methods cannot be used,
It is necessary to use a film that satisfies all of the following necessary items, and the film material and its film forming method require originality and ingenuity.
第一に、可視光透過率が高く有機系感光層への入射光量
が充分に確保でき、該感光層が本来有する優れた感度を
損なわない膜である事が必要とされる。第二に、複写機
内での実使用において、表面に傷を受けない硬膜である
事が必要とされる。第三に、有機系感光層との接着性に
優れ、複写機内での実使用において、機械的接触、ある
いは、温湿度の変化等により剥離しない膜である事が必
要とされる。第四に、無害である事が必要とされる。第
五に、有機系感光層との電気的整合性に優れ、残留電位
の発生、あるいは、複数枚複写時に前の画像が次の画像
にポジまたはネガ像として現れる所謂メモリー現象の発
生、さらには、不整合界面での電荷の横流れによる所謂
画像流れの発生に寄与しない膜である事が必要とされ
る。換言すれば、有機系感光層との電気的整合性に優れ
た表面保護層である事が必要とされる。第六に、複写機
が実使用される環境下において、特に、高温高湿条件下
において、画像品位を損なわず、所謂画像流れを発生し
ない膜である事が必要とされる。First, it is necessary that the film has a high visible light transmittance and can secure a sufficient amount of light incident on the organic photosensitive layer and does not impair the excellent sensitivity inherent in the photosensitive layer. Secondly, in actual use in a copying machine, it is necessary that the surface of the dura be not damaged. Thirdly, it is required that the film has excellent adhesiveness to the organic photosensitive layer and does not peel off due to mechanical contact or changes in temperature and humidity in actual use in a copying machine. Fourth, it needs to be harmless. Fifth, it is excellent in electrical matching with the organic photosensitive layer, and a residual potential is generated, or a so-called memory phenomenon in which the previous image appears as a positive or negative image in the next image when a plurality of sheets are copied, It is necessary that the film does not contribute to the occurrence of so-called image deletion due to the lateral flow of charges at the mismatched interface. In other words, the surface protective layer is required to have excellent electrical compatibility with the organic photosensitive layer. Sixth, in the environment where the copying machine is actually used, particularly under high temperature and high humidity conditions, it is necessary that the film does not impair the image quality and does not cause so-called image deletion.
さらに、前記有機系感光層材料においては、耐熱性に乏
しい化合物が殆どであり、保護膜形成時に高温加熱状態
を経る事ができない。例えば、熱硬化性樹脂を塗布し、
加熱硬化すれば、3H乃至6H程度の硬膜が得られるが、加
熱処理により感光層が変性し、好適な感度が得られなく
なる。従って、有機系感光層材料の種類によっても異な
るが、保護膜形成温度は常温が最も好ましく、僅かに加
熱するにしても、その最高温度は高々100℃までに抑え
る必要がある。In addition, most of the organic photosensitive layer materials have poor heat resistance, and cannot be heated to a high temperature when the protective film is formed. For example, applying thermosetting resin,
If it is heat-cured, a hard film of about 3H to 6H can be obtained, but the heat treatment modifies the photosensitive layer, so that suitable sensitivity cannot be obtained. Therefore, although it depends on the type of the organic photosensitive layer material, the protective film forming temperature is most preferably room temperature, and even if it is slightly heated, the maximum temperature must be suppressed to 100 ° C. at most.
このような見地から、有機系感光体の表面保護層に関し
ては幾つかの膜材料、並びに、その成膜手法が開示さ
れ、電子写真においては重要な技術分野となっている。From such a point of view, several film materials and a film forming method for the surface protective layer of the organic photoconductor are disclosed, and they are important technical fields in electrophotography.
一つの手法に、塗布法がある。例えば、特開昭53−2363
6号公報には、有機系を始め種々の感光層上に、特定の
珪素化合物を塗布し硬化させた絶縁層を設けた感光体が
開示されている。特開昭54−17732号公報には、フタロ
シアニン光導電体を樹脂中に分散した感光層表面に、ニ
トロセルロースを主成分とするオーバーコート層(表面
保護層)を塗布乾燥により設けた感光体が開示されてい
る。特開昭57−89764号公報には、ポリウレタン樹脂を
始めとする樹脂を、有機系を始め種々の感光層上に、塗
布硬化させた感光体が開示されている。One method is a coating method. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 53-2363
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 6 discloses a photoconductor in which an insulating layer obtained by coating and curing a specific silicon compound is provided on various photoconductive layers including organic systems. Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-17732 discloses a photoconductor in which an overcoat layer (surface protection layer) containing nitrocellulose as a main component is applied and dried on the surface of a photoconductor layer in which a phthalocyanine photoconductor is dispersed in a resin. It is disclosed. JP-A-57-89764 discloses a photoreceptor in which a resin such as a polyurethane resin is applied and cured on various photosensitive layers including organic systems.
これらの開示は、有機系感光体の表面に再度有機化合物
を塗布し硬化する異により前記問題点を解決しようとす
るものである。These disclosures are intended to solve the above problems by applying an organic compound again to the surface of an organic photoconductor and curing the organic compound.
しかし、一般に、塗布法により有機系化合物を表面保護
層として形成した場合においては、2H乃至3H程度の鉛筆
硬度が得られるに過ぎず、表面硬度は必ずしも充分とは
いえない。However, generally, when an organic compound is formed as a surface protective layer by a coating method, only a pencil hardness of about 2H to 3H is obtained, and the surface hardness is not always sufficient.
別の手法として、特開昭57−89765号公報には、有機系
感光層上に、金属酸化物もしくは金属ハロゲン化物の真
空蒸着膜を表面保護層として形成した感光体が開示され
ている。As another method, Japanese Patent Laid-Open No. 57-89765 discloses a photoconductor in which a vacuum deposition film of a metal oxide or a metal halide is formed as a surface protective layer on an organic photoconductive layer.
この開示も、常温付近におけるオーバーコート膜形成手
法を用いて前記問題点を解決しようとする目的では、本
発明の意と同一であるが、材料組成及び成膜手法共に、
本発明とは本質的に異なる。また、一般に、真空蒸着法
により表面保護層として形成した場合においても、2H乃
至3H程度の鉛筆硬度が得られるに過ぎず、表面硬度は必
ずしも充分とはいえない。This disclosure is also the same as the present invention for the purpose of solving the above-mentioned problems by using an overcoat film forming method at around room temperature.
Essentially different from the present invention. Further, generally, even when it is formed as a surface protective layer by a vacuum evaporation method, only a pencil hardness of about 2H to 3H can be obtained, and the surface hardness is not always sufficient.
また一方、プラズマ有機重合膜自体は古くより知られて
おり、例えばシェン(M.Shen)及びベル(A.t.Bell)ら
により、1973年発行のジャーナル・オブ・アプライド・
ポリマー・サイエンス(Journal of Applied Polyme
r Science)第17巻の885〜892頁において、あらゆる有
機化合物のガスから作製され得る事が、また、同著者ら
により、1979年のアメリカンケミカルソサエティー(Am
erican Chemical Society)発行によるプラズマポリ
マライゼーション(Plasma Polymerization)の中でも
その成膜性が論じられている。しかしながら、その応用
については言及されていない。On the other hand, the plasma organic polymerized film itself has been known for a long time, for example, Journal of Applied, published in 1973 by M. Shen and At Bell.
Polymer Science (Journal of Applied Polyme
r Science) Vol. 17, pp. 885-892, that they can be made from gases of any organic compound, and also by the same authors that the American Chemical Society (Am.
The film forming property is also discussed in Plasma Polymerization issued by erican Chemical Society. However, its application is not mentioned.
感光体への具体的な応用例としては、例えば、特開昭59
−214859号公報に、アモルファスシリコン感光体の表面
に保護層として有機炭化水素モノマーをプラズマ重合さ
せて5μm程度の膜を形成させる技術が開示されてい
る。特開昭60−61761号公報には、アモルファスシリコ
ン感光体の表面保護層として、500Å〜2μmのダイヤ
モンド状炭素薄膜を設けた感光体が開示され、透光性の
面から膜厚は2μm以下が好ましいとされてている。特
開昭60−249115号公報には、0.05〜5μm程度の無定形
炭素または硬質炭素膜をアモルファスシリコン感光体の
表面保護層として用いる技術が開示され、膜厚が5μm
を越えると感光体活性に悪影響が及ぶとされている。特
開昭61−94056号公報には、アモルファスシリコンの表
面に保護層として、疎水性に優れたアモルファスカーボ
ン膜を用いたアモルファスシリコン感光体が開示されて
いる。As a concrete application example to the photoconductor, for example, JP-A-59-59
Japanese Patent Laid-Open No. 214859 discloses a technique for forming a film of about 5 μm by plasma polymerization of an organic hydrocarbon monomer as a protective layer on the surface of an amorphous silicon photoconductor. Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 60-61761 discloses a photoconductor provided with a diamond-like carbon thin film of 500Å to 2 μm as a surface protective layer of an amorphous silicon photoconductor. It is said to be preferable. Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 60-249115 discloses a technique in which an amorphous carbon or hard carbon film of about 0.05 to 5 μm is used as a surface protective layer of an amorphous silicon photoreceptor, and the film thickness is 5 μm.
If it exceeds the range, the activity of the photoreceptor is adversely affected. Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 61-94056 discloses an amorphous silicon photoreceptor using an amorphous carbon film having excellent hydrophobicity as a protective layer on the surface of amorphous silicon.
これらの開示は、何れも、高硬度ではあるが耐湿性に乏
しく所謂画像流れを発生しやすいアモルファスシリコン
感光体表面を、炭素系の膜で被覆し、高湿時の画像品位
を改善しようとするものである。また、無機系感光体で
あるアモルファスシリコン感光体は、元来、耐熱性に富
むため、高温において膜形成を行なうものである。従っ
て、本発明とは、本質的に異なる。All of these disclosures attempt to improve the image quality at high humidity by coating the surface of an amorphous silicon photoreceptor, which has high hardness but poor moisture resistance and is apt to cause so-called image deletion, with a carbon-based film. It is a thing. In addition, since the amorphous silicon photoconductor, which is an inorganic photoconductor, is originally excellent in heat resistance, a film is formed at high temperature. Therefore, it is essentially different from the present invention.
また、特開昭50−20728号公報には、ポリビニルカルバ
ゾール−セレン系感光体の表面に保護層としてグロー放
電重合によるポリマー膜を0.1〜1μm設けた感光体が
開示されている。特開昭51−46130号公報には、ポリビ
ニルカルバゾール系電子写真感光体の表面にグロー放電
重合を行なって0.001〜3μmのポリマー膜を形成せし
めた電子写真感光板が開示されている。Further, JP-A-50-20728 discloses a photoconductor in which a polymer film formed by glow discharge polymerization is provided in a thickness of 0.1 to 1 μm as a protective layer on the surface of a polyvinylcarbazole-selenium photoconductor. Japanese Unexamined Patent Publication No. 51-46130 discloses an electrophotographic photosensitive plate in which a polyvinyl carbazole-based electrophotographic photosensitive member is subjected to glow discharge polymerization to form a polymer film of 0.001 to 3 μm.
これらの開示は、何れも、液体現像法を採用する場合の
耐溶剤性の向上、もしくは、帯電極性の調整を目的とし
たものであり、高硬度化による有機系感光体の耐摩耗性
の改善については、組成並びに成膜手法を始め、全く言
及されておらず、本発明とは本質的に異なる。All of these disclosures are intended to improve solvent resistance when a liquid development method is adopted, or to adjust charge polarity, and improve abrasion resistance of an organic photoreceptor by increasing hardness. Is not mentioned at all, including the composition and film forming method, and is essentially different from the present invention.
本発明は、これらの開示とは本質的に異なる材料組成に
より、前述の必要項目を全て満足しながら、前記問題点
を解決するものである。The present invention solves the above-mentioned problems while satisfying all the above-mentioned necessary items by using a material composition that is essentially different from those disclosed above.
本発明者らは、表面硬度の改善による長寿命型有機感光
体を検討する中で、グロー放電法により形成されるプラ
ズマ有機重合膜が、透光性、並びに、硬度に優れ、表面
保護層として有効で有る事を見出した。さらに、該プラ
ズマ有機重合膜中に酸素原子を含有せしめる事により、
接着性、電気的整合性、並びに、耐環境性に優れた表面
保護層が得られる事を見出した。そして、該プラズマ有
機重合膜の形成を100℃以下の低温において行なう事に
より、有機系感光層の変性を伴う事なく成膜し得る事を
見出した。The present inventors have been investigating a long-life type organic photoconductor by improving the surface hardness, and a plasma organic polymerized film formed by a glow discharge method is excellent in translucency and hardness, and is used as a surface protective layer. It was found to be effective. Further, by containing oxygen atoms in the plasma organic polymerized film,
It was found that a surface protective layer having excellent adhesiveness, electrical compatibility, and environmental resistance can be obtained. Then, they have found that by forming the plasma organic polymerized film at a low temperature of 100 ° C. or lower, the film can be formed without modification of the organic photosensitive layer.
