JPH0731130B2 - Recognition device - Google Patents
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- JPH0731130B2 JPH0731130B2 JP27009787A JP27009787A JPH0731130B2 JP H0731130 B2 JPH0731130 B2 JP H0731130B2 JP 27009787 A JP27009787 A JP 27009787A JP 27009787 A JP27009787 A JP 27009787A JP H0731130 B2 JPH0731130 B2 JP H0731130B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明ははんだ付部検査装置やプリント板パターン検査
装置などの対象物の特徴を認識する認識装置に係り、特
に対象物の反射光や透過光のばらつきの影響を除去して
信頼性よく認識するに好適な認識装置に関する。The present invention relates to a recognition device for recognizing characteristics of an object such as a soldering part inspection device and a printed board pattern inspection device, and in particular, reflected light and transmission of the object. The present invention relates to a recognition device suitable for reliable recognition by removing the influence of light variations.
従来の認識装置の一例としてはんだ付部検査装置があ
る。このはんだ付部検査装置は特開昭60−85363号に記
載のように、部品リードのはんだ付部に乱流空気噴流や
交流磁石などにより非接触で外力を加えて部品リードを
加振し、そのとき浮きリードに生じる振動や移動や変形
などの変化を部品リードへのレーザ光の照射により生じ
るスペックルを観測することにより検出し、その変化が
検出された場合にリード浮き欠陥があるものと判定する
方法を用いたものがある。このレーザ・スペツクルによ
る対象物の振動や移動や変形などの検出は次のような原
理になる。いま部品リードのはんだ付部にレーザ光を照
射して光学センサで観ると、レーザ・スペツクルとよば
れるコントラストの強い斑点が観測される。このレーザ
・スペツクルはランダムな回折格子と見なせる微小な凹
凸を持つ対象物表面に照射されたレーザ光がこの回折格
子により回折をおこして、回折光が相互干渉することに
より発生する。このスペツクルは対象物が移動すればそ
れにつれて移動するため、レーザ・スペツクルの分布や
移動を光学センサで観測することにより、対象物の振動
や移動や変形などを検出できる。An example of a conventional recognition device is a soldered part inspection device. As described in JP-A-60-85363, this soldering portion inspection device vibrates the component leads by applying non-contact external force to the soldering portions of the component leads by a turbulent air jet or an AC magnet. At that time, changes such as vibration, movement, and deformation that occur in the floating leads are detected by observing speckles generated by irradiating the component leads with laser light, and if such changes are detected, there is a lead floating defect. There is a method using a judgment method. Detection of vibration, movement, deformation, etc. of an object by this laser speck is based on the following principle. Now, when irradiating laser light to the soldered part of the component lead and observing it with an optical sensor, spots with a strong contrast called a laser speck are observed. This laser speckle is generated by the fact that laser light irradiated on the surface of an object having minute irregularities that can be regarded as a random diffraction grating is diffracted by this diffraction grating and the diffracted lights interfere with each other. Since this speckle moves along with the movement of the object, it is possible to detect the vibration, movement or deformation of the object by observing the distribution and movement of the laser speckle with an optical sensor.
いま第3図に示すような検査対象であるフラットパッケ
ージ形部品はんだ付部において、基板1上の配線パター
ン2とフラットパッケージ形部品3の部品リード4とが
はんだ付により接合されている場合には、その接合状態
によって部品リード4の弾性的性質が異なる。このため
配線パターン2と部品リード4のはんだ付部に例えば空
気ノズルより乱流空気噴流を噴出させて外力を加え、そ
のとき部品リード4に発生する振動や移動や変形などの
変化を検出することにより、はんだ付部の接合状態の異
常すなわち欠陥を検出することができる。この場合に光
学センサとして入射光量の時間積分したものを検出する
蓄積形のセンサを用いて振動しているレーザ・スペツク
ルを観測すると、スペツクルの位置が振動しているとき
に蓄積時間を振動周期以上にとれば任意の一点の検出光
量はほぼ場所に依存しない一定値となる。このため第4
図に示す空気噴流噴射前後の浮きリードのスペツクル像
については、振動していないスペツクルに対する検出光
量の分布は第4図(a)に示すようにコントラストの強
いスペツクルが観測されるが、振動しているスペツクル
に対しては第4図(b)に示すようにコントラストのな
いぼけた像が観測される。また移動するスペツクルに対
しては移動前後で異ったスペツクル像が検出される。こ
のようなスペツクル像のコントラストとスペツクル像の
変化を検出する方式を用いて、はんだ付部の接合状態の
欠陥判定を行う。When the wiring pattern 2 on the substrate 1 and the component lead 4 of the flat package type component 3 are soldered to each other in the flat package type component soldering portion to be inspected as shown in FIG. The elastic property of the component lead 4 varies depending on the joint state. Therefore, for example, a turbulent air jet is ejected from the air nozzle to the soldered portion of the wiring pattern 2 and the component lead 4 to apply an external force, and the change such as vibration, movement, or deformation occurring in the component lead 4 at that time is detected. This makes it possible to detect an abnormality in the joining state of the soldered portion, that is, a defect. In this case, when observing a vibrating laser speck using an accumulating sensor that detects the time-integrated amount of incident light as an optical sensor, the accumulating time is equal to or longer than the vibration period when the position of the speck is vibrating. Therefore, the detected light quantity at any one point is a constant value that is almost independent of location. Therefore, the fourth
Regarding the speckle image of the floating lead before and after the jet of air jet shown in the figure, the distribution of the detected light quantity with respect to the non-vibrating speckle is that the speckle with strong contrast is observed as shown in FIG. As shown in FIG. 4 (b), a blurred image with no contrast is observed with respect to the present speckle. In addition, a different speckle image is detected before and after the moving speckle. By using such a method of detecting the contrast of the speckle image and the change of the speckle image, the defect of the joining state of the soldered portion is determined.
