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JPH0727806B2 - Thick film printing method on substrate - Google Patents
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JPH0727806B2 - Thick film printing method on substrate - Google Patents

Thick film printing method on substrate

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JPH0727806B2
JPH0727806B2 JP62042207A JP4220787A JPH0727806B2 JP H0727806 B2 JPH0727806 B2 JP H0727806B2 JP 62042207 A JP62042207 A JP 62042207A JP 4220787 A JP4220787 A JP 4220787A JP H0727806 B2 JPH0727806 B2 JP H0727806B2
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Japan
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printing
substrate
pattern
recognition
print
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JP62042207A
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寛 今井
真砂志 芝
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Rohm Co Ltd
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Rohm Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention 【産業上の利用分野】[Industrial applications]

この発明は、電子装置用基板に対して多数個の単位電子
装置用の厚膜素子を一括印刷形成する場合などに、基板
上の単位電子素子用の各領域内のきわめて正確な位置に
厚膜素子を印刷できるように改良されたものに関する。
According to the present invention, when a large number of thick film elements for a unit electronic device are collectively formed by printing on a substrate for an electronic device, the thick film element is formed at an extremely accurate position in each area for the unit electronic device on the substrate. It relates to an improved device capable of printing.

【従来の技術】[Prior art]

たとえばハイブリッド型電子装置の構成部品として採用
されるチップ抵抗器などの電子装置は、セラミック基板
上に多数個の電子装置を厚膜印刷法によって形成し、こ
れを各単位電子装置に分割するという製造手法がとられ
る。 すなわち、まず、焼結前の半乾きの状態のセラミック基
板材の表面にブレードによりX,Y方向に等間隔でV溝状
の割り溝を入れる。そしてこれを炉で焼結させると、第
8図に示すように、格子状の割り溝の入ったセラミック
基板3が得られる。この基板にスクリーン印刷による厚
膜形成方法を施すことにより、基板の表面上の上記格子
状の割り溝で囲まれた各単位領域A…内に、抵抗被膜11
や電極被膜12を形成する(第7図参照)。そうすると、
上記セラミック基板3の表面に、複数行複数列の単位チ
ップ抵抗器の集合体が形成されたものが得られる。そし
て最終的に上記セラミック基板を割り溝で分割するとと
もに電極部にハンダメッキして、第9図に示すような各
分離されたチップ抵抗器Cを得るのである。 ところで、セラミック基板に抵抗被膜11や電極被膜12を
印刷する場合、印刷用マスク上の印刷パターンとセラミ
ック基板上の格子状割り溝との相対位置を、格子で囲ま
れた各矩形の領域A…の所定部位に厚膜素子が正確に印
刷されるように、位置決めする必要がある。 従来この位置決めは、第8図に示すように、印刷台1上
に突設された複数の位置決めピン2…にセラミック基板
3の端縁を当接させることにより、セラミック基板3を
その外形基準で位置決めするにとどまっていた。 しかしながら、セラミック基板3は、それ自体の形成時
にその端縁にバリが生じていることが多く、このバリに
よってセラミック基板3を正確に位置決めすることがで
ず、その結果、厚膜素子の印刷ずれを起こすという問題
があった。 また、仮に上述のようなバリの発生がなくても、上記の
割り溝自体の形成ずれが生じている場合があり、この場
合には、セラミック基板の位置は決められていても、格
子状の割り溝に対する厚膜素子の印刷ずれが生じること
になる。 いずれにしても、上述のような印刷ずれが生じると、そ
のセラミック基板から多数個得られるべき電子装置のす
べてが不良品となる。また、このような製造過程を踏む
電子装置はきわめて小型であることが多く、上述のよう
な印刷ずれの検査を誤りなく行なうことは非常に困難で
あり、また、検査要員を要するという、コスト的に非常
に不利な点が多々あった。 この発明は、以上のような事情のもとで考え出されたも
ので、基板の外形や、格子状の割り溝の形成ずれには関
係なく、常に正確な厚膜素子印刷を行なうことができる
方法を提供することをその課題とする。
For example, an electronic device such as a chip resistor adopted as a component of a hybrid electronic device is manufactured by forming a large number of electronic devices on a ceramic substrate by a thick film printing method and dividing the electronic devices into individual electronic devices. The approach is taken. That is, first, V-groove-shaped split grooves are formed at equal intervals in the X and Y directions by a blade on the surface of a semi-dried ceramic substrate material before sintering. Then, when this is sintered in a furnace, as shown in FIG. 8, a ceramic substrate 3 having lattice-shaped split grooves is obtained. By applying a thick film forming method by screen printing to this substrate, the resistive coating 11 is formed in each unit region A ... Enclosed by the lattice-shaped dividing grooves on the surface of the substrate.