本発明は、これらの新たなる知見を用いる事により、有
機系感光層に好適な表面保護層を設け、耐摩耗性に優
れ、長寿命化された有機系感光体とその製造方法を提供
するものである。The present invention, by using these new findings, provides a suitable surface protective layer on the organic photosensitive layer, and provides an organic photosensitive member having excellent wear resistance and a long life, and a method for producing the same. Is.
発明が解決しようとする問題点 本発明は、従来の有機系感光層が有する本質的な問題
点、即ち、感光層表面が低硬度であるため耐摩耗性に乏
しく、寿命が短かい点を解決するために、表面保護層を
設けた新規有機系感光体に関する。さらに、本発明は、
無作為な保護膜の形成においては往々にして阻害され
る、次の如き必要項目を充分に満足し得る表面保護層を
有する、新規有機系感光体とその製造方法に関する。DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention The present invention solves an essential problem of a conventional organic photosensitive layer, that is, poor wear resistance and short life due to low hardness of the photosensitive layer surface. Therefore, the present invention relates to a novel organic photoreceptor having a surface protective layer. Further, the present invention provides
The present invention relates to a novel organic photoreceptor having a surface protective layer that can sufficiently satisfy the following necessary items, which is often hindered in the formation of a random protective film, and a method for producing the same.
第一に、可視光透過率が高く有機系感光層への入射光量
が充分に確保でき、該感光層が本来有する優れた感度を
損なわない表面保護層である事が必要とされる。第二
に、複写機内での実使用において、表面に傷を受けない
高硬度を有する表面保護層である事が必要とされる。第
三に、有機系感光層との接着性に優れ、複写機内での実
使用において、機械的接触、あるいは、温湿度の変化等
により剥離しない表面保護層である事が必要とされる。
第四に、無害な表面保護層である事が必要とされる。第
五に、有機系感光層との電気的整合性に優れ、残留電位
の発生、あるいは、複数枚複写時に前の画像が次の画像
にポジまたはネガ像として現れる所謂メモリー現象の発
生、さらには、不整合界面での電荷の横流れによる所謂
画像流れの発生に寄与しない表面保護層である事が必要
とされる。換言すれば、有機系感光層との電気的整合性
に優れた表面保護層である事が必要とされる。第六に、
複写機が実使用される環境下において、特に、高温高湿
条件下において、画像品位を損なわず、所謂画像流れを
発生しない表面保護層である事が必要とされる。さら
に、有機系感光層材料においては、耐熱性に乏しい化合
物が殆どであり、保護膜形成時に高温加熱状態を経る事
ができない事から、常温乃至100℃において、表面保護
層を形成する必要がある。First, it is necessary that the surface protective layer has a high visible light transmittance and can secure a sufficient amount of incident light to the organic photosensitive layer and does not impair the excellent sensitivity inherent in the photosensitive layer. Secondly, in actual use in a copying machine, it is necessary that the surface protection layer has a high hardness so that the surface is not damaged. Thirdly, it is required that the surface protective layer has excellent adhesiveness to the organic photosensitive layer and is not peeled off due to mechanical contact or change in temperature and humidity in actual use in a copying machine.
Fourth, it needs to be a harmless surface protective layer. Fifth, it is excellent in electrical matching with the organic photosensitive layer, and a residual potential is generated, or a so-called memory phenomenon in which the previous image appears as a positive or negative image in the next image when a plurality of sheets are copied, It is necessary that the surface protection layer does not contribute to the generation of so-called image deletion due to the lateral flow of charges at the mismatched interface. In other words, the surface protective layer is required to have excellent electrical compatibility with the organic photosensitive layer. Sixth,
Under the environment where the copying machine is actually used, especially under high temperature and high humidity conditions, it is necessary to be a surface protective layer which does not impair the image quality and does not cause so-called image deletion. Furthermore, in most organic photosensitive layer materials, compounds having poor heat resistance cannot be subjected to high-temperature heating when forming a protective film, so it is necessary to form a surface protective layer at room temperature to 100 ° C. .
本発明は、以上を解決し得る感光体とその製造方法を提
供するものである。The present invention provides a photoreceptor capable of solving the above and a method for producing the same.
問題点を解決するための手段 即ち、本発明は導電性基板上に有機系感光層とその上に
表面保護層とを設けた有機系感光体において、該表面保
護層は炭化水素化合物のプラズマ有機重合膜であり、該
プラズマ有機重合膜が少なくとも酸素原子を含有するこ
とを特徴とする感光体に関する(以下、本発明による酸
素原子を含有するプラズマ有機重合膜をa−C:X膜と称
する)。さらに、該プラズマ有機重合膜は、基板温度10
0℃以下で形成される事を特徴とする感光体の製造方法
に関する。Means for Solving the Problems That is, the present invention relates to an organic photoreceptor in which an organic photosensitive layer and a surface protective layer are provided on a conductive substrate, the surface protective layer being a plasma organic compound of a hydrocarbon compound. A polymer film, which relates to a photoconductor characterized in that the plasma organic polymer film contains at least oxygen atoms (hereinafter, the plasma organic polymer film containing oxygen atoms according to the present invention is referred to as aC: X film) . Further, the plasma organic polymerized film has a substrate temperature of 10
The present invention relates to a method for producing a photoreceptor, which is formed at 0 ° C. or lower.
本発明においては、グロー放電法によりa−C:X膜を形
成するためのガスとして、原料ガスとしては炭化水素ガ
ス及び酸素化合物ガスが用いられ、キャリアーガスとし
ては一般に常用される水素ガス或はアルゴンガス等が用
いられる。In the present invention, as the gas for forming the aC: X film by the glow discharge method, a hydrocarbon gas and an oxygen compound gas are used as a source gas, and a hydrogen gas or a commonly used hydrogen gas is used as a carrier gas. Argon gas or the like is used.
該炭化水素ガスの相状態は常温常圧において必ずしも気
相で有る必要は無く、加熱或は減圧等により溶融、蒸
発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固
相でも使用可能である。該炭化水素としては、例えば、
飽和炭化水素、不飽和炭化水素、脂環式炭化水素、芳香
族炭化水素、等が用いられる。The phase state of the hydrocarbon gas does not necessarily have to be a gas phase at room temperature and normal pressure, and it can be used in a liquid phase or a solid phase as long as it can be vaporized through melting, evaporation, sublimation, etc. by heating or decompression. It is possible. As the hydrocarbon, for example,
Saturated hydrocarbons, unsaturated hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, etc. are used.
使用可能な炭化水素には種類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソブタ
ン、イソペンタン、ネオペンタン、イソヘキサン、ネオ
ヘキサン、ジメチルブタン、メチルヘキサン、エチルペ
ンタン、ジメチルペンタン、トリプタン、メチルヘプタ
ン、ジメチルヘキサン、トリメチルペンタン、イソナノ
ン、等が用いられる。不飽和炭化水素としては、例え
ば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブテン、ペ
ンテン、メチルブテン、ヘキセン、テトラメチルエチレ
ン、ヘプテン、オクテン、アレン、メチルアレン、ブタ
ジエン、ペンタジエン、ヘキサジエン、シクロペンタジ
エン、オシメン、アロシメン、ミルセン、ヘキサトリエ
ン、アセチレン、ジアセチレン、メチルアセチレン、ブ
チン、ペンチン、ヘキシン、ヘプチン、オクチン等が用
いられる。脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプ
ロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロプロペ
ン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、
シクロヘプテン、シクロオクテン、リモネン、テルビノ
レン、フェランドレン、シルベストレン、ツエン、カレ
ン、ピネン、ボルニレン、カンフェン、フェンチェン、
シクロフェンチェン、トリシクレン、ピサボレン、ジン
ギベレン、クルクメン、フムレン、カジネンセスキベニ
ヘン、セリネン、カリオフィレン、サンタレン、セドレ
ン、カンホレン、フィロクラデン、ポドカルプレン、ミ
レン等が用いられる。芳香族炭化水素としては、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘミメリテン、プ
ソイドクメン、メシチレン、プレニテン、イソジュレ
ン、ジュレン、ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベ
ンゼン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、
スチレン、ビフェニル、テルフェニル、ジフェニルメタ
ン、トリフェニルメタン、ジベンジル、スチルベン、イ
ンデン、ナフタリン、テトラリン、アントラセン、フェ
ナントレン等が用いられる。Although there are many types of hydrocarbons that can be used, examples of saturated hydrocarbons include methane, ethane, propane, butane,
Pentane, hexane, heptane, octane, isobutane, isopentane, neopentane, isohexane, neohexane, dimethylbutane, methylhexane, ethylpentane, dimethylpentane, triptan, methylheptane, dimethylhexane, trimethylpentane, isonanone, etc. are used. Examples of unsaturated hydrocarbons include ethylene, propylene, isobutylene, butene, pentene, methylbutene, hexene, tetramethylethylene, heptene, octene, allene, methylarene, butadiene, pentadiene, hexadiene, cyclopentadiene, ocimene, arocymene, myrcene. , Hexatriene, acetylene, diacetylene, methylacetylene, butyne, pentine, hexyne, heptin, octyne and the like are used. Examples of the alicyclic hydrocarbon include cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclopropene, cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene,
Cycloheptene, cyclooctene, limonene, terbinolene, ferrandrene, silvestrene, tsuen, karen, pinene, bornylene, camphene, fenchen,
Cyclophenchen, tricyclene, pisabolene, zingiberene, curcumene, humulene, kazinensesquibenijen, serinen, cariophyllene, santalen, sedrene, camphorene, phyllocladen, podocarprene, mylene and the like are used. As the aromatic hydrocarbon, for example, benzene, toluene, xylene, hemimelitene, pseudocumene, mesitylene, prenitene, isodulene, durene, pentamethylbenzene, hexamethylbenzene, ethylbenzene, propylbenzene, cumene,
Styrene, biphenyl, terphenyl, diphenylmethane, triphenylmethane, dibenzyl, stilbene, indene, naphthalene, tetralin, anthracene, phenanthrene and the like are used.
本発明におけるa−C:X膜中に含まれる水素原子の量
は、炭素原子と水素原子の総量に対して概ね30乃至60原
子%程度である。The amount of hydrogen atoms contained in the aC: X film in the present invention is about 30 to 60 atom% with respect to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms.
本発明におけるa−C:X膜中に含まれる水素原子の量
は、成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化し、
水素量が低くなる場合としては、例えば、基板温度を高
くする、圧力を低くする、原料炭化水素ガスの希釈率を
低くする、水素含有率の低い原料ガスを用いる、印加電
力を高くする、交番電界の周波数を低くする、交番電界
に重畳せしめた直流電界強度を高くする、等の場合が挙
げられる。The amount of hydrogen atoms contained in the aC: X film in the present invention changes depending on the form of the film forming apparatus and the conditions during film formation,
When the amount of hydrogen becomes low, for example, the substrate temperature is raised, the pressure is lowered, the dilution ratio of the raw hydrocarbon gas is lowered, the raw material gas having a low hydrogen content is used, the applied power is raised, and the alternating voltage is increased. Examples include cases where the frequency of the electric field is lowered, and the strength of the DC electric field superposed on the alternating electric field is increased.