また従来の認識装置の他の例としてプリント板のパター
ン検査装置がある。この反射光を利用したプリント板の
パターン検出装置は水銀灯などの光源を用いてプリント
板を照射し、その反射光をリニアイメージセンサで検出
する。この場合にプリント板を載せたテーブルをスキャ
ンしてプリント板の2次元像を検出することにより、設
計情報や他パターンと比較したり欠陥の特徴を抽出した
りして欠陥判定を行う方法を用いている。Another example of the conventional recognition device is a pattern inspection device for a printed board. A pattern detection device for a printed board using this reflected light irradiates the printed board with a light source such as a mercury lamp and detects the reflected light with a linear image sensor. In this case, a method of performing defect determination by scanning a table on which the printed board is mounted and detecting a two-dimensional image of the printed board to compare with design information and other patterns and to extract characteristics of defects is used. ing.
また従来の認識装置のその他の例として透過率が大幅に
ばらつく対象物上のパターンや外形などを認識する場合
もある。Further, as another example of the conventional recognition device, there is a case of recognizing a pattern, an outer shape, or the like on an object whose transmittance greatly varies.
上記従来技術は、一般にはんだ付部や銅はくパターンな
どの金属光沢を持つ対象物の表面の法線方向の違いによ
り、光照射による反射光をリニアイメージセンサなどの
光学センサで検出する場合のセンサへの入射光量が大幅
にばらつき、また同じ法線方向を持つ表面でもはんだ付
部を場合にはフラックス残留やはんだ面のくもりなどで
銅はくパターンの場合にはパターンきずなどにより、表
面状態の影響でセンサへの入射光量がばらつくことがあ
り、また透過率の大幅に異る対象物の場合にも同様に入
射光量がばらつくが、装置としてこのような入射光量の
ばらつきに対処できる構成となっていない。このため入
射光量のばらつきがそのまま検出光量のばらつきとなっ
て誤認識の原因となる。またこれを防ぐためには対象物
を認識装置で認識する前につや消剤を塗布して入射光量
のばらつきを低減させる工程を追加したり、または前工
程を改善してパターンきずの発生をなくすなどの工夫が
必要であるなどの問題があった。The above-mentioned conventional technique is generally used when an optical sensor such as a linear image sensor detects reflected light due to light irradiation due to the difference in the normal direction of the surface of an object having a metallic luster such as a soldered part or a copper foil pattern. The amount of light incident on the sensor greatly varies, and even if the surface has the same normal direction, the surface condition may be due to flux residue when the soldered part is present, or due to clouding of the solder surface, etc. The amount of incident light on the sensor may vary due to the influence of, and the amount of incident light also varies in the case of an object having a significantly different transmittance, but the device can handle such variation in the amount of incident light. is not. For this reason, the variation in the incident light amount becomes the variation in the detected light amount as it is, which causes erroneous recognition. In order to prevent this, before the object is recognized by the recognition device, a step of applying a matting agent to reduce the variation in the amount of incident light is added, or the previous step is improved to eliminate the occurrence of pattern flaws. There was a problem such as the need to devise.
本発明の目的は大幅な入射光量のばらつきがある対象物
の特徴を信頼性高く認識できるはんだ付部検査装置やプ
リント板パターン検査装置などの認識装置を提供するに
ある。An object of the present invention is to provide a recognition device such as a soldering part inspection device or a printed board pattern inspection device that can reliably recognize the characteristics of an object having a large variation in the amount of incident light.
上記目的は、対象物の特徴を認識する認識装置におい
て、対象物からの反射光または透過光を検出するセンサ
の前または投光系に偏光板および旋光性を持つ液晶素子
からなり該液晶素子の複数個ならんだ各画素への印加実
効電圧を変えることにより各画素ごとの透過率を制御で
きる光量制御フィルタを設置し、上記液晶素子の各画素
に対応するモニタ用センサの各部の検出光量に基づいて
上記センサへの入射光量が各部で適正となるように上記
液晶素子の各画素への印加実効電圧を制御するフィルタ
制御部を備えた認識装置により達成される。The above-mentioned object is, in a recognition device for recognizing the characteristics of an object, comprising a polarizing plate and a liquid crystal element having optical rotatory property in front of a sensor for detecting reflected light or transmitted light from the object or in a light projecting system A light amount control filter that can control the transmittance of each pixel by changing the effective voltage applied to each pixel is set, and based on the detected light amount of each part of the monitor sensor corresponding to each pixel of the liquid crystal element. This is achieved by a recognition device provided with a filter control unit that controls the effective voltage applied to each pixel of the liquid crystal element so that the amount of light incident on the sensor becomes appropriate at each unit.
上記認識装置の光量制御フィルタを制御するフィルタ制
御部は、対象部を照明した反射光または透過光をモニタ
するモニタ用センサで検出した各部の入射光量bi(iは
液晶素子の各画素に対応するインデックス)に応じて、
あらかじめ求められた関係式により液晶素子の各画素へ
の印加実効電圧eiを決定し、該実効電圧eiを液晶素子の
各画素に印加することにより、光量制御フィルタの各画
素の透過率を所定透過率に制御して、センサへの適正な
入射光量がえられるので信頼性高い対象物の認識ができ
る。なお上記の関係式については、センサの検出光量の
均一化をはかる場合には、あらかじめ求めておいた光量
制御フィルタの液晶素子の印加実効電圧eと透過率bと
の関係e(b)を用いて、次式により液晶素子の各画素
への印加実効電圧eiを決定する。The filter control unit that controls the light amount control filter of the recognition device has an incident light amount bi (i corresponds to each pixel of the liquid crystal element) of each unit detected by a monitor sensor that monitors reflected light or transmitted light that illuminates the target unit. According to the index)
By determining the effective voltage ei applied to each pixel of the liquid crystal element by the relational expression obtained in advance, and applying the effective voltage ei to each pixel of the liquid crystal element, the transmittance of each pixel of the light quantity control filter is transmitted to a predetermined value. It is possible to obtain a proper amount of incident light on the sensor by controlling the rate of the light, so that it is possible to recognize the object with high reliability. Regarding the above relational expression, in order to make the detected light amount of the sensor uniform, the relation e (b) between the effective voltage e applied to the liquid crystal element of the light amount control filter and the transmittance b is used. Then, the effective voltage ei applied to each pixel of the liquid crystal element is determined by the following equation.
b=b0×b1/bi ei=e(b) ここでb1は目標検出光量、b0はモニタ用センサと(検出
用)センサの検出光量が同一となる光量制御フィルタの
透過率である。またセンサの過大光量の除去をはかる場
合には、モニタ光量biが一定値bth以上になるとセンサ
が飽和してブルーミングを起す可能性があるため光量制
御フィルタの透過率を落して検出光量を低下させ、その
他のときにはあらかじめ決めた一定値とするように、次
式により印加実効電圧eiを決定する。b = b 0 × b 1 / bi ei = e (b) where b 1 is the target detected light amount, b 0 is the transmittance of the light amount control filter where the detected light amount of the monitor sensor and the (detection) sensor are the same. is there. In addition, when removing the excessive light amount of the sensor, if the monitor light amount bi exceeds a certain value bth, the sensor may be saturated and blooming may occur.Therefore, the transmittance of the light amount control filter may be reduced to reduce the detected light amount. In other cases, the applied effective voltage ei is determined by the following equation so as to have a predetermined constant value.
bi≧bth のとき ei=ea bi≧bth のとき ei=eb ここでbthはあらかじめ設定したしきい値、eaは光量過
大のときに適正透過率となる実効電圧、ebは光量適正の
ときに設定透過率となる実効電圧である。When bi ≧ bth ei = ea When bi ≧ bth ei = eb where bth is a preset threshold value, ea is the effective voltage that gives the appropriate transmittance when the light amount is excessive, and eb is set when the light amount is appropriate. It is the effective voltage that is the transmittance.
以下に本発明の実施例を第1図から第8図により説明す
る。An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
第1図は本発明による認識装置の第1の実施例を示すは
んだ付部検査装置の構成図である。この認識装置はプリ
ント基板1上に形成された配線パターン2とフラットパ
ッケージ形部品3に設けた複数本の部品リード4とのは
んだ付部の浮き欠陥を判定するために用いられるはんだ
付部検査装置である。FIG. 1 is a block diagram of a soldering portion inspection device showing a first embodiment of a recognition device according to the present invention. This recognition device is a soldering part inspection device used to determine a floating defect in a soldering part between a wiring pattern 2 formed on a printed circuit board 1 and a plurality of component leads 4 provided on a flat package type component 3. Is.
このはんだ付部検査装置は、乱流空気噴流を検査対象物
である複数本の部品リード4のはんだ付部に吹きつけて
接合されていない浮きリードを加振する空気ノズル5と
噴射した空気圧力を検知するエア圧力センサ6を用いた
加振系と、はんだ付部にレーザ光を照射するレーザ7と
レンズ系8とハーフミラー9からなるレーザ光照射光学
系と、レーザ・スペツクルを観測するためデフオーカス
位置に像面を設定した集光光学系10とスペツクルを観測
する光学センサである蓄積形の判定用リニアイメージセ
ンサ11とこのリニアイメージセンサで検出するスペツク
ル波形を走査して2次元スペツクル像を求めてこのスペ
ツクル像をもとに検査すべき部品リード位置を決定する
ためのガルバノミラー12と検出光の一部を分離するハー
フミラー13と分離された検出光を検出するモニタ用セン
サ14とモニタ用センサで検出した検出光をもとに個別リ
ードの検出光を適正化する詳細後述の液晶を用いた光量
制御フィルタ15からなる検出光学系と、検査対象物を位
置決めするXYテーブル16と、空気噴流の制御と噴流の噴
射タイミングの検出を行なう噴流制御部17と判定用リニ
アイメージセンサの駆動とセンサ信号の抽出を行なうセ
ンサ駆動回路18とガルバノミラーのスキャニングと検出
するリード位置での停止を行なうガルバノミラー制御部
19とモニタ用センサを駆動するモニタ制御部20とモニタ
用センサ14で検出した光量をもとに透過率制御可能な光
量制御フィルタ15の各画素ごとの透過率を制御するフィ
ルタ制御部21とテーブル制御部22と判定用リニアイメー
ジセンサ11で検出したスペツクル波形をもとにリード浮
き欠陥の判定を行なう欠陥判定部23と全体制御部24から
なる制御部25により構成される。This soldering part inspection device sprays a turbulent air jet onto the soldering parts of a plurality of component leads 4 which are inspection objects, and vibrates floating leads that are not joined together In order to observe the vibration system using the air pressure sensor 6 for detecting the temperature, the laser light irradiation optical system including the laser 7 for irradiating the soldered portion with the laser light, the lens system 8 and the half mirror 9, and the laser speckle. A condensing optical system 10 with an image plane set at the defocused position, a linear image sensor 11 for accumulation determination that is an optical sensor for observing the speckle, and a speckle waveform detected by this linear image sensor are scanned to form a two-dimensional speckle image. The galvano mirror 12 for determining the component lead position to be inspected based on this speckle image and the half mirror 13 for separating a part of the detection light are separated. A detection optical system including a light amount control filter 15 using a liquid crystal described later in detail for optimizing the detection light of the individual leads based on the detection light detected by the monitor sensor 14 and the monitor sensor that detects the detection light, An XY table 16 for positioning the inspection object, a jet control unit 17 for controlling the air jet and detecting the jet timing of the jet, a sensor drive circuit 18 for driving the determination linear image sensor and extracting the sensor signal, and a galvano mirror. Galvanometer mirror control unit for scanning and stopping at the lead position for detection
19, a monitor controller 20 that drives the monitor sensor, a filter controller 21 that controls the transmittance of each pixel of a light amount control filter 15 that can control the transmittance based on the amount of light detected by the monitor sensor 14, and a table. The control unit 22 and a defect determination unit 23 that determines a lead floating defect based on the spectrum waveform detected by the determination linear image sensor 11 and a control unit 25 including an overall control unit 24 are included.
上記構成による検査の全体動作について説明する。まず
検査に先立って制御部25の全体制御部24からの指令によ
り各制御部17〜23の初期化を行ない、その後に以下の動
作を繰り返して検査を行なう。まずテーブル制御部23に
よりXYテーブル16を駆動して検査対象であるフラットパ
ッケージ形部品3の一辺の部品リード4を検査位置に位
置決めする。なおこのさい後述のようにフラットパッケ
ージ形部品3の一辺に設けられた複数本のリード4のは
んだ付部を同時に検査可能である。ついでガルバノミラ
ー制御部19からの指令によりガルバノミラー12をスキャ
ン動作させ、各ガルバスキャン位置yにおいてモニタ制
御部20により駆動されるモニタ用センサ14で検出された
光量の和を求め、最大光量和のスキャン位置ymにガルバ
ノミラー12を位置決めする。つぎにモニタ用センサ14の
検出光量にもとづき詳細後述の方法で光量制御フィルタ
15の液晶素子の各画素への実効電圧を決定して印加し、
光量制御フィルタ15の各画素の透過率を個別に制御す
る。ついで噴流制御部17からの指令により空気ノズル5
から検査対象物に空気噴流を噴射するとともにエア圧力
センサ6で噴射圧力のモニタを行ない、噴射圧力があら
かじめ決めたしきい値を越えて所定時間が経過した時を
検出タイミングとしてとらえ、この時点でセンサ駆動回
路18により駆動される判定用リニアイメージセンサ11か
ら検出されたスペツクル波形を空気噴射後の波形として
センサ駆動回路18から欠陥判定部23に取り込み、この波
形とあらかじめ検出した空気噴射前のスペツクル波形と
から詳細後述の方法により欠陥判定を行なう。The overall operation of the inspection with the above configuration will be described. First, prior to the inspection, the respective control units 17 to 23 are initialized by a command from the overall control unit 24 of the control unit 25, and then the following operation is repeated to perform the inspection. First, the table controller 23 drives the XY table 16 to position the component lead 4 on one side of the flat packaged component 3 to be inspected at the inspection position. At this time, as described later, the soldered portions of the plurality of leads 4 provided on one side of the flat package type component 3 can be inspected at the same time. Then, the galvano mirror 12 is scanned according to a command from the galvano mirror control unit 19, and the sum of the light amounts detected by the monitor sensor 14 driven by the monitor control unit 20 at each galvano scanning position y is calculated to obtain the maximum sum of light amounts. Position the galvanometer mirror 12 at the scan position ym. Next, based on the light amount detected by the monitor sensor 14, a light amount control filter will be described in detail later.
Determine and apply the effective voltage to each pixel of the 15 liquid crystal elements,
The transmittance of each pixel of the light quantity control filter 15 is individually controlled. Then, in response to a command from the jet control unit 17, the air nozzle 5
From the above, an air jet is jetted to the inspection object and the air pressure sensor 6 monitors the jet pressure, and when the jet pressure exceeds a predetermined threshold value and a predetermined time elapses, it is regarded as a detection timing. The speckle waveform detected by the determination linear image sensor 11 driven by the sensor drive circuit 18 is taken into the defect determination unit 23 from the sensor drive circuit 18 as a waveform after air injection, and this waveform and the previously detected speckle before air injection Defects are determined from the waveform and the method described later in detail.
第2図は第1図の液晶を用いた光量制御フィルタ15とそ
の制御系の構成図である。この判定用リニアイメージセ
ンサ11の前に設置された光量制御フィルタ15は、入射光
の偏光面をそろえるための偏光板26と旋光性を持ち複数
個ならんだ短冊形画素27−1,27−2,…,27−nの各電極
への実効電圧を変えることにより旋光量を制御できる液
晶素子27と旋光成分以外の光を透過させる偏光板28から
なり、判定用リニアイメージセンサ11の1画素または数
画素に液晶素子27の1画素を対応させ、フィルタ制御部
21によりモニタ用センサ14の各部の検出光量にもとづき
液晶素子27の各画素への印加実効電圧を変えて各画素ご
との透過光量を変えることにより、各画素に対応する判
定用リニアイメージセンサ11の各部の入射光量を制御す
ることができる。このため一方のモニタ用センサ14は判
定用リニアイメージセンサ11または光制御フィルタ15と
対応する位置またはその近傍に設置され、入射光の一部
をハーフミラー13により分離して光量制御フィルタ15を
介さない場合の検出光量の概略を知ることができる。FIG. 2 is a block diagram of the light amount control filter 15 using the liquid crystal of FIG. 1 and its control system. The light quantity control filter 15 installed in front of the determination linear image sensor 11 has a polarizing plate 26 for aligning the polarization planes of incident light and a plurality of strip-shaped pixels 27-1, 27-2 having optical rotatory power. , ..., 27-n is composed of a liquid crystal element 27 that can control the amount of optical rotation by changing the effective voltage to each electrode, and a polarizing plate 28 that transmits light other than the optical rotation component. One pixel of the judgment linear image sensor 11 or Corresponding to one pixel of the liquid crystal element 27 to several pixels, filter control unit
By changing the effective voltage applied to each pixel of the liquid crystal element 27 based on the detected light amount of each part of the monitor sensor 14 by 21 to change the transmitted light amount of each pixel, the determination linear image sensor 11 corresponding to each pixel is changed. The amount of incident light on each part can be controlled. Therefore, one monitor sensor 14 is installed at a position corresponding to the judgment linear image sensor 11 or the light control filter 15 or in the vicinity thereof, and a part of the incident light is separated by the half mirror 13 to pass through the light amount control filter 15. It is possible to know the outline of the detected light amount when there is no light.