The electrode coating 12 is formed (see FIG. 7). Then,
It is possible to obtain an assembly of unit chip resistors in a plurality of rows and a plurality of columns formed on the surface of the ceramic substrate 3. Finally, the ceramic substrate is divided by the dividing grooves and the electrode portions are solder-plated to obtain the separated chip resistors C as shown in FIG. By the way, when the resistance coating 11 and the electrode coating 12 are printed on the ceramic substrate, the relative positions of the print pattern on the printing mask and the grid-shaped dividing grooves on the ceramic substrate are defined by rectangular areas A surrounded by grids. It is necessary to position the thick film element so that the thick film element can be accurately printed at a predetermined portion of. Conventionally, as shown in FIG. 8, this positioning is performed by bringing the end edges of the ceramic substrate 3 into contact with a plurality of positioning pins 2 ... It was just positioning. However, the ceramic substrate 3 often has burrs on its edges when it is formed, and the burrs cannot accurately position the ceramic substrate 3, resulting in misalignment of the thick film element. There was a problem of causing. Further, even if the above-mentioned burr does not occur, the above-mentioned misalignment of the split groove may occur. In this case, even if the position of the ceramic substrate is determined, the grid-shaped Print displacement of the thick film element with respect to the split groove will occur. In any case, if the above-mentioned print misalignment occurs, all electronic devices that should be obtained from the ceramic substrate become defective. In addition, since electronic devices that undergo such manufacturing processes are often extremely small, it is very difficult to perform the above-described inspection of print misregistration without error, and an inspection person is required. There were many disadvantages to him. The present invention was devised under the circumstances as described above, and it is possible to always perform accurate thick film element printing irrespective of the outer shape of the substrate and the deviation in the formation of the grid-shaped split grooves. The task is to provide a method.

【問題を解決するための手段】[Means for solving the problem]

上記の問題を解決するため、この発明では、次の技術的
手段を講じている。 すなわち、本発明方法は、 印刷位置パターンが施された基板をその印刷パターンを
認識する認識位置から印刷位置に順次移送して、この基
板に所定の印刷マスクにより厚膜印刷する方法におい
て、 上記印刷マスクに、厚膜を印刷すべき印刷パターンに対
して所定の位置関係が決定された認識標用パターンを設
けておき、 認識位置と、印刷位置間の一定距離を往復動可能であ
り、かつX・Y方向およびθ方向の姿勢を制御しうる支
持テーブルを設け、 (a) 認識位置にある上記支持テーブルに第一番目の
基板を載置して、支持テーブルを印刷位置に移動させて
この基板に印刷を行ない、かつそのまま支持テーブルを
認識位置に復帰させるステップ、 (b) 基板上に印刷された上記認識標を認識して、上
記印刷パターンの姿勢を検出するステップ、 からなる前準備を行なった後、 第2番目以降の基板は、 (c) 認識位置にある支持テーブルに載置した基板の
印刷位置パターンを認識することにより基板の姿勢を検
出するステップ、 (d) 上記ステップ(c)で検出された基板の姿勢と
上記ステップ(b)で得られた印刷パターンの姿勢との
比較において、上記印刷位置パターンが印刷パターンと
対応するように上記支持テーブルをX・Y方向およびθ
方向に位置制御するステップ、 (e) 位置制御されて印刷位置に移動した基板に対し
て所定の厚膜素子を上記印刷マスクにより印刷するステ
ップ、 (d) 厚膜印刷後の基板を排出するステップ、 を繰り返すようにしたことを特徴としている。
In order to solve the above problems, the present invention takes the following technical means. That is, the method of the present invention is a method in which a substrate provided with a print position pattern is sequentially transferred from a recognition position for recognizing the print pattern to a print position, and thick film printing is performed on the substrate with a predetermined print mask. The mask is provided with a recognition target pattern in which a predetermined positional relationship is determined with respect to the printing pattern for printing the thick film, and it is possible to reciprocate a predetermined distance between the recognition position and the printing position, and X A support table capable of controlling the postures in the Y direction and the θ direction is provided, and (a) the first substrate is placed on the support table at the recognition position, and the support table is moved to the printing position to move the substrate. Printing on the substrate and returning the support table to the recognition position as it is, (b) a step of recognizing the recognition mark printed on the substrate and detecting the posture of the printing pattern. After the preparatory process consisting of the following steps, the second and subsequent substrates are: (c) Detecting the posture of the substrate by recognizing the printing position pattern of the substrate placed on the support table at the recognition position, (D) Comparing the posture of the substrate detected in step (c) with the posture of the print pattern obtained in step (b), the support table is set so that the print position pattern corresponds to the print pattern. XY direction and θ
Position control in the direction, (e) printing a predetermined thick film element on the substrate that has been position-controlled and moved to the printing position with the above print mask, (d) discharging the substrate after thick film printing The feature is that it is repeated.