本発明においては炭化水素ガスの他に、a−C:X膜中に
少なくとも酸素原子を添加するために酸素化合物ガスが
使用される。該酸素化合物ガスにおける相状態は常温常
圧において必ずしも気相である必要は無く、加熱或は減
圧等により溶融、蒸発、昇華等を経て気化し得るもので
あれば、液相でも固相でも使用可能である。酸素化合物
としては、例えば、酸素、オゾン、水蒸気、一酸化炭
素、二酸化炭素、亜酸化炭素、等の無機化合物、水酸基
(−OH)、アルデヒド基(−COH)、アシル基(RCO−,
−CRO)、ケトン基(>CO)、エーテル結合(−O
−)、エステル結合(−COO−)、酸素を含む複素環、
等の官能基或は結合を有する有機化合物、等が用いられ
る。水酸基を有する有機化合物としては、例えば、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、アリ
ルアルコール、フルオロエタノール、フルオロブタノー
ル、フェノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコ
ール、フルフリルアルコール、等が用いられる。アルデ
ヒド基を有する有機化合物としては、例えば、ホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオアルデヒド、ブ
チルアルデヒド、グリオキサール、アクロレイン、ベン
ズアルデヒド、フルフラール、等が用いられる。アシル
基を有する有機化合物としては、例えば、ギ酸、酸酸、
プロピオン酸、酪酸、吉草酸、パルミチン酸、ステアリ
ン酸、オレイン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、安
息香酸、トルイル酸、サリチル酸、ケイヒ酸、ナフトエ
酸、フタル酸、フラン酸、等が用いられる。ケトン基を
有する有機化合物としては、例えば、アセトン、エチル
メチルケトン、メチルプロピルケトン、ブチルメチルケ
トン、ピナコロン、ジエチルケトン、メチルビニルケト
ン、メシチルオキシド、メチルヘプテノン、シクロブタ
ノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフ
ェノン、プロピオフェノン、ブチロフェノン、バレロフ
ェノン、ジベンジルケトン、アセトナフトン、アセトチ
エノン、アセトフロン、等が用いられる。エーテル結合
を有する有機化合物としては、例えば、メチルエーテ
ル、エチルエーテル、プロピルエーテル、ブチルエーテ
ル、アミルエーテル、エチルメチルエーテル、メチルプ
ロピルエーテル、メチルブチルエーテル、メチルアミル
エーテル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエー
テル、エチルアミルエーテル、ビニルエーテル、アリル
エーテル、メチルビニルエーテル、メチルアリルエーテ
ル、エチルビニルエーテル、エチルアリルエーテル、ア
ニソール、フェネトール、フェニルエーテル、ベンジル
エーテル、フェニルベンジルエーテル、ナフチルエーテ
ル、酸化エチレン、酸化プロピレン、酸化トリメチレ
ン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキ
サン、等が用いられる。エステル結合を有する有機化合
物としては、例えば、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プ
ロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、プロピ
オン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロ
ピル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸アミル、酪酸
メチル、酪酸エチル、酪酸プロピル、酪酸ブチル、酪酸
アミル、吉草酸メチル、吉草酸エチル、吉草酸プロピ
ル、吉草酸ブチル、吉草酸アミル、安息香酸メチル、安
息香酸エチル、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、ケイ
皮酸プロピル、サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、
サリチル酸プロピル、サリチル酸ブチル、サリチル酸ア
ミル、アントラニル酸メチル、アントラニル酸エチル、
アントラニル酸ブチル、アントラニル酸アミル、フタル
酸メチル、フタル酸エチル、フタル酸ブチル、等が用い
られる。酸素を含む複素環化合物としては、フラン、オ
キサゾール、フラザン、ピラン、オキサジン、モルホリ
ン、ベンゾフラン、バンゾオキサゾール、クロメン、ク
ロマン、ジベンゾフラン、キサンテン、フェノキサジ
ン、オキソラン、ジオキソラン、オキサチオラン、オキ
サジアジン、ベンゾイソオキサゾール、等が用いられ
る。In the present invention, in addition to the hydrocarbon gas, an oxygen compound gas is used to add at least oxygen atoms into the aC: X film. The phase state of the oxygen compound gas does not necessarily have to be a gas phase at room temperature and normal pressure, and it can be used in a liquid phase or a solid phase as long as it can be vaporized through melting, evaporation, sublimation, etc. by heating or pressure reduction. It is possible. Examples of the oxygen compound include inorganic compounds such as oxygen, ozone, water vapor, carbon monoxide, carbon dioxide, and carbon suboxide, a hydroxyl group (-OH), an aldehyde group (-COH), an acyl group (RCO-,
-CRO), ketone group (> CO), ether bond (-O
-), Ester bond (-COO-), heterocycle containing oxygen,
An organic compound having a functional group or a bond such as is used. Examples of the organic compound having a hydroxyl group include methanol, ethanol, propanol, butanol, allyl alcohol, fluoroethanol, fluorobutanol, phenol, cyclohexanol, benzyl alcohol and furfuryl alcohol. Examples of the organic compound having an aldehyde group include formaldehyde, acetaldehyde, propioaldehyde, butyraldehyde, glyoxal, acrolein, benzaldehyde, furfural and the like. As the organic compound having an acyl group, for example, formic acid, acid acid,
Propionic acid, butyric acid, valeric acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, benzoic acid, toluic acid, salicylic acid, cinnamic acid, naphthoic acid, phthalic acid, furanic acid, etc. are used. . Examples of the organic compound having a ketone group include acetone, ethyl methyl ketone, methyl propyl ketone, butyl methyl ketone, pinacolone, diethyl ketone, methyl vinyl ketone, mesityl oxide, methyl heptenone, cyclobutanone, cyclopentanone, cyclohexanone, acetophenone, Propiophenone, butyrophenone, valerophenone, dibenzyl ketone, acetonaphthone, acetothienone, acetofuron, etc. are used. Examples of the organic compound having an ether bond include methyl ether, ethyl ether, propyl ether, butyl ether, amyl ether, ethyl methyl ether, methyl propyl ether, methyl butyl ether, methyl amyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether, ethyl amyl ether. , Vinyl ether, allyl ether, methyl vinyl ether, methyl allyl ether, ethyl vinyl ether, ethyl allyl ether, anisole, phenetole, phenyl ether, benzyl ether, phenyl benzyl ether, naphthyl ether, ethylene oxide, propylene oxide, trimethylene oxide, tetrahydrofuran, tetrahydropyran , Dioxane, etc. are used. Examples of the organic compound having an ester bond include methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, amyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, propionate. Propyl acid, butyl propionate, amyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, propyl butyrate, butyl butyrate, amyl butyrate, methyl valerate, ethyl valerate, propyl valerate, butyl valerate, amyl valerate, methyl benzoate, Ethyl benzoate, methyl cinnamate, ethyl cinnamate, propyl cinnamate, methyl salicylate, ethyl salicylate,
Propyl salicylate, butyl salicylate, amyl salicylate, methyl anthranilate, ethyl anthranilate,
Butyl anthranilate, amyl anthranilate, methyl phthalate, ethyl phthalate, butyl phthalate and the like are used. The oxygen-containing heterocyclic compound, furan, oxazole, furazan, pyran, oxazine, morpholine, benzofuran, vanzoxazole, chromene, chroman, dibenzofuran, xanthene, phenoxazine, oxolane, dioxolane, oxathiolane, oxadiazine, benzisoxazole, Etc. are used.
本発明において、表面保護層中に、酸素原子が含まれな
い場合には、例えば、オージェ分析で酸素原子が検出さ
れないような場合には、有機系感光層との電気的不整合
性から、残留電位の発生、或は、複数枚複写時に前の画
像が次の画像にポジまたはネガ像として現れる所謂メモ
リー現象の発生、さらには、不整合界面での電荷の横流
れによる所謂画像流れの発生、等を誘発しやすい。ま
た、有機系感光層との接着性に乏しくなり、複写機内で
の実使用時における機械的な力、或は、温湿度の変化に
より表面保護層の剥離が発生しやすくなる。前述の電気
的不整合性は、この接着性の乏しさに起因するものと考
えられる。In the present invention, when the surface protective layer does not contain oxygen atoms, for example, when oxygen atoms are not detected by Auger analysis, due to electrical inconsistency with the organic photosensitive layer, residual Occurrence of electric potential, or occurrence of so-called memory phenomenon in which the previous image appears as a positive or negative image in the next image at the time of copying a plurality of sheets, and further, occurrence of so-called image deletion due to lateral flow of charges at the mismatched interface, etc. It is easy to induce. Further, the adhesiveness to the organic photosensitive layer becomes poor, and the surface protective layer is liable to peel off due to mechanical force during actual use in a copying machine or due to changes in temperature and humidity. The aforementioned electrical inconsistency is considered to be due to this poor adhesion.
本発明において化学的修飾物質として含有される酸素原
子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への前述
の酸素化合物ガスの導入量を増減する事により制御する
事が可能である。酸素化合物ガスの導入量を増大させれ
ば、本発明によるa−C:X膜中への酸素原子の添加量を
高くする事が可能であり、逆に酸素化合物の導入量を減
少させれば、本発明によるa−C:X膜中への酸素原子の
添加量を低くする事が可能である。The amount of oxygen atoms contained as a chemical modifier in the present invention can be controlled mainly by increasing or decreasing the amount of the above-mentioned oxygen compound gas introduced into the reaction chamber where the plasma reaction is performed. By increasing the amount of oxygen compound gas introduced, it is possible to increase the amount of oxygen atoms added to the aC: X film according to the present invention, and conversely, by decreasing the amount of oxygen compound introduced. It is possible to reduce the amount of oxygen atoms added to the aC: X film according to the present invention.
本発明において、その酸素原子含有量は、0.1原子%以
上であればよく、最大含有量は特に制限はないが、表面
保護層の構造及びグロー放電という製造面から必然的に
定まる。In the present invention, the oxygen atom content may be 0.1 atomic% or more, and the maximum content is not particularly limited, but it is inevitably determined from the structure of the surface protective layer and the manufacturing aspect of glow discharge.
本発明における有機系感光層の表面保護層としてのa−
C:X膜の膜厚は、概ね0.2乃至5μmが好適である。膜厚
が0.2μmより薄い場合には、表面硬度が下地である有
機系感光層の低硬度の影響を受けやすくなり、好適な耐
久性が確保できない。また、膜厚が5μmより厚い場合
には、必ずしも好適な可視光透過率が確保できるとは限
らず、有機系感光層が本来有する高感度性能を損なう。A- as a surface protective layer of the organic photosensitive layer in the present invention
The thickness of the C: X film is preferably about 0.2 to 5 μm. When the film thickness is less than 0.2 μm, the surface hardness is likely to be affected by the low hardness of the underlying organic photosensitive layer, and suitable durability cannot be secured. Further, when the film thickness is thicker than 5 μm, it is not always possible to secure a suitable visible light transmittance, and the high sensitivity performance originally possessed by the organic photosensitive layer is impaired.
本発明における原料ガスからa−C:X膜を形成する過程
としては、原料ガスが、直流、低周波、高周波、或はマ
イクロ波等を用いた所謂プラズマ法により生成されるプ
ラズマ状態を用いて形成される。In the process of forming the aC: X film from the raw material gas in the present invention, the raw material gas uses a plasma state generated by a so-called plasma method using direct current, low frequency, high frequency, or microwave. It is formed.
本発明に用いる有機系感光層は、塗布法もしくは真空蒸
着の常法に従って形成される。The organic photosensitive layer used in the present invention is formed by a conventional method such as coating method or vacuum deposition.
第1図は、導電性基板(1)上に有機系感光層(2)及
び表面保護層(3)、即ちa−C:X層、をこの順に順次
積層した、本発明による感光体の構成を示したものであ
る。尚、上記感光層は電荷発生と電荷輸送を兼ねる一層
でもよく、両機能を分離した二層でもよい。FIG. 1 shows the structure of a photoreceptor according to the present invention, in which an organic photosensitive layer (2) and a surface protective layer (3), that is, aC: X layer, are sequentially laminated in this order on a conductive substrate (1). Is shown. The photosensitive layer may be a single layer having both charge generation and charge transport, or may be two layers having both functions separated.