上記構成による光量制御フィルタ15の透過率制御のため
の印加実効電圧決定法を説明する。ここでモニタ用セン
サ14で検出された液晶素子27の各画素に対応する画素の
入射光量をbi(iは液晶素子27の各画素に対応するイン
デックス)とし、判定用リニアイメージセンサ11で均一
化すべき目標検出光量をb1として、光量制御フィルタ15
の液晶素子27の各画素への印加実効電圧eiを次式により
決定する。A method of determining the applied effective voltage for controlling the transmittance of the light quantity control filter 15 having the above configuration will be described. Here, the incident light amount of the pixel corresponding to each pixel of the liquid crystal element 27 detected by the monitor sensor 14 is set as bi (i is an index corresponding to each pixel of the liquid crystal element 27), and is uniformized by the determination linear image sensor 11. The target amount of detected light is set to b 1 , and the light amount control filter 15
The effective voltage ei applied to each pixel of the liquid crystal element 27 is determined by the following equation.
bi:b0=b1:b(ei) ここでb0はあらかじめ標準サンプルに対して求めておい
たモニタ用センサ14の検出光量で、b(e)は上記と同
一の標準サンプルに対してあらかじめ求めておいた光量
制御フィルタ15の液晶素子27への印加実効電圧eと検出
光量bの関係を表わす関数である。なお印加実効電圧e
と検出光量bの関係は液晶素子27の温度依存性から温度
により変化するので、あらかじめ装置立上げ時のウォー
ミングアップ終了後の装置初期化時の装置使用温度に達
した時点に求めておく。bi: b 0 = b 1 : b (ei) where b 0 is the amount of light detected by the monitor sensor 14 that has been previously obtained for the standard sample, and b (e) is for the same standard sample as above. It is a function that represents the relationship between the effective voltage e applied to the liquid crystal element 27 of the light quantity control filter 15 and the detected light quantity b which is obtained in advance. The applied effective voltage e
The relationship between the detected light amount b and the detected light amount b varies depending on the temperature due to the temperature dependence of the liquid crystal element 27, and is therefore obtained in advance when the temperature reaches the device operating temperature at the time of device initialization after completion of warming up at device startup.
第3図は第1図の検査対象であるフラットパッケージ形
部品3の複数本の部品リード4のはんだ付部の斜視図で
ある。このプリント基板1上の配線パターン2と部品リ
ード4とがはんだ付で接合されている場合に、その接合
状態によって部品リード4の弾性的性質が異なるため、
上記配線パターン2と部品リード4のはんだ付部に空気
ノズル5から乱流空気噴流を噴出させて外力を加え、そ
のとき部品リード4に発生する振動や移動や変形などの
変化を検出することにより、接合状態の異常による欠陥
を検出できる。なお本実施例の検査装置では検査の高速
化をはかるため、フラットパッケージ形部品3の一辺に
設けられた複数本のリード4のはんだ付部を同時に検査
できるようになっている。FIG. 3 is a perspective view of a soldering portion of a plurality of component leads 4 of the flat package type component 3 which is the inspection target of FIG. When the wiring pattern 2 on the printed board 1 and the component lead 4 are joined by soldering, the elastic properties of the component lead 4 differ depending on the joining state.
A turbulent air jet is jetted from the air nozzle 5 to the soldered portion of the wiring pattern 2 and the component lead 4 to apply an external force, and by detecting a change such as vibration, movement or deformation occurring in the component lead 4 at that time. It is possible to detect a defect due to an abnormal bonding state. In the inspection apparatus of this embodiment, in order to speed up the inspection, the soldered portions of the leads 4 provided on one side of the flat package type component 3 can be inspected at the same time.
第4図(a),(b)は第1図の空気噴流噴射前後の浮
きリードのスペツクル像の説明図で、第4図(a)は空
気噴流噴射前の浮きリードのスペツクル像で、第4図
(b)は空気噴流噴射中の浮きリードのスペツクル像を
示す。この第4図(a)に示す空気ノズル5による空気
噴流噴射前の振動していないリード4のスペツクルに対
する検出光量の分布はコントラストの強いスペツクルが
観測されるが、第4図(b)に示す空気ノズル5による
空気噴流噴射中の振動している浮きリード4のスペツク
ルに対する検出光量の分布はコントラストのないぼけた
像が観測される。また移動する浮きリード4のスペツク
ルに対して移動前後で異ったスペツクル像が検出され
る。これよりスペツクル像のコントラストとスペツクル
像の変化を検出することにより、部品リード4のはんだ
付部の欠陥判定ができる。FIGS. 4 (a) and 4 (b) are explanatory views of the speckle image of the floating lead before and after the air jet injection in FIG. 1, and FIG. 4 (a) is the specular image of the floating lead before the air jet injection. FIG. 4 (b) shows a speckle image of a floating lead during jetting of an air jet. The distribution of the detected light amount with respect to the speck of the lead 4 which is not vibrating before the air jet injection by the air nozzle 5 shown in FIG. 4 (a) shows a speck with high contrast, but it is shown in FIG. 4 (b). A blurred image with no contrast is observed in the distribution of the amount of detected light with respect to the speckle of the floating lead 4 which is vibrating during the jetting of the air jet by the air nozzle 5. Further, a different speckle image is detected before and after the movement of the floating lead 4 that is moving. From this, the defect of the soldered part of the component lead 4 can be determined by detecting the contrast of the speckle image and the change of the speckle image.