【作用】[Action]

ステップ(a)および(b)では、第一番目の基板に厚
膜を試し刷りを行なっている。支持テーブルの認識位置
から印刷位置までの行程は決められており、かつ、認識
位置に戻った支持テーブル上に厚膜とともに印刷された
認識標は、少くとも2箇所形成されており、しかも印刷
された厚膜との位置関係は所定のように決っているか
ら、この認識標を認識することにより、厚膜を印刷すべ
きマスクの印刷パターンが印刷装置においてどのような
姿勢にあるか、すなわち、X・Y方向および回転方向
(θ方向)にどのような位置にあるかを検出できる。θ
方向の位置も検出できるのは、2つの認識標を結ぶ線分
の傾きが測定できるからである。この印刷パターンの位
置検出データは、所定の記憶装置に格納される。 第二番目以降の基板は、それに設けられた第8図のよう
な格子状の割り溝からなる印刷位置パターンの姿勢が、
たとえばこれを形成する際に同時に設けられた認識標を
認識することにより検出される。すなわち、格子状割り
溝のX・Y方向および回転方向(θ方向)の位置を検出
される。 以上から、印刷パターンのX・Y方向およびθ方向の姿
勢と、支持テーブルに載置されてそのまま印刷位置に移
動した場合の基板上の印刷位置パターンのX・Y方向お
よびθ方向の姿勢が分かるので、印刷パターンに対して
印刷位置パターンを対応させるためには、この印刷位置
パターンをX・Y方向およびθ方向にどれだけ移動させ
れば良いかも自ずと規定できる。こうして、支持テーブ
ルは、印刷位置に移動する間に、基板の印刷位置パター
ンが印刷パターンと対応するように、X・Y方向および
θ方向に制御される。 したがって、印刷位置に移動した支持テーブル上の基板
には、その印刷位置パターン、すなわち、割り溝で囲ま
れた各領域内の正確な位置に、厚膜が印刷される。
In steps (a) and (b), a thick film is trial-printed on the first substrate. The process from the recognition position of the support table to the printing position is determined, and at least two recognition marks printed with the thick film are formed on the support table that has returned to the recognition position. Since the positional relationship with the thick film is determined in a predetermined manner, by recognizing this recognition target, the posture of the printing pattern of the mask for printing the thick film in the printing apparatus, that is, It is possible to detect the position in the X and Y directions and the rotation direction (θ direction). θ
The position in the direction can also be detected because the inclination of the line segment connecting the two recognition targets can be measured. The print pattern position detection data is stored in a predetermined storage device. For the second and subsequent substrates, the orientation of the printing position pattern, which is formed on the grid-like split grooves as shown in FIG.
For example, it is detected by recognizing the recognition target provided at the same time when this is formed. That is, the positions of the grid-shaped split grooves in the X and Y directions and the rotation direction (θ direction) are detected. From the above, the postures of the print pattern in the X, Y and θ directions and the postures of the print position pattern on the substrate in the X, Y and θ directions when the print pattern is placed on the support table and moved to the print position as it is are known. Therefore, in order to make the print position pattern correspond to the print pattern, it is possible to naturally define how much the print position pattern should be moved in the X / Y direction and the θ direction. In this way, the support table is controlled in the X and Y directions and the θ direction so that the printing position pattern of the substrate corresponds to the printing pattern while moving to the printing position. Therefore, the thick film is printed on the substrate on the support table that has been moved to the printing position, at the printing position pattern, that is, at the correct position within each area surrounded by the split groove.

【効果】【effect】

このように本発明の基板への厚膜印刷方法では、印刷用
マスクの印刷パターンと、基板上の印刷位置パターンと
の相互の位置関係を調節して基板上に厚膜を印刷形成す
るようにしているので、基板の外形を基準として基板を
位置決めするにとどまっていた従来の方法にくらべ、そ
の印刷の精度は著しく向上し、不良品の発生率を極力抑
制することができる。その結果、印刷ずれを検査するた
めの検査要員なども不要となり、電子装置の製造コスト
の低減に大きく寄与する。 しかも、本発明では、マスクの印刷パターンの姿勢を試
し刷りによってその都度検出するようにしているので、
印刷パターンの印刷機に対する位置を決める必要が全く
なくなる。その結果、マスクの作製、および印刷機への
マスクの装着が容易となる。また、基板の縁部に多少の
バリが発生していても厚膜印刷の精度にはなんら悪影響
を与えることがなくなるので、その作製が容易となる。
さらに、この基板についても、その表面に形成された印
刷位置パターンの姿勢を各々について検出し、こうして
検出された印刷位置パターンを、上記マスクの印刷パタ
ーンの姿勢に合わすようにしているので、この基板を支
持テーブルに搬送する場合もそれほど精度を要求されな
くなり、その結果、基板のハンドリングが非常に楽にな
る。このようなことが総合されて、この種の電子装置の
製造の効率化、および、高品質化が達成される。
As described above, in the thick film printing method for a substrate of the present invention, the mutual positional relationship between the print pattern of the printing mask and the print position pattern on the substrate is adjusted so that the thick film is printed on the substrate. Therefore, as compared with the conventional method in which the board is positioned based on the outer shape of the board, the printing accuracy is significantly improved, and the occurrence rate of defective products can be suppressed as much as possible. As a result, an inspection staff or the like for inspecting the print misalignment becomes unnecessary, which greatly contributes to the reduction of the manufacturing cost of the electronic device. Moreover, in the present invention, since the posture of the print pattern of the mask is detected each time by test printing,
There is no need to determine the position of the print pattern with respect to the printing machine. As a result, it becomes easy to manufacture the mask and attach the mask to the printing machine. Further, even if some burrs are generated on the edge portion of the substrate, the accuracy of thick film printing is not adversely affected, so that the manufacturing thereof becomes easy.
Further, regarding this substrate as well, the posture of the print position pattern formed on the surface is detected for each, and the print position pattern thus detected is adapted to the posture of the print pattern of the mask. Even when the substrate is transferred to the support table, the precision is not so required, and as a result, the substrate handling becomes very easy. By integrating such things, the manufacturing efficiency and the quality improvement of the electronic device of this kind are achieved.

【実施例の説明】[Explanation of Examples]

以下、本発明の実施例を図面を参照して具体的に説明す
る。なお、実施例は、チップ抵抗器の製造過程における
厚膜素子の印刷方法についてのものである。 まず、本発明方法に供される基板3は、次のようにして
作製される。 第1図および第2図に示すように、半乾き状態に置かれ
ているセラミック基板材4の表面に、外部の図示しない
駆動機構に連結されたブレード5によりX方向に所定間
隔をあけて、かつY方向に延びるように断面V字状の第
一割り溝6…を形成する。その際、セラミック基板材4
の周部余白部分に、ピン等の突起を食い込ませるなどす
ることにより、第一割り溝6…に対して一定の位置関係
にある2箇所の透孔状の第一認識標7,7が形成される。
そして次に、Y方向に所定間隔をあけて、かつX方向に
延びるように断面V字状の第二割り溝8…を、第一割り
溝と同様にして形成する。その際、セラミック基板材4
の周部余白部分に、第二割り溝8…に対して一定の関係
にある2箇所の透孔状の第二認識標9,9が上記第一認識
標と同様にして形成される。こうして、基板材4の上面
に、第一割り溝6…および第二割り溝8…からなる格子
状割り溝、ならびに、第一割り溝6…に関係づけられた
第一認識標7,7および第二割り溝8…に関係づけられた
第二認識標9,9からなる印刷位置パターンが形成され
る。そしてこの基板材4を加熱炉で焼成固化することに
より、後記する厚膜素子印刷に供されるセラミック基板
3が得られる。 一方、印刷装置に装着されるマスク10には、第3図に示
すように、上記格子状割り溝で囲まれた各領域A内の所
定位置に電極被膜12あるいは抵抗被膜11(第5図および
第7図参照)をスクリーン印刷によって形成するための
印刷パターン13が形成されている。第3図は、抵抗被膜
11を印刷するための印刷パターン13を示す。そうして、
このマスク10には、上記印刷パターン13以外に、2箇所
の第三認識標14を印刷によって形成するための認識標用
パターン15が、上記印刷パターン13に対して所定の位置
関係に形成される。これにより、このマスク10を用いて
セラミック基板3に抵抗被膜11を印刷したとき、第6図
および第7図に示すように、第三認識標14も同時に印刷
形成されることとなる。 上記のセラミック基板3を順次受け取る支持テーブル16
は、第4図に二点鎖線で示す認識位置と、実線で示す印
刷位置間を往復移動させられ、かつ、X・Y方向および
回転方向(θ方向)に位置制御されるようになってい
る。本例では、第4図に示すように、X・Yテーブル17
と回転テーブル18とが組合された形態となっている。そ
してX・Yテーブルのうち、X方向の駆動機構が上記支
持テーブル16を認識位置と印刷位置間の一定距離を往復
移動させる機能をもあわせもち、Y方向の駆動機構が、
支持テーブル16を、基板マガジン19から基板を受け取っ
て仮位置決めを行なう第4図に一点鎖線で示す基板受け
取り位置と、上記の認識位置間を往復移動させる機能を
もあわせもつようにしている。 なお、第4図においては図示が省略されているが、印刷
位置にある支持テーブル16の上方には、印刷装置の支持
機構に支持された上述のマスク10が待機しており、支持
テーブル16が印刷位置に来ると、支持テーブル16が上昇
するか、またはマスク10が下降してセラミック基板3上
にマスク10が載置され、マスク10上のスキージが動くこ
とにより、マスク上の抵抗被膜用インクが印刷パターン
13,15にしたがってセラミック基板上に転写されて印刷
が行なわれるようになっている。 上述のように格子状の割り溝と、第一認識標7,7および
第二認識標9,9とをもつセラミック基板3、印刷装置に
おいて印刷パターン13とともに第三認識標の印刷パター
ン15が形成された印刷マスク10、および、第4図に示す
支持テーブル16を用いた本発明方法による厚膜素子の印
刷方法は、次のようにして行なわれる。なお、ここで
は、すでに第5図に示すように電極被膜12が印刷された
基板3に対し、第3図の印刷マスクを用いて抵抗被膜11
を印刷する場合について説明する。 第4図において、まず、第一番目のセラミック基板3
(第1図に示す状態のもの)を基板マガジン19から受け
取った支持テーブル16は、基板受け取り位置、認識位置
から印刷位置に順次移送され、マスク10による試し刷り
が行なわれる。このとき、セラミック基板3上には、第
6図および第7図に示すように、抵抗被膜11と、第三認
識標14とが印刷され、そしてそのまま認識位置に戻され
る。この場合、X・Yテーブル17は、X方向駆動装置の
みが往復駆動されるだけであり、したがって、マスク10
の印刷パターン13が、マスク10からX方向に一定距離離
れた認識位置にあるセラミック基板3上に再現されてい
ることになる。ここにおいて光学的認識装置20が第三認
識標14,14を認識することにより、印刷パターン13のX
・Y方向およびθ方向の姿勢を検出し、所定の記憶装置
に記憶する。2点を認識しているから、印刷パターン13
のX・Y方向の位置だけでなく、θ方向の位置も検出で
きるのである。これには、たとえば、2つの第三認識標
14,14を結ぶ線分の中心(たとえばこれを、印刷パター
ン13の図心と対応させておく)の座標と、2つの第三認
識標14,14を結ぶ線分のY軸に対する傾き(θ)を二値
化画像から演算すればよい。 上記の第一番目のセラミック基板3は、印刷パターン13
の姿勢検出のためだけに用いるものであり、上記の認識
が行なわれた後は、排出、破棄する。 そして第二番目以降のセラミック基板3に対する抵抗被
膜11の印刷は、次のようにして行なわれる。 基板マガジン19から第2番目のセラミック基板3(第1
図に示す状態のもの)を受け取った支持テーブル16は、
認識位置に移送される。ここで、上記光学的認識装置20
は、セラミック基板3上の第一認識標7,7および第二認
識標9,9を認識することにより、セラミック基板上に形
成された格子状割り溝のX・Y方向およびθ方向の位置
を検出する。 これには、たとえば、次の手法が用いられる。すなわ
ち、Y方向に延びる第一割り溝6…はX方向の位置が特
に問題となり、X方向に延びる第二割り溝8…は、Y方
向の位置が特に問題となるから、第一認識標7,7によっ
て第一割り溝6…のX方向の位置を、第二認識標9,9に
よって第二割り溝8…のY方向の位置を検出することに
より、格子状割り溝、すなわち、両端の第一割り溝6a,6
bと、両端の第二割り溝8a,8bで囲まれる矩形の領域Bの
図心の座標を求めることができる。そうして、たとえば
第一認識標7,7の2点を結ぶ線分の傾きを検出すること
により、上記格子状割り溝のθ方向のずれを検出するこ
とができる。その結果、格子状割り溝のX・Y方向およ
びθ方向の位置を検出することができるのである。 上述のように印刷位置での印刷パターン13のX・Y方向
およびθ方向の姿勢、換言すると、印刷パターン13の図
心の座標および印刷パターンの回転ずれ(θ方向位置)
が分かっているのであるから、認識位置から印刷位置に
移動させた基板3上の格子状割り溝を印刷パターン13に
対応させるには、支持テーブル16をX・Y方向およびθ
方向にどのように動かせればよいかが分かる。それに
は、支持テーブル16が認識位置から印刷位置に移行する
間に、格子状割り溝を構成する上記矩形の領域Bの図心
を、上記印刷パターン13の図心に一致させるようにX・
Yテーブルを駆動させた後、上記領域Bの傾き(θ)
が、印刷パターン13の傾き(θ)と一致するように回転
テーブル18を駆動させればよい。 このようにして支持テーブル16を制御した後印刷を行な
えば、割り溝が形成する格子パターンと印刷パターンと
が正確に一致させられ、したがって、各割り溝で囲まれ
る単位領域A内には、その正確な位置に抵抗被膜11が印
刷形成されることとなる。印刷後は、所定の排出手段に
よって印刷後の基板3(第6図および第7図に示す状態
のもの)が排出され、第3番目以降のセラミック基板3
が上述の手順と同様にして順次印刷される。 なお、電極被膜12は、抵抗被膜11を印刷する前の段階に
おいてすでに印刷されている。この電極被膜12の印刷に
も上述と同様の手法が適用されており、第5図ないし第
7図において符号14′で示す認識標が、電極被膜12の印
刷時にそのマスクの印刷パターンの姿勢を検出するため
の認識標である。なお、上記電極被膜12が正常に印刷さ
れたセラミック基板3における上記認識標14′は、格子
状の割り溝のパターンに対しても一定の関係をもってい
るはずであるから、抵抗被膜11の印刷時にセラミック基
板の格子状割り溝の姿勢を検出する際、上記第一および
第二認識標7,7,9,9に代え、この認識標14′を使用する
ことも可能である。 もちろん、この発明の範囲は上述した実施例に限定する
ことはない。電子装置としては、チップ型抵抗器とは限
らず、チップ型の基板上に印刷手段によって厚膜素子が
形成されて製造されるすべての電子装置の製造過程に適
用できる。 また、実施例では、X・YテーブルのX方向駆動機構に
支持テーブル16を認識位置から印刷位置まで一定距離往
復移動させる機能を兼用させているが、別途、上記X・
Yテーブルないし回転テーブルを直接往復移動させる送
り装置上で一定距離往復搬送するようにしてもよい。 また、実施例では、各認識標は、2箇所形成されている
が、その数を増やせば、たとえば、セラミック基板3そ
れ自体の焼結時での収縮のバラツキまでも検出して、さ
らにこの基板に対する印刷パターンの位置決め精度を高
めるようにすることもなども可能である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings. It should be noted that the examples relate to the printing method of the thick film element in the manufacturing process of the chip resistor. First, the substrate 3 used in the method of the present invention is manufactured as follows. As shown in FIGS. 1 and 2, on the surface of the ceramic substrate material 4 placed in a semi-dry state, a predetermined interval is provided in the X direction by a blade 5 connected to an external drive mechanism (not shown), Further, first split grooves 6 having a V-shaped cross section are formed so as to extend in the Y direction. At that time, the ceramic substrate material 4
By forming a protrusion such as a pin in the peripheral marginal area of the, two through-hole-shaped first identification marks 7 and 7 having a fixed positional relationship with the first split groove 6 are formed. To be done.
Then, second split grooves 8 having a V-shaped cross section are formed at predetermined intervals in the Y direction and extend in the X direction in the same manner as the first split grooves. At that time, the ceramic substrate material 4
In the peripheral marginal area, two through hole-shaped second recognition marks 9 and 9 having a fixed relationship with the second dividing grooves 8 are formed in the same manner as the first recognition mark. In this way, on the upper surface of the substrate material 4, the lattice-shaped slits composed of the first slits 6 ... And the second slits 8, and the first identification marks 7, 7 and 7 associated with the first slits 6 ... A printing position pattern including the second recognition marks 9 and 9 associated with the second dividing grooves 8 is formed. Then, the substrate material 4 is fired and solidified in a heating furnace to obtain a ceramic substrate 3 to be used for thick film element printing described later. On the other hand, as shown in FIG. 3, the mask 10 mounted on the printing apparatus has an electrode coating 12 or a resistance coating 11 (see FIG. 5 and FIG. 5) at a predetermined position in each area A surrounded by the grid-like dividing grooves. A print pattern 13 for forming (see FIG. 7) by screen printing is formed. Fig. 3 shows the resistance film
The print pattern 13 for printing 11 is shown. And then
In addition to the print pattern 13, the mask 10 is provided with a recognition target pattern 15 for forming two third recognition targets 14 by printing in a predetermined positional relationship with the print pattern 13. . As a result, when the resistance coating 11 is printed on the ceramic substrate 3 using the mask 10, the third identification mark 14 is also printed and formed at the same time as shown in FIGS. 6 and 7. Support table 16 for sequentially receiving the above ceramic substrates 3
Is reciprocated between a recognition position indicated by a chain double-dashed line in FIG. 4 and a printing position indicated by a solid line, and is position-controlled in the X and Y directions and the rotation direction (θ direction). . In this example, as shown in FIG.
And the rotary table 18 are combined. Of the XY tables, the X-direction drive mechanism also has a function of reciprocating the support table 16 for a fixed distance between the recognition position and the printing position, and the Y-direction drive mechanism is
The support table 16 also has a function of reciprocating between the substrate receiving position indicated by the alternate long and short dash line in FIG. 4 for receiving the substrate from the substrate magazine 19 and performing temporary positioning, and the above-mentioned recognition position. Although not shown in FIG. 4, the mask 10 supported by the support mechanism of the printing apparatus stands by above the support table 16 at the printing position, and the support table 16 is When it reaches the printing position, the support table 16 rises or the mask 10 descends to place the mask 10 on the ceramic substrate 3 and the squeegee on the mask 10 moves to cause the ink for the resistance film on the mask to move. Print pattern
According to 13,15, the image is transferred onto the ceramic substrate and printed. As described above, the ceramic substrate 3 having the grid-shaped dividing grooves and the first recognition marks 7, 7 and the second recognition marks 9, 9 is formed with the printing pattern 13 and the printing pattern 15 of the third recognition mark in the printing device. The printing method for thick film elements according to the method of the present invention using the printed mask 10 and the supporting table 16 shown in FIG. 4 is performed as follows. In this case, for the substrate 3 on which the electrode coating 12 is already printed as shown in FIG. 5, the resistance coating 11 is formed by using the printing mask of FIG.
A case of printing will be described. In FIG. 4, first, the first ceramic substrate 3
The support table 16 that has received (from the state shown in FIG. 1) from the substrate magazine 19 is sequentially transferred from the substrate receiving position and the recognition position to the printing position, and trial printing with the mask 10 is performed. At this time, as shown in FIGS. 6 and 7, the resistance coating 11 and the third recognition mark 14 are printed on the ceramic substrate 3 and then returned to the recognition position as they are. In this case, in the XY table 17, only the X-direction driving device is reciprocally driven, and therefore the mask 10
The printed pattern 13 of 1 is reproduced on the ceramic substrate 3 at the recognition position which is apart from the mask 10 by a certain distance in the X direction. Here, the optical recognition device 20 recognizes the third recognition marks 14 and 14, and thereby the X of the print pattern 13 is detected.
-Detect the postures in the Y direction and the θ direction and store them in a predetermined storage device. Print pattern 13 because two points are recognized
It is possible to detect not only the position in the X and Y directions but also the position in the θ direction. This includes, for example, two third recognition marks.
The coordinates of the center of the line segment connecting 14 and 14 (for example, this is made to correspond to the centroid of the print pattern 13) and the inclination of the line segment connecting the two third recognition targets 14 and 14 with respect to the Y axis (θ ) May be calculated from the binarized image. The above-mentioned first ceramic substrate 3 has a printed pattern 13
It is used only for detecting the posture of the robot, and is discharged and discarded after the above recognition is performed. The printing of the resistance coating 11 on the second and subsequent ceramic substrates 3 is performed as follows. The second ceramic substrate 3 from the substrate magazine 19 (first
The support table 16 that has received (in the state shown in the figure)
Transferred to the recognition position. Here, the optical recognition device 20
Recognizes the first recognition marks 7 and 7 and the second recognition marks 9 and 9 on the ceramic substrate 3 to determine the positions of the grid-shaped slits formed on the ceramic substrate in the X, Y and θ directions. To detect. For this, for example, the following method is used. That is, the position in the X direction of the first split grooves 6 ... That extends in the Y direction is particularly problematic, and the position of the second split grooves 8 ... That extends in the X direction is particularly problematic in the Y direction. , 7 to detect the position of the first split groove 6 in the X direction, and the second recognition marks 9 to detect the position of the second split groove 8 in the Y direction to detect the grid-shaped split grooves, that is, First split groove 6a, 6
The centroid coordinates of the rectangular region B surrounded by b and the second split grooves 8a, 8b at both ends can be obtained. Then, for example, by detecting the inclination of the line segment connecting the two points of the first recognition target 7, 7, it is possible to detect the deviation of the grid-shaped dividing grooves in the θ direction. As a result, it is possible to detect the positions of the grid-shaped split grooves in the X and Y directions and the θ direction. As described above, the postures of the print pattern 13 in the X and Y directions and the θ direction at the print position, in other words, the coordinates of the centroid of the print pattern 13 and the rotational deviation of the print pattern (the θ direction position).
Therefore, in order to make the grid-shaped dividing grooves on the substrate 3 moved from the recognition position to the printing position correspond to the printing pattern 13, the support table 16 is moved in the XY directions and θ.
You can see how to move in the direction. To this end, while the support table 16 shifts from the recognition position to the printing position, the center of the rectangular area B forming the grid-shaped dividing groove is aligned with the center of the printing pattern 13 by X.
After driving the Y table, the inclination of the area B (θ)
However, the rotary table 18 may be driven so as to match the inclination (θ) of the print pattern 13. When printing is performed after controlling the support table 16 in this way, the grid pattern formed by the dividing grooves and the printing pattern are accurately matched, and therefore, in the unit area A surrounded by each dividing groove, The resistance coating 11 is printed and formed at the correct position. After printing, the printed substrate 3 (in the state shown in FIGS. 6 and 7) is discharged by a predetermined discharging means, and the third and subsequent ceramic substrates 3 are discharged.
Are sequentially printed in the same manner as the above procedure. The electrode coating 12 has already been printed before printing the resistance coating 11. The same method as described above is applied to the printing of the electrode coating 12, and the identification mark 14 'in FIGS. 5 to 7 indicates the posture of the print pattern of the mask when the electrode coating 12 is printed. It is a recognition target for detection. Since the identification mark 14 'on the ceramic substrate 3 on which the electrode coating 12 is normally printed should have a fixed relationship with the pattern of the grid-shaped dividing grooves, therefore, when the resistance coating 11 is printed. It is also possible to use this recognition mark 14 'in place of the above-mentioned first and second recognition marks 7, 7, 9, 9 when detecting the attitude of the lattice-shaped dividing grooves of the ceramic substrate. Of course, the scope of the present invention is not limited to the above embodiments. The electronic device is not limited to a chip-type resistor, and can be applied to all electronic device manufacturing processes in which a thick film element is formed by a printing unit on a chip-type substrate to be manufactured. Further, in the embodiment, the X-direction drive mechanism of the X / Y table also has a function of reciprocating the support table 16 from the recognition position to the printing position by a predetermined distance.
The Y table or the rotary table may be reciprocally conveyed by a predetermined distance on a feeder that directly reciprocates. Further, in the embodiment, each recognition mark is formed at two locations. However, if the number of recognition marks is increased, for example, even variations in shrinkage during sintering of the ceramic substrate 3 itself are detected, and this substrate is further detected. It is also possible to increase the positioning accuracy of the printing pattern with respect to the.

【図面の簡単な説明】 図面は本発明の実施例を示し、第1図は本発明方法に使
用するセラミック基板の平面図、第2図は第1図のII−
II線に沿う拡大断面図、第3図は抵抗被膜印刷用印刷マ
スクの平面図、第4図は本発明方法に使用するセラミッ
ク基板支持テーブルの一例の概略構成斜視図、第5図は
電極被膜が印刷された状態でのセラミック基板の拡大
図、第6図は電極被膜と抵抗被膜が印刷された状態での
セラミック基板の平面図、第7図は第6図の拡大図、第
8図は従来方法の説明図、第9図は本発明方法が適用さ
れて製造される電子部品の一例であるチップ抵抗器の全
体拡大斜視図である。 3……基板、6,7,8,9……印刷位置パターン(6……第
一割り溝、7……第一認識標、8……第二割り溝、9…
…第二認識標)、10……印刷マスク、13……印刷パター
ン、14……(第三)認識標、16……支持テーブル、20…
…光学的認識装置。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The drawings show an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a plan view of a ceramic substrate used in the method of the present invention, and FIG. 2 is II- of FIG.
FIG. 3 is an enlarged sectional view taken along line II, FIG. 3 is a plan view of a printing mask for printing a resistance film, FIG. 4 is a schematic perspective view of an example of a ceramic substrate supporting table used in the method of the present invention, and FIG. 5 is an electrode film. FIG. 6 is an enlarged view of the ceramic substrate in the state in which is printed, FIG. 6 is a plan view of the ceramic substrate in which the electrode coating and the resistance coating are printed, FIG. 7 is an enlarged view of FIG. 6, and FIG. FIG. 9 is an explanatory view of a conventional method, and FIG. 9 is an overall enlarged perspective view of a chip resistor which is an example of an electronic component manufactured by applying the method of the present invention. 3 ... Substrate, 6,7,8,9 ...... Printing position pattern (6 ... First split groove, 7 ... First recognition mark, 8 ... Second split groove, 9 ...
… Second recognition mark), 10 …… Print mask, 13 …… Print pattern, 14 …… (Third) recognition mark, 16 …… Support table, 20…
… Optical recognition device.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】印刷位置パターンが施された基板をその印
刷パターンを認識する認識位置から印刷位置に順次移送
して、この基板に所定の印刷マスクにより厚膜印刷する
方法において、 上記印刷マスクに、厚膜を印刷すべき印刷パターンに対
して所定の位置関係が決定された認識標用パターンを設
けておき、 認識位置と、印刷位置間の一定距離を往復動可能であ
り、かつX・Y方向およびθ方向の姿勢を制御しうる支
持テーブルを設け、 (a) 認識位置にある上記支持テーブルに第一番目の
基板を載置して、支持テーブルを印刷位置に移動させて
この基板に印刷を行ない、かつそのまま支持テーブルを
認識位置に復帰させるステップ、 (b) 基板上に印刷された上記認識標を認識して、上
記印刷パターンの姿勢を検出するステップ、 からなる前準備を行なった後、 第2番目以降の基板は、 (c) 認識位置にある支持テーブルに載置した基板の
印刷位置パターンを認識することにより基板の姿勢を検
出するステップ、 (d) 上記ステップ(c)で検出された基板の姿勢と
上記ステップ(b)で得られた印刷パターンの姿勢との
比較において、上記印刷位置パターンが印刷パターンと
対応するように上記支持テーブルをX・Y方向およびθ
方向に位置制御するステップ、 (e) 位置制御されて印刷位置に移動した基板に対し
て所定の厚膜素子を上記印刷マスクにより印刷するステ
ップ、 (d) 厚膜印刷後の基板を排出するステップ、 を繰り返すようにしたことを特徴とする、 基板への厚膜印刷方法。
1. A method of sequentially transferring a substrate provided with a print position pattern from a recognition position for recognizing the print pattern to a print position and performing thick film printing on the substrate with a predetermined print mask, wherein the print mask is used. , A recognition target pattern in which a predetermined positional relationship is determined with respect to a printing pattern for printing a thick film is provided, the recognition position and the printing position can be reciprocally moved by a predetermined distance, and XY A support table that can control the orientation in the direction and the θ direction is provided, and (a) the first substrate is placed on the support table at the recognition position, the support table is moved to the printing position, and printing is performed on this substrate. And (b) recognizing the recognition mark printed on the substrate to detect the posture of the printing pattern, and returning the support table to the recognition position as it is. After the preliminary preparation, the second and subsequent substrates are (c) detecting the posture of the substrate by recognizing the printing position pattern of the substrate placed on the support table at the recognition position, (d) In comparison between the posture of the substrate detected in step (c) and the posture of the print pattern obtained in step (b), the support table is moved in the X and Y directions so that the print position pattern corresponds to the print pattern. And θ
Position control in the direction, (e) printing a predetermined thick film element on the substrate that has been position-controlled and moved to the printing position with the above print mask, (d) discharging the substrate after thick film printing A method for printing a thick film on a substrate, characterized in that the above steps are repeated.
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