JPH0736912B2 - 光触媒廃水処理方法 - Google Patents
光触媒廃水処理方法Info
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- JPH0736912B2 JPH0736912B2 JP4173863A JP17386392A JPH0736912B2 JP H0736912 B2 JPH0736912 B2 JP H0736912B2 JP 4173863 A JP4173863 A JP 4173863A JP 17386392 A JP17386392 A JP 17386392A JP H0736912 B2 JPH0736912 B2 JP H0736912B2
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Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、酸化法により前処理し
た廃水を、半導体光触媒法によって処理して分解効率を
著しく高めた廃水処理方法に関するものである。
た廃水を、半導体光触媒法によって処理して分解効率を
著しく高めた廃水処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光触媒としての半導体物質の存在下に光
照射により廃水を処理する方法が知られている（例え
ば、特開昭６３−５４９９２号）。この方法では低分子
化合物は比較的短時間に炭酸ガスにまで酸化分解される
が、芳香族等の分子量の大きい化合物は、通常、中間分
解物の段階に止まり、完全処理にいたるには非常に長時
間の光照射が必要である。このために、光照射に要する
コストが大きい。またオゾン処理等の酸化法も従来から
行われているが、長時間の処理が必要であり、しかも多
くの場合に完全処理が困難である。
照射により廃水を処理する方法が知られている（例え
ば、特開昭６３−５４９９２号）。この方法では低分子
化合物は比較的短時間に炭酸ガスにまで酸化分解される
が、芳香族等の分子量の大きい化合物は、通常、中間分
解物の段階に止まり、完全処理にいたるには非常に長時
間の光照射が必要である。このために、光照射に要する
コストが大きい。またオゾン処理等の酸化法も従来から
行われているが、長時間の処理が必要であり、しかも多
くの場合に完全処理が困難である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明は、
光照射時間が短く、しかも有害物質を完全分解して、炭
酸ガスその他の無機物に変換することのできる廃水処理
方法を提供することを目的とする。
光照射時間が短く、しかも有害物質を完全分解して、炭
酸ガスその他の無機物に変換することのできる廃水処理
方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の従来
の光触媒廃水処理法の難点を克服するため鋭意研究を重
ねた結果、前処理として所定の酸化処理を行ったもの
を、半導体触媒存在下に光照射することにより、有害物
質の分解効率を著しく高めうることを見い出し、この知
見に基づき本発明をなすに至った。すなわち本発明は、
廃水を酸化処理したのち、半導体触媒の存在下で光照射
して有害物質を分解処理することを特徴とする廃水処理
方法、を提供するものである。
の光触媒廃水処理法の難点を克服するため鋭意研究を重
ねた結果、前処理として所定の酸化処理を行ったもの
を、半導体触媒存在下に光照射することにより、有害物
質の分解効率を著しく高めうることを見い出し、この知
見に基づき本発明をなすに至った。すなわち本発明は、
廃水を酸化処理したのち、半導体触媒の存在下で光照射
して有害物質を分解処理することを特徴とする廃水処理
方法、を提供するものである。
【０００５】本発明において、前処理方法としては、オ
ゾン処理法および過酸化水素あるいは塩素を添加して紫
外線を照射する方法を行うことができる。オゾン処理に
は通常のオゾン発生装置を用いることができ、その発生
量は、廃水量２００ｍｌ〜５リットルに対して（有害物
質０．１〜３ｇに対して）、０．５〜２．０ｇ／時間が
適当である。オゾン量が少ないと分解が不十分であり、
多すぎても効果は大きくならない。その際に、廃水をか
くはんすると通気量と通気時間を短縮することができ
る。過酸化水素と紫外線照射の方法では、廃水中の被処
理の濃度により異なるが、有害物質０．１ｇ当り３００
〜３０，０００ｐｐｍの過酸化水素を廃水に添加するの
が適当で、この廃水を直接あるいは石英ガラスを通し
て、紫外線ランプで、照射する。塩素を添加して紫外線
照射する場合は、塩素の量は有害物質１ｇ当り２ｇ以上
が好ましく、この量が少なすぎると効果が小さく、多す
ぎると後処理が必要である。紫外線照射は、２００〜４
００ｎｍの光を被処理物質の濃度により異なるが、３０
分間以上照射するのが好ましい。本発明において、有害
物質とは廃水中の汚染物質をいい、人体に有害であるか
どうかではなく、環境保全上有害除去されることが必要
な物質をいう。
ゾン処理法および過酸化水素あるいは塩素を添加して紫
外線を照射する方法を行うことができる。オゾン処理に
は通常のオゾン発生装置を用いることができ、その発生
量は、廃水量２００ｍｌ〜５リットルに対して（有害物
質０．１〜３ｇに対して）、０．５〜２．０ｇ／時間が
適当である。オゾン量が少ないと分解が不十分であり、
多すぎても効果は大きくならない。その際に、廃水をか
くはんすると通気量と通気時間を短縮することができ
る。過酸化水素と紫外線照射の方法では、廃水中の被処
理の濃度により異なるが、有害物質０．１ｇ当り３００
