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JPH0727932B2 - Prober device - Google Patents
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JPH0727932B2 - Prober device - Google Patents

Prober device

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JPH0727932B2
JPH0727932B2 JP61206308A JP20630886A JPH0727932B2 JP H0727932 B2 JPH0727932 B2 JP H0727932B2 JP 61206308 A JP61206308 A JP 61206308A JP 20630886 A JP20630886 A JP 20630886A JP H0727932 B2 JPH0727932 B2 JP H0727932B2
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JP
Japan
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probing
chuck
alignment mechanism
alignment
prober
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JP61206308A
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武敏 糸山
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Tokyo Electron Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明はシリコンウェハに作り込まれた半導体集積回路
の電気的特性を入出力端子(パッド)にプローブ針を接
触させてテストするためのプローバ装置に係り、特に複
数のプロービングエリアを有する。復合プロービングシ
ステムを可能とするプローバ装置に関する。
Description: TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention is a prober device for testing electrical characteristics of a semiconductor integrated circuit formed on a silicon wafer by bringing a probe needle into contact with an input / output terminal (pad). In particular, it has a plurality of probing areas. The present invention relates to a prober device that enables a combined probing system.

[発明の技術的背景] 現在、広く用いられているプローバ装置は、第3図及び
第4図に示すように主としてウェハを搬送するローダ部
11と、搬送されたウェハをアライメントするアライメン
ト機構12とウェハを測定のために水平駆動するプロービ
ング部13と、プローブ針と接触しているウェハ上のチッ
プを測定するテストヘッド14とから成り、プロービング
部13はウェハ15を搭載したチャックトップ16をXY軸方向
に駆動するチャックステージ17を備えている。このよう
なプローバ装置においては、ローダ部11よりチャックト
ップ16上に搬送されたウェハ15はアライメント機構12で
アライメントされた後、チャックステージ17でプローブ
針18と接触させながら、テストヘッド14により測定され
る。このようなプロービング工程はそれ自体で完結する
ものではなく、プロービングに続けて例えば不良品をマ
ーキングしたり冗長性(リダンダンシー)のあるチップ
(IC)の場合、修復を行うことがあり、更にプロービン
グ後の針跡やマーキングのインクなどを確認する工程が
必要である。そのためにプローバ装置にこれら工程を行
うための機能を付加したり、プローバ装置とは別にこれ
らの工程を行うための装置を設けたりしているが、いず
れの場合もウェハを測定、処理するのに長時間を要し高
速化の妨げとなっている。
[Technical Background of the Invention] A prober device that is widely used at present is a loader unit that mainly conveys wafers as shown in FIGS. 3 and 4.
11, the alignment mechanism 12 for aligning the conveyed wafer, the probing unit 13 for horizontally driving the wafer for measurement, and the test head 14 for measuring the chip on the wafer which is in contact with the probe needle. The unit 13 includes a chuck stage 17 that drives a chuck top 16 on which a wafer 15 is mounted in the XY axis directions. In such a prober device, the wafer 15 transferred from the loader unit 11 onto the chuck top 16 is aligned by the alignment mechanism 12, and then measured by the test head 14 while contacting the probe needle 18 with the chuck stage 17. It Such a probing process is not completed by itself. For example, in the case of marking a defective product or a chip (IC) with redundancy (redundancy), it may be repaired after the probing. It is necessary to check the needle marks and marking ink. For that purpose, the prober device is provided with a function for performing these steps, and a device for performing these steps is provided separately from the prober device. It takes a long time and hinders speeding up.

又、このようなプローバ装置におけるアラインメント機
構は一般にレーザーあるいはCCDによるパターン認識に
よってウェハをアラインメントさせており、非常に高価
でプローバ装置全体の価格を上昇させる要素となってい
る。
The alignment mechanism in such a prober apparatus generally aligns wafers by pattern recognition by a laser or CCD, which is very expensive and is a factor for increasing the price of the entire prober apparatus.

