JPH0736732B2 - イチゴ苗の増殖方法及びイチゴ苗の育苗方法 - Google Patents
イチゴ苗の増殖方法及びイチゴ苗の育苗方法Info
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- JPH0736732B2 JPH0736732B2 JP5029241A JP2924193A JPH0736732B2 JP H0736732 B2 JPH0736732 B2 JP H0736732B2 JP 5029241 A JP5029241 A JP 5029241A JP 2924193 A JP2924193 A JP 2924193A JP H0736732 B2 JPH0736732 B2 JP H0736732B2
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Landscapes
- Cultivation Of Plants (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウィルスや病原菌の再
感染を抑えながら無病優良苗を育苗するためのイチゴ苗
の増殖方法及びイチゴ苗の育苗方法に関するものであ
る。
感染を抑えながら無病優良苗を育苗するためのイチゴ苗
の増殖方法及びイチゴ苗の育苗方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、イチゴは栄養繁殖性作物であるた
めに、苗採りは親株から複数発生したランナーの先端部
に着生する子株を育苗する育苗方法が採られており、他
の果菜類に用いられているような種子からの育苗方法は
品質のばらつきがあるなどの理由により商業ベースでは
行なわれていない。
めに、苗採りは親株から複数発生したランナーの先端部
に着生する子株を育苗する育苗方法が採られており、他
の果菜類に用いられているような種子からの育苗方法は
品質のばらつきがあるなどの理由により商業ベースでは
行なわれていない。
【0003】上記のような方法により調達するイチゴ苗
は、栽培面積10アール当り10000株程度必要であ
る。
は、栽培面積10アール当り10000株程度必要であ
る。
【0004】一般的な促成栽培における仮植育苗方法で
は、3月中旬ころ育苗用の土壌の整備を行い、続いて親
株を定植し、栽培地に植えられた親株の周縁部に寒冷紗
を敷設すると共に親株の上方にシートをかぶせてトンネ
ルを形成する。5月上旬からはランナー誘引を行ない、
6月上旬に仮植用の土地を整備し、6月下旬から7月上
旬にかけて採苗と仮植床への移植を行なって、9月の定
植までの期間中、かん水、葉掻き、ランナー摘み、防除
等の作業を行なっている。
は、3月中旬ころ育苗用の土壌の整備を行い、続いて親
株を定植し、栽培地に植えられた親株の周縁部に寒冷紗
を敷設すると共に親株の上方にシートをかぶせてトンネ
ルを形成する。5月上旬からはランナー誘引を行ない、
6月上旬に仮植用の土地を整備し、6月下旬から7月上
旬にかけて採苗と仮植床への移植を行なって、9月の定
植までの期間中、かん水、葉掻き、ランナー摘み、防除
等の作業を行なっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
イチゴ苗の増殖方法は、年間労働作業時間が350〜4
00時間に及び、他の果菜類に較べ労力負担が大きい。
また、育苗に要する栽培面積は1万株当り5〜10アー
ルと広く、しかも土壌病原菌や病害虫からの回避対策を
立てる必要があり、半年に及ぶ育苗期間の間にわたって
肉体的負担並びに精神的負担を強いられる状況にある。
イチゴ苗の増殖方法は、年間労働作業時間が350〜4
00時間に及び、他の果菜類に較べ労力負担が大きい。
また、育苗に要する栽培面積は1万株当り5〜10アー
ルと広く、しかも土壌病原菌や病害虫からの回避対策を
立てる必要があり、半年に及ぶ育苗期間の間にわたって
肉体的負担並びに精神的負担を強いられる状況にある。
【0006】そこで最近は、公的機関による茎頂培養を
利用した「無病優良苗育成配布事業」が一般化してきて
いるものの、茎頂培養され、ウィルスフリー化された株
は殆ど親株として用いられてしまうため、定植用の子株
は上述した方法で主に土耕ハウスでランナー増殖され
る。従って、増殖過程においてウィルスや病原菌の再感
染が少なからず起こっている。
利用した「無病優良苗育成配布事業」が一般化してきて
いるものの、茎頂培養され、ウィルスフリー化された株
は殆ど親株として用いられてしまうため、定植用の子株
は上述した方法で主に土耕ハウスでランナー増殖され
る。従って、増殖過程においてウィルスや病原菌の再感
染が少なからず起こっている。
【0007】又、このランナーによる増殖方法は変異が
少ないため最も確実な増殖方法であり、ランナー発生量
が多いほど少ない親株で増殖できるため効率的である
が、茎頂培養された株を親株とした場合に、ランナーを
大量に発生させるとともに、ランナー着生時の根の発達
を充分に行なうと、親株の負担が大きくなる問題があ
る。このため、従来のランナーによる増殖方法では、ラ
ンナーを大量に発生させるには限界がある。
少ないため最も確実な増殖方法であり、ランナー発生量
が多いほど少ない親株で増殖できるため効率的である
が、茎頂培養された株を親株とした場合に、ランナーを
大量に発生させるとともに、ランナー着生時の根の発達
を充分に行なうと、親株の負担が大きくなる問題があ
る。このため、従来のランナーによる増殖方法では、ラ
ンナーを大量に発生させるには限界がある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の請求項1にかかるイチゴ苗の増殖方法は、
イチゴの茎頂を培養して得たメリクロン苗を一定期間低
温処理する低温処理工程と、親株として高温長日条件で
養液栽培してランナーを発生させる養液栽培工程と、発
生したランナーに着生した子株を、その展開葉が2枚く
らいとなり根の原基が見えかけた早期の状態で切り離し
て採苗する子株採苗工程とを、有することを特徴とす
る。
に、本発明の請求項1にかかるイチゴ苗の増殖方法は、
イチゴの茎頂を培養して得たメリクロン苗を一定期間低
温処理する低温処理工程と、親株として高温長日条件で
養液栽培してランナーを発生させる養液栽培工程と、発
生したランナーに着生した子株を、その展開葉が2枚く
らいとなり根の原基が見えかけた早期の状態で切り離し
て採苗する子株採苗工程とを、有することを特徴とす
る。
【0009】又、本発明の請求項2にかかるイチゴ苗の
増殖方法は、請求項1のイチゴの苗の増殖方法にて採苗
した子株を人工培地に植えて、この子株の人工培地上か
ら上方に延びる地上部を一定期間高湿度に保ちながら養
液栽培により育苗することを特徴とする。
増殖方法は、請求項1のイチゴの苗の増殖方法にて採苗
した子株を人工培地に植えて、この子株の人工培地上か
ら上方に延びる地上部を一定期間高湿度に保ちながら養
液栽培により育苗することを特徴とする。
【0010】
【作用】本発明にかかるイチゴ苗の増殖方法によれば、
茎頂培養によりメリクロン苗を得た後に、このメリクロ
ン苗を一定期間低温処理すると、ランナーが通常より多
く発生する。このランナーに着生した子株を展開葉が2
枚くらいとなり根の原基が見えかけた早期状態で採苗す
るので、親株に負担をかけないで大量の子株を得ること
ができる。
茎頂培養によりメリクロン苗を得た後に、このメリクロ
ン苗を一定期間低温処理すると、ランナーが通常より多
く発生する。このランナーに着生した子株を展開葉が2
枚くらいとなり根の原基が見えかけた早期状態で採苗す
るので、親株に負担をかけないで大量の子株を得ること
ができる。
【0011】又、本発明の請求項2にかかるイチゴ苗の
育苗方法によれば、請求項1で採苗した子株を人工培地
に植え、人工培地の上方に延びる地上部を一定期間高湿
度に保ちながら養液栽培により育苗するので、病害虫・
土壌病原菌などに感染させることなく子株を育苗するこ