第2図は本発明に係わる感光体の表面保護層、即ち、a
−C:X膜を形成するための製造装置を示し、図中(201)
〜(206)は常温において気相状態にある原料及びキャ
リアガスを密封した第1乃至第6タンクで、各々のタン
クは第1乃至第6調節弁(207)〜(212)と第1乃至第
6流量制御器(213)〜(218)に接続されている。図中
(219)〜(221)は常温において液相または固相状態に
ある原料を封入した第1乃至第3容器で、各々の容器は
気化のため、第1乃至第3温調器(222)〜(224)によ
り与熱可能であり、さらに各々の容器は第7乃至第9調
節弁(225)〜(227)と第7乃至第9流量制御器(22
8)〜(230)に接続されている。これらのガスは混合器
(231)で混合された後、主管(232)を介して反応室
(233)に送り込まれる。途中の配管は、常温において
液相または固相状態にあった原料化合物が気化したガス
が、途中で凝結しないように、適宜配置された配管加熱
器(234)により、与熱可能とされている。反応室内に
は接地電極(235)と電力印加電極(236)が対向して設
置され、各々の電極は電極加熱器(237)により与熱可
能とされている。電力印加電極(236)には、高周波電
力用整合器(238)を介して高周波電源(239)、低周波
電力用整合器(240)を介して低周波電源(241)、ロー
パスフィルタ(242)を介して直流電源(243)が接続さ
れており、接続選択スイッチ(244)により周波数の異
なる電力が印加可能とされている。反応室(233)内の
圧力は圧力制御弁(245)により調整可能であり、反応
室(233)内の減圧は、排気系選択弁(246)を介して、
拡散ポンプ(247)、油回転ポンプ(248)、或は、冷却
除外装置(249)、メカニカルブースターポンプ(25
0)、油回転ポンプ(248)により行なわれる。排ガスに
ついては、さらに適当な除外装置(253)により安全無
害化した後、大気中に排気される。これら排気系配管に
就いても、常温において液相または固相状態にあった原
料化合物が気化したガスが、途中で凝結しない様に、適
宜配置された配管加熱器(234)により、与熱可能とさ
れている。反応室(233)も同様の理由から反応室加熱
器(251)により与熱可能とされ、内部に配された電極
上には、予め有機系感光層が導電性基板上に形成された
基板(252)が、設置される。第2図において基板(25
2)は接地電極(235)に固定して配されているが、電力
印加電極(236)に固定して配されても良く、さらに双
方に配されても良い。FIG. 2 is a surface protective layer of the photoreceptor according to the present invention, that is, a
-C: shows the manufacturing equipment for forming the X film, (201) in the figure
Numerals (206) are first to sixth tanks for sealing the raw material and carrier gas in a gas phase at room temperature, and each of the tanks is composed of first to sixth control valves (207) to (212) and first to sixth tanks. 6 flow controllers (213) to (218) are connected. In the figure, reference numerals (219) to (221) denote first to third containers in which raw materials in a liquid phase or a solid phase at room temperature are enclosed, and the first to third temperature controllers (222) are provided for each container for vaporization. )-(224), and each container has seventh to ninth control valves (225) to (227) and seventh to ninth flow controllers (22).
8) to (230). These gases are mixed in the mixer (231) and then fed into the reaction chamber (233) through the main pipe (232). The pipes on the way can be heated by a pipe heater (234) arranged appropriately so that the vaporized gas of the raw material compound in the liquid or solid state at room temperature does not condense on the way. . A ground electrode (235) and a power application electrode (236) are installed in the reaction chamber so as to face each other, and each electrode can be heated by an electrode heater (237). A high frequency power source (239) via a high frequency power matching device (238), a low frequency power source (241) and a low pass filter (242) via a low frequency power matching device (240) to the power application electrode (236). A direct current power source (243) is connected via the, and power of different frequencies can be applied by the connection selection switch (244). The pressure in the reaction chamber (233) can be adjusted by the pressure control valve (245), and the pressure reduction in the reaction chamber (233) is performed via the exhaust system selection valve (246).
Diffusion pump (247), oil rotary pump (248), or cooling exclusion device (249), mechanical booster pump (25
0), an oil rotary pump (248). Exhaust gas is further safety-detoxified by an appropriate exclusion device (253), and then discharged into the atmosphere. Even in the case of these exhaust pipes, heat can be applied by the pipe heater (234) arranged appropriately so that the gas that vaporizes the raw material compounds that were in the liquid or solid phase at room temperature does not condense on the way. It is said that. The reaction chamber (233) can also be heated by the reaction chamber heater (251) for the same reason, and a substrate (in which an organic photosensitive layer is previously formed on a conductive substrate on the electrode disposed inside) 252) is installed. In FIG. 2, the substrate (25
Although 2) is fixedly arranged on the ground electrode (235), it may be fixedly arranged on the power applying electrode (236) or may be arranged on both sides.
第3図は本発明に係わる感光体の表面保護層、即ち、a
−C:X膜を形成するための製造装置の別の一形態を示
し、反応室(333)内部の形態以外は、第2図に示した
本発明に係わる製造装置と同様である。即ち、第2図に
おける200番台の図中番号を、第3図においては300番台
に置き換えて解すればよい。FIG. 3 is a surface protective layer of the photoreceptor according to the present invention, that is, a
-C: shows another form of the manufacturing apparatus for forming the X film, and is the same as the manufacturing apparatus according to the present invention shown in FIG. 2 except the shape inside the reaction chamber (333). That is, the numbers in the 200s in FIG. 2 may be replaced with the 300s in FIG.
第3図において、反応室(333)内部には、第2図にお
ける接地電極(235)を兼ねた、予め有機系感光層が導
電性基体上に形成された円筒形の基板(352)が設置さ
れ、内側には電極加熱器(337)が配されている。基板
(352)周囲には同じく円筒形状をした電力印加電極(3
36)が配され、外側には電極加熱器(337)が配されて
いる。有機系感光層が形成されている基板(352)は、
外部より駆動モータ(354)を用いて自転可能となって
いる。In FIG. 3, inside the reaction chamber (333), a cylindrical substrate (352), which also serves as the ground electrode (235) in FIG. 2 and on which an organic photosensitive layer is previously formed on a conductive substrate, is installed. The electrode heater (337) is arranged inside. Around the substrate (352), a cylindrical power applying electrode (3
36) is arranged, and an electrode heater (337) is arranged outside. The substrate (352) on which the organic photosensitive layer is formed is
It can rotate from the outside using a drive motor (354).
反応室は、拡散ポンプにより予め10-4乃至10-6Torr程度
にまで減圧し、真空度の確認と装置内部に吸着したガス
の脱着を行なう。同時に電極加熱器により、電極並びに
固定して配された基板を、必要に応じ、所定の温度まで
昇温する。この時、有機系感光層の熱変成を防止するた
めに、基板温度は100℃以下(常温乃至100℃)に温度設
定される。次いで、第1乃至第6タンク及び第1乃至第
3容器から適宜炭化水素並びに酸素化合物よりなる原料
ガスを第1乃至第9流量制御器を用いて定流量化しなが
ら反応室内に導入し、圧力調節弁により反応室内を一定
の減圧状態に保つ。ガス流量が安定化した後、接続選択
スイッチにより、例えば高周波電源を選択し、電力印加
電極に高周波電力を投入する。両電極間には放電が開始
され、時間と共に基板上に固相の膜が形成される。反応
時間により膜厚を制御し、所定の膜厚に達したところで
放電を停止し、a−C:X膜を本発明による感光体の表面
保護層として得る。このa−C:X膜は、本発明により生
成した酸素原子を含有するプラズマ有機重合膜である。
以上の過程により、本発明による表面保護層を有する感
光体を得る。The pressure in the reaction chamber is reduced to about 10 −4 to 10 −6 Torr in advance by a diffusion pump, and the degree of vacuum is confirmed and the gas adsorbed inside the apparatus is desorbed. At the same time, the electrodes and the fixedly arranged substrate are heated to a predetermined temperature by the electrode heater. At this time, the substrate temperature is set to 100 ° C. or lower (normal temperature to 100 ° C.) in order to prevent thermal denaturation of the organic photosensitive layer. Then, the raw material gas consisting of hydrocarbon and oxygen compound is appropriately introduced into the reaction chamber from the first to sixth tanks and the first to third vessels by using the first to ninth flow rate controllers to regulate the pressure, and the pressure is adjusted. A valve keeps the pressure inside the reaction chamber constant. After the gas flow rate is stabilized, for example, a high frequency power source is selected by the connection selection switch, and high frequency power is applied to the power application electrode. Discharge is started between both electrodes, and a solid phase film is formed on the substrate with time. The film thickness is controlled by the reaction time, the discharge is stopped when the film thickness reaches a predetermined value, and an aC: X film is obtained as the surface protective layer of the photoreceptor according to the present invention. This aC: X film is a plasma organic polymerized film containing oxygen atoms produced by the present invention.
Through the above process, the photoreceptor having the surface protective layer according to the present invention is obtained.
以下、実施例を挙げながら、本発明を説明する。Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples.
まず、有機系感光層A〜Dの作製を行なった。以下、縦
50×横50×厚さ3mmの平板状アルミニウム基板上に形成
したしたものを補助記号pを用いて有機系感光層Ap〜Dp
と称し、直径80mm×長さ330mmの円筒状アルミニウム基
板上に形成したものを補助記号dを用いて有機系感光層
Ad〜Ddと称する。First, the organic photosensitive layers A to D were manufactured. Below, vertical
The organic photosensitive layers Ap to Dp are formed on a flat aluminum substrate of 50 × width 50 × thickness 3 mm by using an auxiliary symbol p.
Which is formed on a cylindrical aluminum substrate having a diameter of 80 mm and a length of 330 mm, is referred to as an organic photosensitive layer using an auxiliary symbol d.
Called Ad ~ Dd.
有機系感光層Aの作製 ジスアゾ顔料としてクロロジアンブルー(CDB)1g、ポ
リエステル樹脂(東洋紡社製V−200)1g、及び、シク
ロヘキサノン98gの混合液をサンドブラインダーで13時
間分散した。この分散液を縦50×横50×厚さ3mmの平板
状アルミニウム基板上にバーコーターを用いて乾燥後の
膜厚が0.3μmとなるように塗布し、乾燥して電荷発生
層を形成した。Preparation of Organic Photosensitive Layer A A mixed solution of 1 g of chlorodian blue (CDB) as a disazo pigment, 1 g of polyester resin (V-200 manufactured by Toyobo Co., Ltd.), and 98 g of cyclohexanone was dispersed for 13 hours with a sand blinder. This dispersion was applied on a flat aluminum substrate having a length of 50 × width of 50 × thickness of 3 mm by using a bar coater so that the film thickness after drying would be 0.3 μm, and dried to form a charge generation layer.
次いで、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−ジフェ
ニルヒドラゾン(DEH)5g、及び、ポリカーボネイト
(帝人化成社製K−1300)5gをTHF30gに溶解させ、この
溶液を電荷発生層上に乾燥後膜厚が15μmとなるように
塗布し、乾燥させて電荷輸送層を形成し、有機系感光層
Apを得た。Then, 5 g of 4-diethylaminobenzaldehyde-diphenylhydrazone (DEH) and 5 g of polycarbonate (K-1300 manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) are dissolved in 30 g of THF, and this solution is dried on the charge generation layer to have a thickness of 15 μm. On the organic photosensitive layer.
Got an Ap.
同様の工程にて、ディッピングを用いて、直径80mm×長
さ330mmの円筒状アルミニウム基板上に有機系感光層Ad
を形成した。In the same process, using dipping, an organic photosensitive layer Ad is formed on a cylindrical aluminum substrate with a diameter of 80 mm and a length of 330 mm.
Was formed.
比較例1 得られた有機系感光層Apを常用のカールソンプロセスの
中でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、白色光半減光
量(以下、E1/2と称する)を測定したところ、2.0ルッ
クス・秒、残留電位は5Vであった。また、JIS−K−540
0規格による鉛筆硬度を測定したところ、約5Bの表面硬
度を有していた。Comparative Example 1 The obtained organic photosensitive layer Ap was charged to −600 V by corona discharge in a conventional Carlson process, and the half-quantity of white light (hereinafter, referred to as E1 / 2) was measured. -Second, the residual potential was 5V. Also, JIS-K-540
When the pencil hardness according to 0 standard was measured, it had a surface hardness of about 5B.
また、得られた有機系感光層Adについても同様の性能が
認められたが、有機系感光層Adについてはさらに、実際
の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、A4複写
紙約5千枚の耐刷試験にて1μmの膜厚減少が観察され
た。従って、静電特性には優れるものの、耐久性には乏
しい事が理解された。The same performance was also confirmed for the obtained organic photosensitive layer Ad. However, when the organic photosensitive layer Ad was further mounted on an actual copying machine and a printing durability test was conducted, it was found that A4 copy paper In the printing durability test of 5,000 sheets, a film thickness reduction of 1 μm was observed. Therefore, it was understood that although the electrostatic property was excellent, the durability was poor.
有機系感光層Bの作製 電荷輸送層形成用のポリカーボネイトをメチルメタクリ
レートPMMA(三菱レーヨン社製BR−85)に代える事以外
は有機系感光層Ap、Adと同様にして有機系感光層Bp、Bd
を作製した。Preparation of Organic Photosensitive Layer B The organic photosensitive layers Bp, Bd were prepared in the same manner as the organic photosensitive layers Ap, Ad except that the polycarbonate for forming the charge transport layer was replaced with methyl methacrylate PMMA (BR-85 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.).
Was produced.
比較例2 得られた有機系感光層Bpを常用のカールソンプロセスの
中でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、E1/2を測定し
たところ、6.2ルックス・秒、残留電位は12Vであった。
また、JIS−K−5400規格による鉛筆硬度を測定したと
ころ、約Bの表面硬度を有していた。Comparative Example 2 The obtained organic photosensitive layer Bp was charged to −600 V by corona discharge in a conventional Carlson process, and E1 / 2 was measured to be 6.2 lux · sec and residual potential was 12 V. .