〜３０，０００ｐｐｍの過酸化水素を廃水に添加するの
が適当で、この廃水を直接あるいは石英ガラスを通し
て、紫外線ランプで、照射する。塩素を添加して紫外線
照射する場合は、塩素の量は有害物質１ｇ当り２ｇ以上
が好ましく、この量が少なすぎると効果が小さく、多す
ぎると後処理が必要である。紫外線照射は、２００〜４
００ｎｍの光を被処理物質の濃度により異なるが、３０
分間以上照射するのが好ましい。本発明において、有害
物質とは廃水中の汚染物質をいい、人体に有害であるか
どうかではなく、環境保全上有害除去されることが必要
な物質をいう。
【０００６】次いでこの前処理した廃水に半導体粉末を
懸濁する、あるいは半導体粉末を固定化した膜と廃水を
接触させる。この廃水に直接あるいはガラス容器を通し
て光照射を行う。半導体としては種々の金属酸化物を用
いることができるが、二酸化チタン（ルチルおよびアナ
タース）、酸化亜鉛、三酸化タングステンが好ましい。
半導体粉末の濃度は、廃水中の有害物質１ｇに対し、
０．５〜１０ｇの範囲である。粉末の場合の粒度は０．
１〜３．０μｍである。光源には、出射光が紫外光およ
び可視光の一部を含んでいるランプを用いることができ
る。例えば高圧および低圧の水銀灯、キセノンランプお
よびハロゲンランプであり、さらに半導体が二酸化チタ
ン、三酸化タングステンの場合には、太陽光を用いるこ
ともできる。
懸濁する、あるいは半導体粉末を固定化した膜と廃水を
接触させる。この廃水に直接あるいはガラス容器を通し
て光照射を行う。半導体としては種々の金属酸化物を用
いることができるが、二酸化チタン（ルチルおよびアナ
タース）、酸化亜鉛、三酸化タングステンが好ましい。
半導体粉末の濃度は、廃水中の有害物質１ｇに対し、
０．５〜１０ｇの範囲である。粉末の場合の粒度は０．
１〜３．０μｍである。光源には、出射光が紫外光およ
び可視光の一部を含んでいるランプを用いることができ
る。例えば高圧および低圧の水銀灯、キセノンランプお
よびハロゲンランプであり、さらに半導体が二酸化チタ
ン、三酸化タングステンの場合には、太陽光を用いるこ
ともできる。
【０００７】
【発明の効果】廃水中の有害物質が短時間に完全分解し
て、無害な無機物質に変換される。
て、無害な無機物質に変換される。
【０００８】
【実施例】以下に本発明を実施例に基づきさらに詳細に
説明する。
説明する。
【０００９】実施例１ 市販の農薬スミチオン（商品名、有機リン酸エステル系
化合物）を１５４ｐｐｍ（全有機炭素量６０ｐｐｍ）含
む廃水２５０ｍｌにオゾンを２．０ｇ／時間の速度で３
時間通気した。このときの廃水中の全有機炭素量を測定
すると５２ｐｐｍであった。これの２５ｍｌを取り、こ
れに７５ｍｇの二酸化チタン（粒径１．３μｍ）を加え
てかくはんして懸濁させた。この懸濁液を５００Ｗの高
圧水銀灯により照射した。１時間後に全有機炭素量が３
８ｐｐｍ、また４時間後には６ｐｐｍに減少した。オゾ
ン酸化処理を行なわずに光触媒処理のみを行うと、６時
間後に全有機炭素量が５１ｐｐｍに減少したに過ぎなか
った。また後段の二酸化チタンを加えての処理を行わず
に、前段のオゾンの通気を７時間行ったが、全有機炭素
量は５０ｐｐｍに減少したにすぎなかった。
化合物）を１５４ｐｐｍ（全有機炭素量６０ｐｐｍ）含
む廃水２５０ｍｌにオゾンを２．０ｇ／時間の速度で３
時間通気した。このときの廃水中の全有機炭素量を測定
すると５２ｐｐｍであった。これの２５ｍｌを取り、こ
れに７５ｍｇの二酸化チタン（粒径１．３μｍ）を加え
てかくはんして懸濁させた。この懸濁液を５００Ｗの高
圧水銀灯により照射した。１時間後に全有機炭素量が３
８ｐｐｍ、また４時間後には６ｐｐｍに減少した。オゾ
ン酸化処理を行なわずに光触媒処理のみを行うと、６時
間後に全有機炭素量が５１ｐｐｍに減少したに過ぎなか
った。また後段の二酸化チタンを加えての処理を行わず
に、前段のオゾンの通気を７時間行ったが、全有機炭素
量は５０ｐｐｍに減少したにすぎなかった。
【００１０】実施例２ 市販の農薬ＤＥＰを１６３ｐｐｍ（全有機炭素量４０ｐ
ｐｍ）含む廃水に、実施例１と同様にしてオゾンを通気
した。２時間、４時間および６時間後の全有機炭素量は
それぞれ３８、３７、３８ｐｐｍであった。これを実施
例１と同様にして、二酸化チタンにより光触媒処理を行
なうと、オゾン２時間通気の廃水では３時間後に９ｐｐ
ｍとなり、４時間通気の廃水では２時間後に１０ｐｐｍ
となった。一方オゾン前処理を行わないと、６時間で３
６ｐｐｍに減少したのみであった。
ｐｍ）含む廃水に、実施例１と同様にしてオゾンを通気
した。２時間、４時間および６時間後の全有機炭素量は
それぞれ３８、３７、３８ｐｐｍであった。これを実施
例１と同様にして、二酸化チタンにより光触媒処理を行
なうと、オゾン２時間通気の廃水では３時間後に９ｐｐ
ｍとなり、４時間通気の廃水では２時間後に１０ｐｐｍ
となった。一方オゾン前処理を行わないと、６時間で３
６ｐｐｍに減少したのみであった。
【００１１】実施例３ 農薬のスミチオンを２１ｐｐｍ（全有機炭素量８．２ｐ
ｐｍ）含む廃水に、実施例１と同様にしてオゾンを通気
した。４時間までに全有機炭素量は殆ど減少しなかっ
た。１時間通気の廃水に実施例１と同様にして二酸化チ
タンを加えて光触媒処理を行った。２時間で全有機炭素
量が０となった。また２時間通気した廃水では１時間３
０分の光触媒処理で全有機炭素量が０になった。
ｐｍ）含む廃水に、実施例１と同様にしてオゾンを通気
した。４時間までに全有機炭素量は殆ど減少しなかっ
た。１時間通気の廃水に実施例１と同様にして二酸化チ
タンを加えて光触媒処理を行った。２時間で全有機炭素
量が０となった。また２時間通気した廃水では１時間３