とができる。
育苗方法によれば、請求項1で採苗した子株を人工培地
に植え、人工培地の上方に延びる地上部を一定期間高湿
度に保ちながら養液栽培により育苗するので、病害虫・
土壌病原菌などに感染させることなく子株を育苗するこ
とができる。
【0012】
【実施例】以下、本発明の請求項1の実施例にかかるイ
チゴ苗の増殖方法を説明する。
チゴ苗の増殖方法を説明する。
【0013】本実施例のイチゴ苗の増殖方法では、図1
に示すように、茎頂培養されたメリクロン苗のイチゴ苗
を5度c(連続)暗黒条件で10〜20日間低温処理する低
温処理工程1と、この低温処理したイチゴ苗を親株とし
てアクリル等のハウス内でロックウール培地に仮植して
高温長日下で養液栽培を行う親株の養液栽培工程2と、
病害虫・土壌病原菌などに感染させることなく多量のラ
ンナー発生を促して、発生したランナー(1次又は2次ラ
ンナー)に着生した子株を早期(展開葉が2枚くらいで
根の原基が見えかけた状態)に切り離して採苗する採苗
工程3とを有する。図2は、発生した1次又は2次ランナ
ーに着生した子株を切り離す時期の展開葉が2枚くらい
で根の原基が見えかけた状態を示す。この図2では、ラ
ンナー7に発生した子株8から根の基となる原基9が3
箇所突出しており、子株8からは展開葉10が2枚程度
発生している。
に示すように、茎頂培養されたメリクロン苗のイチゴ苗
を5度c(連続)暗黒条件で10〜20日間低温処理する低
温処理工程1と、この低温処理したイチゴ苗を親株とし
てアクリル等のハウス内でロックウール培地に仮植して
高温長日下で養液栽培を行う親株の養液栽培工程2と、
病害虫・土壌病原菌などに感染させることなく多量のラ
ンナー発生を促して、発生したランナー(1次又は2次ラ
ンナー)に着生した子株を早期(展開葉が2枚くらいで
根の原基が見えかけた状態)に切り離して採苗する採苗
工程3とを有する。図2は、発生した1次又は2次ランナ
ーに着生した子株を切り離す時期の展開葉が2枚くらい
で根の原基が見えかけた状態を示す。この図2では、ラ
ンナー7に発生した子株8から根の基となる原基9が3
箇所突出しており、子株8からは展開葉10が2枚程度
発生している。
【0014】採苗工程3で採苗した子株は、子株の仮植
工程4において75ミリメートル角のロックウールキュ
ーブからなる人工培地上に仮植する。ロックウールキュ
ーブは棚(高さ50〜100センチメートル)一面に並べら
れている。子株の仮植工程4の後には子株の養液栽培工
程5に移行する。この子株の養液栽培工程5では、図5
に示すように、ロックウールキューブ11には養液12
を噴霧又は点滴しておき、ロックウールキューブ11が
常に適度に湿った状態にして発根を促す。その際、ロッ
クウールキューブ11上の子株8の地上部を有底円筒形
状の透明なプラスチックの筒13によりカバーして子株
8の雰囲気を高湿度に保つ。供給された養液12の廃液
は循環利用する。尚、育苗の初期段階すなわち採苗して
から3日間程度は筒13により苗の地上部の相対湿度を
ほぼ100パーセントにして株を活着させる。子株の養液
栽培工程5の後の本圃への定植工程6では、育苗した苗
をロックウールキューブから取り出さないでそのまま一
緒に本圃の栽培棚に定植する。
工程4において75ミリメートル角のロックウールキュ
ーブからなる人工培地上に仮植する。ロックウールキュ
ーブは棚(高さ50〜100センチメートル)一面に並べら
れている。子株の仮植工程4の後には子株の養液栽培工
程5に移行する。この子株の養液栽培工程5では、図5
に示すように、ロックウールキューブ11には養液12
を噴霧又は点滴しておき、ロックウールキューブ11が
常に適度に湿った状態にして発根を促す。その際、ロッ
クウールキューブ11上の子株8の地上部を有底円筒形
状の透明なプラスチックの筒13によりカバーして子株
8の雰囲気を高湿度に保つ。供給された養液12の廃液
は循環利用する。尚、育苗の初期段階すなわち採苗して
から3日間程度は筒13により苗の地上部の相対湿度を
ほぼ100パーセントにして株を活着させる。子株の養液
栽培工程5の後の本圃への定植工程6では、育苗した苗
をロックウールキューブから取り出さないでそのまま一
緒に本圃の栽培棚に定植する。
【0015】次に、本発明を実際に行なった実験例を示
す。
す。
【0016】
【実験例1】表1はメリクロン苗(品種:アイベリー F
ragaria×ananassa cv.'Ai-berry)について人工気象器
内で行なった低温処理条件を示すものであり、温度は連
続的に5度cを保持し、光は連続的に暗黒状態として照度
を0ルクスとした。湿度は90%を連続的に保持し、二
酸化炭素(CO2)は自然大気状態とした。施肥として
は大塚化学製造にかかる大塚C処方溶液(電気導電率EC
=1.2mS/cm)を1日につき1回適量かけ流した。低温処
理期間は0日、10日、20日、30日の4種類とし、低温積算
日数は0日間、10日間、20日間、30日間とした。
ragaria×ananassa cv.'Ai-berry)について人工気象器
内で行なった低温処理条件を示すものであり、温度は連
続的に5度cを保持し、光は連続的に暗黒状態として照度
を0ルクスとした。湿度は90%を連続的に保持し、二
酸化炭素(CO2)は自然大気状態とした。施肥として
は大塚化学製造にかかる大塚C処方溶液(電気導電率EC
=1.2mS/cm)を1日につき1回適量かけ流した。低温処
理期間は0日、10日、20日、30日の4種類とし、低温積算
日数は0日間、10日間、20日間、30日間とした。
【0017】
【表1】 尚、表2は培養液の処方と標準培養液の成分組成を示し
たものであり、これらの表に示す肥料成分濃度に基づい
て、前述の大塚C処方液に代えても良い。
たものであり、これらの表に示す肥料成分濃度に基づい
て、前述の大塚C処方液に代えても良い。
【0018】
【表2】 次に、表1に示す条件下で低温処理したメリクロン苗
を、表3に示す方法でランナー採り栽培を行った。この
ランナー採り栽培条件は、表3の通りである。
を、表3に示す方法でランナー採り栽培を行った。この
ランナー採り栽培条件は、表3の通りである。
【0019】
【表3】 即ち、昼間温度は28度c、液温15度c、日長は16時間、日
長時の照度は20,000ルクス、湿度は昼間時70%、夜間時
90%、二酸化炭素は昼間時700ppmとし、施肥には前述の
大塚化学製造にかかる大塚C処方溶液(電気導電率EC=
1.2mS/cm)を培地に1日当り2回即ち朝夕に与えた。試
験した子株の数は7株で株間の離間距離は13cmとした。
このような条件で3カ月ほど栽培を行なった。その結果
図3に示すようにランナーが発生した。
長時の照度は20,000ルクス、湿度は昼間時70%、夜間時
90%、二酸化炭素は昼間時700ppmとし、施肥には前述の
大塚化学製造にかかる大塚C処方溶液(電気導電率EC=
1.2mS/cm)を培地に1日当り2回即ち朝夕に与えた。試
験した子株の数は7株で株間の離間距離は13cmとした。
このような条件で3カ月ほど栽培を行なった。その結果
図3に示すようにランナーが発生した。
【0020】図3はこの低温処理条件によるランナー発
生本数示している。
生本数示している。
【0021】即ち、低温処理日数が0日であるとき、3週
間後のランナー発生数は4本前後、6週間後のランナー
発生数は9本弱、9週間後のランナー発生数は11本前後と
なった。
間後のランナー発生数は4本前後、6週間後のランナー
発生数は9本弱、9週間後のランナー発生数は11本前後と
なった。
【0022】又、低温処理日数が10日であるとき、3週
間後のランナー発生数は6本、6週間後のランナー発生数
は11本前後、9週間後のランナー発生数は13本前後とな
った。
間後のランナー発生数は6本、6週間後のランナー発生数
は11本前後、9週間後のランナー発生数は13本前後とな
った。
【0023】又、低温処理日数が20日であるとき、3週
間後のランナー発生本数は6本強、6週間後のランナー発
生数は11本位、9週間後のランナー発生数は15本となっ
た。
間後のランナー発生本数は6本強、6週間後のランナー発
生数は11本位、9週間後のランナー発生数は15本となっ
た。
【0024】更に、低温処理日数が30日であるとき、3
週間後のランナー発生本数は6本、6週間後のランナー発
生数は11本、9週間後のランナー発生本数は14本弱とな
った。
週間後のランナー発生本数は6本、6週間後のランナー発
生数は11本、9週間後のランナー発生本数は14本弱とな
った。
【0025】以上の実験の結果、図3に示すように、低
温処理を10日〜20日(低温積算量240時間〜480時
間)行なった場合に、その後のランナー発生が促進され
る効果が表われた。
温処理を10日〜20日(低温積算量240時間〜480時
間)行なった場合に、その後のランナー発生が促進され
る効果が表われた。
【0026】
【実験例2】次に、子株を親株から早期に切り離すこと
によるランナー発生促進効果についての実験例を説明す
る。表4は茎頂培養したイチゴ苗(前述の品種名「アイ
ベリー」)のメリクロン苗を、環境制御可能なアクリル
温室にて栽培したときの栽培条件を示したものである。
によるランナー発生促進効果についての実験例を説明す
る。表4は茎頂培養したイチゴ苗(前述の品種名「アイ
ベリー」)のメリクロン苗を、環境制御可能なアクリル
温室にて栽培したときの栽培条件を示したものである。
【0027】
【表4】 この表4では、試験品種にはアイベリーの茎頂培養株を
用いた。試験区には11株対照区には11株を用いた。環境
制御栽培室にはアクリルハウスを用い、アクリルハウス
の床面は透水性舗装を施した。アクリルハウス内の栽培
気温は昼間時25度c、夜間時に20度cとした。又、ハウ
ス内の湿度は70%とし、二酸化炭素の濃度は昼間時に1,
000ppmとし、日の長さである日長は13時間とした。親株
の栽培方法には、75mm角のロックウールキューブに入っ
た親株を株間25cmで敷設した厚み75mmのマットにおき、
点滴により施肥した。この施肥養液は電気導電率を一部
変更してEC=1.0mS/cmとした前述の大塚C処方液を
用いた。この養液の液温は20度cとした。子株の育成で
は、人工の培地として75mmロックウールキューブを用い
た。子株の育成方法としては、ロックウールキューブ上
に子株を植え込み、子株の上方をポリプロピレン製の有
底円筒により覆って保湿した。保湿期間としては0日、3
日、5日、7日、10日とした。
用いた。試験区には11株対照区には11株を用いた。環境
制御栽培室にはアクリルハウスを用い、アクリルハウス
の床面は透水性舗装を施した。アクリルハウス内の栽培
気温は昼間時25度c、夜間時に20度cとした。又、ハウ
ス内の湿度は70%とし、二酸化炭素の濃度は昼間時に1,
000ppmとし、日の長さである日長は13時間とした。親株
の栽培方法には、75mm角のロックウールキューブに入っ
た親株を株間25cmで敷設した厚み75mmのマットにおき、
点滴により施肥した。この施肥養液は電気導電率を一部
変更してEC=1.0mS/cmとした前述の大塚C処方液を
用いた。この養液の液温は20度cとした。子株の育成で
は、人工の培地として75mmロックウールキューブを用い
た。子株の育成方法としては、ロックウールキューブ上
に子株を植え込み、子株の上方をポリプロピレン製の有
底円筒により覆って保湿した。保湿期間としては0日、3
日、5日、7日、10日とした。
【0028】このように、茎頂培養した「アイベリー」
を表4に示す環境条件で栽培し、発生したランナー(1
次ランナー)の先端に着生した子株を展開葉2.5枚、
根は原基が外観できる程度で親株から切り離し、親株か
らのランナー発生の増加について調査を行なった。この
とき、親株から早期に切り離した子株をその移植後順調
に生育させるために、採苗時点から子株の地上部を高湿
度に保持する適正期間の調査を行なった。尚、地下部は
養液で常に湿潤状態に保ち、発根を促した。
を表4に示す環境条件で栽培し、発生したランナー(1
次ランナー)の先端に着生した子株を展開葉2.5枚、
根は原基が外観できる程度で親株から切り離し、親株か
らのランナー発生の増加について調査を行なった。この
とき、親株から早期に切り離した子株をその移植後順調
に生育させるために、採苗時点から子株の地上部を高湿
度に保持する適正期間の調査を行なった。尚、地下部は
養液で常に湿潤状態に保ち、発根を促した。
【0029】図4はその結果を示したものであり、ラン
ナーに着生した子株を従来のものよりも早期に親株から
切り離した場合、親株のランナー発生が促進された。こ
の親株から発生するランナーの発生量は、図4の実線で
示すように、点線で示される従来からの慣行法に較べ栽
培30日後には16パーセント、60日後では48パーセントに
まで増加し、ランナー増殖の効率化に寄与することが判
明した。
ナーに着生した子株を従来のものよりも早期に親株から
切り離した場合、親株のランナー発生が促進された。こ
の親株から発生するランナーの発生量は、図4の実線で
示すように、点線で示される従来からの慣行法に較べ栽
培30日後には16パーセント、60日後では48パーセントに
まで増加し、ランナー増殖の効率化に寄与することが判
明した。
【0030】早期に切り離された子株は、地上部を3日
間飽和湿度に保つことによって順調に生育した。更に、
一次根の発生も慣行株(親株にランナーがつながったま
ま同時期にロックウールキューブに挿した子株)と同程
度であり、促成栽培用の苗としては、子株を早切りする
ことに特に問題はないと考えられる。
間飽和湿度に保つことによって順調に生育した。更に、
一次根の発生も慣行株(親株にランナーがつながったま
ま同時期にロックウールキューブに挿した子株)と同程
度であり、促成栽培用の苗としては、子株を早切りする
ことに特に問題はないと考えられる。
【0031】
【効果】本発明にかかるイチゴ苗の増殖方法によれば、
親株からのランナーの増殖をハウス内において養液栽培
方式で行なうことから、茎頂培養された優良無病苗を最
も確実な方法でしかもウィルス・病原菌等に汚染される
ことなく増殖することが出来る。
親株からのランナーの増殖をハウス内において養液栽培
方式で行なうことから、茎頂培養された優良無病苗を最
も確実な方法でしかもウィルス・病原菌等に汚染される
ことなく増殖することが出来る。
【0032】茎頂培養株の低温処理と子株の早期切り離
しによって、親株から発生するランナー発生量を増大さ
せることが出来るので、必要な親株数を減らすことが出
来、苗採り用の栽培面積を縮小できる。
しによって、親株から発生するランナー発生量を増大さ
せることが出来るので、必要な親株数を減らすことが出
来、苗採り用の栽培面積を縮小できる。
【0033】具体的には、親株1株当り子株を20株採苗
出来る場合、500株の親株で10アール用の苗を調達
でき、そのために要する親株の栽培面積は50平方メー
トル(従来の1/10以下)で済む計算になる。
出来る場合、500株の親株で10アール用の苗を調達
でき、そのために要する親株の栽培面積は50平方メー
トル(従来の1/10以下)で済む計算になる。
【0034】又、親株から子株を早期に切り離すため、
ランナー誘引作業が不要となり、更に親株とつながった
まま子株を定着、発根させるためのスペースを削減でき
る。
ランナー誘引作業が不要となり、更に親株とつながった
まま子株を定着、発根させるためのスペースを削減でき
る。
【0035】子株は根の原基が見える段階でロックウー
ルキューブ等の人工培地に植え込まれるため、仮植によ
る1次根の発達を期待できる。
ルキューブ等の人工培地に植え込まれるため、仮植によ
る1次根の発達を期待できる。
【0036】子株をロックウールキューブ等の人工培地
へ植えて養液栽培方式で育苗することにより、人工培地
を水で洗浄するなどにより、養液を洗い流すことが容易
となるため、花芽分化促進のための育苗後期での窒素断
が容易に行える。
へ植えて養液栽培方式で育苗することにより、人工培地
を水で洗浄するなどにより、養液を洗い流すことが容易
となるため、花芽分化促進のための育苗後期での窒素断
が容易に行える。
【図1】本発明の実施例にかかるイチゴ苗の増殖方法の
工程を示す図
工程を示す図
【図2】図1の増殖工程で採苗する時期の子株の根の原
基の状態を示す図
基の状態を示す図
【図3】低温処理日数と親株に発生するランナーの本数
との相関関係を示す図
との相関関係を示す図
【図4】子株の早切りによって親株に発生するランナー
数と栽培日数との関係図
数と栽培日数との関係図
【図5】子株の養液栽培初期に透明な円筒でロックウー
ルキューブ上の子株をカバーした状態の説明図
ルキューブ上の子株をカバーした状態の説明図
1 莓苗の低温処理工程 2 親株の養液栽培工程 3 子株採苗工程 4 子株の仮植工程 5 子株の養液栽培工程 6 本圃への定植工程 7 ランナー 8 子株 9 根の原基 10 展開葉 11 ロックウールキューブ 12 養液 13 プラスチック製の透明な円筒
Claims (2)
- 【請求項1】 イチゴの茎頂を培養して得たメリクロン
苗を一定期間低温処理する低温処理工程と、 親株として高温長日条件で養液栽培してランナーを発生
させる養液栽培工程と、 発生したランナーに着生した子株を展開葉が2枚くらい
で根の原基が見えかけた早期の状態で切り離して採苗す
る子株の採苗工程とを、 有することを特徴とするイチゴ苗の増殖方法。 - 【請求項2】 請求項1のイチゴの苗の増殖方法にて採
苗した子株を人工培地に植えて、この子株の人工培地上
から上方に延びる地上部を一定期間高湿度で保ちながら
養液栽培で育苗することを特徴とするイチゴ苗の育苗方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5029241A JPH0736732B2 (ja) | 1993-02-18 | 1993-02-18 | イチゴ苗の増殖方法及びイチゴ苗の育苗方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5029241A JPH0736732B2 (ja) | 1993-02-18 | 1993-02-18 | イチゴ苗の増殖方法及びイチゴ苗の育苗方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06237642A JPH06237642A (ja) | 1994-08-30 |
| JPH0736732B2 true JPH0736732B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=12270756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5029241A Expired - Fee Related JPH0736732B2 (ja) | 1993-02-18 | 1993-02-18 | イチゴ苗の増殖方法及びイチゴ苗の育苗方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0736732B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4530756B2 (ja) * | 2004-07-29 | 2010-08-25 | 株式会社誠和 | イチゴの栽培方法 |
| JP6508497B1 (ja) * | 2018-08-03 | 2019-05-08 | 克己 前田 | イチゴ苗の生育方法 |
-
1993
- 1993-02-18 JP JP5029241A patent/JPH0736732B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06237642A (ja) | 1994-08-30 |
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