Moreover, when the pencil hardness according to JIS-K-5400 standard was measured, it had a surface hardness of about B.
また、得られた有機系感光層Bdについても同様の性能が
認められたが、有機系感光層Bdについてはさらに、実際
の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、A4複写
紙約8千枚の耐刷試験にて1μmの膜厚減少が観察され
た。従って、静電特性には優れるものの、耐久性には乏
しい事が理解された。Also, similar performance was observed for the obtained organic photosensitive layer Bd, but when the organic photosensitive layer Bd was mounted on an actual copying machine and a printing durability test was conducted, it was found that In the printing durability test of 8,000 sheets, a film thickness reduction of 1 μm was observed. Therefore, it was understood that although the electrostatic property was excellent, the durability was poor.
有機系感光層Cの作製 ポリカーボネイトをポリアリレート(ユニチカ社製U−
4000)に代える事以外は有機系感光層Ap、Adと同様にし
て有機系感光層Cp、Cdを作製した。Preparation of Organic Photosensitive Layer C Polycarbonate is polyarylate (U- manufactured by Unitika Ltd.)
The organic photosensitive layers Cp and Cd were produced in the same manner as the organic photosensitive layers Ap and Ad except that the organic photosensitive layers Ap and Ad were replaced with 4000).
比較例3 得られた有機系感光層Cpを常用のカールソンプロセスの
中でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、E1/2を測定し
たところ、2.3ルックス・秒、残留電位は8Vであった。
また、JIS−K−5400規格による鉛筆硬度を測定したと
ころ、約5Bの表面硬度を有していた。Comparative Example 3 The obtained organic photosensitive layer Cp was charged to −600 V by corona discharge in a conventional Carlson process, and E1 / 2 was measured to be 2.3 lux · second and residual potential was 8 V. .
Moreover, when the pencil hardness according to JIS-K-5400 standard was measured, it had a surface hardness of about 5B.
また、得られた有機系感光層Cdについても同様の性能が
認められたが、有機系感光層Cdについてはさらに、実際
の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、A4複写
紙約4千枚の他刷試験にて1μmの膜厚減少が観察され
た。従って、静電特性には優れるものの、耐久性には乏
しい事が理解された。The same performance was also confirmed for the obtained organic photosensitive layer Cd. However, when the organic photosensitive layer Cd was mounted on an actual copying machine and a printing durability test was conducted, it was found that In the overprinting test of 4,000 sheets, a film thickness reduction of 1 μm was observed. Therefore, it was understood that although the electrostatic property was excellent, the durability was poor.
有機系感光層Dの作製 ポリカーボネイトをポリエステル(東洋紡社製V−20
0)に代える事以外は有機系感光層Ap、Adと同様にして
有機系感光層Dp、Ddを作製した。Preparation of Organic Photosensitive Layer D Polycarbonate is made of polyester (V-20 manufactured by Toyobo Co., Ltd.).
Organic photosensitive layers Dp and Dd were prepared in the same manner as the organic photosensitive layers Ap and Ad except that the organic photosensitive layers Ap and Ad were replaced.
比較例4 得られた有機系感光層Dpを常用のカールソンプロセスの
中でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、E1/2を測定し
たところ、2.2ルックス・秒、残留電位は7Vであった。
また、JIS−K−5400規格による鉛筆硬度を測定したと
ころ、約5Bの表面硬度を有していた。Comparative Example 4 The obtained organic photosensitive layer Dp was charged to −600 V by corona discharge in a conventional Carlson process, and E1 / 2 was measured to be 2.2 lux · second and residual potential was 7 V. .
Moreover, when the pencil hardness according to JIS-K-5400 standard was measured, it had a surface hardness of about 5B.
また、得られた有機系感光層Ddについても同様の性能が
認められたが、有機系感光層Ddについてはさらに、実際
の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、A4複写
紙約5千枚の耐刷試験にて1μmの膜厚減少が観察され
た。従って、静電特性には優れるものの、耐久性には乏
しい事が理解された。Further, similar performance was observed for the obtained organic photosensitive layer Dd, but when the organic photosensitive layer Dd was further mounted on an actual copying machine and a printing durability test was conducted, it was found that In the printing durability test of 5,000 sheets, a film thickness reduction of 1 μm was observed. Therefore, it was understood that although the electrostatic property was excellent, the durability was poor.
実施例1 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如
き、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に
設けた本発明感光体を作製した。Example 1 Using the manufacturing apparatus according to the present invention, a photoconductor of the present invention having a conductive substrate, an organic photosensitive layer, and a surface protective layer as shown in FIG. 1 was prepared in this order.
第2図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(233)の内部を10-6Torr程度の高真空にした後、
第1、第2、及び第3調節弁(207、208、及び209)を
解放し、第1タンク(201)より水素ガス、第2タンク
(202)よりエチレンガス、及び第3タンク(203)より
二酸化炭素ガスを各々出力圧1.0Kg/cm2の下で、第1、
第2、及び第3流量制御器(213、214、及び215)内へ
流入させた。そして各流量制御器の目盛を調整して、水
素ガスの流量を40sccm、エチレンガスの流量を30sccm、
及び二酸化炭素ガスの流量を30sccmとなるように設定し
て、途中混合器(231)を介して、主管(232)より反応
室(233)内へ流入した。各々の流量が安定した後に、
反応室(233)内の圧力が0.5Torrとなるように圧力調節
弁(245)を調整した。一方、基板(252)としては、有
機系感光層Apを用いて、予め100℃に加熱しておき、ガ
ス流量及び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッ
チ(244)により接続しておいた高周波電源(239)を投
入し、電力印加電極(236)に200Wattの電力を周波数1
3.56MHzの下で印加して約10分間プラズマ重合反応を行
ない、基板(252)上に厚さ0.3μmのa−C:X膜を表面
保護層として形成した。成膜完了後は、電力印加を停止
し、調節弁を閉じ、反応室(233)内を充分に排気した
後、真空を破り本発明感光体を取り出した。In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG. 2, first, the inside of the reactor (233) is evacuated to a high vacuum of about 10 −6 Torr,
The first, second, and third control valves (207, 208, and 209) are opened, and hydrogen gas is supplied from the first tank (201), ethylene gas is supplied from the second tank (202), and the third tank (203). More carbon dioxide gas under the output pressure of 1.0 kg / cm 2 ,
Flowed into the second and third flow controllers (213, 214, and 215). And adjust the scale of each flow rate controller, the flow rate of hydrogen gas is 40sccm, the flow rate of ethylene gas is 30sccm,
The flow rate of carbon dioxide gas was set to be 30 sccm, and the carbon dioxide gas flowed into the reaction chamber (233) from the main pipe (232) through the mixer (231) on the way. After each flow rate stabilizes,
The pressure control valve (245) was adjusted so that the pressure in the reaction chamber (233) was 0.5 Torr. On the other hand, as the substrate (252), the organic photosensitive layer Ap was used and heated in advance to 100 ° C., and was connected in advance by the connection selection switch (244) with the gas flow rate and pressure being stable. Turn on the high frequency power supply (239) and apply 200Watt of power to the power application electrode (236) at frequency 1
A voltage of 3.56 MHz was applied to carry out a plasma polymerization reaction for about 10 minutes to form a 0.3 μm thick aC: X film as a surface protective layer on the substrate (252). After the film formation was completed, the power application was stopped, the control valve was closed, the reaction chamber (233) was sufficiently evacuated, and then the vacuum was broken to take out the photoconductor of the present invention.
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定量分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して約47原子%、さらにオージェ
分析から、含有される酸素原子の量は全構成原子に対し
約1.5原子%であった。When CHN quantitative analysis was performed on the aC: X film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was about 47 atom% with respect to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. , The amount of oxygen atoms contained was about 1.5 atom% with respect to all the constituent atoms.
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、E1/2を測定した
ところ、2.0ルックス・秒、残留電位は5Vであった。こ
の事から、本発明感光体は、有機系感光層が本来有する
優れた感度性能を損わない表面保護層を有する感光体で
ある事が理解された。また、JIS−K−5400規格による
鉛筆硬度を測定したところ、7H以上の表面硬度を有して
おり、表面硬度が著しく改善される事が理解された。Characteristics: The obtained photoreceptor of the present invention was charged to −600 V by corona discharge in a usual Carlson process, and E1 / 2 was measured. As a result, it was 2.0 lux · second and the residual potential was 5 V. From this, it was understood that the photoreceptor of the present invention is a photoreceptor having a surface protective layer which does not impair the excellent sensitivity performance originally possessed by the organic photosensitive layer. Moreover, when the pencil hardness according to JIS-K-5400 standard was measured, it was found that the pencil hardness was 7H or more, and the surface hardness was remarkably improved.
実施例2 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如
き、導電性基板、有機系感光層表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。Example 2 Using the manufacturing apparatus according to the present invention, a photoconductor of the present invention was prepared in which a conductive substrate and an organic photosensitive layer surface protective layer were provided in this order as shown in FIG.
第3図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(333)の内部を10-6Torr程度の高真空にした後、
第1、第2、及び第3調節弁(307、308、及び309)を
解放し、第1タンク(301)より水素ガス、第2タンク
(302)よりエチレンガス、及び第3タンク(303)より
二酸化炭素ガスを各々出力圧1.0Kg/cm2の下で、第1、
第2、及び第3流量制御器(313、314、及び315)内へ
流入させた。そして各流量制御器の目盛を調整して、水
素ガスの流量を120sccm、エチレンガスの流量を90scc
m、及び二酸化炭素ガスの流量を65sccmとなるように設
定して、途中混合器(331)を介して、主管(332)より
反応室(333)内へ流入した。各々の流量が安定した後
に、反応室(333)内の圧力が0.8Torrとなるように圧力
調節弁(345)を調整した。一方、基板(352)として
は、有機系感光層Adを用いて、予め75℃に加熱してお
き、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予め接続選択
スイッチ(344)により接続しておいた高周波電源(33
9)を投入し、電力印加電極(336)に250Wattの電力を
周波数13.56MHzの下で印加して約5分間プラズマ重合反
応を行ない、基板(352)上に厚さ0.23μmのa−C:X膜
を表面保護層として形成した。成膜完了後は、電力印加
を停止し、調節弁を閉じ、反応室(333)内を充分に排
気した後、真空を破り、本発明感光体を取り出した。In the glow discharge decomposition apparatus shown in Fig. 3, first, the inside of the reaction device (333) is evacuated to a high vacuum of about 10 -6 Torr,
The first, second, and third control valves (307, 308, and 309) are opened, hydrogen gas is supplied from the first tank (301), ethylene gas is supplied from the second tank (302), and the third tank (303). More carbon dioxide gas under the output pressure of 1.0 kg / cm 2 ,
Flowed into the second and third flow controllers (313, 314, and 315). Then, adjust the scale of each flow rate controller so that the flow rate of hydrogen gas is 120sccm and the flow rate of ethylene gas is 90scc.
The flow rates of m and carbon dioxide gas were set to 65 sccm, and the mixture flowed from the main pipe (332) into the reaction chamber (333) through the mixer (331) on the way. After the respective flow rates were stabilized, the pressure control valve (345) was adjusted so that the pressure in the reaction chamber (333) became 0.8 Torr. On the other hand, as the substrate (352), the organic photosensitive layer Ad was used to be heated to 75 ° C. in advance, and the connection selection switch (344) was connected in advance while the gas flow rate and pressure were stable. High frequency power supply (33
9) is applied, 250 Watt of power is applied to the power application electrode (336) at a frequency of 13.56 MHz to carry out a plasma polymerization reaction for about 5 minutes, and a thickness of 0.23 μm aC of the substrate (352): The X film was formed as a surface protective layer. After the film formation was completed, the power application was stopped, the control valve was closed, the reaction chamber (333) was sufficiently evacuated, the vacuum was broken, and the photoreceptor of the present invention was taken out.
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定量分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して約33原子%、さらにオージェ
分析から、含有される酸素原子の量は全構成原子に対し
約2.1原子%であった。When CHN quantitative analysis was performed on the aC: X film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was about 33 atom% with respect to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. , The amount of oxygen atoms contained was about 2.1 atom% with respect to all the constituent atoms.
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、E1/2を測定した
ところ、2.1ルックス・秒、残留電位は8Vであった。こ
の事から、本発明感光体は、有機系感光層が本来有する
優れた感度性能を損わない表面保護層を有する感光体で
ある事が理解された。また、JIS−K−5400規格による
鉛筆硬度を測定したところ、7H以上の表面硬度を有して
おり、表面硬度が著しく改善される事が理解された。Characteristics: The obtained photoreceptor of the present invention was charged to −600 V by corona discharge in a usual Carlson process, and E1 / 2 was measured. As a result, it was 2.1 lux · second and residual potential was 8 V. From this, it was understood that the photoreceptor of the present invention is a photoreceptor having a surface protective layer which does not impair the excellent sensitivity performance originally possessed by the organic photosensitive layer. Moreover, when the pencil hardness according to JIS-K-5400 standard was measured, it was found that the pencil hardness was 7H or more, and the surface hardness was remarkably improved.
また、この本発明感光体を、実際の複写機に搭載して耐
刷試験を行なったところ、A4複写紙約10万枚の複写にお
いても、常時鮮明な画像が得られ、膜厚減少は観察され
ず、耐久性に優れる事が理解された。また、常温常湿時
及び高温高湿時においても、所謂画像流れは観察され
ず、有機系感光層と表面保護層との電気的整合性に優
れ、かつ、耐環境性に優れた感光体である事が理解され
た。さらに、10万枚の耐刷試験後も表面保護層の剥離は
認められず、有機系感光層と表面保護層との接着性に優
れた感光体である事が理解された。Further, when this photoreceptor of the present invention was mounted on an actual copying machine and a printing durability test was conducted, a clear image was always obtained even when copying about 100,000 A4 copy papers, and a decrease in film thickness was observed. However, it was understood that the durability was excellent. Also, at the time of normal temperature and normal humidity and high temperature and high humidity, so-called image deletion is not observed, and the photoreceptor is excellent in electrical matching between the organic photosensitive layer and the surface protective layer, and is also excellent in environmental resistance. I understood something. Further, no peeling of the surface protective layer was observed even after a printing durability test of 100,000 sheets, and it was understood that the photoconductor has excellent adhesiveness between the organic photosensitive layer and the surface protective layer.
実施例3 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如
き、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に
設けた本発明感光体を作製した。Example 3 Using the manufacturing apparatus according to the present invention, a photoconductor of the present invention having a conductive substrate, an organic photosensitive layer and a surface protective layer as shown in FIG. 1 was prepared in this order.
第2図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(233)の内部を10-6Torr程度の高真空にした後、
第1、第2、及び第7調節弁(207、208、及び225)を
解放し、第1タンク(201)より水素ガス、第2タンク
(202)より二酸化炭素ガスを各々出力圧1.0Kg/cm2の下
で、及び、第1容器(219)よりスチレンガスを第1温
調器(222)温度35℃の下で、第1、第2、及び第7流
量制御器(213、214、及び228)内へ流入させた。そし
て各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を40
sccm、二酸化炭素ガスの流量を2.5sccm、及びスチレン
ガスの流量を10sccmとなるように設定して、途中混合器
(231)を介して、主管(232)より反応室(233)内へ
流入した。各々の流量が安定した後に、反応室(233)
内の圧力が0.25Torrとなるように圧力調節弁(245)を
調整した。一方、基板(252)としては、有機系感光層B
pを用いて、予め35℃に加熱しておき、ガス流量及び圧
力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ(244)に
より接続しておいた低周波電源(241)を投入し、電力
印加電極(236)に120Wattの電力を周波数100KHzの下で
印加して約45秒間プラズマ重合反応を行ない、基板(25
2)上に厚さ0.5μmのa−C:X膜を表面保護層として形
成した。成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉
じ、反応室(233)内を充分に排気した後、真空を破
り、本発明感光体を取り出した。In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG. 2, first, the inside of the reactor (233) is evacuated to a high vacuum of about 10 −6 Torr,
The first, second, and seventh control valves (207, 208, and 225) are released, and hydrogen gas from the first tank (201) and carbon dioxide gas from the second tank (202) output pressure of 1.0 kg / under cm 2, and, the more styrene gas first container (219) the first temperature controller (222) under the temperature of 35 ° C., first, second, and seventh flow controller (213, 214, And 228). Then adjust the scale of each flow rate controller to adjust the flow rate of hydrogen gas to 40
The flow rate of sccm and carbon dioxide gas was set to 2.5 sccm, and the flow rate of styrene gas was set to 10 sccm, and flowed into the reaction chamber (233) from the main pipe (232) through the mixer (231) in the middle. . After stabilizing each flow rate, the reaction chamber (233)
The pressure control valve (245) was adjusted so that the internal pressure was 0.25 Torr. On the other hand, as the substrate (252), the organic photosensitive layer B is used.
Using p, heat to 35 ° C in advance, and while the gas flow rate and pressure are stable, turn on the low-frequency power source (241) that was previously connected by the connection selection switch (244), and apply the power application electrode. The power of 120Watt was applied to (236) at a frequency of 100KHz, and the plasma polymerization reaction was performed for about 45 seconds.
2) An aC: X film having a thickness of 0.5 μm was formed thereon as a surface protective layer. After the completion of the film formation, the power application was stopped, the control valve was closed, the reaction chamber (233) was sufficiently evacuated, the vacuum was broken, and the photoreceptor of the present invention was taken out.
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定量分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して約43原子%、さらにオージェ
分析から、含有される酸素原子の量は全構成原子に対し
約0.1原子%であった。When CHN quantitative analysis was performed on the aC: X film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was about 43 atom% with respect to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. , The amount of oxygen atoms contained was about 0.1 atom% with respect to all the constituent atoms.
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、E1/2を測定した
ところ、6.3ルックス・秒、残留電位は10Vであった。こ
の事から、本発明感光体は、有機系感光層が本来有する
優れた感度性能を損わない表面保護層を有する感光体で
ある事が理解された。また、JIS−K−5400規格による
鉛筆硬度を測定したところ、約7Hの表面硬度を有してお
り、表面硬度が著しく改善される事が理解された。Characteristics: The obtained photoreceptor of the present invention was charged to −600 V by corona discharge in a conventional Carlson process, and E1 / 2 was measured. As a result, it was 6.3 lux · second and the residual potential was 10 V. From this, it was understood that the photoreceptor of the present invention is a photoreceptor having a surface protective layer which does not impair the excellent sensitivity performance originally possessed by the organic photosensitive layer. Moreover, when the pencil hardness according to JIS-K-5400 standard was measured, it was found that it had a surface hardness of about 7H, and the surface hardness was remarkably improved.
実施例4 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如
き、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に
設けた本発明感光体を作製した。Example 4 Using the manufacturing apparatus according to the present invention, a photoconductor of the present invention having a conductive substrate, an organic photosensitive layer and a surface protective layer as shown in FIG. 1 was provided in this order.
第3図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(333)の内部を10-6Torr程度の高真空にした後、
第1、第2、及び第7調節弁(307、308、及び325)を
解放し、第1タンク(301)より水素ガス、第2タンク
(302)より二酸化炭素ガスを各々出力圧1.0Kg/cm2の下
で、及び、第1容器(319)よりスチレンガスを第1温
調器(322)温度45℃の下で、第1、第2、及び第7流
量制御器(313、314、及び328)内へ流入させた。そし
て各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を90
sccm、二酸化炭素ガスの流量を30sccm、及びスチレンガ
スの流量を18sccmとなるように設定して、途中混合器
(331)を介して、主管(332)より反応室(333)内へ
流入した。各々の流量が安定した後に、反応室(333)
内の圧力が0.28Torrとなるように圧力調節弁(345)を
調整した。一方、基板(352)としては、有機系感光層B
dを用いて、常温のままで、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ(344)により接続し
ておいた低周波電源(341)を投入し、電力印加電極(3
36)に200Wattの電力を周波数150KHzの下で印加して約5
0秒間プラズマ重合反応を行ない、基板(352)上に厚さ
1μmのa−C:X膜を表面保護層として形成した。成膜
完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室
(333)内を充分に排気した後、真空を破り、本発明感
光体を取り出した。In the glow discharge decomposition apparatus shown in Fig. 3, first, the inside of the reaction device (333) is evacuated to a high vacuum of about 10 -6 Torr,
The first, second, and seventh control valves (307, 308, and 325) are released, and hydrogen gas from the first tank (301) and carbon dioxide gas from the second tank (302) output pressure of 1.0 kg / under cm 2, and, the more styrene gas first container (319) the first temperature controller (322) under the temperature of 45 ° C., first, second, and seventh flow controller (313, 314, And 328). Then adjust the scale of each flow rate controller to adjust the flow rate of hydrogen gas to 90
The flow rate of sccm and carbon dioxide gas was set to 30 sccm and the flow rate of styrene gas was set to 18 sccm, and the mixture flowed into the reaction chamber (333) from the main pipe (332) through the intermediate mixer (331). After stabilizing each flow rate, reaction chamber (333)
The pressure control valve (345) was adjusted so that the internal pressure was 0.28 Torr. On the other hand, as the substrate (352), the organic photosensitive layer B is used.
Using d, the low-frequency power source (341) previously connected by the connection selection switch (344) is turned on while the gas flow rate and pressure are stable at room temperature, and the power application electrode (3
36), 200Watt of power is applied under the frequency of 150KHz, and about 5
A plasma polymerization reaction was performed for 0 seconds to form a 1 μm thick aC: X film as a surface protective layer on the substrate (352). After the film formation was completed, the power application was stopped, the control valve was closed, the reaction chamber (333) was sufficiently evacuated, the vacuum was broken, and the photoreceptor of the present invention was taken out.
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定量分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して約45原子%、さらにオージェ
分析から、含有される酸素原子の量は全構成原子に対し
約1.0原子%であった。When CHN quantitative analysis was performed on the aC: X film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was about 45 atom% with respect to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. , The amount of oxygen atoms contained was about 1.0 atom% based on all the constituent atoms.
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、E1/2を測定した
ところ、6.4ルックス・秒、残留電位は12Vであった。こ
の事から、本発明感光体は、有機系感光層が本来有する
優れた感度性能を損わない表面保護層を有する感光体で
ある事が理解された。また、JIS−K−5400規格による
鉛筆硬度を測定したところ、7H以上の表面硬度を有して
おり、表面硬度が著しく改善される事が理解された。Characteristics: The obtained photoreceptor of the present invention was charged to −600 V by corona discharge in a conventional Carlson process, and E1 / 2 was measured. As a result, it was 6.4 lux · sec and the residual potential was 12 V. From this, it was understood that the photoreceptor of the present invention is a photoreceptor having a surface protective layer which does not impair the excellent sensitivity performance originally possessed by the organic photosensitive layer. Moreover, when the pencil hardness according to JIS-K-5400 standard was measured, it was found that the pencil hardness was 7H or more, and the surface hardness was remarkably improved.
また、この本発明感光体を、実際の複写機に搭載して耐
刷試験を行なったところ、A4複写紙約10万枚の複写にお
いても、常時鮮明な画像が得られ、膜厚減少は観察され
ず、耐久性に優れる事が理解された。また、常温常湿時
及び高温高湿時においても、所謂画像流れは観察され
ず、有機系感光層と表面保護層との電気的整合性に優
れ、かつ、耐環境性に優れた感光体である事が理解され
た。さらに、10万枚の耐刷試験後も表面保護層の剥離は
認められず、有機系感光層と表面保護層との接着性に優
れた感光体である事が理解された。Further, when this photoreceptor of the present invention was mounted on an actual copying machine and a printing durability test was conducted, a clear image was always obtained even when copying about 100,000 A4 copy papers, and a decrease in film thickness was observed. However, it was understood that the durability was excellent. Also, at the time of normal temperature and normal humidity and high temperature and high humidity, so-called image deletion is not observed, and the photoreceptor is excellent in electrical matching between the organic photosensitive layer and the surface protective layer, and is also excellent in environmental resistance. I understood something. Further, no peeling of the surface protective layer was observed even after a printing durability test of 100,000 sheets, and it was understood that the photoconductor has excellent adhesiveness between the organic photosensitive layer and the surface protective layer.
実施例5 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如
き、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に
設けた本発明感光体を作製した。Example 5 Using the manufacturing apparatus according to the present invention, a photoconductor of the present invention having a conductive substrate, an organic photosensitive layer and a surface protective layer as shown in FIG. 1 was prepared in this order.
第2図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(233)の内部を10-6Torr程度の高真空にした後、
第1、第2、及び第7調節弁(207、208、及び225)を
解放し、第1タンク(201)より水素ガス、第2タンク
(202)よりブタジエンガスを各々出力圧1.0Kg/cm2の下
で、及び、第1容器(219)よりメタノールガスを第1
温調器(222)温度35℃の下で、第1、第2、及び第7
流量制御器(213、214、及び228)内へ流入させた。そ
して各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を
60sccm、ブタジエンガスの流量を60sccm、及びメタノー
ルガスの流量を25sccmとなるように設定して、途中混合
器(231)を介して、主管(232)より反応室(233)内
へ流入した。各々の流量が安定した後に、反応室(23
3)内の圧力が0.4Torrとなるように圧力調節弁(245)
を調整した。一方、基板(252)としては、有機系感光
層Cpを用いて、予め30℃に加熱しておき、ガス流量及び
圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ(244)
により接続しておいた低周波電源(239)を投入しし、
電力印加電極(236)に100Wattの電力を周波数100KHzの
下で印加して約25秒間プラズマ重合反応を行ない、基板
(252)上に厚さ0.7μmのa−C:X膜を表面保護層とし
て形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁
を閉じ、反応室(233)内を充分に排気した後、真空を
破り、本発明感光体を取り出した。In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG. 2, first, the inside of the reactor (233) is evacuated to a high vacuum of about 10 −6 Torr,
The first, second, and seventh control valves (207, 208, and 225) are released, and hydrogen gas from the first tank (201) and butadiene gas from the second tank (202) output pressure of 1.0 kg / cm, respectively. Underneath 2 , and first methanol gas from the first container (219).
Temperature controller (222) temperature 35 ℃, first, second and seventh
Flowed into the flow controllers (213, 214, and 228). Then adjust the scale of each flow rate controller to adjust the flow rate of hydrogen gas.
The flow rate of 60 sccm, the flow rate of butadiene gas and the flow rate of methanol gas were set to be 60 sccm and 25 sccm, respectively, and the mixture flowed from the main pipe (232) into the reaction chamber (233) through the intermediate mixer (231). After stabilizing each flow rate, the reaction chamber (23
3) Pressure control valve (245) so that the pressure inside becomes 0.4 Torr
Was adjusted. On the other hand, as the substrate (252), the organic photosensitive layer Cp is used and preheated to 30 ° C., and the connection selection switch (244) is preliminarily maintained in a state where the gas flow rate and pressure are stable.
Turn on the low-frequency power supply (239) connected by
100Watt of power is applied to the power application electrode (236) at a frequency of 100KHz to carry out plasma polymerization reaction for about 25 seconds, and a 0.7 μm thick aC: X film is used as a surface protection layer on the substrate (252). Formed. After the completion of the film formation, the power application was stopped, the control valve was closed, the reaction chamber (233) was sufficiently evacuated, the vacuum was broken, and the photoreceptor of the present invention was taken out.
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定量分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して約36原子%、さらにオージェ
分析から、含有される酸素原子の量は全構成原子に対し
約12原子%であった。When CHN quantitative analysis was performed on the aC: X film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was about 36 atom% with respect to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. , The amount of oxygen atoms contained was about 12 atom% with respect to all the constituent atoms.
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、E1/2を測定した
ところ、2.4ルックス・秒、残留電位は8Vであった。こ
の事から、本発明感光体は、有機系感光層が本来有する
優れた感度性能を損わない表面保護層を有する感光体で
ある事が理解された。また、JIS−K−5400規格による
鉛筆硬度を測定したところ、7H以上の表面硬度を有して
おり、表面硬度が著しく改善される事が理解された。Characteristics: The obtained photoreceptor of the present invention was charged to −600 V by corona discharge in a usual Carlson process, and E1 / 2 was measured. As a result, it was 2.4 lux · second and residual potential was 8 V. From this, it was understood that the photoreceptor of the present invention is a photoreceptor having a surface protective layer which does not impair the excellent sensitivity performance originally possessed by the organic photosensitive layer. Moreover, when the pencil hardness according to JIS-K-5400 standard was measured, it was found that the pencil hardness was 7H or more, and the surface hardness was remarkably improved.
実施例6 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如
き、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に
設けた本発明感光体を作製した。Example 6 Using the manufacturing apparatus according to the present invention, a photoconductor of the present invention having a conductive substrate, an organic photosensitive layer and a surface protective layer as shown in FIG. 1 was prepared in this order.
第3図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(333)の内部を10-6Torr程度の高真空にした後、
第1、第2、及び第7調節弁(307、308、及び325)を
解放し、第1タンク(301)より水素ガス、第2タンク
(302)よりブタジエンガスを各々出力圧1.0Kg/cm2の下
で、及び、第1容器(319)よりエタノールガスを第1
温調器(222)温度40℃の下で、第1、第2、及び第7
流量制御器(213、214、及び228)内へ流入させた。そ
して各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を
200sccm、ブタジエンガスの流量を30sccm、及びエタノ
ールガスの流量を60sccmとなるように設定して、途中混
合器(331)を介して、主管(332)より反応室(333)
内へ流入した。各々の流量が安定した後に、反応室(33
3)内の圧力が0.7Torrとなるように圧力調節弁(345)
を調整した。一方、基板(352)としては、有機系感光
層Cdを用いて、予め30℃に加熱しておき、ガス流量及び
圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ(344)
により接続しておいた低周波電源(341)を投入し、電
力印加電極(336)に250Wattの電力を周波数120KHzの下
で印加して約30秒間プラズマ重合反応を行ない、基板
(252)上に厚さ2.0μmのa−C:X膜を表面保護層とし
て形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁
を閉じ、反応室(333)内を充分に排気した後、真空を
破り、本発明感光体を取り出した。In the glow discharge decomposition apparatus shown in Fig. 3, first, the inside of the reaction device (333) is evacuated to a high vacuum of about 10 -6 Torr,
The first, second, and seventh control valves (307, 308, and 325) are released, and hydrogen gas from the first tank (301) and butadiene gas from the second tank (302) are respectively output at a pressure of 1.0 kg / cm. Underneath 2 and from the 1st container (319), first add ethanol gas.
Temperature controller (222) Temperature 40 ℃, 1st, 2nd and 7th
Flowed into the flow controllers (213, 214, and 228). Then adjust the scale of each flow rate controller to adjust the flow rate of hydrogen gas.
200sccm, the flow rate of butadiene gas is 30sccm, and the flow rate of ethanol gas is 60sccm, and the reaction chamber (333) from the main pipe (332) through the intermediate mixer (331).
It flowed in. After stabilizing each flow rate, the reaction chamber (33
3) Pressure control valve (345) so that the pressure inside becomes 0.7 Torr
Was adjusted. On the other hand, as the substrate (352), the organic photosensitive layer Cd is used and preheated to 30 ° C., and the connection selection switch (344) is preliminarily maintained in a state where the gas flow rate and pressure are stable.
The low-frequency power source (341) connected by the above is turned on, 250 Watt of power is applied to the power application electrode (336) at a frequency of 120 KHz, and the plasma polymerization reaction is performed for about 30 seconds, and the power is applied on the substrate (252). A 2.0 μm thick aC: X film was formed as a surface protective layer. After the film formation was completed, the power application was stopped, the control valve was closed, the reaction chamber (333) was sufficiently evacuated, the vacuum was broken, and the photoreceptor of the present invention was taken out.
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定量分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して約38原子%、さらにオージェ
分析から、含有される酸素原子の量は全構成原子に対し
約21原子%であった。When CHN quantitative analysis was performed on the aC: X film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was about 38 atomic% with respect to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. , The amount of oxygen atoms contained was about 21 atom% with respect to all the constituent atoms.
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、E1/2を測定した
ところ、2.3ルックス・秒、残留電位は10Vであった。こ
の事から、本発明感光体は、有機系感光層が本来有する
優れた感度性能を損わない表面保護層を有する感光体で
ある事が理解された。また、JIS−K−5400規格による
鉛筆硬度を測定したところ、7H以上の表面硬度を有して
おり、表面硬度が著しく改善される事が理解された。Characteristics: The obtained photoreceptor of the present invention was charged to −600 V by corona discharge in a conventional Carlson process, and E1 / 2 was measured. As a result, it was 2.3 lux · second and the residual potential was 10 V. From this, it was understood that the photoreceptor of the present invention is a photoreceptor having a surface protective layer which does not impair the excellent sensitivity performance originally possessed by the organic photosensitive layer. Moreover, when the pencil hardness according to JIS-K-5400 standard was measured, it was found that the pencil hardness was 7H or more, and the surface hardness was remarkably improved.
また、この本発明感光体を、実際の複写機に搭載して耐
刷試験を行なったところ、A4複写紙約10万枚の複写にお
いても、常時鮮明な画像が得られ、膜厚減少は観察され
ず、耐久性に優れる事が理解された。また、常温常湿時
及び高温高湿時においても、所謂画像流れは観察され
ず、有機系感光層と表面保護層との電気的整合性に優
れ、かつ、耐環境性に優れた感光体である事が理解され
た。さらに、10万枚の耐刷試験後も表面保護層の剥離は
認められず、有機系感光層と表面保護層との接着性に優
れた感光体である事が理解された。Further, when this photoreceptor of the present invention was mounted on an actual copying machine and a printing durability test was conducted, a clear image was always obtained even when copying about 100,000 A4 copy papers, and a decrease in film thickness was observed. However, it was understood that the durability was excellent. Also, at the time of normal temperature and normal humidity and high temperature and high humidity, so-called image deletion is not observed, and the photoreceptor is excellent in electrical matching between the organic photosensitive layer and the surface protective layer, and is also excellent in environmental resistance. I understood something. Further, no peeling of the surface protective layer was observed even after a printing durability test of 100,000 sheets, and it was understood that the photoconductor has excellent adhesiveness between the organic photosensitive layer and the surface protective layer.
実施例7 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如
き、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に
設けた本発明感光体を作製した。Example 7 Using the manufacturing apparatus according to the present invention, a photoconductor of the present invention having a conductive substrate, an organic photosensitive layer and a surface protective layer as shown in FIG. 1 was provided in this order.
第2図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(233)の内部を10-6Torr程度の高真空にした後、
第1、第2、及び第7調節弁(207、208、及び225)を
解放し、第1タンク(201)より水素ガス、第2タンク
(202)より亜酸化窒素ガスを各々出力圧1.0Kg/cm2の下
で、及び、第1容器(219)よりミルセンガスを第1温
調器(222)温度145℃の下で、第1、第2、及び第7流
量制御器(213、214、及び228)内へ流入させた。そし
て各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を40
sccm、亜酸化窒素ガスの流量を2sccm、及びミルセンガ
スの流量を15sccmとなるように設定して、途中混合器
(231)を介して、主管(232)より反応室(233)内へ
流入した。各々の流量が安定した後に、反応室(233)
内の圧力が0.23Torrとなるように圧力調節弁(245)を
調整した。一方、基板(252)としては、有機系感光層D
pを用いて、常温のままで、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ(244)により接続し
ておいた低周波電源(241)を投入し、電力印加電極(2
36)に150Wattの電力を周波数80KHzの下で印加して約20
秒間プラズマ重合反応を行ない、基板(252)上に厚さ
0.25μmのa−C:X膜を表面保護層として形成した。成
膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室
(233)内を充分に排気した後、真空を破り、本発明感
光体を取り出した。In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG. 2, first, the inside of the reactor (233) is evacuated to a high vacuum of about 10 −6 Torr,
The first, second, and seventh control valves (207, 208, and 225) are released, and hydrogen gas from the first tank (201) and nitrous oxide gas from the second tank (202) output pressure of 1.0 kg respectively. / cm 2 and , under the temperature of the first temperature controller (222) 145 ° C., the Milsen gas from the first container (219), the first, second, and seventh flow rate controllers (213, 214, And 228). Then adjust the scale of each flow rate controller to adjust the flow rate of hydrogen gas to 40
The flow rate of sccm, nitrous oxide gas was set to 2 sccm, and the flow rate of myrcene gas was set to 15 sccm, and the mixture flowed into the reaction chamber (233) from the main pipe (232) through the mixer (231) on the way. After stabilizing each flow rate, the reaction chamber (233)
The pressure control valve (245) was adjusted so that the internal pressure was 0.23 Torr. On the other hand, as the substrate (252), the organic photosensitive layer D is used.
Using p, turn on the low-frequency power source (241) that was previously connected by the connection selection switch (244) with the gas flow rate and pressure stable at room temperature, and apply the power application electrode (2
36), 150Watt of power is applied under the frequency of 80KHz, and about 20
Plasma polymerization reaction for 2 seconds, thickness on substrate (252)
A 0.25 μm aC: X film was formed as a surface protective layer. After the completion of the film formation, the power application was stopped, the control valve was closed, the reaction chamber (233) was sufficiently evacuated, the vacuum was broken, and the photoreceptor of the present invention was taken out.
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定量分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して約57原子%、さらにオージェ
分析から、含有される酸素原子の量は全構成原子に対し
約3原子%であった。When CHN quantitative analysis was performed on the aC: X film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was about 57 atom% with respect to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. The amount of oxygen atoms contained was about 3 atom% based on all the constituent atoms.
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、E1/2を測定した
ところ、2.3ルックス・秒、残留電位は7Vであった。こ
の事から、本発明感光体は、有機系感光層が本来有する
優れた感度性能を損わない表面保護層を有する感光体で
ある事が理解された。また、JIS−K−5400規格による
鉛筆硬度を測定したところ、7H以上の表面硬度を有して
おり、表面硬度が著しく改善される事が理解された。Characteristics: The obtained photoreceptor of the present invention was charged to −600 V by corona discharge in a usual Carlson process, and E1 / 2 was measured. As a result, it was 2.3 lux · second, and the residual potential was 7 V. From this, it was understood that the photoreceptor of the present invention is a photoreceptor having a surface protective layer which does not impair the excellent sensitivity performance originally possessed by the organic photosensitive layer. Moreover, when the pencil hardness according to JIS-K-5400 standard was measured, it was found that the pencil hardness was 7H or more, and the surface hardness was remarkably improved.
実施例8 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如
き、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に
設けた本発明感光体を作製した。Example 8 Using the manufacturing apparatus according to the present invention, a photoconductor of the present invention having a conductive substrate, an organic photosensitive layer and a surface protective layer as shown in FIG. 1 was prepared in this order.
第3図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(333)の内部を10-6Torr程度の高真空にした後、
第1、第2、及び第7調節弁(307、308、及び325)を
解放し、第1タンク(301)よりアルゴンガス、第2タ
ンク(302)より亜酸化窒素ガスを各々出力圧1.0Kg/cm2
の下で、及び、第1容器(319)よりミルセンガスを第
1温調器(322)温度145℃の下で、第1、第2、及び第
7流量制御器(313、314、及び328)内へ流入させた。
そして各流量制御器の目盛を調整して、アルゴンガスの
流量を40sccm、亜酸化窒素ガスの流量を8sccm、及びミ
ルセンガスの流量を30sccmとなるように設定して、途中
混合器(331)を介して、主管(332)より反応室(33
3)内へ流入した。各々の流量が安定した後に、反応室
(333)内の圧力が0.25Torrとなるように圧力調節弁(3
45)を調整した。一方、基板(352)としては、有機系
感光層Ddを用いて、常温のままで、ガス流量及び圧力が
安定した状態で、予め接続選択スイッチ(344)により
接続しておいた低周波電源(341)を投入し、電力印加
電極(336)に130Wattの電力を周波数150KHzの下で印加
して約20秒間プラズマ重合反応を行ない、基板(352)
上に厚さ0.3μmのa−C:X膜を表面保護層として形成し
た。成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、
反応室(333)内を充分に排気した後、真空を破り、本
発明感光体を取り出した。In the glow discharge decomposition apparatus shown in Fig. 3, first, the inside of the reaction device (333) is evacuated to a high vacuum of about 10 -6 Torr,
The first, second, and seventh control valves (307, 308, and 325) are released, and the output pressure of argon gas from the first tank (301) and nitrous oxide gas from the second tank (302) are 1.0 kg. / cm 2
The first, second, and seventh flow controllers (313, 314, and 328) under the temperature of the first temperature controller (322) at a temperature of 145 ° C. under the temperature of the first container (319). It was made to flow in.
Then, adjust the scale of each flow rate controller so that the flow rate of argon gas is 40 sccm, the flow rate of nitrous oxide gas is 8 sccm, and the flow rate of myrcene gas is 30 sccm, and the intermediate mixer (331) is used. From the main pipe (332) to the reaction chamber (33
3) It flowed in. After the respective flow rates have stabilized, the pressure control valve (3) is set so that the pressure in the reaction chamber (333) becomes 0.25 Torr.
45) was adjusted. On the other hand, as the substrate (352), the organic photosensitive layer Dd is used, and the low-frequency power source (previously connected by the connection selection switch (344) with the gas flow rate and pressure stabilized at room temperature ( 341), and 130Watt of power is applied to the power application electrode (336) at a frequency of 150 KHz to carry out plasma polymerization reaction for about 20 seconds, and the substrate (352)
An aC: X film having a thickness of 0.3 μm was formed on the surface as a surface protective layer. After film formation is complete, stop applying power, close the control valve,
After sufficiently exhausting the inside of the reaction chamber (333), the vacuum was broken and the photoreceptor of the present invention was taken out.
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定量分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して約54原子%、さらにオージェ
分析から、含有される酸素原子の量は全構成原子に対し
約2.7原子%であった。When CHN quantitative analysis was performed on the aC: X film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was about 54 atom% with respect to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. , The amount of oxygen atoms contained was about 2.7 atom% with respect to all the constituent atoms.
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて−600Vに帯電し、E1/2を測定した
ところ、2.3ルックス・秒、残留電位は8Vであった。こ
の事から、本発明感光体は、有機系感光層が本来有する
優れた感度性能を損わない表面保護層を有する感光体で
ある事が理解された。また、JIS−K−5400規格による
鉛筆硬度を測定したところ、7H以上の表面硬度を有して
おり、表面硬度が著しく改善される事が理解された。Characteristics: The obtained photoreceptor of the present invention was charged to −600 V by corona discharge in a usual Carlson process, and E1 / 2 was measured. As a result, it was 2.3 lux · second and the residual potential was 8 V. From this, it was understood that the photoreceptor of the present invention is a photoreceptor having a surface protective layer which does not impair the excellent sensitivity performance originally possessed by the organic photosensitive layer. Moreover, when the pencil hardness according to JIS-K-5400 standard was measured, it was found that the pencil hardness was 7H or more, and the surface hardness was remarkably improved.
また、この本発明感光体を、実際の複写機に搭載して耐
刷試験を行なったところ、A4複写紙約10万枚の複写にお
いても、常時鮮明な画像が得られ、膜厚減少は観察され
ず、耐久性に優れる事が理解された。また、常温常湿時
及び高温高湿時においても、所謂画像流れは観察され
ず、有機系感光層と表面保護層との電気的整合性に優
れ、かつ、耐環境性に優れた感光体である事が理解され
た。さらに、10万枚の耐刷試験後も表面保護層の剥離は
認められず、有機系感光層と表面保護層との接着性に優
れた感光体である事が理解された。Further, when this photoreceptor of the present invention was mounted on an actual copying machine and a printing durability test was conducted, a clear image was always obtained even when copying about 100,000 A4 copy papers, and a decrease in film thickness was observed. However, it was understood that the durability was excellent. Further, at the time of normal temperature and normal humidity and high temperature and high humidity, so-called image deletion is not observed, and the photoreceptor is excellent in electrical matching between the organic photosensitive layer and the surface protective layer, and is also excellent in environment resistance. I understood something. Further, no peeling of the surface protective layer was observed even after a printing durability test of 100,000 sheets, and it was understood that the photoconductor has excellent adhesiveness between the organic photosensitive layer and the surface protective layer.
比較例5 二酸化炭素ガスを導入しない事以外は、実施例2と同様
にして感光体を作製した。得られた感光体の表面層をオ
ージェ分析により元素分析を行なったところ、酸素原子
は検出されなかった。Comparative Example 5 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 2 except that carbon dioxide gas was not introduced. When the surface layer of the obtained photoreceptor was subjected to elemental analysis by Auger analysis, oxygen atoms were not detected.
この感光体を複写機に搭載し、実写を試みたところ、表
面層が、複写機内部材との接触により、感光体全面にわ
たり剥離した。When this photoconductor was mounted on a copying machine and an attempt was made for actual copying, the surface layer was peeled off over the entire surface of the photoconductor due to contact with members inside the copying machine.
この事から、本発明における、酸素原子添加による接着
性確保の効果が理解される。From this fact, the effect of securing the adhesiveness by the addition of oxygen atoms in the present invention is understood.
比較例6 二酸化炭素ガスを導入しない事以外は、実施例4と同様
にして感光体を作製した。得られた感光体の表面層をオ
ージェ分析により元素分析を行なったところ、酸素原子
は検出されなかった。Comparative Example 6 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 4 except that carbon dioxide gas was not introduced. When the surface layer of the obtained photoreceptor was subjected to elemental analysis by Auger analysis, oxygen atoms were not detected.
この感光体を複写機に搭載し、実写を試みたところ、所
謂画像流れ状態の画像しか得られず、有機系感光層と表
面保護層との電気的整合性に乏しい事が観察された。When this photoconductor was mounted on a copying machine and an actual copying was attempted, it was observed that only an image in a so-called image deletion state was obtained, and the electrical compatibility between the organic photosensitive layer and the surface protective layer was poor.
この事から、本発明における、酸素原子添加による電気
的整合性確保の効果が理解される。From this, it is understood that the effect of ensuring the electrical compatibility by the addition of oxygen atoms in the present invention.
比較例7 基板温度を150℃とする事以外は、実施例3と同様にし
て感光体を作製した。得られた感光体のE1/2を測定した
ところ、30ルックス・秒以上の光量を必要とし、感光体
感度が著しく損なわれる事が認められた。Comparative Example 7 A photoconductor was produced in the same manner as in Example 3 except that the substrate temperature was 150 ° C. When the E1 / 2 of the obtained photoconductor was measured, it was found that a light amount of 30 lux · sec or more was required and the photoconductor sensitivity was significantly impaired.
この事から、本発明において基板温度が100℃以下で感
光体作製が行なわれる事の効果が理解される。From this fact, it is understood that the effect of producing the photoconductor at the substrate temperature of 100 ° C. or less in the present invention is achieved.
第1図は本発明感光体の構成を示す図面、第2図乃至第
3図は本発明に係わる感光体の製造装置を示す図面であ
る。FIG. 1 is a drawing showing the constitution of the photoconductor of the present invention, and FIGS. 2 to 3 are drawings showing the photoconductor manufacturing apparatus according to the present invention.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−105744(JP,A) 特開 昭59−113447(JP,A) 特開 昭63−88560(JP,A) 特開 昭62−9355(JP,A)Continuation of the front page (56) References JP-A-57-105744 (JP, A) JP-A-59-113447 (JP, A) JP-A-63-88560 (JP, A) JP-A-62-9355 (JP , A)
Claims (2)
面保護層とを設けた有機系感光体において、該表面保護
層は炭化水素化合物のプラズマ有機重合膜であり、該プ
ラズマ有機重合膜が少なくとも酸素原子を含有すること
を特徴とする感光体。1. An organic photoreceptor in which an organic photosensitive layer and a surface protective layer are provided on a conductive substrate, wherein the surface protective layer is a plasma organic polymerized film of a hydrocarbon compound. A photoreceptor, wherein the polymer film contains at least oxygen atoms.
工程と、該感光層上にグロー放電法により該導電性基板
の温度を100℃以下に保った状態で炭化水素化合物およ
び酸素化合物のプラズマ有機重合膜からなる表面保護層
を形成する工程とを含むことを特徴とする感光体の製造
方法。2. A step of forming an organic photosensitive layer on a conductive substrate, and a hydrocarbon compound and oxygen in a state where the temperature of the conductive substrate is kept at 100 ° C. or lower by a glow discharge method on the photosensitive layer. And a step of forming a surface protective layer composed of a plasma organic polymerized film of a compound.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61245081A JPH0727268B2 (en) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | Photoreceptor and manufacturing method thereof |
| EP87114939A EP0264104B1 (en) | 1986-10-14 | 1987-10-13 | Electrophotographic photosensitive member having an overcoat layer |
| DE3751651T DE3751651T2 (en) | 1986-10-14 | 1987-10-13 | Electrophotographic photosensitive member containing a coating |
| US07/107,541 US4882256A (en) | 1986-10-14 | 1987-10-13 | Photosensitive member having an overcoat layer comprising amorphous carbon |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61245081A JPH0727268B2 (en) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | Photoreceptor and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6397962A JPS6397962A (en) | 1988-04-28 |
| JPH0727268B2 true JPH0727268B2 (en) | 1995-03-29 |
Family
ID=17128316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61245081A Expired - Lifetime JPH0727268B2 (en) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | Photoreceptor and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0727268B2 (en) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57105744A (en) * | 1980-12-23 | 1982-07-01 | Canon Inc | Photoconductive member |
| JPS59113447A (en) * | 1982-12-20 | 1984-06-30 | Canon Inc | Photoconductive material for electrophotography |
-
1986
- 1986-10-14 JP JP61245081A patent/JPH0727268B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6397962A (en) | 1988-04-28 |
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