０分の光触媒処理で全有機炭素量が０になった。
【００１２】実施例４ 農薬のアシュラムを５７５ｐｐｍ（全有機炭素量２４０
ｐｐｍ）含む廃水に、実施例１と同様にしてオゾン通気
を行なった。２時間後に全有機炭素量が１６５ｐｐｍと
なり、以後６時間までほとんど減少しなかった。４時間
オゾン通気後の廃水に、実施例１と同様にして二酸化チ
タンを加えて光触媒処理を行った。５時間後に全有機炭
素量が３０ｐｐｍに減少した。また６時間オゾン通気廃
水では５時間の光触媒処理で１０ｐｐｍとなった。
ｐｐｍ）含む廃水に、実施例１と同様にしてオゾン通気
を行なった。２時間後に全有機炭素量が１６５ｐｐｍと
なり、以後６時間までほとんど減少しなかった。４時間
オゾン通気後の廃水に、実施例１と同様にして二酸化チ
タンを加えて光触媒処理を行った。５時間後に全有機炭
素量が３０ｐｐｍに減少した。また６時間オゾン通気廃
水では５時間の光触媒処理で１０ｐｐｍとなった。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 1/72 １０１ 1/76 Ａ 1/78 (56)参考文献 特開 昭63−54992（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−187322（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−49296（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−274491（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−260493（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−193696（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】 廃水を酸化処理したのち、半導体触媒の
存在下で光照射して有害物質を分解処理することを特徴
とする廃水処理方法。 - 【請求項２】 触媒が半導体粉末、この粉末を固定化し
た膜、もしくは半導体薄膜として用いられることを特徴
とする請求項１記載の廃水処理方法。 - 【請求項３】 触媒が二酸化チタン、酸化亜鉛及び三酸
化タングステンから選ばれたことを特徴とする請求項１
記載の廃水処理方法。 - 【請求項４】 酸化処理としてオゾン通気、紫外線照射
下での過酸化水素処理又は紫外線照射下での塩素処理の
いずれかを行うことを特徴とする請求項１記載の廃水処
理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4173863A JPH0736912B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 光触媒廃水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4173863A JPH0736912B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 光触媒廃水処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05337469A JPH05337469A (ja) | 1993-12-21 |
| JPH0736912B2 true JPH0736912B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=15968538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4173863A Expired - Lifetime JPH0736912B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 光触媒廃水処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0736912B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000078680A1 (fr) * | 1999-06-21 | 2000-12-28 | Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. | Procede et appareil de purification d'eau |
| WO2008113128A1 (en) * | 2007-03-19 | 2008-09-25 | Viva Blu Pty Ltd | Method and apparatus for effecting a predetermined transformation |
| CN101423283B (zh) | 2008-11-18 | 2011-05-18 | 项贤富 | 有机废水的高效解毒方法及装置 |
| JP6138589B2 (ja) * | 2013-05-28 | 2017-05-31 | 三菱重工業株式会社 | 廃油又は廃液中のリン酸トリブチル（ｔｂｐ）分解装置 |
-
1992
- 1992-06-08 JP JP4173863A patent/JPH0736912B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05337469A (ja) | 1993-12-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |