JPH0731910B2 - Semiconductor memory circuit device - Google Patents
Semiconductor memory circuit deviceInfo
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- JPH0731910B2 JPH0731910B2 JP2242349A JP24234990A JPH0731910B2 JP H0731910 B2 JPH0731910 B2 JP H0731910B2 JP 2242349 A JP2242349 A JP 2242349A JP 24234990 A JP24234990 A JP 24234990A JP H0731910 B2 JPH0731910 B2 JP H0731910B2
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Description
【発明の詳細な説明】 この発明は、半導体記憶回路装置(以下、メモリと称す
る)、特に相補型絶縁ゲート電界効果トランジスタによ
って構成されたメモリに関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory circuit device (hereinafter referred to as a memory), and more particularly to a memory composed of complementary insulated gate field effect transistors.
メモリにおいて、複数の単位記憶回路(以下、メモリセ
ルもしくはセルと称する)は、アドレスデコーダ回路の
出力信号にもとづいてその1つが選択される。In the memory, one of a plurality of unit storage circuits (hereinafter referred to as memory cells or cells) is selected based on the output signal of the address decoder circuit.
通常、上記アドレスデコーダ回路は、直列接続もしくは
並列接続されそれぞれアドレス信号によってスイッチ制
御される絶縁ゲート電界効果トランジスタ(以下、FET
と称する)から構成されたようなスイッチ素子を含んで
いる。Usually, the address decoder circuit is an insulated gate field effect transistor (hereinafter referred to as FET) which is connected in series or in parallel and is switch-controlled by an address signal.
(Referred to below) as a switch element.
近年のようにメモリが大容量化されてくると、それに応
じて増加したビット数のアドレス信号が必要とされてく
るので、上記直列接続もしくは並列接続のスイッチ素子
の数も増加させなければならなくなってくる。As memory capacity has increased in recent years, an address signal with an increased number of bits is required accordingly, so the number of switch elements connected in series or in parallel must be increased. Come on.
しかしながら、スイッチ素子が回路の種々のノードに浮
遊容量を与え、またそれ自体が無視し得ない動作抵抗を
持つことにより、増加させられた数のスイッチ素子を含
むアドレスデコーダ回路は、その動作速度が大きく制限
されることになる。However, the address decoder circuit including an increased number of switch elements has a higher operating speed because the switch elements provide stray capacitances to various nodes of the circuit and have a non-negligible operating resistance. It will be severely limited.
また、半導体集積回路として構成される複数のメモリセ
ルは、通常、半導体基板のような基板上にマトリクス配
置され、上記アドレスデコーダ回路を構成する単位デコ
ーダ回路は、上記マトリクス配置のメモリセル行もしく
は列に対応して配置される。A plurality of memory cells configured as a semiconductor integrated circuit are usually arranged in a matrix on a substrate such as a semiconductor substrate, and the unit decoder circuit forming the address decoder circuit is a memory cell row or column arranged in the matrix. It is arranged corresponding to.
上記単位デコーダ回路は、上記メモリセル行もしくはメ
モリセル列のピッチに対応したピッチで配置できること
が必要とされる。It is required that the unit decoder circuits can be arranged at a pitch corresponding to the pitch of the memory cell rows or the memory cell columns.
しかしながら、増加させられたスイッチ素子を含む単位
デコーダ回路は、これを上記のようなピッチで配置でき
るようにすることが難しくなってくる。However, it becomes difficult for the unit decoder circuit including the increased number of switch elements to be able to be arranged at the above pitch.
上記のようなスイッチ素子数の増加は、また基板上にお
けるアドレスデコーダ回路を構成する素子領域面積の増
加を意味する。The increase in the number of switch elements as described above also means an increase in the area of the element region forming the address decoder circuit on the substrate.
アドレスデコーダ回路は、その動作電流を減少させるこ
とによって低消費電力にさせるために、相補型FETによ
って構成することができる。The address decoder circuit can be configured with complementary FETs in order to reduce power consumption by reducing its operating current.
しかしながら、相補型FETによって構成されるアドレス
デコーダ回路は、単一チャンネル型のFETのみによって
構成されるようなアドレスデコーダ回路に比べてはるか
に多くのスイッチ素子数を必要とするので、上記のよう
な動作速度、ピッチ、面積などについて特に考慮される
ことが望ましい。However, the address decoder circuit composed of complementary FETs requires a much larger number of switch elements than the address decoder circuit composed of only single-channel FETs. It is desirable that particular consideration is given to operating speed, pitch, area, and the like.
従って、この発明の1つの目的は、動作速度を大きくで
きるメモリを提供することにある。Therefore, one object of the present invention is to provide a memory capable of increasing the operating speed.
この発明の他の目的は、基板面積を小さくできるメモリ
を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a memory that can reduce the substrate area.
この発明の他の目的は、基板表面を有効に利用できるメ
モリを提供することにある。Another object of the present invention is to provide a memory capable of effectively utilizing the surface of the substrate.
この発明の他の目的は、相補型FETに適するメモリを提
供することにある。Another object of the present invention is to provide a memory suitable for a complementary FET.
この発明の他の目的は、設計の容易なメモリを提供する
ことにある。Another object of the present invention is to provide a memory that is easy to design.
この発明のさらに他の目的は、以下の説明及び図面から
明確となる。Other objects of the present invention will be apparent from the following description and drawings.
以下、実施例にもとづいてこの発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples.
第1図は、実施例のメモリの回路ブロック図である。FIG. 1 is a circuit block diagram of the memory of the embodiment.
同図において、1及び14は、それぞれ行及び列のアドレ
ス・バッファ回路、2及び13はそれぞれ第1の行及び列
のデコーダ回路、4及び12はそれぞれ第2の行及び列の
デコーダ回路、5及び6はワードドライブ回路、7及び
8はそれぞれ第1及び第2のメモリアレイ、3はワード
制御回路である。上記の各回路ブロックは後で第2図な
いし第6図に基づいて詳細に説明される。また同図にお
いて、10は書き込み回路、11は読み出し回路、15は制御
回路である。In the figure, reference numerals 1 and 14 are row and column address buffer circuits, 2 and 13 are first row and column decoder circuits, and 4 and 12 are second row and column decoder circuits, 5 respectively. And 6 are word drive circuits, 7 and 8 are first and second memory arrays, respectively, and 3 is a word control circuit. Each of the above circuit blocks will be described later in detail with reference to FIGS. 2 to 6. In the figure, 10 is a write circuit, 11 is a read circuit, and 15 is a control circuit.
上記制御回路15は、チップ選択端子▲▼及び書き込
み制御端子▲▼にそれぞれチップ選択信号及び書き
込み制御信号を受けることによって、端子CS1,CS2,CW及
びCRにそれぞれワード制御回路3、書き込み回路10及び
読み出し回路11の動作を制御するための制御信号を出力
する。The control circuit 15 receives the chip select signal and the write control signal at the chip select terminal ▲ ▼ and the write control terminal ▲ ▼, respectively, so that the terminals CS 1 , CS 2 , C W and C R respectively have the word control circuit 3, A control signal for controlling the operations of the writing circuit 10 and the reading circuit 11 is output.
特に制限されないが、この実施例に従うと、16キロビッ
トのメモリ容量とするために、上記メモリアレイ7及び
8のそれぞれは、128行と64列にマトリクス配置された8
192個、すなわち8192ビットのスタティック型メモリセ
ルによって構成される。According to this embodiment, although not particularly limited, each of the memory arrays 7 and 8 is arranged in a matrix of 128 rows and 64 columns in order to obtain a memory capacity of 16 kilobits.
It is composed of 192 static memory cells of 8192 bits.
各メモリセルは、選択端子とデータ入出力端子を持つ構
成とされる。Each memory cell has a selection terminal and a data input / output terminal.
同一行に配置された複数のメモリセルのそれぞれの選択
端子は1つのワード線に共通接続され、同一列に配置さ
れた複数のメモリセルのそれぞれのデータ入出力端子
は、データ線に共通接続される。The selection terminals of the memory cells arranged in the same row are commonly connected to one word line, and the data input / output terminals of the memory cells arranged in the same column are commonly connected to the data line. It
従って、上記メモリアレイ7及び8は、それぞれ128本
のワード線と64のデータ線対とを持っている。Therefore, each of the memory arrays 7 and 8 has 128 word lines and 64 data line pairs.
上記メモリアレイ7のワード線W0ないしW127は、ワード
ドライブ回路5によって選択され、メモリアレイ8のワ
ード線W0′ないしW127′は、ワードドライブ回路6によ
って選択される。The word lines W 0 to W 127 of the memory array 7 are selected by the word drive circuit 5, and the word lines W 0 ′ to W 127 ′ of the memory array 8 are selected by the word drive circuit 6.
また、上記メモリアレイ7及び8のデータ線対 ないし は、入出力回路9によって選択される。In addition, the data line pair of the memory arrays 7 and 8 No Are selected by the input / output circuit 9.
上記ワード線W0ないしW127及びW0′ないしW127′を選択
させるためのアドレス信号は、端子A0ないしA6によって
供給され、上記データ線対 を選択させるためのアドレス信号は、端子A7ないしA13
によって供給される。An address signal for selecting the word lines W 0 to W 127 and W 0 ′ to W 127 ′ is supplied by terminals A 0 to A 6 and the data line pair Address signals for selecting the to no terminal A 7 A 13
Supplied by
行アドレスバッファ回路1は、上記端子A0ないしA6に供
給される7ビットのアドレス信号(以下、アドレス信号
A0ないしA6のように記す)を受けることによって非反転
のアドレス信号B0ないしB6及び反転のアドレス信号 を出力する。The row address buffer circuit 1 has a 7-bit address signal (hereinafter referred to as an address signal) supplied to the terminals A 0 to A 6.
A 0 to A 6 ) and non-inverted address signals B 0 to B 6 and inverted address signals Is output.
特に制限されないが、この実施例においては、上記アド
レスバッファ回路1から出力される7ビットのアドレス
信号のうち、6ビットのアドレス信号、すなわち が第1デコーダ回路2に供給され、残りの1ビットのア
ドレス信号 がワード制御回路3に供給される。Although not particularly limited, in this embodiment, of the 7-bit address signals output from the address buffer circuit 1, 6-bit address signals, that is, Is supplied to the first decoder circuit 2 and the remaining 1-bit address signal Are supplied to the word control circuit 3.
上記第1デコーダ回路2は、上記アドレス信号 を受けることによってデコード信号MX0ないしMX11を出
力する。The first decoder circuit 2 outputs the address signal In response to this, the decode signals MX 0 to MX 11 are output.
上記デコード信号MX0ないしMX11は、それぞれ上記6ビ
ットのアドレス信号 ないし のうちの特定のアドレス信号の組み合わせによって得ら
れるような信号とされる。The decode signals MX 0 to MX 11 are the 6-bit address signals, respectively. No Signal obtained by a combination of specific address signals among the above.
例えば、上記アドレス信号 は、上記第1デコーダ回路2によって、それぞれ2ビッ
トずつの3つのグループに分けられ、各グループ単位で
デコードされる。For example, the address signal Are divided into three groups of 2 bits each by the first decoder circuit 2 and are decoded in units of each group.
この実施例においては、上記デコード信号MX0ないしMX
11は、最終的にアドレス信号 ないし の状態と一対一対応するデコード信号を得るための中間
段階で得られる信号であるので中間項信号と称される。In this embodiment, the decode signals MX 0 to MX
11 is finally the address signal No It is called an intermediate term signal because it is a signal obtained in an intermediate stage for obtaining a decoded signal which has a one-to-one correspondence with the state of.
第2デコーダ回路4は、上記第1デコーダ回路2から出
力される中間項信号を受けることによって、デコード信
号K0ないしK63を出力する。The second decoder circuit 4 outputs the decoded signals K 0 to K 63 by receiving the intermediate term signal output from the first decoder circuit 2.
上記デコード信号K0ないしK63のそれぞれは、上記アド
レス信号 の6ビットの状態と一対一対応させられる。Each of the decode signals K 0 to K 63 is the address signal It is made to correspond one-to-one with the 6-bit state of.
上記のように、中間項信号MX0ないしMX11のそれぞれ
が、2ビットのアドレス信号の論理演算によって形成さ
れているので、上記デコード信号K0ないしK63のそれぞ
れは、上記の12ビットの中間項信号のうちの3ビットず
つをデコードすることによって形成することができる。As described above, since each of the intermediate term signals MX 0 to MX 11 is formed by the logical operation of the 2-bit address signal, each of the decode signals K 0 to K 63 has the above-mentioned 12-bit intermediate signal. It can be formed by decoding every 3 bits of the term signal.
上記第2デコーダ回路4から出力されるデコード信号K0
ないしK63は、ワードドライブ回路5及び6に供給され
る。Decode signal K 0 output from the second decoder circuit 4
Through K 63 are supplied to the word drive circuits 5 and 6.
上記ワードドライブ回路5及び6は、ワード制御回路3
によってその動作が制御される。The word drive circuits 5 and 6 are the word control circuit 3
Controls its operation.
上記ワード制御回路3は、前記アドレスバッファ回路1
から出力されるアドレス信号B6及び と、制御回路15から出力される制御信号CS1及びCS2と、
アドレスバッファ回路14から出力されたアドレス信号B7
及び とを受けることによって上記ワードドライブ回路5に供
給するための制御信号L0,L1及びL2と上記ワードドライ
ブ回路6に供給するための制御信号R0,R1及びR2とを出
力する。The word control circuit 3 includes the address buffer circuit 1
Address signal B 6 and And control signals CS 1 and CS 2 output from the control circuit 15,
Address signal B 7 output from the address buffer circuit 14
as well as By receiving the control signals L 0 , L 1 and L 2 for supplying to the word drive circuit 5 and the control signals R 0 , R 1 and R 2 for supplying to the word drive circuit 6. .
上記ワードドライブ回路5は、上記第2デコーダ回路4
から出力された64通りのデコード信号と、上記ワード制
御回路3から出力された制御信号L0,L1及びL2とにもと
づいて、メモリアレイ7の128本のワード線を選択する
ためのワード信号を出力するように構成される。The word drive circuit 5 includes the second decoder circuit 4
A word for selecting 128 word lines of the memory array 7 on the basis of the 64 kinds of decode signals output from the word control circuit 3 and the control signals L 0 , L 1 and L 2 output from the word control circuit 3. It is configured to output a signal.
同様に、ワードドライブ回路6も、制御信号R0,R1及びR
2により制御されて、128個のワード信号を、ワード線
W0′ないしW127′に出力するように構成される。Similarly, the word drive circuit 6 also has control signals R 0 , R 1 and R.
128 word signals, controlled by 2
It is configured to output to W 0 ′ to W 127 ′.
上記の第1,第2デコーダ回路に代えて単一のデコーダ回
路を使用する場合、この単一のデコーダ回路を構成する
単位デコーダ回路は、それぞれ6ビットのアドレス信号 をデコードしなければならない。When a single decoder circuit is used in place of the above first and second decoder circuits, the unit decoder circuits that make up this single decoder circuit each have a 6-bit address signal. Must be decoded.
これに対し、上記第1図のような構成の場合、第1のデ
コーダ回路2を構成する単位デコーダ回路はそれぞれ2
ビットのアドレス信号をデコードするだけで良いように
なり、又第2のデコーダ回路を構成する単位デコーダ回
路は前記のようにそれぞれ3ビットの中間項信号をデコ
ードするだけで良いようになる。On the other hand, in the case of the configuration as shown in FIG. 1, the unit decoder circuits constituting the first decoder circuit 2 are each 2
Only the bit address signal needs to be decoded, and the unit decoder circuit constituting the second decoder circuit only needs to decode the 3-bit intermediate term signal as described above.
すなわち、アドレス信号入力端子からワードドライブ回
路の入力端までに従属させられるスイッチ素子の数を減
少させることができる。That is, it is possible to reduce the number of switch elements that are subordinated from the address signal input terminal to the input end of the word drive circuit.
また、第1と第2のデコーダ回路を構成する全体のスイ
ッチ素子の数を減少させることができる。In addition, the number of switch elements in the entire first and second decoder circuits can be reduced.
上記第1図のように、ワードドライブ回路5及び6によ
って実質的にアドレス信号をデコードさせる場合、メモ
リアレイ7及び8のワード線数に対し、第2デコーダ回
路4を構成する単位デコーダ回路の数を減少させること
ができる。As shown in FIG. 1 above, when the address signals are substantially decoded by the word drive circuits 5 and 6, the number of unit decoder circuits forming the second decoder circuit 4 with respect to the number of word lines of the memory arrays 7 and 8. Can be reduced.
上記列のアドレスバッファ回路14は、上記行のアドレス
バッファ回路1と同様な構成とされ、入力アドレス信号
A7ないしA13に対し非反転のアドレス信号B7ないしB13及
び反転のアドレス信号 を出力する。The address buffer circuit 14 in the above column has the same configuration as the address buffer circuit 1 in the above row, and the input address signal
Non-inverted address signals B 7 to B 13 and inverted address signals for A 7 to A 13 Is output.
第1デコーダ回路13は、上記7ビットのアドレス信号の
うちの6ビットのアドレス信号すなわちB7ないしB12及
び を受け、これらのアドレス信号にもとづいて中間項信号
MY0ないしMY11を出力する。The first decoder circuit 13 includes a 6-bit address signal of the 7-bit address signal, that is, B 7 to B 12 and The intermediate term signal based on these address signals
Outputs MY 0 to MY 11 .
第2デコーダ回路12は、上記中間項信号MY0ないしMY11
と、アドレス信号B13及び を受け、デコード信号I0ないしI127を出力する。The second decoder circuit 12 receives the intermediate term signals MY 0 to MY 11
And address signal B 13 and In response, the decoding signals I 0 to I 127 are output.
上記デコード信号I0ないしI127は、アドレス信号B7ない
しB13及び に対応させられた1つが例えばハイレベルとされ、残り
がロウレベルとされる。The decode signals I 0 to I 127 are address signals B 7 to B 13 and One corresponding to is set to, for example, a high level, and the other is set to a low level.
入出力回路9は、一対のコモンデータ線と、上記コモン
データ線とメモリアレイ7,8のデータ線との間に接続さ
れそれぞれ上記第2デコーダ回路12の出力信号I0ないし
I127によってスイッチ制御される列選択回路(図示しな
い)とを含んでいる。上記入出力回路9は、必要に応じ
て更に上記コモンデータ線からの信号を受けるセンスア
ンプ(図示しない)を含んでいる。The input / output circuit 9 is connected between the pair of common data lines and the common data lines and the data lines of the memory arrays 7 and 8 and outputs the output signals I 0 to I 0 of the second decoder circuit 12, respectively.
And a column selection circuit (not shown) which is switch-controlled by I 127 . The input / output circuit 9 further includes a sense amplifier (not shown) that receives a signal from the common data line, if necessary.
書き込み回路10は、上記入出力回路9のコモンデータ線
に結合される非反転出力端子Di及び反転出力端子▲
▼を持っている。The writing circuit 10 has a non-inverting output terminal Di and an inverting output terminal ▲ which are connected to the common data line of the input / output circuit 9.
I have ▼.
上記書き込み回路10は、制御信号CWによってその動作が
制御され、この制御信号CWがハイレベルのような書き込
み動作レベルとされているとき上記出力端子Di及び▲
▼に入力端子Dinに加わる信号と対応した非反転信号
及び反転信号を出力する。上記制御信号CWが上記非書き
込み動作レベルとされているとき、上記出力端子Di及び
▲▼はフローティング状態にされる。The operation of the write circuit 10 is controlled by a control signal C W , and when the control signal C W is at a write operation level such as a high level, the output terminals Di and ▲
The non-inverted signal and the inverted signal corresponding to the signal applied to the input terminal Din are output to ▼. When the control signal C W is at the non-writing operation level, the output terminals Di and ▲ ▼ are brought into a floating state.
読み出し回路11は、制御信号CRによってその動作が制御
され、この制御信号CRがハイレベルのような読み出し動
作レベルとされているとき上記入出力回路9から出力さ
れる信号と対応した信号を出力する。上記制御信号CRが
ロウレベルのような非読み出し動作レベルとされている
とき、上記読み出し回路11の出力端子はフローティング
状態にされる。The read circuit 11, its operation is controlled by a control signal C R, a signal corresponding to the signal outputted from the output circuit 9 when the control signal C R is the read operation level as the high level Output. When the control signal C R is a non-read operation level, such as the low level, the output terminal of the readout circuit 11 is in a floating state.
第1図のメモリにおいては、ワードドライブ回路5,6に
よりメモリアレイ7,8のワード線が選択され、入出力回
路9により上記メモリアレイ7,8のデータ線が選択され
る。In the memory shown in FIG. 1, the word lines of the memory arrays 7 and 8 are selected by the word drive circuits 5 and 6, and the data lines of the memory arrays 7 and 8 are selected by the input / output circuit 9.
従って、メモリアレイ7又は8のうちの上記のワード線
とデータ線とによって選択された1つのメモリセルだけ
が上記の入出力回路9内のコモンデータ線に結合させら
れる。Therefore, only one memory cell selected by the word line and the data line in the memory array 7 or 8 is coupled to the common data line in the input / output circuit 9.
情報の読み出しにおいては、上記の選択されたメモリセ
ルの記憶情報によって決められたコモンデータ線の信号
レベルが入出力回路9内のセンスアンプによって増幅さ
れ、このセンスアンプの出力信号が読み出し回路11によ
って読み出される。In reading information, the signal level of the common data line determined by the stored information of the selected memory cell is amplified by the sense amplifier in the input / output circuit 9, and the output signal of this sense amplifier is read by the read circuit 11. Read out.
情報の書き込みにおいては、入出力回路9内のコモンデ
ータ線の信号レベルが書き込み回路10によって決めら
れ、このコモンデータ線の信号が、選択されたデータ線
を介してメモリセルに供給される。その結果、書き込み
回路10から出力された信号が選択されたメモリセル内に
書き込まれることになる。In writing information, the signal level of the common data line in the input / output circuit 9 is determined by the write circuit 10, and the signal of this common data line is supplied to the memory cell via the selected data line. As a result, the signal output from the writing circuit 10 is written in the selected memory cell.
上記各回路ブロックは、公知の半導体集積回路技術によ
って1つの半導体基板上に形成される。Each of the above circuit blocks is formed on one semiconductor substrate by a known semiconductor integrated circuit technology.
その場合、上記各端子A0ないしA13,Din,Dout,▲▼
及び▲▼とともに、電源端子VCCおよびGNDが半導体
集積回路装置(IC)の外部端子とされる。In that case, the above terminals A 0 to A 13 , Din, Dout, ▲ ▼
The power supply terminals V CC and GND are used as external terminals of the semiconductor integrated circuit device (IC) together with ▲ and ▼.