第5図(a),(b)は第1図の空気噴流噴射前後の検
出スペツクル波形の説明図で、第5図(a)は空気噴流
噴射前のスペツクル波形で、第5図(b)は空気噴流噴
射中のスペツクル波形である。この第5図の横軸に判定
用リニアイメージセンサ11の画素をとり、縦軸に光量制
御フィルタ15を用いて入射光量のばらつきをなくした判
定用リニアイメージセンサ11の検出光量をとって、第5
図(a)は空気ノズル5による空気噴流噴射前の部品リ
ード4(第3図)のスペツクル波形f0(x)を示し、第
5図(b)は空気ノズル5による空気噴流噴射中の部品
リード4のスペツクル波形f1(x)を示している。第5
図(a)に示すように各部品リード4(第3図)の空気
噴流噴射前のスペツクル波形f0(x)はいずれもほぼ同
様な凹凸の激しい波形をしているのに対して、第5図
(b)に示すように空気噴流噴射中のスペツクル波形f1
(x)は良品リードに対しては噴射前波形を保持した良
品波形29となるが、浮きリードに対してはリードの振動
により凹凸の少ない滑らかな浮き欠陥波形30となった
り、あるいはリードの移動や変形により噴射前波形から
大幅にに変化した浮き欠陥波形31となっている。FIGS. 5 (a) and 5 (b) are explanatory diagrams of the detection speckle waveform before and after the air jet injection in FIG. 1, and FIG. 5 (a) is the speckle waveform before the air jet injection, and FIG. Is the waveform of the spectrum of the jet of air. Pixels of the judgment linear image sensor 11 are plotted on the horizontal axis of FIG. 5, and the detection light quantity of the judgment linear image sensor 11 in which the variation of the incident light quantity is eliminated by using the light quantity control filter 15 is plotted on the vertical axis. 5
FIG. 5A shows a speckle waveform f 0 (x) of the component lead 4 (FIG. 3) before the air jet injection by the air nozzle 5, and FIG. 5B shows a component during the air jet injection by the air nozzle 5. The speckle waveform f 1 (x) of the lead 4 is shown. Fifth
As shown in FIG. 3A, the speckle waveform f 0 (x) of each component lead 4 (FIG. 3) before the air jet injection has almost the same severe uneven waveform, whereas As shown in Fig. 5 (b), the speckle waveform f 1 during air jet injection
(X) shows a non-defective waveform 29 that retains the pre-ejection waveform for a non-defective lead, but a smooth floating defect waveform 30 with less unevenness due to vibration of the lead for the floating lead, or movement of the lead. The floating defect waveform 31 is significantly changed from the waveform before injection due to deformation.
上記の検出スペツクル波形による欠陥判定法について説
明する。まず第5図(b)の2つの浮き欠陥波形31,30
について次式で表わされる移動を検出するための関数H
(x)、滑らかさを検出するための関数G(x)を求め
る。The defect determination method based on the above-mentioned detected speckle waveform will be described. First, the two floating defect waveforms 31 and 30 in FIG.
A function H for detecting the movement represented by
(X), a function G (x) for detecting smoothness is obtained.
これらの関数H(x),G(x)の値をあらかじめ決めた
しきい値Hth,Gthで2値化し、設計データで与えられて
いる各リード位置ごとにしきい値Hth,Gthを越える画素
数をそれぞれ求め、その和が欠陥判定のしきい値を越え
るものをリード浮き欠陥と判定する。 The values of these functions H (x) and G (x) are binarized with predetermined thresholds Hth and Gth, and the number of pixels exceeding the thresholds Hth and Gth for each read position given in the design data. And the sum exceeds the threshold value for defect determination, it is determined as a lead floating defect.
本実施例によれば、高速検査のため同時に複数本の部品
リードの浮き欠陥を検査する場合に、光量制御フィルタ
で各リードに対応した場所ごとの透過光量を制御して、
各リードごとの検出光量のばらつきを除くことができる
ため、信頼性高い認識ができる。According to this embodiment, when inspecting floating defects of a plurality of component leads at the same time for high-speed inspection, the amount of transmitted light at each location corresponding to each lead is controlled by the light amount control filter,
Since it is possible to eliminate the variation in the detected light amount for each lead, highly reliable recognition can be performed.
つぎに第6図に本発明による認識装置の第2の実施例を
示すプリント板のパターン検査装置の構成図である。こ
の認識装置はプリント板1の基材32上に形成された銅パ
ターン33のパターン欠けやプリッジなどの欠陥を検査す
るために用いられるプリント板のパターン検査装置であ
る。Next, FIG. 6 is a block diagram of a printed board pattern inspection apparatus showing a second embodiment of the recognition apparatus according to the present invention. This recognition device is a pattern inspection device for a printed board used for inspecting a defect such as a pattern chip or a ridge of a copper pattern 33 formed on a base material 32 of the printed board 1.
このプリント板のパターン検査装置は、照明光源34と照
明光を対象物に導く光ファイバ35からなる照明光学系
と、対象物からの反射光を結像させる結像レンズ36と結
像した反射光を検出する検出用リニアイメージセンサ37
と反射光の一部を分離するハーフミラー38と分離した反
射光の光量を検出するモニタ用リニアイメージセンサ39
と検出用リニアイメージセンサ37に入射する検出光量を
制御するための第2図と同様の構造を持つ液晶を用いた
光量制御フィルタ40からなる検出光学系と、対象物をス
キャニングするXYテーブル41と、検出用リニアイメージ
センサ37を駆動してセンサ信号の抽出を行なうセンサ駆
動部42とモニタ用リニアイメージセンサ39を駆動してセ
ンサ信号の抽出を行なうモニタ制御部43とモニタ用リニ
アイメージセンサ39のセンサ信号をもとに光量制御フィ
ルタ40の透過率を制御するフィルタ制御部44とテーブル
制御部45と検出用リニアイメージセンサ37の検出反射光
の2次元像をもとに対象物の欠陥判定を行なう欠陥判定
部46と全体制御47からなる制御部48により構成される。This printed circuit board pattern inspection apparatus includes an illumination optical system including an illumination light source 34 and an optical fiber 35 for guiding the illumination light to an object, an imaging lens 36 for imaging the reflected light from the object, and the reflected light imaged. Linear image sensor for detection 37
And a half mirror 38 that separates a part of the reflected light and a linear image sensor 39 for a monitor that detects the amount of the separated reflected light
And a detection optical system including a light amount control filter 40 using a liquid crystal having a structure similar to that of FIG. 2 for controlling the amount of detected light incident on the linear image sensor 37 for detection, and an XY table 41 for scanning an object. , A sensor drive unit 42 that drives the detection linear image sensor 37 to extract the sensor signal, and a monitor control unit 43 that drives the monitoring linear image sensor 39 to extract the sensor signal and the monitor linear image sensor 39. Defect determination of the object is performed based on the two-dimensional image of the reflected light detected by the filter control unit 44, the table control unit 45, and the detection linear image sensor 37, which controls the transmittance of the light quantity control filter 40 based on the sensor signal. The control unit 48 is composed of a defect determination unit 46 to be executed and an overall control 47.
上記構成による検査の全体動作について説明する。まず
検査に先立って制御部48の全体制御部47からの指令によ
り各制御部42〜46の初期化を行ない、その後にテーブル
制御部45からの指令によりXYテーブル41で検査対象のプ
リント板1をスキャンし、モニタ制御部43で駆動される
モニタ用リニアイメージセンサ39により検出された光量
信号をもとに、フィルタ制御部44で光量制御フィルタ40
を詳細後述する方法により制御して光量の適正化を行な
いながら、センサ駆動部42で駆動される検出用リニアイ
メージセンサ37で対象物の反射光波形を検出し、この反
射光波形をスキャンしてえられた2次元像をもとに欠陥
判定部46で欠陥判定を行なう。The overall operation of the inspection with the above configuration will be described. First, prior to the inspection, the control units 42 to 46 are initialized by a command from the overall control unit 47 of the control unit 48, and then the printed board 1 to be inspected is set on the XY table 41 by a command from the table control unit 45. Based on the light amount signal detected by the monitor linear image sensor 39 that is scanned and driven by the monitor control unit 43, the light amount control filter 40 is used by the filter control unit 44.
While performing the optimization of the light amount by controlling by the method described later in detail, the detection linear image sensor 37 driven by the sensor drive unit 42 detects the reflected light waveform of the object and scans the reflected light waveform. Defect determination is performed by the defect determination unit 46 based on the obtained two-dimensional image.
第7図は第6図の検査対象であるプリント板1のパター
ン例の斜視図である。プリント板1はポリイミドやガラ
スエポキシなどの基材32上に銅パターン33が形成されて
おり、この銅パターン33のパターン欠け33−1やブリッ
ジ33−2などの欠陥を検査する。FIG. 7 is a perspective view of a pattern example of the printed board 1 which is the inspection object of FIG. The printed board 1 has a copper pattern 33 formed on a base material 32 such as polyimide or glass epoxy. The copper pattern 33 is inspected for defects such as pattern defects 33-1 and bridges 33-2.
第8図は第6図の検出用リニアイメージセンサ37とモニ
タ用リニアイメージセンサ39の位置関係を示す配置の説
明図である。第8図は検査対象物の銅パターン33の検出
2次元像51のある時間における検出視野を示している。
ここでモニタ用リニアイメージセンサ39のモニタ用視野
49は検出用リニアイメージセンサ37の検出視野50よりも
常にテーブルスキャン方向の前方に設定し、あらかじめ
検出するパターンの光量をモニタしておく。このモニタ
した光量をもとに検出用リニアイメージセンサ37でその
視野を検出するときに光量制御フィルタ40の透過率を制
御する。FIG. 8 is an explanatory diagram of an arrangement showing the positional relationship between the linear image sensor 37 for detection and the linear image sensor 39 for monitoring shown in FIG. FIG. 8 shows the detection field of view of the detected two-dimensional image 51 of the copper pattern 33 of the inspection object at a certain time.
Here, the visual field for the monitor of the linear image sensor 39 for the monitor
49 is always set in front of the detection visual field 50 of the linear image sensor 37 for detection in the table scanning direction, and the light amount of the pattern to be detected is monitored in advance. Based on the monitored light amount, the transmittance of the light amount control filter 40 is controlled when the visual field is detected by the linear image sensor 37 for detection.
上記配置による光量制御フィルタ15の光量の適正化を行
なう透過率の制御方法を説明する。ここでモニタ用リニ
アイメージセンサ39で検出された光量をbiとし、あらか
じめ設定した光量のしきい値をbthとして、光量制御フ
ィルタ40の液晶素子(第2図)に印加する実効電圧eiを
次式により決定する。A method of controlling the transmittance for optimizing the light quantity of the light quantity control filter 15 with the above arrangement will be described. Here, the amount of light detected by the monitor linear image sensor 39 is bi, and the preset threshold of the amount of light is bth, and the effective voltage ei applied to the liquid crystal element (FIG. 2) of the light amount control filter 40 is expressed by the following equation. Determined by
bi≧bth のとき ei=ea bi<bth のとき ei=eb ここでba,bbはあらかじめ設定した印加電圧で、eaは光
量過多のときに適正な透過率となる実効電圧で、ebは光
量が適正な場合に設定する透過率となる実効電圧であ
る。なおiは液晶素子の各画素に対応するインデックス
である。When bi ≧ bth ei = ea When bi <bth ei = eb where ba and bb are preset applied voltages, ea is the effective voltage that gives proper transmittance when the light intensity is excessive, and eb is the light intensity. It is the effective voltage that is the transmittance set when appropriate. Note that i is an index corresponding to each pixel of the liquid crystal element.
本実施例によれば、プリント板のパターンきずなどによ
り検出光量が過大となり、検出用リニアイメージセンサ
が飽和してブルーミングを起し、他の場所の像も乱れて
しまうという不具合いを防止できる効果がある。According to the present embodiment, it is possible to prevent the problem that the detected light amount becomes excessively large due to the pattern flaws on the printed board, the linear image sensor for detection is saturated, blooming occurs, and the image at other places is also disturbed. There is.
なお透過光検出を行なう場合にも照明方式が異なるのみ
で光量制御フィルタによる光量制御方式は同一であるの
で、説明は省略するが同様の方式でイメージセンサの検
出光量の適正化を行なうことができる。Even when the transmitted light is detected, only the illumination method is different and the light quantity control method by the light quantity control filter is the same. Therefore, although the description is omitted, the detected light quantity of the image sensor can be optimized by the same method. .
本発明によれば、液晶を用いた光量制御フィルタの各画
素ごとの透過率を制御してイメージセンサの検出光量の
適正化をはかっているため、検出光ばらつきの影響を受
けずに信頼性よく対象物の特徴を認識できる認識装置を
提供できる効果がある。According to the present invention, since the transmittance of each pixel of the light quantity control filter using liquid crystal is controlled to optimize the detected light quantity of the image sensor, the light quantity control filter is reliable without being affected by the fluctuation of the detected light. There is an effect that it is possible to provide a recognition device that can recognize the characteristics of an object.
第1図は本発明による認識装置の第1の実施例を示すは
んだ付部検査装置の構成図、第2図は第1図の光量制御
フィルタの構成図、第3図は第1図の検査対象のフラッ
トパッケージ形部品はんだ付部の斜視図、第4図
(a),(b)は第1図の空気噴流噴射前,後の浮きリ
ードのスペツクル像の説明図、第5図(a),(b)は
第1図の空気噴流噴射前,後の検出スペツクル波形の説
明図、第6図は本発明による認識装置の第2の実施例を
示すプリント板のパターン検査装置の構成図、第7図は
第6図の検査対象のプリント板のパターンの斜視図、第
8図は第6図の検出用リニアイメージセンサとモニタ用
イメージセンサの配置の説明図である。 4……部品リード、5……空気ノズル、7……レーザ、
11……判定用リニアイメージセンサ、12……ガルバノミ
ラー、14……モニタ用センサ、15……光量制御フィル
タ、16……XYテーブル、25……制御部、27……液晶素
子、33……銅パターン、34……照明光源、37……検出用
リニアイメージセンサ、39……モニタ用リニアイメージ
センサ、40……光量制御フィルタ、41……XYテーブル、
48……制御部。FIG. 1 is a block diagram of a soldering portion inspection device showing a first embodiment of a recognition device according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram of a light amount control filter of FIG. 1, and FIG. 3 is an inspection of FIG. FIG. 4 (a) and FIG. 4 (b) are perspective views of the soldering portion of the target flat package type component, and FIGS. 4 (a) and 4 (b) are explanatory views of the speckle image of the floating lead before and after the air jet injection, and FIG. , (B) are explanatory views of detection speckle waveforms before and after air jet injection in FIG. 1, and FIG. 6 is a configuration diagram of a pattern inspection device for a printed board showing a second embodiment of the recognition device according to the present invention, FIG. 7 is a perspective view of the pattern of the printed board to be inspected in FIG. 6, and FIG. 8 is an explanatory view of the arrangement of the linear image sensor for detection and the image sensor for monitor in FIG. 4 ... Component lead, 5 ... Air nozzle, 7 ... Laser,
11 …… Linear image sensor for judgment, 12 …… Galvano mirror, 14 …… Monitor sensor, 15 …… Light intensity control filter, 16 …… XY table, 25 …… Control unit, 27 …… Liquid crystal element, 33 …… Copper pattern, 34 …… Illumination light source, 37 …… Detection linear image sensor, 39 …… Monitor linear image sensor, 40 …… Light intensity control filter, 41 …… XY table,
48 ...... Control unit.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中川 泰夫 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (56)参考文献 特開 昭62−7198(JP,A) 特開 昭63−191949(JP,A) 特開 昭61−296243(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yasuo Nakagawa 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Inside the Hitachi, Ltd. Institute of Industrial Science (56) References JP 62-7198 (JP, A) Special features Kai 63-191949 (JP, A) JP 61-296243 (JP, A)
Claims (1)
により照射された対象物からの反射光または透過光を検
出する光学系およびセンサからなる検出手段と、該検出
手段により検出された対象物の特徴を解析する解析手段
とを備えて対象物の特徴を認識する認識装置において、
上記検出手段中に挿入された偏光板および旋光性を持つ
液晶素子からなり該液晶素子の複数個ならんだ各画素へ
の印加実効電圧を変えることにより各画素ごとの透過光
量を制御できる光量制御フィルタと、上記対象物からの
反射光または透過光の概略光量を検出するモニタ光学系
およびモニタ用センサからなるモニタ部と、上記液晶素
子の各画素に対応するモニタ用センサの各部の検出光量
に基づいて上記センサへの入射光量が各部で適正な光量
となるように上記液晶素子の各画素への印加実効電圧を
制御するフィルタ制御部とを備えたことを特徴とする認
識装置。1. A illuminating means for illuminating an object, a detecting means comprising an optical system and a sensor for detecting reflected light or transmitted light from the object irradiated by the illuminating means, and the detecting means. In a recognition device for recognizing the characteristics of an object, which comprises an analysis means for analyzing the characteristics of the object,
A light quantity control filter comprising a polarizing plate inserted in the detecting means and a liquid crystal element having optical rotatory power and capable of controlling the transmitted light quantity for each pixel by changing the effective voltage applied to each pixel arranged in a plurality of the liquid crystal elements. And a monitor unit composed of a monitor optical system and a sensor for detecting an approximate light amount of reflected light or transmitted light from the object, and based on the detected light amount of each unit of the monitor sensor corresponding to each pixel of the liquid crystal element. And a filter control unit that controls the effective voltage applied to each pixel of the liquid crystal element so that the amount of light incident on the sensor becomes appropriate at each unit.
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