[発明の目的] 本発明は上記従来の問題点に鑑みなされたもので、高速
プロービング及び複号プロービングが可能で且つ低価格
の高速デバイス用プローバ装置を提供せんとするもので
ある。
[Object of the Invention] The present invention has been made in view of the above conventional problems, and an object of the present invention is to provide a low-cost prober apparatus for a high-speed device, which is capable of high-speed probing and compound probing.

[発明の概要] このような目的を達成するために、本発明のプローバ装
置においては、1つのアラインメント機構に対し複数種
のウェハを載置し、複数のプロービングを可能にすると
ともにアラインメント部にアームを設けることにより複
数のプロービング部間でのウェハの搬送を可能にしたこ
とを特徴とし、例えばウェハを搬送するローダ部、該搬
送されたウェハをアラインメントするアラインメント機
構、該アラインメント機構に隣接する複数のプロービン
グ部及び該複数のプロービング部にそれぞれ設置される
テストヘッドから成るものである。
[Summary of the Invention] In order to achieve such an object, in the prober apparatus of the present invention, a plurality of types of wafers are placed on one alignment mechanism to enable a plurality of probings and an arm is provided in the alignment section. Is provided to enable wafers to be transferred between a plurality of probing units. For example, a loader unit for transferring wafers, an alignment mechanism for aligning the transferred wafers, and a plurality of adjacent units to the alignment mechanism. The probe head comprises a probing section and test heads respectively installed on the plurality of probing sections.

[発明の実施例] 以下、本発明の好ましい実施例を図面に基き説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例であるダブルプローバ装置
の全体を示す図で、ローダ部1、1′は装置の左右両側
に配備される。ローダ部1、1′はそれぞれ1〜4カセ
ット(1カセットにウェハ1〜25枚)収納し、ビルドア
ップ構造で左右選択可能になっている。アラインメント
機構2は装置のほぼ中央部に位置し、レーザアラインメ
ント法等の公知のアラインメント法によりXY軸とウェハ
のスクラブラインの位置合わせを行う。プロービング部
3、3′はアラインメント機構2の両側に2つ設けら
れ、第2図に示すようにそれぞれ独立に動作可能なチャ
ックトップ4及び4′とそれらチャックトップ4及び
4′をXY軸に沿って駆動するチャックステージ(図示せ
ず)を有する。これらチャックステージの上部にはリン
グインサート5、5′機構を備えたヘッドプレートが配
設される。リングインサート機構5、5′はウェハ上の
チップのパッドと接触する針を備えたプローブカードを
装着する。ローダ部1、1′とチャックトップ4又は
4′との間のウェハの搬送は上下、前後に移動するバキ
ュームピンセットと180度回転する第1のアームである
トランスアームによって行う。これら搬送機構は公知の
ものなので説明を省略する。チャックトップ4とチャッ
クトップ4′間のウェハの搬送は180度回転する第2の
アームであるトランスアーム6によって行う。各プロー
ビング部3、3′の上方にヒンジ部を中心に回動するテ
ストヘッド7、7′がそれぞれ設置される(第1図では
テストヘッド7、7′は後方の待機位置にある)。そし
て各プロービング部3、3′後方にはそれらのテストヘ
ッド7、7′の重量(30〜100Kg)を軽減するためのテ
ストヘッド軽減機構8、8′が設置される。テストヘッ
ド軽減機構8はスプリング、バランサーなどから成る。
FIG. 1 is a diagram showing the entire double prober apparatus according to an embodiment of the present invention, in which loader parts 1 and 1'are arranged on both left and right sides of the apparatus. Each of the loader parts 1 and 1 ′ accommodates 1 to 4 cassettes (1 cassette to 1 to 25 wafers), and the left and right can be selected by a build-up structure. The alignment mechanism 2 is located substantially in the center of the apparatus, and aligns the XY axes with the wafer scrub line by a known alignment method such as a laser alignment method. Two probing parts 3 and 3'are provided on both sides of the alignment mechanism 2, and as shown in FIG. 2, chuck tops 4 and 4'which can be operated independently and those chuck tops 4 and 4'are arranged along the XY axis. It has a chuck stage (not shown) that is driven by. A head plate having ring inserts 5 and 5'mechanisms is arranged above the chuck stages. The ring insert mechanism 5, 5'mounts the probe card with the needle that contacts the pad of the chip on the wafer. Wafers are transferred between the loader parts 1 and 1'and the chuck tops 4 or 4'by vacuum tweezers that move up and down and back and forth and a transformer arm that is a first arm that rotates 180 degrees. Since these transfer mechanisms are known, their description is omitted. The transfer of the wafer between the chuck top 4 and the chuck top 4'is performed by a transformer arm 6 which is a second arm rotating 180 degrees. Test heads 7 and 7'rotating around a hinge portion are installed above the respective probing portions 3 and 3 '(in FIG. 1, the test heads 7 and 7'are in a rear standby position). Further, behind the respective probing portions 3 and 3 ', test head reducing mechanisms 8 and 8'for reducing the weight (30 to 100 kg) of the test heads 7 and 7'are installed. The test head reducing mechanism 8 includes a spring and a balancer.

テストヘッド軽減機構8、8′の間に、マイクロスコー
プ9の支柱が配設される。マイクロスコープ9は、測定
開始時にオペレーターがチップパッドとプローブ針の位
置合わせを行う時に用いられるもので、両プロービング
部3、3′に共通とする。プロービング部3、3′前面
には共通の操作パネル10が設けられている。電源及びコ
ントローラは両プロービング部3、3共通である。
A column of the microscope 9 is arranged between the test head reducing mechanisms 8 and 8 '. The microscope 9 is used when the operator aligns the tip pad and the probe needle at the start of measurement, and is common to both probing sections 3 and 3 '. A common operation panel 10 is provided on the front surfaces of the probing units 3 and 3 '. The power supply and the controller are common to both probing units 3 and 3.

以上のような構成において、ウェハの流れを説明する。
まず、ローダ部1のカセットに収納されたウェハは、ピ
ンセットアームによって1枚ずつ取り出されサブチャッ
ク(図示せず)上に載置された後、トランスアームによ
ってプロービング部3のチャックトップ4上に載置され
る。次いでチャックトップ4はアラインメント機構2に
移動し、ここで、チャックステージのXY軸とウェハのス
クラブラインが一致するようにファインアラインメント
された後、チャックステージでプロービングが開始され
る。これと並行して、もう一方のローダ部1′よりチャ
ックトップ4′にウェハを搬送し、アラインメント機構
2でアラインメントし、もう一方のチャックステージで
もプロービングを行う。
The flow of the wafer in the above configuration will be described.
First, the wafers stored in the cassette of the loader unit 1 are taken out one by one by a tweezer arm and placed on a sub chuck (not shown), and then mounted on the chuck top 4 of the probing unit 3 by the transformer arm. Placed. Next, the chuck top 4 moves to the alignment mechanism 2, where fine alignment is performed so that the XY axis of the chuck stage and the scrub line of the wafer coincide with each other, and then probing is started on the chuck stage. In parallel with this, the wafer is transferred from the other loader unit 1'to the chuck top 4 ', aligned by the alignment mechanism 2, and probing is also performed on the other chuck stage.

このように、アラインメントのみを左右交互に行わせ、
プロービングは並行して行うことにより、プロービング
時間を大幅に短縮できる。
In this way, only the alignment is performed alternately on the left and right,
Probing in parallel can significantly reduce probing time.

以上の説明においては、両プロービング部3、3′で平
行してプロービングを行うようにしているが、プロービ
ング部3、3′にマーキングシステム(不良チップにイ
ンクで印をつける)、インクスペクションシステム(針
跡及びマーキングのインクをパターン認識するシステ
ム)、EPROM用の紫外線照射システムあるいはリダンダ
ンシーシステム(冗長性のあるICの修復システム)等を
付加することにより、一方のプロービング部でプロービ
ングを行った後、トランスアーム6でプロービング後の
ウェハを他方のプロービング部に搬送して、他方のプロ
ービング部でマーキング、インスペクション、EPROM用
チップの紫外線照射あるいはICの修復等を行う復号シス
テムも可能である。
In the above description, probing is performed in parallel on both probing parts 3 and 3 ', but a marking system (marking defective chips with ink), an ink inspection system on the probing parts 3 and 3'. After probing with one of the probing parts by adding (a system for recognizing the ink of needle marks and markings), an ultraviolet irradiation system for EPROM, or a redundancy system (a system for repairing redundant ICs) It is also possible to use a decoding system in which the wafer after probing by the trans arm 6 is transferred to the other probing unit, and the other probing unit performs marking, inspection, ultraviolet irradiation of the EPROM chip, or IC repair.

[発明の効果] 以上の説明からも明らかなように本発明のプローバ装置
においては、一つのアラインメント機構に対し複数のプ
ロービング部を設けたので、高価なアラインメント機構
を一つで従来のプローバ複数台分の機能を待たせること
ができ、全体として低価格なプローバ装置を提供でき
る。
[Effects of the Invention] As is clear from the above description, in the prober device of the present invention, since a plurality of probing portions are provided for one alignment mechanism, one expensive alignment mechanism is used for a plurality of conventional probers. It is possible to make the minute function wait, and to provide a low-priced prober device as a whole.

更に複数のプロービング部によって並行プロービングを
行うことができるのでプロービング時間が大幅に短縮さ
れる。
Further, since the parallel probing can be performed by the plurality of probing units, the probing time is greatly shortened.

又、アラインメント機構にウェハを搬送する手段を設け
ると共にプロービング部にマーキング、インスペクショ
ン等の付帯機能を配備することにより、復号プロービン
グシステムが可能となる。
Further, the decoding probing system can be realized by providing the alignment mechanism with a means for transporting the wafer and providing the probing part with additional functions such as marking and inspection.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明のプローバ装置の一実施例の斜視図、第
2図は同平面図、第3図及び第4図は従来のプローバ装
置の斜視図である。 1、1′……ローダ部 2……アラインメント機構 3、3′……プロービング部 4、4′……チャックトップ 5、5′……リングインサート機構 6……トランスアーム 7、7′……テストヘッド 8、8′……テストヘッド軽減機構 9……マイクロスコープ 10……操作パネル
FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of a prober device of the present invention, FIG. 2 is a plan view thereof, and FIGS. 3 and 4 are perspective views of a conventional prober device. 1, 1 '... loader unit 2 ... alignment mechanism 3, 3' ... probing unit 4, 4 '... chuck top 5, 5' ... ring insert mechanism 6 ... transformer arm 7, 7 '... test Heads 8 and 8 '... Test head reduction mechanism 9 ... Microscope 10 ... Operation panel

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体ウェハを収納するカセットを複数収
納可能なローダ部と、前記半導体ウェハを載置するチャ
ックを備えこのチャックをXY軸方向に駆動して位置合わ
せを行ない前記半導体ウェハをプローブ針に接触させて
試験を行なうプロービング部と、前記半導体ウェハを前
記ローダ部の前記カセットより前記プロービング部のチ
ャック上に搬送する第1のアームと、前記チャック上に
載置された前記半導体ウェハのアラインメントを行なう
アラインメント機構とを備えたプローバ装置において、
1つのアラインメント機構が前記プローブ装置の中央部
に配置されるとともに、このアラインメント機構に隣接
して複数のプロービング部が設けられ、前記アラインメ
ント機構に1つのプロービング部のチャックと他のプロ
ービング部のチャックとの間で前記半導体ウェハの搬送
を行なう第2のアームとを具備したことを特徴とするプ
ローバ装置。
1. A loader unit capable of accommodating a plurality of cassettes for accommodating semiconductor wafers, and a chuck for accommodating the semiconductor wafers. The chucks are driven in the XY axis directions to perform alignment, and the semiconductor wafers are probed. And a first arm for carrying the semiconductor wafer onto the chuck of the probing unit from the cassette of the loader unit, and an alignment of the semiconductor wafer placed on the chuck. In a prober device having an alignment mechanism for
One alignment mechanism is arranged in the central portion of the probe device, and a plurality of probing portions are provided adjacent to the alignment mechanism. The alignment mechanism includes a chuck of one probing portion and a chuck of another probing portion. And a second arm for carrying the semiconductor wafer between the prober devices.
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