次に、上記各回路ブロックにおける具体的回路例につい
て説明する。Next, a specific circuit example in each of the above circuit blocks will be described.
なお、この発明は、特に制限されないが、相補型FETに
よって構成されるメモリに特に適する。従って以下の各
回路は、主に相補型FETによって構成されている。The present invention is not particularly limited, but is particularly suitable for a memory including complementary FETs. Therefore, the following circuits are mainly composed of complementary FETs.
第2図は、メモリアレイ7,8及び入出力回路9の一部分
の具体的な回路を示している。FIG. 2 shows a specific circuit of a part of the memory arrays 7 and 8 and the input / output circuit 9.
メモリアレイ7及び8は、それぞれマトリクス配置され
たメモリセル100ないし103,104ないし107、ワード線W0,
W1,W0′,W1′、それぞれ対とされたデータ線 データ線負荷用FET N1及びN2を含んでいる。The memory arrays 7 and 8 include memory cells 100 to 103, 104 to 107 and word lines W 0 ,
W 1 , W 0 ′, W 1 ′, paired data lines Includes data line load FETs N 1 and N 2 .
上記各メモリセルは、全て同じ構成とされており、104
を代表として詳細に示したように、Nチャンネル型FET
N7及びN8と、高抵抗ポリシリコン層によって構成される
ような負荷抵抗R1及びR2とからなるフリップフロップ回
路と、トランスファ用Nチャンネル型FET N5,N6とによ
り構成されている。All the memory cells have the same configuration.
As shown in detail as a representative, N-channel FET
A flip-flop circuit composed of N 7 and N 8 and load resistances R 1 and R 2 composed of a high resistance polysilicon layer, and N channel type FETs N 5 and N 6 for transfer. .
なお、高抵抗ポリシリコン層によって構成される負荷抵
抗を使用する構成のメモリセルは、相補型FETによって
構成されるようなメモリセルに比べて、半導体基板上に
おいて比較的小型に形成することができる。上記各メモ
リセルは、上記負荷抵抗を高抵抗値とすることによって
充分に小さい消費電力とすることができる。従って、特
に制限されないがこの実施例においては、後述するよう
な他の回路が相補型FETによって構成されるのにかかわ
らずに上記メモリセルは上記のように単一チャンネル型
FETによって構成される。It should be noted that the memory cell configured to use the load resistance composed of the high resistance polysilicon layer can be formed on a semiconductor substrate in a relatively small size as compared with the memory cell composed of the complementary FET. . Each of the memory cells can have sufficiently low power consumption by setting the load resistance to a high resistance value. Therefore, although not particularly limited, in this embodiment, the memory cell is of the single-channel type as described above regardless of the fact that other circuits, which will be described later, are constituted by complementary FETs.
Composed of FET.
上記トランスファ用FET N5,N6のゲートは、メモリセル
の選択端子を構成している。また、上記トランスファ用
FET N5,N6の1つの出力電極は、メモリセルの入出力端
子を構成している。The gates of the transfer FETs N 5 and N 6 form a memory cell selection terminal. Also, for the above transfer
One output electrode of the FETs N 5 and N 6 constitutes the input / output terminal of the memory cell.
図示のように、各メモリアレイ7,8において、同一行に
配置された各メモリセルの選択端子は1つのワード線に
共通接続され、同一列に配置された各メモリセルのそれ
ぞれの一対の入出力端子は、一対のデータ線に接続され
ている。As shown in the figure, in each memory array 7 and 8, the selection terminals of the memory cells arranged in the same row are commonly connected to one word line, and a pair of input terminals of each memory cell arranged in the same column are connected. The output terminal is connected to the pair of data lines.
上記各データ線は、ゲート及びドレインが電源端子VCC
に接続された負荷用Nチャンネル型FET N1もしくはN2の
ソースに接続されている。The gates and drains of the above data lines have power supply terminals V CC
It is connected to the source of the load N-channel FET N 1 or N 2 connected to.
入出力回路9は、列選択回路を構成するNチャンネル型
FET N3,N4、コモンデータ線Di,▲▼、センスアンプ
120及び出力線DOUを含んである。The input / output circuit 9 is an N-channel type which constitutes a column selection circuit.
FET N 3 , N 4 , common data line Di, ▲ ▼, sense amplifier
Includes 120 and output line D OU .
上記メモリアレイ7及び8のデータ線対は、それぞれ上
記FET N3,N4を介して上記コモンデータ線Di,▲▼に
結合されている。The data line pairs of the memory arrays 7 and 8 are coupled to the common data line Di, ▲ ▼ via the FETs N 3 and N 4 , respectively.
上記データ線対に対応するFET N3,N4の共通接続された
ゲートは第2デコーダ回路12(第1図参照)の出力端子
に結合されている。The commonly connected gates of the FETs N 3 and N 4 corresponding to the data line pair are coupled to the output terminal of the second decoder circuit 12 (see FIG. 1).
上記コモンデータ線Di,▲▼は、プリアンプ120の一
対の入力端子及び書き込み回路10(第1図参照)の一対
の出力端子に接続される。The common data lines Di, ▲ ▼ are connected to a pair of input terminals of the preamplifier 120 and a pair of output terminals of the write circuit 10 (see FIG. 1).
上記センスアンプ120の出力端子は、出力線DOUに接続さ
れている。The output terminal of the sense amplifier 120 is connected to the output line D OU .
なお、上記メモリアレイ7及び8において、各ワード線
は、メモリセルにおけるトランスファ用FETがNチャン
ネル型とされていることによって、信号のハイレベルに
よって選択される。In the memory arrays 7 and 8, each word line is selected by the high level of the signal because the transfer FET in the memory cell is of the N channel type.
また、各データ線対は、第2デコーダ回路12から出力さ
れる信号のハイレベルによって選択される。Each data line pair is selected by the high level of the signal output from the second decoder circuit 12.
第3A図は、アドレスバッファ回路1及び第1アドレスデ
コーダ回路2の回路図である。FIG. 3A is a circuit diagram of the address buffer circuit 1 and the first address decoder circuit 2.
上記アドレスバッファ回路2は、端子A0ないしA6にそれ
ぞれ対応させられた単位バッファ回路1aないし1gから構
成されている。The address buffer circuit 2 is composed of unit buffer circuits 1a to 1g associated with the terminals A 0 to A 6 , respectively.
上記各単位バッファ回路は、縦続接続された2つのイン
バータ回路IV1及びIV2から構成されている。Each unit buffer circuit is composed of two inverter circuits IV 1 and IV 2 connected in cascade.
上記インバータ回路IV1及びIV2のそれぞれは、第3C図に
示されたように、ドレインが出力端子OUTに共通接続さ
れ、ゲートが入力端子INに共通接続されたpチャンネル
型FET P0とnチャンネル型FET N0とから構成されてい
る。なお前記第2図及び後の図面において、図面の都合
上省略されているが、pチャンネル型FETの基体ゲート
は、第3C図のpチャンネル型FET P0の基体ゲートS1と同
様に電源端子VCCに接続され、またnチャンネル型FETの
基体ゲートは、nチャンネル型FET N0の基体ゲートS2と
同様に他方の電源端子GNDに接続されている。In each of the inverter circuits IV 1 and IV 2 , as shown in FIG. 3C, p-channel FETs P 0 and n having drains commonly connected to the output terminal OUT and gates commonly connected to the input terminal IN. It is composed of a channel type FET N 0 . Although not shown in FIG. 2 and the subsequent drawings for convenience of illustration, the body gate of the p-channel FET is similar to the body gate S 1 of the p-channel FET P 0 in FIG. The body gate of the n-channel FET is connected to V CC, and is connected to the other power supply terminal GND similarly to the body gate S 2 of the n-channel FET N 0 .
第1デコーダ回路2は、それぞれ2ビットずつに区分さ
れた部分アドレス信号を受けることによってそれぞれ中
間項信号を出力する単位デコーダ回路2aないし2lから構
成されている。The first decoder circuit 2 is composed of unit decoder circuits 2a to 2l which output intermediate term signals by receiving partial address signals each divided into 2 bits.
なお、上記単位デコーダ回路は、上記部分アドレス信号
に対応してその4つずつが実質的に1つの回路群を構成
している。単位デコーダ回路群2aないし2ilの相互は同
一の構成にされる。そのため、第3A図では、単位デコー
ダ回路群2adの回路だけが詳細に示されている。It should be noted that, in the unit decoder circuit, four of them correspond to the above-mentioned partial address signal and substantially form one circuit group. The unit decoder circuit groups 2a to 2il have the same configuration. Therefore, in FIG. 3A, only the circuits of the unit decoder circuit group 2ad are shown in detail.
上記単位デコーダ回路群2adにおいて、単位デコーダ回
路2aはpチャンネル型FET P1,P2、Nチャンネル型FET N
9及びN10から構成された相補型のナンド回路と、上記ナ
ンド回路の出力信号を受けるpチャンネル型FET P3及び
Nチャンネル型FET N11から構成された相補型のインバ
ータ回路とから構成されている。In the unit decoder circuit group 2ad, the unit decoder circuit 2a includes p-channel type FETs P 1 and P 2 and N-channel type FET N.
A NAND circuit configured complementary 9 and N 10, is composed of a p-channel type FET P 3 and N-channel type FET N 11 complementary constructed from the inverter circuit receiving an output signal of the NAND circuit There is.
単位バッファ回路1a及び1bの出力信号B0及び の少なくとも1つがロウレベルの場合、並列接続された
上記pチャンネル型FET P1及びP2の少なくとも1つがオ
ン状態とされ、また直列接続されたNチャンネル型FET
N9及びN10の少なくとも1つがオフ状態にされるので、
上記ナンド回路2aの出力信号はハイレベルにされる。The output signals B 0 and of the unit buffer circuits 1a and 1b Is at a low level, at least one of the p-channel FETs P 1 and P 2 connected in parallel is turned on, and the N-channel FETs connected in series are connected.
Since at least one of N 9 and N 10 is turned off,
The output signal of the NAND circuit 2a is set to high level.
上記信号 及びB1が同時にハイレベルにされることによって、上記
ナンド回路2aの出力信号はロウレベルにされる。上記イ
ンバータ回路は、上記ナンド回路2aの出力信号に対し反
転した信号を出力する。Above signal By simultaneously setting B 1 and B 1 to the high level, the output signal of the NAND circuit 2a is set to the low level. The inverter circuit outputs an inverted signal of the output signal of the NAND circuit 2a.
上記ナンド回路2aにおいて、その出力信号の変化速度
は、回路のノードNA0,NA1と回路の接地点との間に存在
する浮遊容量(図示しない)と、上記各FETのオン抵抗
とによって制限される。pチャンネル型FET P1とP2とが
並列接続されているのに対しNチャンネル型FET N9とN
10が直列接続されているので、上記出力信号の立下がり
速度は、立上り速度に比べて特に制限される。In the NAND circuit 2a, the rate of change of its output signal is limited by the stray capacitance (not shown) existing between the nodes NA 0 and NA 1 of the circuit and the ground point of the circuit, and the ON resistance of each FET. To be done. p-channel FETs P 1 and P 2 are connected in parallel, while n-channel FETs N 9 and N
Since 10 are connected in series, the falling speed of the output signal is particularly limited as compared with the rising speed.
しかしながら、この実施例においては、上記のように2
個のNチャンネル型FETだけが直列接続されるにすぎな
いので、上記出力信号の立下り速度を比較的大きくさせ
ることができる。However, in this embodiment, as described above,
Since only N-channel FETs are connected in series, the falling speed of the output signal can be made relatively high.
単位デコーダ回路2bないし2dは、上記単位デコーダ回路
2aと同様に、相補型のナンド回路とインバータ回路とか
ら構成されている。The unit decoder circuits 2b to 2d are the above unit decoder circuits.
Similar to 2a, it is composed of a complementary NAND circuit and an inverter circuit.
図示のような接続により、上記単位デコーダ回路2aない
し2dのそれぞれは、部分アドレス信号A0及びA1に基づい
て形成された信号B0, に対し、それぞれ次式(1)ないし(4)を満足する中
間項信号MX0ないしMX3を出力する。With the connection as shown, each of the unit decoder circuits 2a to 2d has a signal B 0 , formed based on the partial address signals A 0 and A 1 . On the other hand, the intermediate term signals MX 0 to MX 3 respectively satisfying the following expressions (1) to (4) are output.
単位デコーダ回路2eないし2h及び2iないし2lは、同様に
それぞれ部分アドレス信号にもとづいて中間項信号MX4
ないしMX7及びMX8ないしMX11を出力する。 The unit decoder circuits 2e to 2h and 2i to 2l similarly use the intermediate term signal MX 4 based on the partial address signal, respectively.
To MX 7 and MX 8 to MX 11 are output.
各単位デコーダ回路群は、2つの単位バッファ回路から
の4つの信号に対し、これと同数の中間項信号を出力す
る。Each unit decoder circuit group outputs the same number of intermediate term signals as the four signals from the two unit buffer circuits.
上記のように、アドレス信号を2ビットずつの部分アド
レス信号に区分し、しかも部分アドレス信号毎にデコー
ドする構成とした場合、単位デコーダ回路の数を比較的
少なくすることができる。また、これに応じて第2デコ
ーダ回路4に供給するための中間項信号の種類も少なく
することができる。When the address signal is divided into 2-bit partial address signals and the partial address signals are decoded as described above, the number of unit decoder circuits can be relatively reduced. In addition, the types of intermediate term signals to be supplied to the second decoder circuit 4 can be reduced accordingly.
第3B図は、第2デコーダ回路4及びワードドライブ回路
5の詳細な回路を示している。FIG. 3B shows detailed circuits of the second decoder circuit 4 and the word drive circuit 5.
上記第2デコーダ回路4は、64個の単位デコーダ回路4a
ないし4xから構成されており、またワードドライブ回路
5は、128個の単位ドライブ回路5aないし5yから構成さ
れている。The second decoder circuit 4 includes 64 unit decoder circuits 4a.
To 4x, and the word drive circuit 5 is composed of 128 unit drive circuits 5a to 5y.
上記単位デコーダ回路4aないし4xのそれぞれは、同じ構
成にされている。The unit decoder circuits 4a to 4x have the same configuration.
すなわち、単位デコーダ回路4aないし4xは、それぞれp
チャンネル型FET P4ないしP6及びNチャンネル型FET N
12ないしN14によって構成された相補型のナンド回路か
ら構成されている。That is, each of the unit decoder circuits 4a to 4x has p
Channel FET P 4 to P 6 and N Channel FET N
It is composed of a complementary NAND circuit composed of 12 to N 14 .
上記単位デコーダ回路4aないし4xは、それぞれ3つの入
力端子を持っている。一対のFET P4及びN12のゲートに
接続された入力端子には中間項信号MX0ないしMX3のうち
の1つの信号が供給され、一対のFET P5及びN13のゲー
トに接続された入力端子には、中間項信号MX4ないしMX7
のうちの1つの信号が供給され、また残りの一対のFET
P6及びN14のゲートに接続された入力端子には、中間項
信号MX8ないしMX11のうちの1つの信号が供給される。Each of the unit decoder circuits 4a to 4x has three input terminals. The input terminal connected to the gates of the pair of FETs P 4 and N 12 is supplied with one of the intermediate term signals MX 0 to MX 3 and connected to the gates of the pair of FETs P 5 and N 13 . The input terminals are connected to the intermediate signal MX 4 to MX 7
One of the FETs, and the remaining pair of FETs
The input terminal connected to the gates of P 6 and N 14 is supplied with one of the intermediate term signals MX 8 to MX 11 .
各単位デコーダ回路4aないし4xは、上記の3種類の中間
項信号を選択的に受けるように構成されていることによ
って6ビットのアドレス信号A0ないしA5の組合せと一対
一対応させられる。Each of the unit decoder circuits 4a to 4x is configured to selectively receive the above-mentioned three types of intermediate term signals, so that each unit decoder circuit 4a to 4x is made to correspond one-to-one with a combination of 6-bit address signals A 0 to A 5 .
例えば、単位デコーダ回路4aは、中間項信号MX0,MX4及
びMX8を受ける構成とされていることによって、6ビッ
トのアドレス信号A0ないしA5のすべてがロウレベルにさ
れているとこれに応じてロウレベルの信号K0を出力す
る。For example, since the unit decoder circuit 4a is configured to receive the intermediate term signals MX 0 , MX 4 and MX 8 , it is assumed that all the 6-bit address signals A 0 to A 5 are at low level. In response, a low level signal K 0 is output.
上記単位デコーダ回路4aないし4xのそれぞれの出力信号
は、図示のような回路接続によりそれぞれ2個ずつの単
位ワードドライブ回路5a,5bないし5X,5Yに供給される。The respective output signals of the unit decoder circuits 4a to 4x are supplied to two unit word drive circuits 5a, 5b to 5X, 5Y by the circuit connection shown in the figure.
各単位ワードドライブ回路は、またワード制御回路3か
ら制御信号L0ないしL2を受けるようにされる。Each unit word drive circuit is also adapted to receive control signals L 0 to L 2 from the word control circuit 3.
上記制御信号L0は、制御回路15から出力される制御信号
▲▼がチップ選択信号▲▼のロウレベルに対
応してロウレベルにされ、しかもアドレスバッファ回路
14から出力される信号B7がロウレベルにされることに応
じてロウレベルにされる。制御信号L1は、上記制御回路
15から出力される制御信号CS1がチップ選択信号▲
▼のロウレベルに応じてハイレベルにされ、しかも上記
アドレスバッファ回路1及び13から出力される信号 がハイレベルにされることによってロウレベルにされ
る。上記制御信号L2は、上記制御信号CS1がハイレベル
にされしかも信号B6 がハイレベルにされることによってハイレベルにされ
る。The control signal L 0 is set to the low level corresponding to the low level of the chip selection signal ▲ ▼ of the control signal ▲ ▼ output from the control circuit 15, and the address buffer circuit
When the signal B 7 output from 14 is set to low level, it is set to low level. The control signal L 1 is the above control circuit.
Control signal CS1 output from 15 is the chip selection signal ▲
A signal which is set to a high level according to the low level of ▼ and is output from the address buffer circuits 1 and 13 Is set to a low level by setting it to a high level. The control signal L 2, said control signal CS1 is high level addition signal B 6 Is brought to a high level by bringing it to a high level.
第3B図において、各単位ドライブ回路5aないし5yは、チ
ップ選択信号▲▼及び列アドレス信号B7がロウレベ
ルであるとき、対応する単位デコーダ回路4aないし4xの
出力によって動作させられる。In FIG. 3B, each unit drive circuit 5a to 5y is operated by the output of the corresponding unit decoder circuit 4a to 4x when the chip selection signal {circle around (5)} and the column address signal B 7 are at low level.
一対の単位ドライブ回路5aもしくは5bは、実質的に行ア
ドレス信号B6もしくは によってその一方が動作させられる。The pair of unit drive circuits 5a or 5b are substantially the same as the row address signal B 6 or One of them is operated by.
例えば、単位デコーダ回路4aの出力信号K0が前記のよう
にアドレス信号A0ないしA5のロウレベルに応じてロウレ
ベルにされている場合において、行アドレス信号 がハイレベルなら、これに応じて制御信号L1はハイレベ
ルにされ、また制御信号L2はロウレベルにされることに
なる。単位ドライブ回路5aは、FET P7がオン状態とさ
れ、FET N15ないしN17がオフ状態とされるのでハイレベ
ルのワード信号W0を出力することになる。単位ドライブ
回路5bは、上記制御信号L2がロウレベルにされ、またFE
T N16がオン状態にされるのでロウレベルのワード信号W
1を出力する。For example, when the output signal K 0 of the unit decoder circuit 4a is set to the low level according to the low level of the address signals A 0 to A 5 as described above, the row address signal Is high level, the control signal L 1 is set to high level and the control signal L 2 is set to low level accordingly. The unit drive circuit 5a outputs the high-level word signal W 0 because the FET P 7 is turned on and the FETs N 15 to N 17 are turned off. In the unit drive circuit 5b, the control signal L 2 is set to low level, and the FE
Since TN 16 is turned on, the low-level word signal W
Output 1
逆に行アドレス信号B6がハイレベルとされているなら、
これに応じて単位ドライブ回路5bのワード信号W1がハイ
レベルにされる。On the contrary, if the row address signal B 6 is at high level,
In response to this, the word signal W 1 of the unit drive circuit 5b is set to the high level.
図示しないが、メモリアレイ8のためのワードドライブ
回路6は、上記ワードドライブ回路5と類似の構成とさ
れる。上記ワードドライブ回路6は、チップ選択信号▲
▼及び列アドレス信号 がロウレベルであるとき、上記第2デコーダ回路4の出
力信号によって動作させられる。Although not shown, the word drive circuit 6 for the memory array 8 has a configuration similar to that of the word drive circuit 5. The word drive circuit 6 has a chip selection signal ▲
▼ and column address signal Is at a low level, it is operated by the output signal of the second decoder circuit 4.
上記構成によると、メモリアレイで必要とされるワード
線数に対して第2デコーダ回路における単位デコーダ回
路の数を半分に減少させることができる。According to the above configuration, the number of unit decoder circuits in the second decoder circuit can be reduced to half the number of word lines required in the memory array.
第2デコーダ回路4を構成する各単位デコーダ回路にお
いて、回路の動作速度を制限する直列接続のFETの数
は、前記第1デコーダ回路における単位デコーダ回路と
同様に減少させられている。In each unit decoder circuit that constitutes the second decoder circuit 4, the number of series-connected FETs that limit the operating speed of the circuit is reduced similarly to the unit decoder circuit in the first decoder circuit.
第3A図において、単位バッファ回路を構成する相補型イ
ンバータ回路I V1,I V2は、それぞれ2対のFETを駆動す
るだけで良いようになる。そのため、上記インバータ回
路I V1及びI V2は比較的軽い負荷を駆動するような構成
にすることができる。In FIG. 3A, the complementary inverter circuits IV 1 and IV 2 forming the unit buffer circuit need only drive two pairs of FETs. Therefore, the inverter circuits IV 1 and IV 2 can be configured to drive a relatively light load.
同様に、第1デコーダ回路2を構成する各単位デコーダ
回路は、それぞれ第2デコーダ回路4を構成する比較的
少ない対のFETを駆動するだけで良いようになる。Similarly, each unit decoder circuit forming the first decoder circuit 2 needs to drive only a relatively small number of pairs of FETs forming the second decoder circuit 4.
その結果、第3A図及び第3B図の回路は、比較的小型にで
き、しかも高速動作をさせることができるようになる。As a result, the circuits of FIGS. 3A and 3B can be made relatively small and can operate at high speed.
第4A図は、列アドレスバッファ回路14及び第1列デコー
ダ回路13の具体的回路を示している。FIG. 4A shows specific circuits of the column address buffer circuit 14 and the first column decoder circuit 13.
上記アドレスバッファ回路14は、単位バッファ回路14a
ないし14gから構成されている。各単位バッファ回路
は、前記第3A図の単位バッファ回路と同様に、それぞれ
直列接続された相補型インバータ回路I V1及びI V2から
構成されている。The address buffer circuit 14 is a unit buffer circuit 14a.
Or 14g. Similar to the unit buffer circuit shown in FIG. 3A, each unit buffer circuit is composed of serially connected complementary inverter circuits IV 1 and IV 2 .
第1デコーダ回路13は、図示のように12個の単位デコー
ダ回路13aないし13lから構成されている。The first decoder circuit 13 is composed of twelve unit decoder circuits 13a to 13l as shown in the figure.
各単位デコーダ回路13aないし13lは、相互において類似
の構成とされている。すなわち、各単位デコーダ回路13
aないし13lは、それぞれpチャンネル型FET P8,P9、N
チャンネル型FET N18及びN19から構成された相補型のノ
ア回路と、上記ノア回路の出力信号を受けるPチャンネ
ル型FET P10及びNチャンネル型FET N20から構成された
相補型のインバータ回路から構成されている。The unit decoder circuits 13a to 13l have similar configurations to each other. That is, each unit decoder circuit 13
a to 13l are p-channel FETs P 8 , P 9 and N, respectively.
From a complementary NOR circuit composed of channel FETs N 18 and N 19 and a complementary inverter circuit composed of P-channel FET P 10 and N-channel FET N 20 for receiving the output signal of the NOR circuit. It is configured.
単位デコーダ回路13aないし13dは、第1の単位デコーダ
群13adを構成しており、それぞれ2ビットの部分アドレ
ス信号A7及びA8に対する中間項信号MY0ないしMY3を出力
する。The unit decoder circuits 13a to 13d constitute a first unit decoder group 13ad and output intermediate term signals MY 0 to MY 3 for the 2-bit partial address signals A 7 and A 8 , respectively.
図示のような回路構成により、上記各中間項信号MY0な
いしMY3は、それぞれ次式(5)ないし(8)のような
関係を満足する。With the circuit configuration shown in the figure, the respective intermediate term signals MY 0 to MY 3 satisfy the relationships of the following equations (5) to (8), respectively.
MY3=B7+B8 ……(8) 単位デコーダ回路群13eh及び13ilも同様に、部分アドレ
ス信号に応じて、中間項信号MY1ないしMY7及びMY8ない
しMY11を出力する。 MY 3 = B 7 + B 8 ...... (8) the unit decoder circuit group 13eh and 13il likewise, in accordance with the partial address signals, to no intermediate term signal MY 1 outputs the MY 7 and MY 8 to MY 11.
上記中間項信号MY0ないしMY11のそれぞれと、単位バッ
ファ回路14gの出力信号B13及び は、第4B図の第2列デコーダ回路12に供給される。Each of the intermediate signal MY 0 to MY 11 and the output signal B 13 of the unit buffer circuit 14g and Are supplied to the second column decoder circuit 12 of FIG. 4B.
第2デコーダ回路12は、128個の単位デコーダ回路12aな
いし12uから構成されている。The second decoder circuit 12 is composed of 128 unit decoder circuits 12a to 12u.
各単位デコーダ回路12aないし12uは、図示のように、そ
れぞれPチャンネル型FET P11ないしP14及びNチャンネ
ル型FET N21ないしN24とから構成された相補型のノア回
路から構成されている。As shown, each unit decoder circuit 12a to 12u is composed of a complementary NOR circuit composed of P-channel FETs P 11 to P 14 and N-channel FETs N 21 to N 24 , respectively.
各単位デコーダ回路12aないし12uには、信号 から選択された1つの信号、中間項信号MY0ないしMY3か
ら選択された1つの信号、中間項信号MY4ないしMY7から
選択された1つの信号及び中間項信号MY8ないしMY11か
ら選択された1つの信号からなる計4種類の信号がそれ
ぞれ供給される。Each unit decoder circuit 12a to 12u has a signal One signal selected from, one signal selected from intermediate term signals MY 0 to MY 3, one signal selected from intermediate term signals MY 4 to MY 7, and selected from intermediate term signals MY 8 to MY 11. A total of four types of signals, each of which is a single signal, are supplied.
前述したように、メモリアレイのデータ線の選択は、第
2デコーダ回路12からのハイレベルの信号により行なわ
れている。As described above, the data line of the memory array is selected by the high level signal from the second decoder circuit 12.
従って、各単位デコーダ回路に供給する上記4種類の信
号は、入力アドレス信号A7ないしA13のそれぞれのレベ
ルの所望の組合せに一対一に対応してハイレベルとなる
ように選択される。Therefore, the above-mentioned four kinds of signals supplied to each unit decoder circuit are selected to have a high level in a one-to-one correspondence with a desired combination of the levels of the input address signals A 7 to A 13 .
例えば、単位デコーダ回路12aは、図示のような接続に
より、信号MY0,MY4,MY8及びB13がすべてロウレベルにさ
れたとき、すなわちアドレス信号A7ないしA13がすべて
ロウレベルにされたときにおいて、ハイレベルのデータ
線選択信号I0を出力する。For example, the unit decoder circuit 12a uses the connection shown in the figure to set all the signals MY 0 , MY 4 , MY 8 and B 13 to the low level, that is, when the address signals A 7 to A 13 are all set to the low level. At, the high level data line selection signal I 0 is output.
上記第1デコーダ回路13を設けることにより、前記第3A
図及び第3B図の場合と同様な理由によって第2デコーダ
回路12のFETの数を減らすことができ、しかも第2デコ
ーダ回路12の動作速度を速くすることができる。By providing the first decoder circuit 13, the third decoder
The number of FETs in the second decoder circuit 12 can be reduced and the operating speed of the second decoder circuit 12 can be increased for the same reason as in the case of FIGS.
これに対して、第1デコーダ回路13を設けない場合、第
2デコーダ回路における単位デコーダ回路において、各
入力アドレス信号に対して、一対のPチャンネル型FET
と1個のNチャンネル型FETとが必要とされるようにな
る。従って入力アドレス信号A7ないしA13に対して、上
記単位デコーダ回路は7対、すなわち14個ものFETを必
要としてしまう。On the other hand, when the first decoder circuit 13 is not provided, in the unit decoder circuit in the second decoder circuit, a pair of P-channel FETs are provided for each input address signal.
And one N-channel FET will be required. Therefore, for the input address signals A 7 to A 13 , the unit decoder circuit requires 7 pairs, that is, 14 FETs.
なお、この例では入力アドレス信号A13は、組となる入
力アドレス信号がない。そのため、この入力アドレス信
号A13にもとづいて発生されたアドレス信号 が上記のように第2デコーダ回路に送られている。この
ようにすると、第2デコーダ回路12で必要とされる入力
線は、14本ですむ。この本数は、第1デコーダ回路13を
設けないときのデコーダ回路の入力線数と同数である。In this example, the input address signal A 13 has no pair of input address signals. Therefore, the address signal generated based on this input address signal A 13 Are sent to the second decoder circuit as described above. By doing so, the number of input lines required for the second decoder circuit 12 is only 14. This number is the same as the number of input lines of the decoder circuit when the first decoder circuit 13 is not provided.
なお、上記にかえて入力アドレス信号A11,A12及びA13の
3ビットを部分アドレス信号としてこれをデコードする
ことによって第2デコーダ回路へ供給するための中間項
信号としてもよい。このようにすると、第2デコーダ回
路を構成する単位デコーダ回路におけるFETを2個減ら
すことができる。Instead of the above, 3 bits of the input address signals A 11 , A 12 and A 13 may be used as an intermediate term signal to be supplied to the second decoder circuit by decoding this as a partial address signal. By doing so, it is possible to reduce the number of FETs in the unit decoder circuit forming the second decoder circuit by two.
上記のように第2デコーダ回路のFETの数が減ることに
より、この第2デコーダ回路において、電源端子VCCと
その出力との間に接続されるPチャンネル型FETの数も
減る。従って、Pチャンネル型FET P11ないしP14の全て
がオン状態にされるようなとき、電源VCCと出力ノード
との間に存在するFETのオン抵抗も減る。この結果、負
荷に対する第2デコーダの駆動能力が大きくなり、上記
信号のロウレベルからハイレベルへの変化を速くするこ
とができる。Since the number of FETs in the second decoder circuit is reduced as described above, the number of P-channel type FETs connected between the power supply terminal V CC and its output is also reduced in this second decoder circuit. Therefore, when all of the P-channel FETs P 11 to P 14 are turned on, the on-resistance of the FET existing between the power supply V CC and the output node is also reduced. As a result, the driving capability of the second decoder with respect to the load is increased, and the change of the signal from low level to high level can be accelerated.
しかも、第2デコーダ12の入力線に接続されるFETのゲ
ート数は64個となり、第1デコーダ回路13を設けないと
きのデコーダの線に接続されるFETのゲート数に比べ1/2
となる。すなわち、第1デコーダの負荷が小さくなる。
従って、第1デコーダの動作速度を速くすることができ
る。また、各バッファの負荷も第1デコーダだけである
ため、バッファの動作速度も速くできる。Moreover, the number of gates of the FETs connected to the input line of the second decoder 12 is 64, which is 1/2 of the number of gates of the FETs connected to the line of the decoder when the first decoder circuit 13 is not provided.
Becomes That is, the load on the first decoder is reduced.
Therefore, the operating speed of the first decoder can be increased. Moreover, since the load of each buffer is only the first decoder, the operating speed of the buffer can be increased.
第5図は、上記ワード制御回路3の論理図である。FIG. 5 is a logic diagram of the word control circuit 3.
上記ワード制御回路3は、同図に示すように、ナンド回
路150ないし153と、ノア回路154及び155とインバータ15
6ないし161とにより構成されている。The word control circuit 3 includes NAND circuits 150 to 153, NOR circuits 154 and 155, and an inverter 15 as shown in FIG.
It is composed of 6 to 161.
上記各回路は相補型FETによって構成される。Each of the above circuits is composed of complementary FETs.
上記ワード制御回路3から出力される制御信号L0及びR0
は、前記のように第1メモリアレイ7又は第2メモリア
レイ8のいずれかを選択させるために発生させられる。
従って、上記制御信号によって一方のメモリアレイが選
択されているときは、他方のアレイは非選択とされる。
そのため、選択しないメモリアレイにおける消費電力の
増加をなくすことができる。Control signals L 0 and R 0 output from the word control circuit 3
Is generated to select either the first memory array 7 or the second memory array 8 as described above.
Therefore, when one memory array is selected by the control signal, the other array is deselected.
Therefore, it is possible to prevent an increase in power consumption in the non-selected memory array.
すなわち、メモリアレイ7及び8において、各データ線
には前記第2図のように、負荷用FET N1,N2が接続され
る。この負荷用FETは、メモリセル内の抵抗に比べて比
較的低いインピーダンスを持つようにされている。That is, in the memory arrays 7 and 8, the load FETs N 1 and N 2 are connected to each data line as shown in FIG. This load FET has a relatively low impedance as compared with the resistance in the memory cell.
選択すべきメモリセルが存在しないメモリアレイにおい
てそのワード線がハイレベルにされた場合、このワード
線のハイレベルによってメモリセルのトランスファ用FE
T N5,N6がオン状態とされる。When the word line is set to the high level in a memory array in which there is no memory cell to be selected, the high level of this word line causes the transfer FE of the memory cell to be transferred.
TN 5 and N 6 are turned on.
その結果、メモリセルのFET N7又はN8には、上記負荷用
FET N1又はN2及びトランスファ用FET N5又はN8を介して
比較的大きい電流が流されてしまうことになる。As a result, the FET N 7 or N 8 of the memory cell
A relatively large current will flow through the FET N 1 or N 2 and the transfer FET N 5 or N 8 .
この実施例に従うと、選択すべきメモリセルを含まない
メモリアレイにおけるすべてのワード線は、上記の制御
信号L0もしくはR0によってロウレベルのままにされる。
従って、このメモリアレイにおけるメモリセルの上記の
ような電流が流れてしまうことが禁止されるので消費電
力の増加が防がれる。According to this embodiment, all word lines in the memory array which do not contain the memory cell to be selected are kept at low level by the control signal L 0 or R 0 .
Therefore, it is possible to prevent the above-mentioned current from flowing through the memory cells in this memory array, which prevents an increase in power consumption.
この発明に従えば、上記各回路は、基準の寸法を少なく
するような配置で、1つの基板上に形成することができ
る。According to the present invention, each of the circuits described above can be formed on one substrate in an arrangement that reduces the reference size.
第6図は、1つの半導体基板150上に形成される各回路
ブロックのパターンを示している。FIG. 6 shows a pattern of each circuit block formed on one semiconductor substrate 150.
同図において、第2デコーダ回路4が基板150の表面の
ほぼ中央に形成される。この第2デコーダ回路4をはさ
んでワードドライブ回路5及び6が形成され、更にこれ
らをはさんで第1アレイ7及び第2アレイ8が形成され
る。In the figure, the second decoder circuit 4 is formed in the substantially center of the surface of the substrate 150. Word drive circuits 5 and 6 are formed by sandwiching the second decoder circuit 4, and further, a first array 7 and a second array 8 are formed by sandwiching them.
第2デコーダ12は、12′と12″とに分けられ、それぞれ
第1アレイ7及び第2アレイ8の下側に形成され、また
入出力回路9も、同様に、9′と9″とに分けられ、上
記第1アレイ7と第2デコーダ12′との間、及び第2ア
レイ8と第2デコーダ12″との間に形成されている。The second decoder 12 is divided into 12 'and 12 ", which are formed below the first array 7 and the second array 8, respectively, and the input / output circuit 9 is also divided into 9'and 9". They are divided and formed between the first array 7 and the second decoder 12 'and between the second array 8 and the second decoder 12 ".
第1デコーダ回路13及びアドレスバッファ回路14も、同
様にそれぞれ13′,13″及び14′,14″に分けられ、同図
のように第1及び第2アレイ、第2デコーダ回路12′及
び12″と離れた基板150の表面上の周辺部分に形成され
ている。また、アドレスバッファ回路1及び第2デコー
ダ回路2も、第1及び第2アレイ,第2デコーダ回路4
及びワードドライブ回路5及び6から離れた基板150の
表面上の周辺部分に形成されている。Similarly, the first decoder circuit 13 and the address buffer circuit 14 are also divided into 13 ', 13 "and 14', 14", respectively, and as shown in the figure, the first and second arrays and the second decoder circuits 12 'and 12'. ″, And is formed in a peripheral portion on the surface of the substrate 150 which is separated from the ″ ″.
And formed on the peripheral portion of the surface of the substrate 150 away from the word drive circuits 5 and 6.
ワード制御回路3,制御回路15,書き込み回路10及び読み
出し回路11も同図のように、基板150の表面上の周辺部
に形成されている。The word control circuit 3, the control circuit 15, the writing circuit 10, and the reading circuit 11 are also formed in the peripheral portion on the surface of the substrate 150, as shown in FIG.
また、基板150の表面上の周囲に入力アド信号A0ないしA
13を受ける端子を回路装置外の端子に接続するためのボ
ンディングパッドPA0ないしPA13が配置され、同様に、
電圧を受ける端子,制御信号▲▼,▲▼を受け
る端子及び入力信号Dinを受ける端子,信号Doutを出力
する端子等を回路装置外の端子に接続するためのボンデ
ィングパッドP1,P2,P▲▼,P▲▼及びPDin,PDou
t等が基板150の表面の周囲に配置される。In addition, the input add signals A 0 to A 0
Bonding pads PA 0 to PA 13 for connecting the terminal receiving 13 to the terminal outside the circuit device are arranged, and similarly,
Bonding pads P 1 , P 2 , P for connecting terminals for receiving voltage, terminals for receiving control signals ▲ ▼, ▲ ▼, terminals for receiving input signal Din, terminals for outputting signal Dout, etc. to terminals outside the circuit device ▲ ▼, P ▲ ▼ and PDin, PDou
The t and the like are arranged around the surface of the substrate 150.
上記各回路及び各ボンディングパッド等の相互の配線
は、同図において打点で示されたような配線領域151に
おいて行なわれる。Mutual wiring of each circuit and each bonding pad is performed in a wiring region 151 as indicated by a dot in the figure.
ところで、アレイ7又は8を構成する複数のセルの列方
向の繰り返えし寸法すなわちピッチと、上記セルに対応
するドライブ回路における単位ドライブ回路のピッチ及
び、上記ドライブ回路に対応する第2デコーダ4におけ
る単位デコーダ回路のピッチは、それぞれ同じにしてお
くことが、メモリの占有面積を小さくする上で望まし
い。すなわち、上記3者におけるそれぞれのピッチが異
なると、それぞれを接続する配線が屈曲することにな
り、この屈曲のために半導体基板に増加した面積が必要
とされるので、上記のように各ピッチをそろえることが
必要とされるのである。By the way, the repeated dimension, that is, the pitch in the column direction of the plurality of cells forming the array 7 or 8, the pitch of the unit drive circuit in the drive circuit corresponding to the cell, and the second decoder 4 corresponding to the drive circuit. It is desirable that the pitches of the unit decoder circuits in are the same in order to reduce the occupied area of the memory. That is, if the respective pitches of the above three parties are different, the wiring connecting them will be bent, and this bending requires an increased area on the semiconductor substrate. Alignment is required.
個々のメモリセルが、比較的小型かつ少数の素子によっ
て構成されることにより、複数のメモリセルのピッチは
比較的小さくされる。Since each memory cell is composed of a relatively small number and a small number of elements, the pitch of the plurality of memory cells is relatively small.
ワードドライブ回路を構成する単位ドライブ回路及び第
2デコーダを構成する単位デコーダ回路は、比較的大型
かつ多数の素子を含んでいる。上記単位ドライブ回路及
び単位デコーダ回路を構成する素子及び配線は、通常上
記メモリセルのピッチに合うように配置される。The unit drive circuit forming the word drive circuit and the unit decoder circuit forming the second decoder include a relatively large number of elements. The elements and wirings forming the unit drive circuit and the unit decoder circuit are usually arranged so as to match the pitch of the memory cells.
この実施例に従えば、上記第2デコーダ回路は、その素
子数が前記のように少なくされるので、比較的小さい横
方向寸法において形成することができる。According to this embodiment, since the number of elements of the second decoder circuit is reduced as described above, the second decoder circuit can be formed in a relatively small lateral dimension.
メモリにおいて、メモリアレイ,ワードドライブ回路及
び第2デコーダ回路の相互は、上記のように高密度に集
積され、その結果、これらの間に周辺回路のような他の
回路を配置できるような面積は得ることができない。In the memory, the memory array, the word drive circuit and the second decoder circuit are densely integrated with each other as described above, and as a result, there is no area where other circuits such as peripheral circuits can be arranged. Can't get
これに対し、上記回路の周囲に配置される周辺回路の相
互及びボンディングパッドの近傍には、比較的大きい空
き面積をとることが可能である。On the other hand, a relatively large vacant area can be provided between the peripheral circuits arranged around the circuit and in the vicinity of the bonding pad.
この実施例に従えば、第1デコーダ回路は、図示のよう
に、基板150の周辺に配置される。この第1デコーダ回
路は、前記のように2ビットずつの部分アドレス信号を
デコードするいくつかの単位デコード回路群に分けるこ
とができ、従って基板150の周辺の空き面積を有効に利
用して配置することができる。According to this embodiment, the first decoder circuit is arranged around the substrate 150, as shown. As described above, the first decoder circuit can be divided into several unit decoding circuit groups for decoding the partial address signal of 2 bits each, and therefore the first decoder circuit is arranged by effectively utilizing the empty area around the substrate 150. be able to.
その結果、この実施例に従うと、半導体基板を小型にす
ることが可能となる。As a result, according to this embodiment, the semiconductor substrate can be downsized.
第7図(A)は、この発明の実施例の第2デコーダ回路
4における単位デコーダ回路4aの平面図である。なお同
図には、紙面の都合上、単位デコーダ回路4aにおけるP
チャンネル型FET P6及びNチャンネル型FET N14のみが
示されている。FIG. 7A is a plan view of the unit decoder circuit 4a in the second decoder circuit 4 according to the embodiment of the present invention. In the figure, due to space limitations, P in the unit decoder circuit 4a is shown.
Only channel FET P 6 and N channel FET N 14 are shown.
同図において、150はN型の基板、152は上記基板150上
に形成されたP型ウエル、153及び154は、P型半導体領
域、155および156はN型半導体領域、82ないし85及び15
9,170はアルミ配線、157及び158は導電性ポリシリコ
ン、162ないし164はコンタクト穴である。In the figure, 150 is an N-type substrate, 152 is a P-type well formed on the substrate 150, 153 and 154 are P-type semiconductor regions, 155 and 156 are N-type semiconductor regions, 82 to 85 and 15.
Reference numeral 9170 denotes aluminum wiring, 157 and 158 conductive polysilicon, and 162 to 164 contact holes.
同図において、Pチャンネル型FET P6は、P型領域153
及び154とポリシリコン158により構成され、Nチャンネ
ル型FET N14はN型領域155及び156とポリシリコン157と
によって構成されている。なお同図には示されていない
が、上記P型領域154は、FET P4及びP5のドレイン領域
としても使われる。In the figure, the P-channel type FET P 6 has a P-type region 153.
And 154 and polysilicon 158, the N-channel FET N 14 is composed of N-type regions 155 and 156 and polysilicon 157. Although not shown in the figure, the P-type region 154 is also used as the drain region of the FETs P 4 and P 5 .
上記アルミ配線82ないし85には、前記第3A図における単
位でデコーダ回路2aないし2dから中間項信号MX0ないしM
X3が供給される。上記アルミ配線82は、コンタクト穴16
2を介してFET P6のゲート電極158に接続され、さらにコ
ンタクト穴163を介してFET N14のゲート電極157に接続
される。The aluminum wirings 82 to 85 are connected to the intermediate term signals MX 0 to M from the decoder circuits 2a to 2d in the unit shown in FIG. 3A.
X 3 is supplied. The aluminum wiring 82 has contact holes 16
It is connected to the gate electrode 158 of the FET P 6 via 2 and further connected to the gate electrode 157 of the FET N 14 via the contact hole 163.
アルミ配線159はコンタクト穴164を介して、上記P型領
域153に接続されており、このアルミ配線159は、電圧V
CCをPFET P6の一方の出力電極に供給する働きをする。The aluminum wiring 159 is connected to the P-type region 153 through the contact hole 164, and the aluminum wiring 159 is connected to the voltage V
It serves to supply CC to one output electrode of PFET P 6 .
アルミ配線170は、コンタクト穴161を介してP型領域15
4に接続され、さらにコンタクト穴160を介してN型領域
156に接続されている。このアルミ配線170を介して出力
信号K0が取り出されるようになっている。The aluminum wiring 170 is connected to the P-type region 15 through the contact hole 161.
4 connected to N-type region through contact hole 160
It is connected to 156. The output signal K 0 is taken out through the aluminum wiring 170.
同図におけるLは、単位デコーダ回路の縦の寸法(ピッ
チ)を示しており、これは、メモリアレイにおける複数
のセルのピッチと同じにされる。L in the figure indicates the vertical dimension (pitch) of the unit decoder circuit, which is made equal to the pitch of a plurality of cells in the memory array.
第7図(B)は、上記第7図(A)のT−T′の視断面
の断面図である。FIG. 7 (B) is a sectional view of a section taken along line TT ′ of FIG. 7 (A).
同図において、116及び167は、厚い絶縁膜であり、157
及び169は、それぞれPFET P6及びNFET N14のゲート酸化
膜である。In the figure, 116 and 167 are thick insulating films, and 157
And 169 are the gate oxides of PFET P 6 and NFET N 14 , respectively.
セルの寸法を小さくすることにより、メモリを大容量化
する場合、この発明をメモリに適用して、セルの寸法に
あわせて、第2デコーダの寸法を上記のように小さくす
ることができる。これによりチップの面積を有効に使う
ことができる。When the capacity of the memory is increased by reducing the size of the cell, the present invention can be applied to the memory to reduce the size of the second decoder according to the size of the cell as described above. As a result, the chip area can be used effectively.
この発明によれば、第2デコーダを構成するFETの数を
低減することができる。従って、低減した数のFETの占
有面積の分だけ、第2デコーダを構成するFETの1素子
当りの面積を大きくすることができる。According to the present invention, the number of FETs forming the second decoder can be reduced. Therefore, the area per FET of the second decoder can be increased by the area occupied by the reduced number of FETs.
このように素子の面積を大きくすることにより、素子の
オン抵抗を小さくすることができる。従って第3図及び
第4図において説明した第2デコーダの動作速度をさら
に上昇させることができる。By increasing the area of the element in this way, the on-resistance of the element can be reduced. Therefore, the operating speed of the second decoder described with reference to FIGS. 3 and 4 can be further increased.
第8図(A)は、上記第7図に代る単位デコーダ回路の
実施例の平面図である。なお、同図には、紙面の都合
上、Pチャンネル型FET P5,P6及びNチャンネル型FET N
13,N14のみが示されている。FIG. 8A is a plan view of an embodiment of the unit decoder circuit which is an alternative to FIG. In the figure, due to space limitations, P-channel FETs P 5 , P 6 and N-channel FET N
Only 13 , N 14 are shown.
同図において、150′はN型基板、152′はP型ウエル、
171,172及び173はP型半導体領域、174,175及び176はN
型半導体領域、82ないし89及び159,191,192,193はアル
ミ配線、176,177及び179は導電型のポリシリコンであ
る。In the figure, 150 'is an N type substrate, 152' is a P type well,
171, 172 and 173 are P type semiconductor regions, and 174, 175 and 176 are N regions.
Type semiconductor regions, 82 to 89 and 159, 191, 192, 193 are aluminum wirings, and 176, 177 and 179 are conductive type polysilicon.
同図において、FET P6は、P型半導体領域171,172及び
導電性ポリシリコン177により構成され、FET P5は、P
型半導体領域171,173及び導電性ポリシリコン176により
構成される。またFET N14は、N型半導体領域174,175及
び導電性ポリシリコン181により構成され、FET N13は、
N型半導体領域175,176及び導電性ポリシリコン180によ
り構成されている。アルミ配線86はコンタクト穴202を
介してFET P5のゲート電極176に接続され、更にコンタ
クト穴203を介してFET N13のゲート電極に接続されてい
る。また上記アルミ配線82は、コンタクト穴198を介し
てFET P6のゲート電極177に接続され、更にコンタクト
穴199を介してFET N14のゲート電極181に接続されてい
る。In the figure, FET P 6 is composed of P-type semiconductor regions 171, 172 and conductive polysilicon 177, and FET P 5 is P
It is composed of the type semiconductor regions 171, 173 and the conductive polysilicon 176. FET N 14 is composed of N-type semiconductor regions 174 and 175 and conductive polysilicon 181, and FET N 13 is
It is constituted by N-type semiconductor regions 175 and 176 and conductive polysilicon 180. The aluminum wiring 86 is connected to the gate electrode 176 of the FET P 5 via the contact hole 202, and further connected to the gate electrode of the FET N 13 via the contact hole 203. Further, the aluminum wiring 82 is connected to the gate electrode 177 of the FET P 6 via the contact hole 198, and further connected to the gate electrode 181 of the FET N 14 via the contact hole 199.
また同図における159は、アルミ配線であって、コンタ
クト穴204を介してP型半導体領域171に接続されてい
る。このアルミ配線は、電圧VCCをFET P6及びP5の一方
の出力電極を構成する上記P型半導体領域171に供給す
る働きをする。Further, reference numeral 159 in the figure is an aluminum wiring, which is connected to the P-type semiconductor region 171 through the contact hole 204. The aluminum wiring serves to supply the voltage V CC to the P-type semiconductor region 171 forming one output electrode of the FETs P 6 and P 5 .
アルミ配線193は、FET P5の他方の出力電極を構成する
P型半導体領域173を導電性ポリシリコン179に電気的に
接続されるためのものであって、コンタクト穴200及び2
01を介して上記P型領域173及びポリシリコン179に接続
されている。The aluminum wiring 193 is for electrically connecting the P-type semiconductor region 173 forming the other output electrode of the FET P 5 to the conductive polysilicon 179, and the contact holes 200 and 2
It is connected to the P-type region 173 and the polysilicon 179 through 01.
アルミ配線192は、FET P6の他方の出力電極を構成する
P型領域172をポリシリコン179に電気的に接続させるた
めのものであって、コンタクト穴196及び197を介してP
型領域172及びポリシリコン179と接続される。The aluminum wiring 192 is for electrically connecting the P-type region 172 forming the other output electrode of the FET P 6 to the polysilicon 179, and is formed through the contact holes 196 and 197.
It is connected to the mold region 172 and the polysilicon 179.
アルミ配線191は、N型領域174とポリシリコン179とを
電気的に接続させるためのものであって、コンタクト穴
194及び195を介して、上記ポリシリコン179及び上記N
型領域174とに接続されている。The aluminum wiring 191 is for electrically connecting the N-type region 174 and the polysilicon 179, and is a contact hole.
Via 194 and 195, the polysilicon 179 and the N
It is connected to the mold area 174.
上記単位デコーダ回路の出力信号X0は、上記ポリシリコ
ン179から取り出される。The output signal X 0 of the unit decoder circuit is taken out from the polysilicon 179.
上記平面図をP−P′視断面からみた断面図を第8図
(B)に示されている。A sectional view of the above plan view taken along the line P-P 'is shown in FIG. 8 (B).
同図における182及び183は厚い酸化膜である。また184
はFET P6のゲート酸化膜であり、185はFET N14のゲート
酸化膜である。In the figure, 182 and 183 are thick oxide films. Again 184
Is the gate oxide of FET P 6 and 185 is the gate oxide of FET N 14 .
この発明は、上記実施例に限定されない。The present invention is not limited to the above embodiment.
例えば、第4B図の単位デコーダ回路12にかえて、第4C図
のように、単位デコーダ回路12a′と、この単位デコー
ダ回路12a′の出力信号と中間項信号MY8ないしMY11を受
ける単位デコーダ回路とを組合せることができる。第4C
図の場合、12a′のような回路は、第4B図の場合に対し
その回路数を1/4にすることができる。For example, instead of the unit decoder circuit 12 of Figure 4B, as the 4C view, 'and, the unit decoder circuit 12a' unit decoder circuit 12a unit decoder receiving the output signal and the intermediate-term signal MY 8 to MY 11 of It can be combined with a circuit. 4th C
In the case of the figure, the number of circuits such as 12a 'can be reduced to 1/4 of that in the case of FIG. 4B.
また、各回路は、単一のチャンネル型のFETのみによっ
て構成しても良い。Further, each circuit may be composed of only a single channel type FET.
第9図(A)は、Nチャンネル型FET N28ないしN32によ
り構成された単位デコーダ回路の回路図である。このよ
うにすると単位デコーダ回路の回路図である。このよう
にすると単位デコーダ回路素子数を相補型FETを使用し
た回路よりもさらに減らすことができる。FIG. 9 (A) is a circuit diagram of a unit decoder circuit composed of N-channel FETs N 28 to N 32 . This is a circuit diagram of the unit decoder circuit. By doing so, the number of unit decoder circuit elements can be further reduced as compared with a circuit using complementary FETs.
第9図(B)は、Nチャンネル型FET N33ないしN38によ
り構成された単位デコーダ回路の回路図である。この場
合、制御回路15からの制御信号CS1によってFET N33がス
イッチ制御される。そのためメモリの非選択時に、単位
デコーダ回路が電力を消費しないようにすることができ
る。FIG. 9B is a circuit diagram of a unit decoder circuit composed of N-channel type FETs N 33 to N 38 . In this case, the FET N 33 is switch-controlled by the control signal CS1 from the control circuit 15. Therefore, it is possible to prevent the unit decoder circuit from consuming power when the memory is not selected.
第9図(C)は、Nチャンネル型FET N39ないしN46とイ
ンバータ210ないし213により構成された単位デコーダ回
路の回路図である。この場合、インバータを設けること
により第2デコーダでの電力消費を小さくすることがで
きる。FIG. 9C is a circuit diagram of a unit decoder circuit composed of N-channel FETs N 39 to N 46 and inverters 210 to 213. In this case, by providing the inverter, the power consumption of the second decoder can be reduced.
上記各実施例においては、2本の入力アドレス信号に対
応する4本のアドレス信号を第1デコーダ回路におい
て、デコードし、そのデコードにより得られた中間項信
号が第2デコーダ回路において、再びデコードされてい
た。In each of the above embodiments, four address signals corresponding to two input address signals are decoded in the first decoder circuit, and the intermediate term signal obtained by the decoding is decoded again in the second decoder circuit. Was there.
しかし、入力アドレス信号を3本以上にして、これに対
応する6本以上のアドレス信号を第1デコーダ回路にお
いて、デコードし、これにより得られた中間項信号を、
第2デコーダ回路において、更にデコードするようにし
てもよい。このようにすることにより、第2デコーダ回
路を構成するFETの数を更に低減させることができる。However, the number of input address signals is set to 3 or more, and 6 or more address signals corresponding thereto are decoded in the first decoder circuit, and the intermediate term signal obtained by this is
Further decoding may be performed in the second decoder circuit. By doing so, the number of FETs forming the second decoder circuit can be further reduced.
例えば、前述した実施例において、入力アドレス信号
A0,A1及びA2について、上記した構成を適用すると、第
2デコーダを構成するFETの数を4個にできる。For example, in the above-described embodiment, the input address signal
When the above-described configuration is applied to A 0 , A 1 and A 2 , the number of FETs forming the second decoder can be set to four.
この場合、第1デコーダとしては第10図(A)に示すよ
うな論理回路となる。In this case, the first decoder has a logic circuit as shown in FIG.
この第1デコーダ2a′は、ナンド回路222ないし229とイ
ンバータ214ないし221とにより構成されており、前記ア
ドレスバッファ回路1から入力アドレス信号にもとづい
て発生されたアドレス信号B0ないしB2及びB0ないしB2を
入力し、デコードされた中間項信号E0ないしE7を出力す
る。The first decoder 2a 'is composed of NAND circuits 222 to 229 and inverters 214 to 221. The address signals B 0 to B 2 and B 0 generated from the address buffer circuit 1 based on the input address signal. To B 2 are input and decoded intermediate term signals E 0 to E 7 are output.
このような第1デコーダ2a′を使うと第2デコーダは、
第10図(B)に示すような回路となる。When such a first decoder 2a 'is used, the second decoder
The circuit is as shown in FIG. 10 (B).
上記第2デコーダは、PチャンネルFET P17,P18及びN
チャンネルFET N47,N48より構成される。The second decoder includes P-channel FETs P 17 , P 18 and N.
It consists of channel FETs N 47 and N 48 .
この第2デコーダは2つの入力しかもたない。各入力例
えば入力I N8には、上記中間項信号E0ないしE7のうちの
いずれか1つが印加されればよい。This second decoder has only two inputs. Any one of the intermediate term signals E 0 to E 7 may be applied to each input, for example, the input IN 8 .
つまり、1個の第2デコーダは、入力アドレス信号A0,A
1及びA2に対して2個のFETしか必要としない。That is, one second decoder is used for the input address signals A 0 , A
Only two FETs are needed for 1 and A 2 .
従って、第2デコーダ回路の素子数をさらに低減するこ
とができる。Therefore, the number of elements of the second decoder circuit can be further reduced.
上記各実施例は、この発明をスタティック型のセルを用
いたメモリに適用したものだったが、これに限定される
ことなく、ダイナミック型のセルを用いたメモリに適用
することができる。この場合の効果は上述した各実施例
における効果と同様である。Although the above-described embodiments apply the present invention to the memory using the static type cells, the present invention is not limited to this and can be applied to the memory using the dynamic type cells. The effect in this case is similar to the effect in each of the above-described embodiments.
第1図は、この発明の実施のメモリのブロック図、 第2図は、メモリアレイと入出力回路の回路図、 第3A図は、行のアドレスバッファ回路及び第1デコーダ
回路の回路図、 第3B図は、行の第2デコーダ回路及びワードドライブ回
路の回路図、 第3C図は、インバータ回路の回路図、 第4A図は、列のアドレスバッファ回路及び第1デコーダ
回路の回路図、 第4B図及び第4C図は、第2デコーダ回路の回路図、 第5図は、ワード制御回路の回路図、 第6図は、この発明を実施したメモリの基板上のレイア
ウト図、 第7図(A)及び(B)は、この発明を実施したときの
第2デコーダの平面図及び断面図、 第8図(A)及び(B)は、この発明を実施したときの
他の第2デコーダの平面図、及び断面図、 第9図(A)ないし(C)は、この発明を実施した他の
第2デコーダの回路図、 第10図(A)は、他の第1デコーダの回路図、 第10図(B)は、他の第2デコーダの回路図である。1 is a block diagram of a memory according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram of a memory array and an input / output circuit, FIG. 3A is a circuit diagram of a row address buffer circuit and a first decoder circuit, 3B is a circuit diagram of a second decoder circuit and word drive circuit in a row, FIG. 3C is a circuit diagram of an inverter circuit, FIG. 4A is a circuit diagram of a column address buffer circuit and a first decoder circuit, 4B FIG. 4 and FIG. 4C are circuit diagrams of a second decoder circuit, FIG. 5 is a circuit diagram of a word control circuit, FIG. 6 is a layout diagram on a substrate of a memory embodying the present invention, and FIG. ) And (B) are a plan view and a sectional view of a second decoder when the present invention is implemented, and FIGS. 8A and 8B are planes of another second decoder when the present invention is implemented. The drawings, and the cross-sectional views, and FIGS. 9A to 9C show the present invention. Another circuit diagram of a second decoder, and FIG. 10 (A) is a circuit diagram of another first decoder, FIG. 10 (B) is a circuit diagram of another second decoder.
Claims (6)
リセルが配置され互いのワード線が分離されてなる複数
のメモリアレイと、 複数ビットの行アドレス信号を複数のグループに分けそ
れぞれをデコードする第1デコーダ回路と、 上記第1デコーダ回路から出力されるデコード信号を受
けてこれらをデコードする第2デコーダ回路と、 複数ビットの列アドレス信号をデコードし上記複数のメ
モリアレイの複数の列の中からそれぞれ1つを選択する
ための信号を形成する列デコード回路と、 入力アドレス信号のうち上記行アドレス信号および列ア
ドレス信号以外のアドレス信号を受けて上記複数のメモ
リアレイのうちの1つのメモリアレイを択一的に選択さ
せるための信号を発生する制御回路と、 上記複数のメモリアレイのそれぞれに対応して設けら
れ、上記第2デコーダ回路からのデコード信号を受けて
各メモリアレイ内の複数のワード線のうち1本のワード
線を択一的に選択する複数のワードドライブ回路とを有
し、 上記制御回路の出力信号によって上記複数のワードドラ
イブ回路のうちいずれか1つが動作状態とされることに
より上記複数のメモリアレイのうちの1つのメモリアレ
イ内の選択すべきメモリセルが接続されたワード線を活
性化するように構成されていることを特徴とする半導体
記憶回路装置。1. A plurality of memory arrays each having a plurality of memory cells arranged in a row direction and a column direction and having word lines separated from each other, and a row address signal of a plurality of bits are divided into a plurality of groups to be decoded. A first decoder circuit; a second decoder circuit that receives and decodes a decode signal output from the first decoder circuit; A column decode circuit for forming a signal for selecting one of the memory arrays, and one memory array of the plurality of memory arrays for receiving an address signal other than the row address signal and the column address signal of the input address signal. And a control circuit for generating a signal for selectively selecting A plurality of word drive circuits for selectively selecting one word line of the plurality of word lines in each memory array in response to the decode signal from the second decoder circuit. A word to which a memory cell to be selected in one memory array of the plurality of memory arrays is connected by activating one of the plurality of word drive circuits by an output signal of the control circuit. A semiconductor memory circuit device characterized by being configured to activate a line.
アレイの間に配置され、上記第1デコーダ回路は上記第
2デコーダ回路および上記複数のメモリアレイの外側に
配置されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の半導体記憶回路装置。2. The second decoder circuit is arranged between the plurality of memory arrays, and the first decoder circuit is arranged outside the second decoder circuit and the plurality of memory arrays. The semiconductor memory circuit device according to claim 1.
対応する上記複数のメモリアレイの間に配置され、上記
制御回路は上記複数のワードドライブ回路、上記第2デ
コーダ回路および上記複数のメモリアレイの外側に配置
されてなることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載
の半導体記憶回路装置。3. The plurality of word drive circuits are arranged between the corresponding plurality of memory arrays, and the control circuit is outside the plurality of word drive circuits, the second decoder circuit and the plurality of memory arrays. 3. The semiconductor memory circuit device according to claim 2, wherein the semiconductor memory circuit device is arranged in
リセルが配置され互いのワード線が分離されてなる複数
のメモリアレイと、 複数ビットの行アドレス信号を複数のグループに分けそ
れぞれをデコードする第1デコーダ回路と、 上記第1デコーダ回路から出力されるデコード信号を受
けてこれらの信号をデコードして上記複数のメモリアレ
イ内からそれぞれ複数のワード線を選択するための信号
を形成する第2デコーダ回路と、 複数ビットの列アドレス信号をデコードし上記複数のメ
モリアレイの複数の列の中からそれぞれ1つを選択する
ための信号を形成する列デコード回路と、 入力アドレス信号のうち上記行アドレス信号および列ア
ドレス信号以外のアドレス信号を受けて上記複数のメモ
リアレイのうちの1つのメモリアレイ内の複数のワード
線のうち1本のワード線を択一的に選択させるための信
号を発生する制御回路と、 上記複数のメモリアレイのそれぞれに対応して設けら
れ、上記第2デコーダ回路からのデコード信号および上
記制御回路からの出力信号を受けてこれらをデコードし
て対応するメモリアレイ内の複数のワード線のうち1本
のワード線を択一的に選択する複数のワードドライブ回
路とを有し、 上記ワードドライブ回路によって上記複数のメモリアレ
イの中の選択すべきメモリセルが存在するいずれか1つ
のメモリアレイ内の選択すべきメモリセルが接続された
1本のワード線を択一的に活性化するように構成されて
いることを特徴とする半導体記憶回路装置。4. A plurality of memory arrays in which a plurality of memory cells are arranged in the row direction and the column direction, respectively, and word lines are separated from each other, and a row address signal of a plurality of bits is divided into a plurality of groups and each is decoded. A first decoder circuit and a second decoder circuit for receiving a decode signal output from the first decoder circuit and decoding these signals to form signals for selecting a plurality of word lines from the plurality of memory arrays, respectively. A decoder circuit, a column decode circuit that decodes a multi-bit column address signal to form a signal for selecting one from each of the plurality of columns of the plurality of memory arrays, and the row address of the input address signal Signal and a column address signal other than the address signal to receive one of the plurality of memory arrays. A control circuit for generating a signal for selectively selecting one of the plurality of word lines, and a decoding circuit provided for each of the plurality of memory arrays and decoded by the second decoder circuit. A plurality of word drive circuits that selectively receive one of the plurality of word lines in the corresponding memory array by receiving a signal and an output signal from the control circuit, and decoding these signals. , The word drive circuit selectively activates one word line to which the memory cell to be selected in any one of the memory arrays in which the memory cell to be selected is present is connected. A semiconductor memory circuit device, characterized in that
アレイの間に配置され、上記第1デコーダ回路は上記第
2デコーダ回路および上記複数のメモリアレイの外側に
配置されていることを特徴とする特許請求の範囲第4項
記載の半導体記憶回路装置。5. The second decoder circuit is arranged between the plurality of memory arrays, and the first decoder circuit is arranged outside the second decoder circuit and the plurality of memory arrays. The semiconductor memory circuit device according to claim 4,
対応する上記複数のメモリアレイの間に配置され、上記
制御回路は上記複数のワードドライブ回路、上記第2デ
コーダ回路および上記複数のメモリアレイの外側に配置
されてなることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載
の半導体記憶回路装置。6. The plurality of word drive circuits are arranged between the corresponding plurality of memory arrays, and the control circuit is outside the plurality of word drive circuits, the second decoder circuit and the plurality of memory arrays. The semiconductor memory circuit device according to claim 5, wherein the semiconductor memory circuit device is arranged in
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2242349A JPH0731910B2 (en) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | Semiconductor memory circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2242349A JPH0731910B2 (en) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | Semiconductor memory circuit device |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7424780A Division JPS573289A (en) | 1980-06-04 | 1980-06-04 | Semiconductor storing circuit device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03205687A JPH03205687A (en) | 1991-09-09 |
| JPH0731910B2 true JPH0731910B2 (en) | 1995-04-10 |
Family
ID=17087875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2242349A Expired - Lifetime JPH0731910B2 (en) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | Semiconductor memory circuit device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0731910B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5511204B2 (en) * | 2009-03-19 | 2014-06-04 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | Semiconductor memory device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4104735A (en) | 1976-09-15 | 1978-08-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Arrangement for addressing a MOS store |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2719726A1 (en) * | 1976-05-03 | 1977-11-24 | Texas Instruments Inc | Semiconductor data store with MOS switching transistors - has matrix of storage cells in rows and columns and read amplifier arranged in centre of each column |
-
1990
- 1990-09-14 JP JP2242349A patent/JPH0731910B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4104735A (en) | 1976-09-15 | 1978-08-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Arrangement for addressing a MOS store |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03205687A (en) | 1991-09-09 |
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